KR20230049133A - 알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리 - Google Patents

알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리 Download PDF

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아담 제임스 엘리슨
제이슨 생어 프래켄폴
존 크리스토퍼 마우로
주니어 더글라스 마일스 노니
네이트산 벤카타라만
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코닝 인코포레이티드
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Abstract

알칼리-도핑된 보로알루미노실리케이트 유리는 제공된다. 상기 유리는 네트워크 형성제인 SiO2, B2O3, 및 Al2O3를 포함한다. 상기 유리는, 몇몇 구체 예에서, 약 65GPa 미만의 영률 및/또는 약 40 x 10-7/℃ 미만의 열팽창계수를 갖는다. 상기 유리는 전자 장치용 커버 유리, 컬러 필터 기판, 박막 트랜지스터 기판, 또는 유리 적층체용 외부 클래드층으로 사용될 수 있다.

Description

알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리 {ALKALI-DOPED AND ALKALI-FREE BOROALUMINOSILICATE GLASS}
본 출원은 2013년 8월 15일자에 출원된 미국 가 특허출원 제61/866,272호의 우선권을 주장하며, 이의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다.
본 개시는 알칼리 금속 또는 이들의 산화물을 함유하지 않는 유리에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 개시는 낮은 수준의 알칼리 금속 및/또는 알칼리 금속 산화물을 함유하거나 또는 알칼리-도핑 및 알칼리가 없으며, 슬롯-인발 (slot-draw) 및 퓨전-인발 (fusion-draw) 기술과 같은 다운-인발 공정에 의해 형성 가능한 유리에 관한 것이다. 훨씬 더 구체적으로는, 본 개시는 저 수준의 알칼리 금속 및/또는 알칼리 금속 산화물을 함유하거나 또는 알칼리-도핑 및 알칼리가 없으며, 유리 적층체 (glass laminate)용 클래드 층 (clad layer)으로 형성될 수 있는 유리에 관한 것이다.
알칼리-도핑된 보로알루미노실리케이트 유리는 제공된다. 상기 유리는 네트워크 형성제 (network formers)인 SiO2, B2O3, 및 Al2O3를 포함한다. 상기 유리는, 몇몇 구체 예에서, 약 65GPa 미만의 영률 (Young's modulus) 및/또는 약 20℃ 내지 약 300℃의 온도 범위에 걸친 평균이, 약 40 x 10-7/℃ 미만의 열팽창계수를 갖는다. 상기 유리는 전자 장치용 커버 유리, 컬러 필터 기판 (color filter substrate), 박막 트랜지스터 기판, 또는 유리 적층체용 외부 클래드층 (clad layer)으로 사용될 수 있다.
따라서, 본 개시의 하나의 관점은 약 50 mol% 내지 약 70 mol%의 SiO2; 약 5 mol% 내지 약 20 mol%의 Al2O3; 약 12 mol% 내지 약 35 mol%의 B2O3; 약 5 mol%까지의 MgO; 약 12 mol%까지의 CaO; 및 약 5 mol%까지의 SrO로 포함하는 유리를 제공하는 데 있고, 여기서 알칼리 금속 산화물 개질제의 합은 약 1 mol% 이하이다.
본 개시의 제2 관점은 SiO2, B2O3, 및 Al2O3를 포함하는 유리를 제공하는 데 있다. 상기 유리에서 알칼리 금속 산화물 개질제의 합은 약 1 mol% 이하이다. 상기 유리는 실질적으로 P2O5가 없고, 및 약 65GPa 미만의 영률, 약 20℃ 내지 약 300℃의 온도 범위에 걸친 평균이, 약 40 x 10-7/℃ 미만의 열팽창계수, 및 적어도 약 15 N (Newtons)의 누프 스크래치 임계값 (Knoop scratch threshold) 중 적어도 하나를 갖는다.
*본 개시의 제3 관점은 코어 유리 및 상기 코어 유리의 외부 표면상에 적층된 클래드 유리를 포함하는 유리 적층제를 제공하는 데 있다. 상기 클래드 유리 층은 SiO2, B2O3, 및 Al2O3를 포함하고, 상기 클래드 층 유리에서 알칼리 금속 산화물 개질제의 합은 약 1 mol% 이하이다. 상기 클래드 유리는 약 20℃ 내지 약 300℃의 온도 범위에 걸친 평균이, 약 40 x 10-7/℃의 제1 열팽창 계수를 가지며, 및 상기 코어 유리는 약 20℃ 내지 약 300℃의 온도 범위에 걸친 평균이, 제1 열팽창계수를 초과하는, 제2 열팽창계수를 갖는다.
본 개시의 제4 관점은 유리 제조 방법을 제공하는 데 있다. 상기 방법은: 유리 용융물을 제공하는 단계로서, 상기 유리 용융물은 SiO2, B2O3, 및 Al2O3를 포함하고, 여기서 상기 유리에서 알칼리 금속 산화물 개질제의 합은 약 1 mol% 이하인 유리 용융물의 제공 단계; 및 유리를 형성하기 위해 상기 유리 용융물을 다운-인발시키는 단계를 포함한다.
이들 및 다른 관점들, 장점들, 및 현저한 특색들은 하기 상세한 설명, 수반되는 도면들, 및 첨부된 청구항으로부터 명백해질 것이다.
도 1은 유리 적층체의 개략적 단면도이고;
도 2a-f는 유리 샘플에 대한 누프 스크래치 시험 결과의 사진이다.
하기 상세한 설명에서, 동일한 참조 부호는 도면들에 도시된 몇 가지 도들 도처에서 동일하거나 또는 상응하는 부품을 지명한다. 또한, 별도의 언급이 없는 한, "상부", "하부", "외부", "내부", 및 이와 유사한 것과 같은 용어는 편의의 단어이지 제한 용어로 해석되지 않는 것으로 이해된다. 부가적으로, 군 (group)이 요소의 군 및 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는 것으로 기재된 경우, 상기 군은 개별적으로 또는 서로 조합하여 인용된 이들 요소의 어떤 수를 포함하거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 이루어질 수 있다. 유사하게, 군이 요소의 군 및 이들의 조합 중 적어도 하나로 이루어진 것으로 기재된 경우, 상기 군은 개별적으로 또는 서로 조합하여 인용된 이들 요소의 어떤 수로 이루어질 수 있다. 별도의 언급이 없는 한, 인용된 경우, 값의 범위는, 상기 범위의 상한 및 하한값들뿐만 아니라 그들 사이의 어떤 값을 모두 포함한다. 여기에 사용된 바와 같은, "단수" 및 "복수"는 특별히 구분없이 사용되며, 별도의 언급이 없는 한, "단수" 및 "복수" 모두 "적어도 하나" 또는 "하나 이상"을 의미한다. 본 명세서 및 도면들에 개시된 다양한 특색들은 어떤 하나 및 모두 조합하여 사용될 수 있는 것으로 또한 이해된다.
여기에 사용된 바와 같은, 용어 "유리 제품" 및 "유리 제품들"은 유리로 전체적으로 또는 부분적으로 만들어진 어떤 물건을 포함하는 넓은 의미로 사용된다. 별도의 언급이 없다면, 모든 조성물은 몰 퍼센트 (mol%)로 표시된다. 열팽창계수 (CTE)는 10-7/℃로 표시되며, 별도의 언급이 없다면, 약 20℃ 내지 약 300℃의 온도 범위에 걸쳐 측정된 값을 나타낸다.
용어 "실질적으로" 및 "약"은 어떤 정량적인 비교, 값, 측정, 또는 다른 표현에 기인할 수 있는 내재하는 불활성의 정도를 나타내는 것으로 여기에서 활용될 수 있는 점에 주목된다. 이들 용어는 또한 문제의 주제의 기본적인 기능의 변화를 결과하지 않고 정량적인 표현이 명시된 기준으로부터 변할 수 있는 정도를 나타내는 것으로 여기에서 활용된다. 따라서, "알칼리 금속 산화물이 실질적으로 없는" 또는 "P2O5가 실질적으로 없는" 유리는 이러한 산화물이 유리에 능동적으로 첨가되지 않았거나 또는 배치되지는 (batched) 않았지만, 오염물로서 매우 소량으로 존재할 수 있는 유리이다.
일반적으로 도면, 특히, 도 1을 참조하면, 예시는 특정 구체 예를 기재할 목적을 위한 것이며, 본 개시 또는 여기에 첨부된 청구항을 제한하지 않는 것으로 이해될 것이다. 상기 도면들은 반드시 크기를 조정한 것은 아니며, 상기 도면들의 어떤 특색 및 어떤 도들은 명료성 및 간결성을 도모하기 위해 크기를 조정하여 확장되거나 또는 개략적으로 도시될 수 있다.
네트워크 형성제인 SiO2, B2O3, 및 Al2O3를 포함하고, 몇몇 구체 예에서, 낮은 (즉, 약 40 x 10-7/℃ 미만) 열팽창계수 (CTE)를 갖는 유리 및 이로부터 제조된 유리 제품은 여기에 기재된다. 몇몇 구체 예에서, 상기 유리들은 유리 용융물의 고유 저항 (resistivity)을 낮추고, 내화물 오염 및 공정 구조 (processing structures)의 "파이어-스루 (fire-through)"을 피하기 위해 약 1 mol% 미만의 알칼리 금속 또는 알칼리 금속 산화물로 의도적으로 적게 도핑된다. 다른 구체 예에서, 상기 유리는 알칼리 금속 및 알칼리 금속 산화물 (여기서 "알칼리 금속 산화물 개질제"라 한다)이 없다. 몇몇 구체 예에서, 이들 유리는 또한 유리의 고유한 또는 본질의 내손상성을 개선시키기 위해 낮은 값의 영률 및 전단 탄성률을 갖는다.
몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리는 슬롯-인발 및 퓨전-인발 공정과 같은, 기술분야에서 알려진 다운-인발 공정에 의해 형성 가능하다. 상기 퓨전 인발 공정은 박형 유리 시트의 대규모 제작을 위해 사용된 산업적인 기술이다. 플루오트 (float) 또는 슬롯 인발 공정과 같은, 다른 평면 유리 제작 기술과 비교하면, 상기 퓨전 인발 공정은 우수한 평탄도 및 표면 품질을 갖는 박형 유리 시트를 생산한다. 그 결과, 상기 퓨전 인발 공정은 노트북, 오락 장치, 테블릿, 랩탑, 및 이와 유사한 것과 같은 개인용 전자 장치용 커버 유리뿐만 아니라, 액정 디스플레이용 박형 유리 기판의 제작에서 지배적인 제조 기술이 되었다.
상기 퓨전 인발 공정은, 통상적으로 지르콘 또는 또 다른 내화성 물질로 구성된, "아이소파이프 (isopipe)"로 알려진 홈통 (trough)을 넘치는 용융 유리의 흐름을 포함한다. 상기 용융 유리는 양 측면으로부터 상기 아이소파이프의 상부로 넘쳐서, 최종 시트의 내부만이 상기 아이소파이프와 직접 접촉하는 단일 시트를 형성하도록 상기 아이소파이프의 버텀에서 만난다. 상기 최종 유리 시트의 노출된 표면이 인발 공정 동안 상기 아이소파이프 물질과 접촉하지 않기 때문에, 상기 유리의 모든 외부 표면은 자연 그대로의 품질이고, 나중에 마감공정을 요구하지 않는다.
퓨전 인발을 가능하게 하기 위해, 유리는 충분히 높은 액상선 점도 (liquidus viscosity) (즉, 액상선 온도에서 용융 유리의 점도)를 가져야 한다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리는 적어도 약 100 kilopoise (kpoise), 다른 구체 예에서, 적어도 약 120 kpoise의 액상선 점도를 가지며, 다른 구체 예에서, 이들 유리들은 적어도 약 300 kpoise의 액상선 점도를 갖는다. 상기 알칼리-도핑 및 알칼리 없는 유리가 유리 적층체에서 클래드 층으로서 사용되고, 온도에 대하여 코어 유리의 점도 거동이 클래드 유리의 것과 거의 동일한 경우에서, 상기 클래드 유리의 액상선 점도는 약 70 kPoise 이상일 수 있다.
전통적인 퓨전 인발은 단일 아이소파이프를 사용하여 달성되어, 균일한 유리 생산물을 결과한다. 좀 더 복잡한 적층 퓨전 공정은 두 개의 아이소파이프를 사용하여, 다른 클래드 층에 의해 각 (또는 모든) 측면을 둘러싼 코어 유리 조성물을 포함하는 적층 시트를 형성한다. 적층 퓨전의 주요 장점 중 하나는, 상기 클래드 유리의 열팽창계수가 코어 유리의 것보다 미만일 경우, CTE 차이가 외부 클래드 층에서 압축 응력을 결과한다는 점이다. 이러한 압축 응력은 이온 교환 처리에 대한 필요없이 최종 유리 생산물의 강도를 증가시킨다. 이온 교환과 달리, 이 강화는 유리에서 알칼리 이온의 사용 없이 달성될 수 있다.
따라서, 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 알칼리-도핑 및 알칼리 없는 유리는, 도 1에 개략적으로 나타낸, 유리 적층체를 형성하는데 사용될 수 있다. 유리 적층체 (100)는 여기에 기재된 알칼리-도핑 및 알칼리-없는 유리로부터 형성된 "클래드 층" 또는 클래드 유리 (120)에 의해 둘러싸인 코어 유리 (110)를 포함한다. 상기 코어 유리 (110)는 클래드 층 (120)에서 상기 알칼리-도핑 및 알칼리-없는 유리의 CTE를 초과하는 CTE를 갖는다. 몇몇 구체 예에서, 상기 코어 유리는 알칼리 알루미노실리케이트 유리일 수 있다. 하나의 비-제한 실시 예에서, 상기 코어 유리는, 572℃의 변형점, 629℃의 어닐링점, 888℃의 연화점, 및 CTE = 95.5 x 10-7/℃인, 66.9 mol% SiO2, 10.1 mol% Al2O3, 0.58 mol% B2O3, 7.45 mol% Na2O, 8.39 mol% K2O, 5.78 mol% MgO, 0.58 mol% CaO, 0.2 mol% SnO2, 0.01 mol% ZrO2, 및 0.01 mol% Fe2O3인 조성물을 갖는, 알칼리 알루미노실리케이트 유리이다.
적층 제품에서 클래드 유리로서 사용된 경우, 여기에 기재된 알칼리-도핑 및 알칼리-없는 유리 조성물은 상기 클래드 층에 높은 압축 응력을 제공할 수 있다. 여기에 기재된 저 알칼리 금속 산화물/알칼리-도핑 및 알칼리-없는 퓨전-형성 가능한 (fusion-formable) 유리의 CTE는 일반적으로 약 40 x 10-7/℃ 이하의 범위, 몇몇 구체 예에서, 약 35 x 10-7/℃ 이하의 범위이다. 이러한 유리가, 예를 들어, 90 x 10-7/℃의 CTE를 갖는 알칼리 알루미노실리케이트 유리 (예를 들어, 코닝사에 의해 제작된, Gorilla® Glass)와 쌍이 되는 경우, 상기 클래드 유리에서 예측된 압축 응력은 하기 탄성 응력 수학식을 사용하여 계산될 수 있고, 여기서 하기 수학식 1 및 2는 각각 코어 유리 및 클래드 유리에 관련된다:
[수학식 1]
Figure pat00001
[수학식 2]
Figure pat00002
여기서 E는 영률이고, υ는 푸아송의 비 (Poisson's ratio)이며, t는 유리 두께이고, σ는 응력이며, e2-e1은 클래드 유리 및 코어 유리 사이의 열팽창에서 차이이다. 상기 클래드 유리 및 코어 유리에 대하여 동일한 탄성률 및 푸아송의 비를 사용하는 것은, 상기 수학식들을 더욱 단순화시킨다.
상기 클래드 유리 및 코어 유리 사이의 열팽창에서 차이를 계산하기 위해, 상기 응력은 상기 클래드 및 코어 중 더 연질의 유리의 변형점 아래에서 설정되는 것으로 추정된다. 상기 클래드 유리에서 응력은 이 추정 및 상기 수학식들을 사용하여 추산될 수 있다. 상기 클래드 유리로서 30 x 10-7/℃의 CTE 및 90 x 10-7/℃의 CTE를 갖는 알칼리 알루미노실리케이트 코어 유리, 0.5-1.0 mm의 범위에서 전체 두께 및 10-100 ㎛의 상기 클래드 유리 두께를 갖는 통상적인 디스플레이-형 유리에 대하여, 상기 클래드 유리의 압축 응력은 약 200MPa 내지 약 315MPa인 것으로 추산된다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리는 약 40 x 10-7/℃ 미만, 몇몇 구체 예에서는 약 35 x 10-7/℃ 미만의 열팽창계수를 갖는다. 이들 유리들에 대하여, 상기 클래드 유리 층의 압축 응력은 적어도 약 40MPa, 및 다른 구체 예에서, 적어도 약 80MPa일 것이다.
여기에 기재된 알칼리-도핑 및 알칼리-없는 유리는 특히 낮은 열팽창계수를 갖는다. 몇몇 구체 예에서, 상기 유리의 CTE는 약 40 x 10-7/℃ 미만, 다른 구체 예에서는 약 35 x 10-7/℃ 미만이다. 더 높은 CTE를 갖는 코어 유리와 쌍을 이룬 경우, 여기에 기재된 유리들은 최종 적층 유리 생산품의 클래드 층에서 높은 수준의 압축 응력을 제공한다. 이것은 유리 적층체 생산품의 강도를 증가시킨다. 적어도 약 40MPa의 실-온 압축 응력, 및 몇몇 구체 예에서, 적어도 약 80MPa는 상기 적층체의 클래드 층에서 여기에 기재된 유리들을 사용하여 달성할 수 있다. 클래드 층으로서 사용된 경우, 여기에 기재된 유리들의 액상선 점도 요구조건은 낮춰질 수 있다. 온도에 대하여 코어 유리의 점도 거동이 대략 클래드 유리와 것과 (즉, 짝을 이룬) 동일한 경우의 구체 예에서, 상기 클래드 유리의 액상선 점도는 약 70 kPoise 이상일 수 있다.
상기 알칼리-도핑 및 알칼리-없는 유리는 다른 상업적으로 이용 가능한 퓨전-인발 유리의 것보다 상당히 아래인 영률 및 전단 탄성률의 값을 갖는다. 몇몇 구체 예에서, 상기 영률은 약 65 GPa (gigapascals) 미만, 다른 구체 예에서 약 60GPa 미만이다. 낮은 탄성률은 높은 수준의 고유한 내손상성을 갖는 유리들을 제공한다.
몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리는: 약 50 mol% 내지 약 70 mol%의 SiO2 (즉, 50 mol%≤SiO2≤70 mol%); 약 5 mol% 내지 약 20 mol%의 Al2O3 (즉, 5 mol%≤Al2O3≤20 mol%); 약 12 mol% 내지 약 35 mol%의 B2O3 (즉, 12 mol%≤B2O3≤35 mol%); 약 5 mol%까지의 MgO (즉, 0 mol%≤MgO≤5 mol%); 약 12 mol%까지의 CaO (즉, 0 mol%≤CaO≤12 mol%); 및 약 5 mol%까지의 SrO (즉, 0 mol%≤SrO≤5 mol%)을 포함하거나 또는 필수적으로 이루어지며, 여기서 알칼리 금속 산화물 개질제의 합은 0.1 mol% 이하 (즉, 0 mol%≤Li2O + Na2O + K2O≤0.1 mol%)이다. 몇몇 구체 예에서, 4 mol%≤MgO + CaO + SrO≤Al2O3 + 1 mol%이다. 어떤 구체 예에서, 상기 유리는, P2O5 및/또는 알칼리 금속 산화물 개질제를 0 mol%로 함유하거나, 또는 실질적으로 없다.
상기 유리는 약 0.5 mol%까지의 Fe2O3 (즉, 0 mol%≤Fe2O3≤0.5 mol%); 약 0.2 mol%까지의 ZrO2 (즉, 0 mol%≤ZrO2≤0.2 mol%); 및, 선택적으로, SnO2, CeO2, As2O3, Sb2O5, Cl-, F-, 또는 이와 유사한 것과 같은 적어도 하나의 청징제 (fining agent)를 더욱 포함할 수 있다. 상기 적어도 하나의 청징제는, 몇몇 구체 예에서, 약 0.7 mol%까지의 SnO2 (즉, 0 mol%≤SnO2≤0.5 mol%); 약 0.5 mol% 내지 약 0.7 mol% 까지의 CeO2 (즉, 0 mol%≤CeO2≤0.7 mol%); As2O3 (즉, 0 mol%≤As2O3≤0.5 mol%); 및 약 0.5 mol%까지의 Sb2O3 (즉, 0 mol%≤Sb2O3≤0.5 mol%)를 포함한다.
특정 구체 예에서, 상기 유리는 약 55 mol% 내지 약 70 mol%의 SiO2 (즉, 55 mol%≤SiO2≤70 mol%); 약 6 mol% 내지 약 10 mol%의 Al2O3 (즉, 6 mol% < Al2O3≤10 mol%); 약 18 mol% 내지 약 30 mol% B2O3 (즉, 18 mol%≤B2O3≤30 mol%); 약 3 mol%까지의 MgO (즉, 0 mol%≤MgO≤3 mol%); 약 2 mol% 약 10 mol%까지의 CaO (즉, 2 mol%≤CaO≤10 mol%); 및 약 3 mol%까지의 SrO (즉, 0 mol%≤SrO≤3 mol%)을 포함하거나 또는 필수적으로 이루어지고, 여기서 알칼리 금속 산화물 개질제의 합은 1 mol% 이하 (즉, 0 mol%≤Li2O + Na2O + K2O≤1 mol%)이다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리에서 MgO, CaO, 및 SrO의 총량은 약 4 mol% 이상이고, 유리에 존재하는 Al2O3의 양 이하 (즉, 4 mol%≤MgO + CaO + SrO≤Al2O3)이다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리에서 알칼리 및 알칼리토 산화물의 총량은 약 4 mol% 이상 및 유리에 존재하는 Al2O3의 양 이하 (즉, 4 mol%≤Li2O + Na2O + K2O + MgO + CaO + SrO≤Al2O3)이다. 어떤 구체 예에서, 유리는 P2O5가 없다.
상기 유리는 약 0.2 mol%까지의 ZrO2 (즉, 0 mol%≤ZrO2≤0.2 mol%), 약 0.2 mol%까지의 Fe2O3 (즉, 0 mol%≤Fe2O3≤0.2 mol%) 및 SnO2, CeO2, As2O3, Sb2O5, Cl-, F-, 또는 이와 유사한 것과 같은, 적어도 하나의 청징제를 더욱 포함할 수 있다. 상기 적어도 하나의 청징제는, 몇몇 구체 예에서, 약 0.2 mol%까지의 SnO2 (즉, 0 mol%≤SnO2≤0.2 mol%)를 포함할 수 있다.
이들 유리의 조성물 및 비-제한 실시 예들은 하기 표 1 내지 7에 열거된다. 이들 유리의 각각의 산화물 성분은 기능을 제공한다. 실리카 (SiO2)는 주된 유리 형성 산화물이고, 용융 유리에 대한 네트워크 백본을 형성한다. 순수 SiO2는 낮은 CTE를 가지며, 알칼리 금속이 없다. 그러나, 매우 높은 용융 온도에 기인하여, 순수 SiO2는 퓨전 인발 공정과 양립할 수 없다. 점도 곡선은 또한 너무 높아서 적층 구조에서 어떤 코어 유리와 일치할 수 없다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리에 SiO2의 양은 약 50 mol% 내지 약 70 mol%의 범위이다. 다른 구체 예에서, 상기 SiO2 농도는 약 55 mol% 내지 약 70 mol%의 범위이다.
실리카에 부가하여, 여기서 기재된 유리는 안정한 유리 형성, 낮은 CTE, 낮은 영률, 낮은 전단 탄성률을 달성하고, 및 용융 및 형성을 용이하게 하기 위해 네트워크 형성제인 Al2O3 및 B2O3를 포함한다. 적절한 농도에서 이들 네 개의 네트워크 형성제 모두를 혼합시켜, CTE 및 계수 (modulus)를 증가시키도록 작용하는, 알칼리 또는 알칼리토 산화물과 같은 네트워크 개질제에 대한 필요를 최소화하면서 안정한 벌크 유리 형성을 달성하는 것이 가능하다. SiO2과 같이, Al2O3는 유리 네트워크에 대한 강성 (rigidity)에 기여한다. 알루미나는 4 배위 (fourfold coordination) 또는 5 배위로 유리에 존재할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리는 약 5 mol% 내지 약 12 mol% Al2O3 및, 특정 구체 예에서, 약 6 mol% 내지 약 10 mol%의 Al2O3를 포함한다.
산화 붕소 (B2O3)는 또한 점도를 감소시키기 위해 사용된 유리-형성 산화물이고, 따라서 유리를 용융 및 형성하는 능력을 개선시킨다. B2O3는 유리 네트워크에서 3 배위 또는 4 배위로 존재할 수 있다. 3 배위 B2O3는 영률 및 전단 탄성률을 감소시키는데 가장 효과적인 산화물이고, 따라서 유리의 고유한 내손상성을 개선시킨다. 따라서, 여기에 기재된 유리는, 몇몇 구체 예에서, 약 12 mol% 내지 약 35 mol%까지의 B2O3 및, 다른 구체 예에서, 약 18 mol% 내지 약 30 mol%의 B2O3를 포함한다.
B2O3와 같은, 알칼리토 산화물 (MgO, CaO, 및 SrO)은 또한 유리의 용융 거동을 개선시킨다. 그러나, 이들은 또한 CTE 및 영률 및 전단 탄성률을 증가시키도록 작동한다. 몇몇 구체 예에서, 여기에 기재된 유리는 약 5 mol%까지의 MgO, 약 12 mol%까지의 CaO, 및 약 5 mol%까지의 SrO 및, 다른 구체 예에서, 약 3 mol%까지의 MgO, 약 2 mol% 약 10 mol%까지의 CaO, 및 약 3 mol%까지의 SrO를 포함한다. 상기 유리에서 대다수의 B2O3가 3 배위 상태에 있고, 따라서, 높은 본래의 내스크래치성을 보장하기 위하여, 몇몇 구체 예에서, (MgO) + (CaO) + (SrO) ≤ (Al2O3) + 1 mol%이거나, 또는, 다른 구체 예에서, (MgO) + (CaO) + (SrO) ≤ (Al2O3)이다.
상기 유리는 또한 용융 동안 가스성 함유물의 제거를 도울 수 있도록 작은 농도로 SnO2, CeO2, As2O3, Sb2O5, Cl-, F-, 또는 이와 유사한 것과 같은 적어도 하나의 청징제를 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 유리는 약 0.7 mol%까지의 SnO2, 약 0.7 mol% 까지의 CeO2, 약 0.5 mol%까지의 As2O3, 및/또는 약 0.5 mol%까지의 Sb2O3를 포함할 수 있다. 다른 구체 예에서, 적어도 하나의 청징제는 약 0.2 mol%까지의 SnO2를 포함할 수 있다.
소량의 ZrO2는 또한 용융 장치에서 지르코니아-계 내화성 물질과 뜨거운 유리의 접촉에 의해 도입될 수 있고, 따라서 유리에서 이의 수준을 모니터링하는 것은 시간에 대한 탱크 마모의 속도를 판단하는데 중요할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 유리는 약 0.1 mol%까지의 ZrO2을 포함할 수 있다. 상기 유리는, 배치 물질에 통상 불순물로서, 저농도의 Fe2O3를 더욱 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 유리는 약 0.5 mol%까지의 Fe2O3, 및 다른 구체 예에서, 약 0.2 mol%까지의 Fe2O3를 포함할 수 있다.
대표적인 유리 조성물
mol% 1 2 3 4 5 6
SiO2 67.11 65.75 65.82 65.79 65.81 65.63
Al2O3 9.90 9.49 9.46 9.41 9.39 9.36
B2O3 13.30 15.44 15.43 15.60 15.65 15.94
Na2O 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
K2O 0.02 0.02 0.02 0.02 0.02 0.01
MgO 0.39 0.39 0.39 0.39 0.21 0.19
CaO 8.92 8.72 8.73 8.66 8.75 8.64
SrO 0.21 0.07 0.02 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.07 0.05 0.05 0.05 0.08 0.11
ZrO2 0.03 0.02 0.03 0.03 0.03 0.05
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
표 1 계속
mol% 7 8 9 10 11 12
SiO2 66.14 66.35 66.59 66.45 67.24 67.51
Al2O3 9.17 8.81 8.38 8.01 7.66 7.45
B2O3 15.81 16.27 16.90 17.72 17.60 17.87
Na2O 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
K2O 0.02 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
MgO 0.19 0.18 0.17 0.17 0.15 0.00
CaO 8.47 8.17 7.75 7.39 7.07 6.90
SrO 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.10 0.10 0.09 0.12 0.12 0.11
ZrO2 0.04 0.05 0.04 0.07 0.08 0.08
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
표 1 계속
mol% 13 14 15 16 17 18
SiO2 67.54 67.48 67.41 66.80 67.49 67.38
Al2O3 7.32 7.27 7.27 7.20 7.23 7.22
B2O3 17.94 18.11 18.17 18.94 18.19 18.29
Na2O 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
K2O 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
MgO 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15
CaO 6.79 6.75 6.76 6.67 6.71 6.73
SrO 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.10 0.10 0.10 0.09 0.09 0.09
ZrO2 0.08 0.06 0.06 0.07 0.06 0.06
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
표 1 계속
mol% 19 20 21 22 23 24
SiO2 66.56 64.20 61.34 59.18 60.52 60.66
Al2O3 7.39 7.46 8.17 8.08 8.25 8.24
B2O3 18.75 20.87 22.04 24.39 22.71 22.60
Na2O 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
K2O 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
MgO 0.16 0.15 0.17 0.17 0.18 0.18
CaO 6.91 7.06 7.92 7.90 8.07 8.04
SrO 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.10 0.11 0.17 0.13 0.12 0.12
ZrO2 0.06 0.07 0.11 0.07 0.07 0.08
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
표 1 계속
mol% 25 26 27 28 29 30
SiO2 58.20 60.20 60.27 58.75 60.33 60.32
Al2O3 8.53 8.12 8.08 7.87 8.09 8.07
B2O3 24.88 23.24 23.30 25.21 23.19 23.22
Na2O 0.04 0.04 0.04 0.03 0.03 0.03
K2O 0.01 0.02 0.01 0.01 0.01 0.01
MgO 0.26 0.30 1.95 2.55 3.04 3.16
CaO 7.89 7.77 6.14 5.36 5.08 4.96
SrO 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.11 0.16 0.11 0.11 0.12 0.12
ZrO2 0.07 0.12 0.08 0.08 0.09 0.09
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
표 1 계속
mol% 31 32 33 34 35 36
SiO2 58.80 60.59 60.69 61.01 60.98 59.86
Al2O3 7.89 8.16 8.24 8.27 8.29 8.12
B2O3 25.23 23.43 23.85 23.85 23.96 25.52
Na2O 0.03 0.03 0.04 0.04 0.04 0.05
K2O 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
MgO 3.19 3.44 3.67 3.84 3.89 3.84
CaO 4.64 4.09 3.26 2.72 2.56 2.34
SrO 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.11 0.12 0.11 0.13 0.13 0.12
ZrO2 0.10 0.10 0.10 0.11 0.12 0.12
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
표 1 계속
mol% 31 32 33 34 35 36
SiO2 58.80 60.59 60.69 61.01 60.98 59.86
Al2O3 7.89 8.16 8.24 8.27 8.29 8.12
B2O3 25.23 23.43 23.85 23.85 23.96 25.52
Na2O 0.03 0.03 0.04 0.04 0.04 0.05
K2O 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
MgO 3.19 3.44 3.67 3.84 3.89 3.84
CaO 4.64 4.09 3.26 2.72 2.56 2.34
SrO 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
BaO 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
SnO2 0.11 0.12 0.11 0.13 0.13 0.12
ZrO2 0.10 0.10 0.10 0.11 0.12 0.12
Fe2O3 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
합계 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
존재하는 많은 양의 붕소는 이온 교환에 의한 화학적 강화 없이 높은 수준의 고유한 또는 "본래의" 내스크래치성을 갖는 유리를 제공한다. 내스크래치성은 누프 스크래치 임계값 시험에 의해 결정된다. 누프 임계값 시험에서, 기계적인 시험장치는 누프 다이아몬드를 보유하고, 여기서 유리는 측면 균열의 시작을 결정하기 위해 증가하는 하중에서 스크래치된다; 즉, 원래의 스크래치/그루브의 폭을 두 배 초과하는 지속 균열 (sustained cracks). 이 측면 균열의 시작은 "누프 스크래치 임계 값"으로 정의된다. 여기서 기재된 유리는 약 15 N (Newtons)의 최소 누프 스크래치 임계값을 갖는다. 몇몇 구체 예에서, 상기 누프 스크래치 임계값은 적어도 20N이고, 다른 구체 예에서, 적어도 약 25N이다.
표 5에 유리 샘플 25에 대한 누프 스크래치 시험 결과의 사진은 도 2a-f에 나타낸다. 상기 유리는 시험 전에 이온교환되지 않는다. 26 N까지의 하중에서 (도 2a-d), 원래의 스크래치 (200)과 연관하여 관찰된 측면 균열은 없다. 측면 균열 (202)은 28 N의 하중 (도 2e)에서 관찰되지만, 측면 균열 (212)의 정도는 원래의 스크래치 (202)의 폭의 두 배 미만이다. 상기 유리에 대한 누프 스크래치 임계값이 30N의 하중 (도 2f)에 도달된에 따라, 상기 측면 관찰된 균열 (214)은 원래의 스크래치 (204)의 폭을 두 배 초과한다.
여기에 기재된 유리와 비교하여, 다른 알칼리토 보로실리케이트 유리 (코닝사의 Eagle XG® Glass)는 8-10 N의 누프 스크래치 임계값을 나타내고, 이온 교환된 알칼리 알루미노실리케이트 유리 (코닝사의 Gorilla® Glass 및 Gorilla® Glass 3)는 각각 3.9-4.9 N 및 9.8-12 N의 누프 스크래치 임계값을 나타낸다.
여기에서 유리 제조 방법은 또한 제공된다. 상기 방법은 SiO2, B2O3, 및 Al2O3 및 P2O5 중 적어도 하나를 포함하는 유리 용융물을 제공하는 단계로서, 여기서 상기 유리 용융물은 알칼리 금속 산화물 개질제가 실질적으로 없는 유리 용융물의 제공 단계, 및 유리를 형성하기 위해 상기 유리 용융물을 다운-인발시키는 단계를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 유리의 다운-인발 단계는 유리 용융물을 슬롯-인발하는 단계, 다른 구체 예에서, 상기 유리 용융물을 퓨전-인발시키는 단계를 포함한다.
어떤 구체 예에서, 상기 방법은 코어 유리 용융물을 제공하는 단계 및 클래드 유리의 열팽창계수 미만인 열팽창계수를 갖는 코어 유리를 형성하기 위해 상기 코어 유리 용융물을 퓨전 인발시키는 단계를 더욱 포함한다. 상기 클래드 유리 용융물은 그 다음 상기 클래드 유리 층을 형성하기 위해 퓨전 인발되고, 이에 의해 코어 유리를 감싼다. 상기 클래드 유리 층은 적어도 약 40MPa의 압축 응력, 및 몇몇 구체 예에서, 적어도 약 80MPa의 압축 응력하에 있다.
알칼리 금속이 실질적으로 없어, 여기서 기재된 유리는 박막 트랜지스터 (TFT) 디스플레이 적용에서 사용하는데 적합하다. 이들 적용은 알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 인터페이스 (interface)를 요구하는데, 이는 알칼리 이온의 존재가 박막 트랜지스터를 오염시키기 때문이다. 따라서, 이온 교환된 알칼리-함유 유리는 이러한 적용에 대해 부적합하다. 클래드 층으로서 여기에 기재된 알칼리-도핑 및 알칼리가 없는 유리를 사용하는 유리 적층체는 낮은 수준 (< 1 mol%)의 알칼리 금속 또는 알칼리 금속 산화물로 도핑되거나 또는 알칼리-도핑 및 알칼리가 없는 인터페이스와 조합된 강화된 유리 생산물을 제공한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 알칼리-도핑 및 알칼리가 없는 유리는 또한, TFT 디스플레이 기판용으로 바람직한, 열수축 (thermal compaction)을 감소시키기 위한 높은 어닐링 및 변형점을 갖는다. 여기에 기재된 유리는 또한 다양한 전자 장치에서 터치 인터페이스, 컬러 필터 기판, 또는 커버 유리로 사용될 수 있다.
통상적인 구체 예가 예시의 목적을 위해 서술되는 동안에, 전술한 상기 상세한 설명은 본 개시의 범주 또는 첨부된 청구항을 제한하는 것으로 간주되지 않아야 한다. 따라서, 본 개시 또는 첨부된 청구항의 사상 및 범주를 벗어나지 않고 다양한 변형, 채택, 및 변경은 기술분야의 당업자에게 일어날 수 있다.

Claims (9)

  1. 유리로서:
    58.2 mol% ≤ SiO2 ≤ 70 mol%;
    6 mol% ≤ Al2O3 ≤ 10 mol%;
    20.87 mol% ≤ B2O3 ≤ 30 mol%; 및
    0 mol% 초과의 MgO를 포함하며,
    여기서 4 mol% ≤ (MgO + CaO + SrO) ≤ Al2O3이고,
    0.05 mol% ≤ (Li2O + Na2O + K2O) ≤ 0.1 mol%인, 유리.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 유리는 0 mol% 초과의 SrO를 포함하는, 유리.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 유리는 유리 적층체에서 클래드층을 형성하고, 상기 유리 적층체는 코어 유리를 포함하며 상기 코어 유리는 상기 클래드층의 열팽창계수를 초과하는 열팽창계수를 가지며, 여기서 상기 클래드층은 적어도 40 MPa의 압축 응력 하에 있는 유리.
  4. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리는 65GPa 미만의 영률을 갖는 유리.
  5. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리는 40 x 10-7/℃ 미만의 열팽창계수를 갖는 유리.
  6. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리는 적어도 15 N의 누프 스크래치 임계값을 갖는 유리.
  7. 유리의 제조 방법으로서, 상기 방법은:
    a. 유리 용융물의 제공 단계, 상기 유리 용융물은:
    58.2 mol% ≤ SiO2 ≤ 70 mol%;
    6 mol% ≤ Al2O3 ≤ 10 mol%;
    20.87 mol% ≤ B2O3 ≤ 30 mol%; 및
    0 mol% 초과의 MgO를 포함하며,
    4 mol% ≤ (MgO + CaO + SrO) ≤ Al2O3이고,
    0.05 mol% ≤ (Li2O + Na2O + K2O) ≤ 0.1 mol%이며; 및
    b. 상기 유리를 형성하기 위해 상기 유리 용융물을 다운-인발시키는 단계를 포함하며, 여기서 상기 유리는 적어도 15 N의 누프 스크래치 임계값을 갖는 유리의 제조방법.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 유리 용융물은 클래드 유리 용융물이고, 상기 방법은:
    a. 코어 유리 용융물을 제공하는 단계;
    b. 상기 코어 유리 용융물을 퓨전-인발시켜 코어 유리를 형성하는 퓨전-인발 단계; 및
    c. 상기 클래드 유리 용융물을 퓨전-인발시켜 상기 코어 유리를 감싸는 클래드층 유리를 형성하는 퓨전-인발 단계를 더욱 포함하며, 여기서 상기 코어 유리는 상기 클래드 유리의 열팽창계수를 초과하는 열팽창계수를 가지며, 여기서 상기 클래드층은 적어도 100 MPa의 압축 응력 하에 있는 유리의 제조방법.
  9. 청구항 7 또는 8에 있어서,
    상기 유리는 65GPa 미만의 영률을 갖는 유리의 제조방법.
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Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9346699B2 (en) 2008-10-06 2016-05-24 Corning Incorporated Method of making a glass laminate having controlled strength
JP6584013B2 (ja) 2013-08-15 2019-10-02 コーニング インコーポレイテッド Cteが中程度から高いガラスおよびそれを備えたガラス物品
KR20220003632A (ko) 2013-08-15 2022-01-10 코닝 인코포레이티드 알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리
US20150127753A1 (en) * 2013-11-04 2015-05-07 Meemo, Llc Word Recognition and Ideograph or In-App Advertising System
KR102421511B1 (ko) 2014-03-27 2022-07-15 코닝 인코포레이티드 유리 제품
JP6691315B2 (ja) * 2014-04-03 2020-04-28 日本電気硝子株式会社 ガラス
US10144198B2 (en) 2014-05-02 2018-12-04 Corning Incorporated Strengthened glass and compositions therefor
CN106458682A (zh) 2014-05-07 2017-02-22 康宁股份有限公司 层压玻璃制品及其形成方法
EP3145883A1 (en) 2014-05-21 2017-03-29 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
WO2015186486A1 (ja) * 2014-06-04 2015-12-10 旭硝子株式会社 導光板用のガラス板
WO2016176171A1 (en) 2015-04-28 2016-11-03 Corning Incorporated Method of laser drilling through holes in substrates using an exit sacrificial cover layer; corresponding workpiece
CN107709257A (zh) * 2015-06-30 2018-02-16 安瀚视特控股株式会社 显示器用玻璃基板及其制造方法
CN108349218B (zh) * 2015-11-05 2021-04-27 康宁股份有限公司 具有确定模量对比的层压玻璃制品及其形成方法
TWI758263B (zh) 2015-11-19 2022-03-21 美商康寧公司 顯示螢幕保護器
JP6955509B2 (ja) * 2015-12-21 2021-10-27 コーニング インコーポレイテッド アルカリ含有量が低いホウケイ酸ガラス
US10410883B2 (en) 2016-06-01 2019-09-10 Corning Incorporated Articles and methods of forming vias in substrates
US10794679B2 (en) 2016-06-29 2020-10-06 Corning Incorporated Method and system for measuring geometric parameters of through holes
US10134657B2 (en) 2016-06-29 2018-11-20 Corning Incorporated Inorganic wafer having through-holes attached to semiconductor wafer
JP6714884B2 (ja) * 2016-09-13 2020-07-01 Agc株式会社 高周波デバイス用ガラス基板と高周波デバイス用回路基板
US10580725B2 (en) 2017-05-25 2020-03-03 Corning Incorporated Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same
US11078112B2 (en) 2017-05-25 2021-08-03 Corning Incorporated Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same
CN110770182A (zh) * 2017-05-26 2020-02-07 日本板硝子株式会社 玻璃组合物、玻璃纤维、玻璃布以及玻璃纤维的制造方法
US11554984B2 (en) 2018-02-22 2023-01-17 Corning Incorporated Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness
WO2019181706A1 (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 Agc株式会社 基板、液晶アンテナ及び高周波デバイス
KR20200133340A (ko) * 2018-03-20 2020-11-27 에이지씨 가부시키가이샤 유리 기판, 액정 안테나 및 고주파 디바이스
US10188970B1 (en) * 2018-03-26 2019-01-29 Water Solutions, Inc. Rotary drum screen for thin stillage filtration
JP7409316B2 (ja) * 2018-11-14 2024-01-09 Agc株式会社 高周波デバイス用ガラス基板、液晶アンテナ及び高周波デバイス
US11117828B2 (en) * 2019-01-18 2021-09-14 Corning Incorporated Low dielectric loss glasses for electronic devices
CN113508097B (zh) * 2019-01-18 2022-08-09 康宁股份有限公司 用于电子装置的低介电损耗玻璃
EP4289802A1 (en) * 2021-02-05 2023-12-13 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass composition, and glass filler and method for producing same

Family Cites Families (141)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3008841A (en) 1959-06-19 1961-11-14 Owens Corning Fiberglass Corp Glass composition
US3737294A (en) 1970-08-28 1973-06-05 Corning Glass Works Method for making multi-layer laminated bodies
US3849097A (en) 1970-10-07 1974-11-19 Corning Glass Works Method for continuously hot forming strong laminated bodies
US3673049A (en) 1970-10-07 1972-06-27 Corning Glass Works Glass laminated bodies comprising a tensilely stressed core and a compressively stressed surface layer fused thereto
US3746526A (en) 1971-03-10 1973-07-17 Corning Glass Works Method for forming subsurface fortified laminates
US3931438A (en) 1971-11-08 1976-01-06 Corning Glass Works Differential densification strengthening of glass-ceramics
US4102664A (en) 1977-05-18 1978-07-25 Corning Glass Works Method for making glass articles with defect-free surfaces
US4214886A (en) 1979-04-05 1980-07-29 Corning Glass Works Forming laminated sheet glass
US4350532A (en) 1980-09-08 1982-09-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Glass composition and articles
JPS6036349A (ja) 1983-08-05 1985-02-25 Ngk Spark Plug Co Ltd ガラス組成物
US4554259A (en) 1984-05-08 1985-11-19 Schott Glass Technologies, Inc. Low expansion, alkali-free borosilicate glass suitable for photomask applications
SU1377250A1 (ru) 1985-12-23 1988-02-28 Предприятие П/Я В-2268 Стекло
JPS6311543A (ja) 1986-06-30 1988-01-19 Hoya Corp 低膨張ガラス
WO1989002877A1 (en) * 1987-10-01 1989-04-06 Asahi Glass Company Ltd. Alkali free glass
JP2707625B2 (ja) 1987-10-01 1998-02-04 旭硝子株式会社 ディスプレイ基板用無アルカリガラス
JP3144823B2 (ja) 1991-04-26 2001-03-12 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
US5116787A (en) 1991-08-12 1992-05-26 Corning Incorporated High alumina, alkaline earth borosilicate glasses for flat panel displays
GB9204537D0 (en) 1992-03-03 1992-04-15 Pilkington Plc Alkali-free glass compositions
US5559060A (en) 1992-05-22 1996-09-24 Corning Incorporated Glass for laminated glass articles
JP3409806B2 (ja) 1993-06-22 2003-05-26 日本電気硝子株式会社 低誘電率ガラス繊維
US5342426A (en) 1993-07-16 1994-08-30 Corning Incorporated Making glass sheet with defect-free surfaces and alkali metal-free soluble glasses therefor
US5489558A (en) 1994-03-14 1996-02-06 Corning Incorporated Glasses for flat panel display
US6169047B1 (en) 1994-11-30 2001-01-02 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
EP0714862B1 (en) 1994-11-30 1999-03-31 Asahi Glass Company Ltd. Alkali-free glass and flat panel display
JP2719504B2 (ja) 1995-02-27 1998-02-25 ホーヤ株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
JP3666608B2 (ja) 1995-04-27 2005-06-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
WO1997011920A1 (fr) 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Substrat de verre exempt d'alcalis
WO1997011919A1 (fr) 1995-09-28 1997-04-03 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Substrat de verre exempt d'alcalis
JP3858293B2 (ja) 1995-12-11 2006-12-13 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
JP2005263628A (ja) 1996-03-14 2005-09-29 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラス組成物
US5824127A (en) 1996-07-19 1998-10-20 Corning Incorporated Arsenic-free glasses
US5785726A (en) 1996-10-28 1998-07-28 Corning Incorporated Method of reducing bubbles at the vessel/glass interface in a glass manufacturing system
JPH10139467A (ja) * 1996-11-12 1998-05-26 Asahi Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル
US6060168A (en) 1996-12-17 2000-05-09 Corning Incorporated Glasses for display panels and photovoltaic devices
DE19739912C1 (de) 1997-09-11 1998-12-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
US6287674B1 (en) 1997-10-24 2001-09-11 Agfa-Gevaert Laminate comprising a thin borosilicate glass substrate as a constituting layer
JP2000001331A (ja) 1998-06-11 2000-01-07 Nh Techno Glass Kk 液晶ディスプレイ基板用ガラス
US6468933B1 (en) 1998-09-22 2002-10-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass and method of producing the same
JP4547093B2 (ja) 1998-11-30 2010-09-22 コーニング インコーポレイテッド フラットパネルディスプレイ用ガラス
DE19916296C1 (de) 1999-04-12 2001-01-18 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
DE19934072C2 (de) 1999-07-23 2001-06-13 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung
US6537937B1 (en) 1999-08-03 2003-03-25 Asahi Glass Company, Limited Alkali-free glass
JP4576680B2 (ja) 1999-08-03 2010-11-10 旭硝子株式会社 無アルカリガラス
DE19939789A1 (de) 1999-08-21 2001-02-22 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen
DE19942259C1 (de) 1999-09-04 2001-05-17 Schott Glas Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
JP2001151534A (ja) 1999-11-25 2001-06-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
JP4534282B2 (ja) 1999-12-14 2010-09-01 旭硝子株式会社 液晶ディスプレイ基板用ガラス
DE10000837C1 (de) 2000-01-12 2001-05-31 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendungen
DE10000839C1 (de) 2000-01-12 2001-05-10 Schott Glas Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10000838B4 (de) 2000-01-12 2005-03-17 Schott Ag Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10000836B4 (de) 2000-01-12 2005-03-17 Schott Ag Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
DE10005088C1 (de) 2000-02-04 2001-03-15 Schott Glas Alkalihaltiges Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung
JP2002003240A (ja) 2000-06-19 2002-01-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
DE10064804C2 (de) 2000-12-22 2003-03-20 Schott Glas Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung
JP2002308643A (ja) 2001-02-01 2002-10-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス及びディスプレイ用ガラス基板
JP4924974B2 (ja) 2001-08-13 2012-04-25 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
US7052733B2 (en) 2002-01-10 2006-05-30 Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. Method for making thin film filter having a negative temperature drift coefficient
JP4453240B2 (ja) 2002-05-16 2010-04-21 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス及びこれを用いたディスプレイ用ガラス基板
JP4692915B2 (ja) 2002-05-29 2011-06-01 日本電気硝子株式会社 プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板。
JP4168320B2 (ja) * 2002-08-22 2008-10-22 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
US6992030B2 (en) * 2002-08-29 2006-01-31 Corning Incorporated Low-density glass for flat panel display substrates
JP2004168597A (ja) 2002-11-20 2004-06-17 Asahi Glass Co Ltd 無鉛ガラスおよび電子回路基板用組成物
JP4305817B2 (ja) 2002-12-11 2009-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス基板
DE10311802B4 (de) 2003-03-12 2006-03-02 Schott Ag Boroaluminosilikatglas und dessen Verwendung
US20040178734A1 (en) 2003-03-13 2004-09-16 Yoshihisa Nagasaki Fluorescent device, fluorescent lamp and glass composite
KR20050109929A (ko) 2003-03-31 2005-11-22 아사히 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리
US7514149B2 (en) 2003-04-04 2009-04-07 Corning Incorporated High-strength laminated sheet for optical applications
JP2005089286A (ja) 2003-08-12 2005-04-07 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
TWI252844B (en) 2003-12-25 2006-04-11 Po-I Kuo Glasses for display panels
KR101035826B1 (ko) 2003-12-30 2011-05-20 코닝 인코포레이티드 고 변형점 유리
JP4737709B2 (ja) * 2004-03-22 2011-08-03 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ基板用ガラスの製造方法
US7201965B2 (en) * 2004-12-13 2007-04-10 Corning Incorporated Glass laminate substrate having enhanced impact and static loading resistance
JP2006188406A (ja) 2005-01-07 2006-07-20 Asahi Glass Co Ltd 平板ディスプレイ用真空外囲器およびそれを用いた平板ディスプレイ
CN1268567C (zh) 2005-02-06 2006-08-09 河南安彩高科股份有限公司 一种无碱金属的玻璃组合物及其制法和应用
US20060242996A1 (en) 2005-04-27 2006-11-02 Gilbert Deangelis System and method for controlling the environment around one or more vessels in a glass manufacturing system
DE102005019958B4 (de) 2005-04-29 2010-02-18 Schott Ag Blitzlicht-Leuchtquelle mit Hüllenglas
FR2886288B1 (fr) 2005-05-27 2007-07-06 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans plats
DE102006029073B4 (de) 2005-07-06 2009-07-16 Schott Ag Verfahren zum Durchtrennen eines Flachglases unter Verwendung eines Lasertrennstrahls und alkalifreies Flachglas mit besonderer Eignung hierfür
CN101243020A (zh) * 2005-08-15 2008-08-13 日本板硝子株式会社 玻璃组合物以及玻璃组合物的制造方法
DE112006002184B4 (de) 2005-08-15 2017-02-23 Avanstrate Inc. Glaszusammensetzung
SG169374A1 (en) 2005-08-15 2011-03-30 Avanstrate Inc Jp Glass composition and process for producing glass composition
CN1807308A (zh) 2006-01-09 2006-07-26 泰山玻璃纤维股份有限公司 一种显示器用之玻璃基板组成
US7635521B2 (en) 2006-02-10 2009-12-22 Corning Incorporated Glass compositions for protecting glass and methods of making and using thereof
US8007913B2 (en) * 2006-02-10 2011-08-30 Corning Incorporated Laminated glass articles and methods of making thereof
FR2898352B1 (fr) 2006-03-10 2008-05-30 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans plats
JP5013304B2 (ja) 2006-03-17 2012-08-29 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用ガラス基板
DE102006016256B4 (de) 2006-03-31 2013-12-12 Schott Ag Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung
FR2905694A1 (fr) 2006-09-13 2008-03-14 Saint Gobain Ecran de visualisation
US7534734B2 (en) 2006-11-13 2009-05-19 Corning Incorporated Alkali-free glasses containing iron and tin as fining agents
US8697591B2 (en) 2006-12-14 2014-04-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Low dielectric glass and fiber glass
US7829490B2 (en) 2006-12-14 2010-11-09 Ppg Industries Ohio, Inc. Low dielectric glass and fiber glass for electronic applications
JP5808069B2 (ja) 2007-02-16 2015-11-10 日本電気硝子株式会社 太陽電池用ガラス基板
JP5483821B2 (ja) * 2007-02-27 2014-05-07 AvanStrate株式会社 表示装置用ガラス基板および表示装置
US8658283B2 (en) 2007-05-14 2014-02-25 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Laminated glass for window and glass window member
FR2916198A1 (fr) 2007-05-16 2008-11-21 Saint Gobain Substrats de verre pour ecrans de visualisation
CN101092280B (zh) 2007-06-07 2012-01-18 河南安彩高科股份有限公司 铝硼硅酸盐玻璃组合物及其应用
JP2008308376A (ja) 2007-06-15 2008-12-25 Central Glass Co Ltd ディスプレイ装置用基板ガラス
JP5092564B2 (ja) 2007-06-15 2012-12-05 セントラル硝子株式会社 ディスプレイ装置用基板ガラス
DE102008056323B8 (de) 2007-11-21 2019-01-03 Schott Ag Verwendung von alkalifreien Aluminoborosilikatgläsern für Leuchtmittel mit außen- oder innenliegender Kontaktierung
EP2227444B1 (en) 2007-11-29 2019-02-20 Corning Incorporated Glasses having improved toughness and scratch resistance
DE102008005857A1 (de) 2008-01-17 2009-07-23 Schott Ag Alkalifreies Glas
JP5392096B2 (ja) 2008-02-27 2014-01-22 旭硝子株式会社 基板用ガラス組成物
JP2010050204A (ja) 2008-08-20 2010-03-04 Oki Semiconductor Co Ltd 半導体素子の製造方法
WO2013020128A1 (en) * 2011-08-04 2013-02-07 Corning Incorporated Photovoltaic module package
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US8445394B2 (en) 2008-10-06 2013-05-21 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
JP5757451B2 (ja) 2009-03-18 2015-07-29 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
KR101446971B1 (ko) * 2009-03-19 2014-10-06 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리
US9371247B2 (en) 2009-05-29 2016-06-21 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium free glass
JP5448064B2 (ja) * 2009-10-28 2014-03-19 日本電気硝子株式会社 強化板ガラス及びその製造方法
JP5652742B2 (ja) 2010-02-12 2015-01-14 日本電気硝子株式会社 強化板ガラス及びその製造方法
JP5704395B2 (ja) 2010-03-29 2015-04-22 日本電気硝子株式会社 ガラスロール梱包体
CN102473426B (zh) * 2010-04-27 2015-04-15 旭硝子株式会社 磁盘以及信息记录媒体用玻璃基板的制造方法
WO2012005941A1 (en) 2010-06-29 2012-01-12 Corning Incorporated Multi-layer glass sheet made by co-drawing using the overflow downdraw fusion process
JP5732758B2 (ja) 2010-07-13 2015-06-10 旭硝子株式会社 固体撮像装置用カバーガラス
US8486850B2 (en) 2010-09-13 2013-07-16 Schott Corporation Aluminophosphate glass composition
CN102417295A (zh) 2010-09-27 2012-04-18 旭硝子株式会社 基板用玻璃组合物
JP6149284B2 (ja) 2010-10-06 2017-06-21 コーニング インコーポレイテッド 高熱および化学安定性を有する無アルカリガラス組成物
US8796165B2 (en) * 2010-11-30 2014-08-05 Corning Incorporated Alkaline earth alumino-borosilicate crack resistant glass
US9346703B2 (en) 2010-11-30 2016-05-24 Corning Incorporated Ion exchangable glass with deep compressive layer and high damage threshold
US20120135853A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-31 Jaymin Amin Glass articles/materials for use as touchscreen substrates
EP2675765B1 (de) 2011-02-18 2019-11-06 Schott AG DURCHFÜHRUNG, INSBESONDERE FÜR BATTERIEN UND VERFAHREN ZUM EINBRINGEN DER DURCHFÜHRUNG MITTELS ULTRASCHALLSCHWEIßEN IN EIN GEHÄUSE
US8785336B2 (en) 2011-03-14 2014-07-22 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
JP5935471B2 (ja) 2011-04-25 2016-06-15 日本電気硝子株式会社 液晶レンズ
JP2015006959A (ja) * 2011-10-31 2015-01-15 旭硝子株式会社 ガラス基板、ガラス基板の製造方法、およびカバーガラス
TWI564262B (zh) 2012-02-29 2017-01-01 康寧公司 高cte之硼矽酸鉀核心玻璃與包含其之玻璃物件
TWI614227B (zh) * 2012-02-29 2018-02-11 康寧公司 低cte之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件
US9393760B2 (en) * 2013-02-28 2016-07-19 Corning Incorporated Laminated glass articles with phase-separated claddings and methods for forming the same
US9527767B2 (en) 2013-05-09 2016-12-27 Corning Incorporated Alkali-free phosphoborosilicate glass
FR3008695B1 (fr) 2013-07-16 2021-01-29 Corning Inc Verre aluminosilicate dont la composition est exempte de metaux alcalins, convenant comme substrat de plaques de cuisson pour chauffage a induction
KR20220003632A (ko) 2013-08-15 2022-01-10 코닝 인코포레이티드 알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리
JP6584013B2 (ja) 2013-08-15 2019-10-02 コーニング インコーポレイテッド Cteが中程度から高いガラスおよびそれを備えたガラス物品
JP6976057B2 (ja) * 2013-11-20 2021-12-01 コーニング インコーポレイテッド 耐スクラッチアルミノホウケイ酸ガラス
EP3145883A1 (en) * 2014-05-21 2017-03-29 Corning Incorporated Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass
DE102016101090A1 (de) 2015-11-26 2017-06-01 Schott Ag Thermisch vorgespanntes Glaselement und seine Verwendungen
WO2017132837A1 (en) 2016-02-02 2017-08-10 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Low cte boro-aluminosilicate glass for glass carrier wafers
WO2018225627A1 (ja) 2017-06-05 2018-12-13 Agc株式会社 強化ガラス
KR102552470B1 (ko) 2017-12-21 2023-07-05 쇼오트 글라스 테크놀로지스 (쑤저우) 코퍼레이션 리미티드. 접합 가능한 유리 및 자가형광성이 낮은 물품 및 이의 제조 방법
KR20200133340A (ko) 2018-03-20 2020-11-27 에이지씨 가부시키가이샤 유리 기판, 액정 안테나 및 고주파 디바이스
CN108558200A (zh) 2018-06-05 2018-09-21 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 一种适用于浮法成型的无磷无碱玻璃配合料
CN108467197A (zh) 2018-06-05 2018-08-31 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 一种适用于浮法成型的无碱玻璃配合料

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