CN104349848A - 表面处理方法、表面处理剂及新型化合物 - Google Patents

表面处理方法、表面处理剂及新型化合物 Download PDF

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Abstract

提供一种表面处理技术，其富有密接功能、反应功能，而且具有多样性。表面处理方法通过涂布含有化合物α的溶液将所述化合物α设置于基板上，所述化合物α至少含有M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素、氨基以及三嗪环，所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，所述氨基结合到末端，所述结合到末端的氨基具有一个以上，所述三嗪环具有一个以上。

Description

表面处理方法、表面处理剂及新型化合物
技术领域
本发明涉及表面处理技术。
背景技术
人类使用各种物质(材料)制造出各种产品。这些产品的材料分为金属材料、陶瓷材料、高分子材料、及将所述材料复合的复合材料。各材料分别具有独自的特性。这些特性发挥出产品的特征。金属或陶瓷也可以单独成为产品。但可以将二种以上的元素熔融、混合而制造出合金或多元素陶瓷。高分子材料适当使用C、H、O、N、X(卤素)、P、S等元素而构成(合成)。其种类甚至可以说是无限的。
材料的性质是主体的性质与表面的性质的总和。主体的性质基本上由材料的种类或组成决定。表面的性质即便构成主体的元素的种类或组成相同，也不一定相同。表面的性质根据吉布斯自由能(ΔG＝ΔH-TΔS，ΔH：焓变，T：绝对温度，ΔS：熵变)定律，随着时间与外界环境一致地变化。若外界环境中存在氧气、水分及紫外线等，则表面会发生化学变化，并且时时刻刻在变化为另外的物质(性质)。
自然界中材料表面的变化会对有效利用表面功能的生产造成大的障碍。这种障碍因表面功能的种类而存在差异。然而，至少明白昨天的表面特性与今天的表面特性不同。材料依存性是由于作为固有性质而具有的表面性而引起的。现在不可能回避这个事实。然而，若通过构建在某时刻使变化同一化的概念来实现材料无依存性，则可以实现以此为基础的生产。并且，生活在21世纪的我们的未来充满光明。
若按照以下方式进行操作，则可以实现材料的表面的同一化。例如，若化学组成或表面特性相同的膜(薄膜)无论何时对何种材料均可以实现材料的表面的同一化，则可以通过设置此种膜(薄膜)的表面处理方法来实现。本发明者将此种剂材特别称为同一表面功能化剂。我们将同一表面功能化剂简称为表面处理剂。使材料表面同一化的同一表面功能化剂通过与材料(例如金属材料、陶瓷材料、高分子材料、有机物个体、其他复合材料)接触，而与表面强力密接，或在表面进行化学结合(反应)。其结果是，无论何种材料，表面的特征均变得相同。即，表面特性因材料而导致的差异消失。发挥此种作用的剂材是同一表面功能化剂。
同一表面功能化剂具有与材料的表面强力密接(或结合)而形成膜(薄膜)的功能。与材料的表面强力密接(或结合)的同一表面功能化剂，具有与其他官能基反应的功能。同一表面功能化剂具有对大量的材料有效地发挥作用的功能。即，富有多样性。我们将具有此种特征的剂材特别地称为同一表面功能化剂。
过去的表面处理剂也存在具有例如与材料表面密接的功能的表面处理剂。但是缺乏反应性。或者缺乏多样性。例如可以应用于材料A，但无法应用于材料B。即，其使用范围窄(缺乏多样性)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：WO2012/043631 A1
非专利文献
非专利文献1：日本接着学会誌，森邦夫，vol.43(6)，242-248(2007)
非专利文献2：表面技術，森邦夫，vol.59(5)，299-304(2008)
非专利文献3：Top Catal(2009)52：634-642
发明内容
迄今为止的表面处理剂无法应对广泛的范围。
非专利文献3与利用本发明的表面处理剂处理后的情况类似。然而，非专利文献3中并未公开本发明。
因此，本发明所要解决的问题是提供富有密接功能、反应功能、而且具有多样性的表面处理技术。
所述问题这样解决：一种表面处理方法，通过涂布含有化合物α的溶液将所述化合物α设置于基板上，
所述化合物α至少含有：
M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；
氨基；以及
三嗪环，
所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，
所述三嗪环具有一个以上，
所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的C间接结合，
所述间接结合的氨基至少存在于末端位置，
所述末端位置的氨基具有一个以上。
所述问题这样解决：一种表面处理方法，通过化合物α的蒸发将所述化合物α设置于基板上，
所述化合物α至少含有：
M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；
氨基；以及
三嗪环，
所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，
所述三嗪环具有一个以上，
所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的C间接结合，
所述间接结合的氨基至少存在于末端位置，
所述末端位置的氨基具有一个以上。
所述问题这样解决：在所述表面处理方法中，优选地，在将所述化合物α设置于基板上之前，对所述基板进行选自清洗处理、电晕放电处理、等离子体放电处理、紫外线照射、酸处理、碱处理、水蒸气处理及化成处理的群中的一种或二种以上处理。
所述问题这样解决：在所述表面处理方法中，优选地，在将所述化合物α设置于基板上之后，进行加热处理。
所述问题这样解决：一种所述表面处理方法所使用的表面处理剂，
所述表面处理剂是化合物α，或者含有化合物α，
所述化合物α至少含有：
M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；
氨基；以及
三嗪环，
所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，
所述三嗪环具有一个以上，
所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的C间接结合，
所述间接结合的氨基至少存在于末端位置，
所述末端位置的氨基具有一个以上。
所述末端所结合的氨基优选地为一级氨基。
所述M-OH基及/或M-OH生成基优选地为烷氧基硅烷基，其中M表示金属元素。
所述化合物α优选地为下述通式[I]表示的化合物。更优选地为下述通式[II]或通式[III]表示的化合物。
通式[I]：
{(NR1R2)aX-Q}bY(W)c{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}d
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基R1、R2、R3、R4可以全部相同，也可以不同X、Z、Q、V为联结基；也存在无联结基X、Z、Q的情况，但X、Z、Q全无的情况除外Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；W为{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}以外的官能基M为选自Si、Al、Ti的群中的至少一个a为1以上的整数，b为1或2，c为0或1，d为1或2，b+c+d＝3，n为0、1或2。
通式[II]：
{(NR1R2)aX-Q}bY{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}e
通式[III]：
{(NR1R2)aX-Q}bY[N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2]e
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以相同，也可以不同；X、Q为联结基；也存在无联结基X、Q的情况，但X、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；a为1以上的整数，b为1或2，e为1或2，b+e＝3，m为1以上的整数，n为0、1或2。
所述化合物α优选地为选自下述群中的至少一个：N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺
所述问题这样解决：一种新化合物，所述化合物为所述通式[I]表示的化合物。
所述问题这样解决：一种新化合物，所述化合物为所述通式[II]表示的化合物。
所述问题这样解决：一种新化合物，所述化合物为所述通式[III]表示的化合物。
本发明能够得到以富有密接性、反应性和多样性的膜作为表面的材料。
具体实施方式
第一发明是一种新化合物。更优选地是一种作为同一表面功能化剂的新化合物。所述新化合物由所述通式[I]表示。所述通式[I]中，R1、R2、R3、R4为H或官能基。这些官能基例如具有选自C、O、N、S的群中的至少一个元素。所述官能基优选地为烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。脂肪族烃基优选地为烷基。所述烃基可以是直链的，也可以是支链的。所述烃基优选地碳数为1～10。联结基X、Z、Q、V例如具有选自C、O、N、S的群中的至少一个元素。联结基X、V优选地为烃基。其中，是碳数为1～18的烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。脂肪族烃基优选地为烷基。所述烃基可以是直链的，也可以是支链的。所述烃基还可以含有-S-、-O-、-NHCO-、-N<、-NH-。联结基Q、Z优选地为-NH-、-N<、-O-、-S-、-NHCO-。官能基W优选地为-NR5R6、-NHOH、-NH(CH2)pOH、-N((CH2)pOH)2、-N(CH2)pNH-Y(Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)(Q(X-NR1R2))。R1、R2、R3、R4为H或官能基。R1、R2、R3、R4可以全部相同，也可以不同。这些官能基例如具有选自C、O、N、S的群中的至少一个元素。所述官能基优选地为烃基。其中，是碳数为1～10的烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。特别是烷基。R5、R6为烃基。其中，是碳数为1～10的烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。脂肪族烃基优选地为烷基。X、Z、Q、V为联结基。也存在无联结基X、Z、Q的情况，但X、Z、Q全无的情况除外。联结基X、Z、Q、V例如具有选自C、O、N、S的群中的至少一个元素。联结基X、V优选地为烃基。其中，是碳数为1～18的烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。脂肪族烃基优选地为烷基。所述烃基可以是直链的，也可以是支链的。所述烃基还可以含有-S-、-O-、-NHCO-、-N<、-NH-。联结基Q、Z优选地为-NH-、-N<、-O-、-S-、-NHCO-。Y为骨架。所述骨架具有三嗪环(C3N3)。优选地，所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3(叠氮基)。M为选自Si、Al、Ti的群中的至少一个。p为1以上的整数。特别是1～12的整数。n为0、1或2。a优选地为8以下的整数。
所述新化合物特别是由所述通式[II]或所述通式[III]表示。在所述通式[II]、[III]中，R1、R2、R3、R4为H或官能基。所述官能基优选地为烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。脂肪族烃基优选地为烷基。所述烃基可以是直链的，也可以是支链的。所述烃基优选地碳数为1～10。联结基X、Q例如具有选自C、O、N、S的群中的至少一个元素。联结基X优选地为烃基。所述烃基优选地为脂肪族烃基。脂肪族烃基优选地为烷基。所述烃基可以是直链的，也可以是支链的。所述烃基优选地碳数为1～18。所述烃基还可以含有-S-、-O-、-NHCO-、-N<、-NH-。联结基Q优选地为-NH-、-N<、-O-、-S-、-NHCO-。在本发明中，三嗪环可以是具有C3N3的杂环。在本发明中，三嗪环以还包括三聚氰胺(C3N3N3H3)的意思来使用。三嗪环优选地为1，3，5-三嗪环。a优选地为8以下的整数。m优选地为1～18的整数。优选地，所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3(叠氮基)。在所述通式[I]、[II]、[III]中，所述官能基{(NR1R2)aX-Q}b、W、{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}、{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}、N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2优选地结合到三嗪环的骨架(Y)的C。特别是，{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}、N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2通过N与所述骨架Y的C的结合(C-N键)而结合到骨架Y。{(NR1R2)aX-Q}b、{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}通过X、Q、Z、V的末端官能基的元素与骨架(Y)的C的结合(C-N键、C-C键、C-O键)而结合到骨架Y。
所述新化合物优选地末端所结合的氨基为一级氨基。
所述新化合物例如为N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺。所述具体例仅仅是例子。显然可以例举它们以外的化合物。但是，因为是无限的，因而省略。
所述新化合物例如为下述通式[IV]或[V]表示的化合物。
通式[IV]：
通式[V]：
所述通式[IV]、[V]中，A、B、C、D例如为下述基团：
A＝-N(Ra)Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n或-N{Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n}2
B＝-N(Re)Rf(NH2)m或-N{Rf(NH2)m}2
C＝A、B或-N(Rg)Rh
D＝Ri
其中，Ra、Re、Rg为H或烃基。Rb、Rc、Rd、Rf、Rh、Ri为烃基。n为0、1或2。m为1或2。所述烃基可以含有也可以不含有-S-、-O-、-NHCO-、-N<、-NH-。所述烃基可以含有也可以不含有置换基。
所述烃基优选地为脂肪族烃基。所述脂肪族烃基优选地为烷基。
所述Ra优选地碳数为1～12。所述Rb优选地碳数为1～12。所述Rc优选地碳数为1～6。所述Rd优选地碳数为1～6。所述Re优选地碳数为1～12。所述Rf优选地碳数为1～12。所述Rg优选地碳数为1～12。所述Rh优选地碳数为1～12。所述Ri优选地碳数为1～12。
A、B、C、D的具体例示出如下。但是，不限于这些。
{A＝-NH-(CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3))3
-N((CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3)3
-NH-(CH2)l-Si(CH3)(O(CH2)n(CH3))2或者
-NH-C6H4-O-(CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3))3
B＝-NH-(CH2)l(NH2)或者-N((CH2)l(NH2)2
C＝A、B、-NH(CH2)lCH3、-N((CH2)lCH3)2或者-N(CH2CH＝CH2)((CH2)mCH3)
D＝-(CH2)p-
其中，l、m、n、p为1以上的整数}
{A＝-NH-(CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3))3
-NH-(CH2)l-Si(CH3)(O(CH2)n(CH3))2或者
-NH-C6H4-O-(CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3))3
B＝-NH-(CH2)l(NH2)或者-N((CH2)l(NH2)2
C＝A或者B
D＝-(CH2)p-
其中，l、n、p为1以上的整数}
{A＝-N(CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3))3
-N((CH2)l-Si(CH3)(O(CH2)n(CH3))2)2或者
-N-(C6H4-O-(CH2)l-Si(O(CH2)n(CH3)2)((CH2)pCH3)
B＝-NH-(CH2)l(NH2)或者-N((CH2)l(NH2)2
C＝A或者B
D＝-(CH2)p-
其中，l、n、p为1以上的整数}
第二发明是一种表面处理剂。更优选地是一种能够作为同一表面功能化剂的表面处理剂。所述表面处理剂例如是以通过所述化合物α进行粘接为目的的剂。所述表面处理剂例如是以通过所述化合物α进行化学反应或物理吸附为目的的剂。所述表面处理剂是化合物α。或者含有化合物α。所述化合物α至少含有：M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；氨基；以及三嗪环。所述M-OH基及/或M-OH生成基优选地直接或间接(通过联结基)结合到所述三嗪环的碳原子。所述氨基优选地直接或间接(通过联结基)结合到所述三嗪环的碳原子(C)。所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的碳原子(C)间接结合。所述间接结合的氨基至少存在于末端位置。所述末端位置的氨基具有一个以上。例如，一个或两个。所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素。M优选地为Si、Al、Ti。所述三嗪环为一个以上。例如，一个或两个。所述末端所结合的氨基优选地为一级氨基。所述M-OH基及/或M-OH生成基特别优选地为烷氧基硅烷基，其中M表示金属元素。在一个分子中具有一级氨基和烷氧基硅烷基的化合物α在化合物α与选自金属材料、陶瓷材料、高分子材料等的材料相接触时，通过这些材料与化合物α之间的反应而产生的化学结合(或者强吸附)而强结合在材料表面。所谓强密接(吸附)，例如是即使在10-6Pa的超高真空下长时间放置，化合物α也不挥散的情形。对于化学结合(反应)，化合物α也不挥散。此种状态可以进行利用XPS的分析。在一个分子中同时具有一级氨基和烷氧基硅烷基的化合物作为硅烷偶联剂而市售。但是，在以往的硅烷偶联剂中，没有能与金属材料、陶瓷材料、高分子材料等任意材料都吸附(反应)的。例如，当材料的种类变化时，硅烷偶联剂的种类和处理条件也需要变化。特别是，在表面几乎不具有-OH的材料(例如高分子材料)的情况下，几乎不能强密接或化学结合。即，由一个硅烷偶联剂对应多个场合的所谓多样性是不存在的。即，不具有本发明的特长。在这一点上，本发明的化合物α与以往的硅烷偶联剂存在重大区别。所述化合物α优选地为所述通式[I]表示的化合物。其中，为所述通式[II]或[III]表示的化合物。例如，为所述通式[IV]、[V]表示的化合物。优选地，所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3(叠氮基)。优选地，所述化合物α的末端所结合的氨基为一级氨基。特别是，是N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-，二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺。
第三发明是一种表面处理方法。是使用所述化合物α的处理方法。所述表面处理例如是以通过所述化合物α进行粘接为目的。所述表面处理例如是以通过所述化合物α进行化学反应或物理吸附为目的。第三发明例如是将含有所述化合物α的溶液涂布于基板上的方法。作为涂布方法，可以例举例如浸渍方法、喷雾方法、刷毛涂布法等。但是，不限于这些方法。代替涂布方法，还可以使用蒸发方法。第三发明是例如通过蒸发化合物α来使蒸发的化合物α附着(堆积)于基板上的方法。涂布方法比蒸发方法简单。并且成本也低廉。在将所述化合物α设置于基板上之前，优选地，对所述基板进行选自以下的群中的一种或二种以上处理。例如，清洗处理、电晕放电处理、等离子体放电处理、紫外线照射、酸处理、碱处理、水蒸气处理及化成处理。在将所述化合物α设置于基板上之后，根据需要，进行加热处理。在所述化成处理中，例如使用I族元素的氢氧化物、I族元素的盐、II族元素的氢氧化物，II族元素的盐、氨、铵盐、肼、肼衍生物、胺类、磷酸、磷酸盐、碳酸盐、羧酸、羧酸盐、硅酸、硅酸盐和氟化物等。通过所述化成处理，在金属表面形成皮膜等。
若利用所述化合物α对由各种材料制成的基板进行处理(例如通过涂布所述化合物α而设置于基板表面)，则可以获得同一表面功能的材料。当然，虽然基板主体的物性不同，但表面物性基本相同。作为所述材料的表面物性，可以期待：金属催化剂吸附性、化学及生物化合物反应性、金属化性、耐热性、耐腐蚀性、抗氧化性、UV稳定性、疏水性、亲水性、焊接性、接合性、导电性、着色性、染色性、印刷性及转印性等。而且，若利用各种功能性化合物或含有官能基的化合物(硅烷偶合剂)等的官能基及功能赋予剂对表面进行处理，则认为可以获得能够赋予催化性、化学及生物反应性、金属化性、耐热性、耐腐蚀性、抗氧化性、UV稳定性、疏水性、斥水性、亲油性及亲水性、焊接性、接合性、粘着性、电绝缘性、导电性、防污染性、抗菌性、平滑性及粗面性、耐摩耗性、着色性、染色性、印刷性、转印性、装饰性、生物适应性、发光性及光选择吸收性等的不同种功能性、及含有官能基表面的材料表面。
在生产中的加工装配作业中，表面特性的影响日益变大。生产中的构件的种类与量、加工步骤数与加工时间、装配步骤与装配时间等要素数增加，生产一直面对困难。这种困难性的一个原因认为是构件的表面特性不同，而无相同的表面特性。对此，至今为止针对大量的材料开发出了大量的表面处理技术。这些表面处理技术很重要。然而，时代变化引起竞争的激化。至今为止的技术发展无法应对变化。竞争不敌技术发达的国家。为了打破此种状况，重要的是开发概念与以前的发展技术不同的革新的技术。若打破以前的表面处理技术所具有的材料依存性，利用一种处理剂通过相同的方法对大量的材料可以达成同一表面状态，则应会大幅地解决所述问题。赋予此种材料无依存性的表面处理剂(同一表面功能化剂)需要对金属材料、陶瓷材料、高分子材料等大量的材料具有“密接性功能”、“反应性功能”、“多样性功能”等三种功能。
利用同一表面功能化剂而得的同一表面功能化覆盖膜，不论材料的种类，均具有一定的密接强度(表现出凝聚破坏)。重要的是通过剥离试验对大量的材料不会引起界面剥离。即，重要的是即便材料发生变化，也会表现出充分的密接强度与凝聚破坏。而且，同一表面功能化剂在变化为各种不同的功能表面时，利用反应性功能。因此，需要具有使覆盖膜整体(或一部分)引起化学反应，并使所述部分变化为不同的功能的作用。也重要的是，被赋予了此种功能的材料具有材料表面发挥各种作用的多样性功能。且，也重要的是可以通过简单的方法赋予。若不通过特别的方法就无法实现，则其难以实用化。
所有材料的物性是主体的性质与表面的性质的总和。生产中必须熟知这些性质。例如，材料的表面特性有润湿性、粘着性、斥水性、亲水性、粘接性、吸附性、平滑性、保水性、带电性、反应性、硬度等大量的因子。仅理解这些因子也需要大量的时间与劳力。为了避免此种生产的繁杂性而快速地进行生产，重要的是材料的表面为同一状态。即，若实现同一表面，则比理解如上所述的众多因子更便利。且实用。如此，为了谋求生产的提速，材料的表面的均匀化(同一化)不可或缺。然而，至今为止利用一种化合物将大量的材料(金属、陶瓷及有机材料)的表面状态以约90％以上的程度均匀化的方法仍未知。
由于所述观点，因而进行了研究。在使所述化合物α与基板表面接触时，所述化合物α与基板材料反应(或强力吸附)，表面具有例如羟基硅烷基(或烷氧基硅烷基)或氨基，从而将基板的特性大幅地改质。表面功能化剂(所述化合物α)是与基板反应而通过化学键连结，或者通过强的吸附力密接，在XPS分析中根据作为所述表面功能化剂(所述化合物α)的特有元素的N、Si的检测而明白。若使所述表面功能化剂(所述化合物α)与和羟基硅烷基及/或氨基反应(或吸附)的其他化合物接触，则表面变化为具有其他功能的表面。如此，可以改质为所希望的功能性表面或有用性表面。所得的表面功能化材料可以实现：亲水化及疏水化可逆地转换的亲水亲油材料，功能化有机材料的整面及部分金属化，功能化有机材料与金属材料、陶瓷材料及有机材料等材料的流动体粘接及非流动体粘接，功能化金属材料的无电解电镀及电镀，功能化金属材料的防蚀及表面抗氧化等大量的利用。
一般认为，设置有所述化合物α的基板其本身为最终产品。然而，所述基板是进入下一步骤的中间材料的情况也较多。
若使所述化合物α与官能基及/或功能赋予剂接触进行处理，则前者与后者反应。可以获得含有不同种官能基及不同种功能性表面的材料。所述材料有由于其自身的功能而成为产品的情形，以及通过接合、贴合及装配将所述同种及不同种材料用作复合产品的情形。也有进行镀敷的情形。
以下，进行更详细地说明。
[表面处理剂]
本发明的表面处理剂具有“密接性功能”、“反应性功能”、“多样性功能”。
若更具体地说明，则为所述化合物α。或者为包含所述化合物α的混合物。
所述化合物α更优选以所述通式[I]表示。所述化合物α尤其优选例如以所述通式[II]或所述通式[III]表示。例如以所述通式[IV]或通式[V]表示。例如为：N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺。
所述化合物例如经过[反应式1]、[反应式2]而合成。
所述反应所使用的溶剂重要的是不与氨基、烷氧基硅烷基、及烷氧基硅烷基所含的官能基反应。满足此种条件的溶剂根据氨基与含有烷氧基硅烷基的官能基的组合而不同。因此，难以一概而论。然而，例如可以列举：水、醇(例如甲醇、乙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇、溶纤剂、卡必醇等)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、环己酮等)、芳香族烃(例如苯、甲苯、二甲苯等)、脂肪族烃(例如己烷、辛烷、癸烷、十二烷、十八烷等)、酯(例如乙酸乙酯、丙酸甲酯、邻苯二甲酸甲酯)、醚(例如四氢呋喃、乙基丁醚、苯甲醚等)、及所述溶剂的混合物。
所述反应中，反应温度受到成为骨架的三嗪化合物、与氨基(例如一级二胺或一级三胺)或含有烷氧基硅烷基的化合物的官能基的活性支配，因此无法一概而论。然而，大体上为-20℃～200℃。优选为-10℃～100℃。若反应温度为低于-20℃的温度，则反应速度慢，生产性差。在反应温度为200℃以上时，需要高压釜等设备的情形增加。且，反应速度变得过高，容易生成副产物。因此，优选的温度如上所述。
氨基化合物(一级二胺或一级三胺)相对于成为骨架的三嗪化合物的碳元素一种的比率(摩尔比)，重要的是后者/前者为1以上。通常，所述比率为2～10。若所述比率小于1，则有几乎无法获得目标物的情形或残存原料。若所述比率超过10而变大，则虽然杂质的产量减少，但未反应胺类的除去花费时间。且生产的效率差。接着，重要的是含有烷氧基硅烷基的化合物的比率(摩尔比)也是后者/前者为1以上。通常，所述比率为1.05～1.50。若所述比率小于1，则残存未反应原料，而产量降低。若所述比率超过1.50而变大，则杂质的产量增大。且生产效率差。
在所述化合物α为2种以上的混合物时，所述处理也有效。因此，反应产物可以不单离为单一化合物而直接使用。此处所得的化合物主要是以化合物α表示的单体为主体，但为合成过程中所副产生的具有末端氨基的三嗪与具有未反应碳原子的三嗪反应而成的二聚物、寡聚物、烷氧基硅烷基的缩合物及/或所述的混合物。
所得的化合物α(以通式[I]表示的化合物)利用涂布方法设置于基板上。例如，若所述化合物α(以通式[I]表示的化合物)不为液体，则将其添加于溶剂中。通过在所述溶液中浸渍基板，而将所述化合物α设置于基板上。也可以通过将所述溶液喷雾而将所述化合物α设置于基板上。也可以使用旋涂法。还可以使用刷毛涂布法。此外，也可以采用各种涂布方法。在涂布方法以外，也可以使用使所述化合物α蒸发，并堆积于基板上的方法。然而，不管怎样，涂布方法可以非常简单地实施。并且，利用所谓涂布的方法，所述化合物α也与基板强力密接。或者，引起化学反应而结合。即，通过所述化合物α仅与基板接触，而两者强力密接。因此，发挥出同一表面功能。
所述化合物α的平均膜厚为约1nm～20nm。在所述化合物α对基板进行化学结合时，所述化合物α的膜厚更薄。虽然并非因化学反应引起的结合，但在密接力强时，所述化合物α的膜厚相对较厚。即便称为厚，其与因化学反应引起的结合的情形相比，也不过于厚。在所述化合物α因化学反应与基板表面结合时，平均膜厚为1nm～5nm左右。在因强的吸附而所述化合物α结合于基板时，比所述厚度(1nm～5nm)厚。所谓密接力强，是即便在10-6Pa的超高真空下长时间放置，化合物α也不挥散的情形。若为此种状态下，则可以进行利用XPS的分析。另外，所述密接强度在使硅酮橡胶粘接时是硅酮橡胶相破坏的水平。并且，所述力也可以说相当于化学结合的情形。此种密接力为不认为是分子间力的强度。
所述涂布时所用的溶剂可以使用与在所述反应中所使用的溶剂相同的溶剂。即可以列举：水、醇、酮、芳香族烃、脂肪族烃、酯、醚、及所述溶剂的混合物。化合物α的浓度为约0.001wt％～10wt％。在化合物α的浓度小于0.001wt％而过稀时，缺乏效果。在化合物α的浓度超过10wt％而过浓时，后续处理费时费力。涂布处理时的温度为-20℃～200℃左右。处理时间为0.1秒钟～12小时左右。化合物α的浓度与处理温度以及处理时间相互关联，最佳结果通过反复实验而获得。
利用涂布或蒸发(蒸镀)法将化合物α设置于基板上后，所述处理基板在真空环境下、在常压下、或在加压下，保持于-20℃(优选为15℃以上)～200℃。保持时间为0.1秒钟～12小时。所述情况可以认为化合物α在基板上的固定处理。
所述化合物α的膜在所述膜伴有化学反应时，具有酸酰胺基(-CONH-)、氨基(NH2-、-NH-)、烷氧基硅烷基(-SiOR)、及/或羟基硅烷基(-SiOH)。在利用强的密接生成所述膜时，具有氨基(NH2-、-NH-)、烷氧基硅烷基(-SiOR)、及/或羟基硅烷基(-SiOH)。在水或水溶液中，烷氧基硅烷基水解而变为羟基硅烷基。烷氧基硅烷基在与湿气接触的期间水解，并变为羟基硅烷基。在氨基(NH2-、-NH-)或三嗪环的电子定域氮与羟基硅烷基之间，形成氢键(H...N...H)、及/或盐键(>NH2 -...+OSi<)。所述情况认为实质上使基板表面同一化。即认为，所述化合物α的膜发挥出同一表面功能化。
所述化合物α的膜与大量的材料(例如烯烃树脂、尼龙树脂、聚乙烯醇等树脂材料：玻璃、氧化铝等陶瓷材料：Cu、Al等金属材料)强力结合。所述结合力无法在一次结合或二次结合的范围中说明。若由XPS的分析的氮原子的原子状态推测，则确认为电子流入氮原子。一般认为，氮原子的电子过剩状态变为伦敦分散力，而对烯烃树脂也表现出强的密接性。同一表面功能化膜的特征认为是因膜的横方向与下方向的相互作用而稳定化的结果。一般的材料中，上下左右由相同程度的分子间力形成膜。在同一表面功能化膜中，横方向的结合力比下方向强。
利用反应或吸附而结合于基板的所述化合物α的膜，在表面具有氨基、烷氧基硅烷基、及/或羟基硅烷基。因此，在所述化合物α的膜的表面具有反应性官能基。利用所述反应性官能基，而赋予更多的反应性或功能性。
[功能赋予剂、反应性赋予剂]
在所述化合物α的膜的表面存在氨基、烷氧基硅烷基、及/或羟基硅烷基。所述这些官能基具有反应性。因此，可以与各种物质(试剂)反应。例如在与同种官能性试剂、不同种官能性试剂、纳米粒子分散试剂之间引起反应。利用此种物质(试剂)的表面处理，变换为具有多种多样功能的材料。
所谓同种官能性试剂，含有2个以上同一官能基。例如可以列举：二(羟基苯基)甲烷、二(2，4-羟基甲基)苯酚、二(2，4-羟基甲基)-3，5-二甲苯酚、二(2，4-羟基甲基)-间甲酚、三聚氰胺、三羟甲基三聚氰胺、六羟甲基三聚氰胺、三甲氧基甲基三聚氰胺、六甲氧基甲基三聚氰胺、胍胺、四甲基脲、三聚氰酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、偏苯三甲酸、均苯四甲酸、松香琥珀酸、邻苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐、松香顺丁烯二酸酐、均苯四甲酸酐、二羟基二甲基硅、三羟基甲基硅、辛烷二硫醇、四硫醇乙酸季戊四醇酯、1，4-二巯基苯、1，3，5-三巯基苯、1，5-二巯基萘、2，4，6-三硫醇-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-二丁基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-苯胺基-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-(N-苯基)氨基苯胺基-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-(N-苯基)氨基异丙基苯胺基-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-(N-苯基)氨基苯氧基-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-(N-烯丙基-2-全氟辛基)乙基氨基苯氧基-1，3，5-三嗪、全氟辛酰氯、全氟癸烷酸、全氟杜鵑花酸、3-(1H，1H，7H-十二烷氟庚氧基)-1，2-环氧丙烷、1，3，5-苯基氨基苯、1，3-萘基氨基苯、1，5-二氨基萘、双3-(N，N-二甲基氨基苯基)胺、三(4-氨基苯基)胺、双(4-氨基苯基)胺、N-苯基-2，4-苯胺基胺、双(1，4-苯基苯胺基)苯、六亚甲基二异氰酸酯、甲代苯撐二异氰酸酯、三异氰酸酯基苯基甲烷、二环己基二甲基甲烷、p，p′-二异氰酸酯、六亚甲基二甲基氨基甲酸酯、甲代苯撐二乙基氨基甲酸酯、2，2′-双(4-缩水甘油基苯基)丙烷、二缩水甘油基辛烷、四缩水甘油基氨基二苯基甲烷、二缩水甘油醚、二乙烯苯二氧化物、2，6-二缩水甘油基苯基缩水甘油醚等。
不同种官能性试剂可以列举如下的化合物。例如可以列举：6-烷氧基硅烷基丙基氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二硫醇单钠、6-双(3-烷氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二硫醇单钠、6-N-环己基-N-(3-(三乙氧基硅烷基)丙基氨基)-1，3，5-三嗪-2，4-二硫醇单钠、乙烯基甲氧基硅氧烷均聚物、双(三乙氧基硅烷基丙基)四硫醚、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、2，4-双(2-氨基乙基氨基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二肼基-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基氨基)-1，3，5-三嗪、6-烷氧基硅烷基丙基氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二硫醇、6-烷氧基硅烷基丙基氨、6-双(3-烷氧基硅烷基丙基)胺、6-N-环己基-N-(3-(三乙氧基硅烷基)丙基胺)、乙烯基甲氧基硅氧烷均聚物、双(三乙氧基硅烷基丙基)四硫醚、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、(3-丙烯酰氧基丙基)三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷基十一醛、4-氨基丁基三乙氧基硅烷、间氨基苯基三乙氧基硅烷、11-氨基十一烷基三甲氧基硅烷、N-(3-三乙氧基硅烷基丙基)吡咯、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、氨基丙基硅烷三醇、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基硅烷三醇、N-甲基氨基丙基三甲氧基硅烷、N-丁基氨基丙基三甲氧基硅烷、N-三甲氧基硅烷基丙基三甲基氯化铵、双(三甲氧基硅烷基丙基)胺、3-(三乙氧基硅烷基)丙基琥珀酸酐、6-叠氮基磺酰基己基三乙氧基硅烷、2-(4-氯磺酰基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)三甲氧基硅烷、(3-缩水甘油氧基丙基)三甲氧基硅烷、10-(碳甲氧基)癸基甲基甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、7-溴庚基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、(3-三乙氧基硅烷基)-叔丁基氨基甲酸酯、2-(二苯基膦基)乙基三乙氧基硅烷、二乙基磷酸酯基乙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、5-(双环庚炔基)三乙氧基硅烷、(3-环戊二烯基丙基)三乙氧基硅烷、2，4-二硫醇-6-(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二硫醇-6-三乙氧基硅烷基丙硫基-1，3，5-三嗪、2-硫醇-4，6-二(N，N′-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-硫醇-4，6-二(三乙氧基硅烷基丙硫基)-1，3，5-三嗪、2，4-二叠氮基-6-(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-叠氮基-4，6-二(N，N′-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、十六氟十二碳-11-烯基-1-三甲氧基硅烷、[三(十三氟-1，1，2，2-四氢辛基)二甲基硅氧烷]氯硅烷、十三氟-1，1，2，2-四氢辛基三甲氧基硅烷等。
纳米粒子分散试剂是粒径为1nm～100nm的蛋白质或酶等生物相关的纳米粒子分散试剂、聚合物纳米粒子(单分散或多分散聚合物纳米粒子)分散试剂、金属纳米粒子分散试剂、金属氧化物纳米粒子分散试剂、金属无机盐纳米粒子分散试剂、金属纳米粒子分散试剂等。所述纳米粒子分散试剂利用气相法(化学反应法、热化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、等离子体CVD法、分子束磊晶法、蒸发浓缩法、溅镀法、电子束(Electron Beam，EB)加热法、气体中蒸发法、激光剥离法、电阻加热法)、液相法(化学液相法、化学反应沉淀法、微波加热法、反微胞法、正常微胞法、水热合成法、溶胶凝胶法、物理液相法、喷雾干燥法)、固相法(煅烧法、加热炉法)等进行制造。金属纳米粒子例如可以列举：Fe、Co、Ni、Au、Ag、Cu、Sn、Pb、Ge、In、Pt、Zn等的纳米粒子。金属氧化物纳米粒子可以列举：Fe3O4、CeO2、BaTiO3、PbSrTiO3、CaPt0.05Ti0.95O3、Al2O3、MgO、Mn3O4、NiO、SiO2、TiO2、ZrO2、YO3-ZnO2、粘土等的纳米粒子。金属无机盐纳米粒子可以列举：AgCl、AgBr、锡化合物(例如甲酸亚锡、乙酸亚锡、丙酸亚锡、丁酸亚锡、戊酸亚锡、己酸亚锡、辛酸亚锡、癸酸亚锡、月桂酸亚锡、苯甲酸亚锡、顺丁烯二酸亚锡、反丁烯二酸亚锡、甲氧基亚锡、乙氧基亚锡、丙氧基亚锡、丁氧基亚锡、戊氧基亚锡、己氧基亚锡、苯氧基亚锡、苄氧基亚锡等)等的纳米粒子。生物相关的纳米粒子可以列举：蛋白质、细菌、病毒、DNA、抗体、酶、激素等的纳米粒子。聚合物纳米粒子例如可以列举：聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸己酯、聚丙烯酸酰胺、聚二甲基丙烯酸酰胺、聚异丙基丙烯酸酰胺、聚乙酸乙烯酯等的纳米粒子。其他例如也可以列举：富勒烯、碳纳米管、碳黑、ZnS、PbSe等的纳米粒子。
若所述剂(功能赋予剂及/或反应性赋予剂)与结合于所述基板表面的所述化合物α接触，则成为具有多种多样的功能的材料。所述接触采用选自涂布方法或蒸镀方法或溅镀方法等中的适当的方法。涂布时所用的溶剂可以使用与在所述化合物α的涂布时所列举的溶剂相同的溶剂。浓度、处理时间、处理温度、后续处理也可以适用在所述化合物α的涂布时所列举的技术思想。所述剂(功能赋予剂及/或反应性赋予剂)的膜厚可以适当设定。所述化合物α与所述剂(功能赋予剂及/或反应性赋予剂)通过例如化学键、离子键、氢键、范德华力、伦敦分散力等密接力而结合。
[基板]
本发明中，成为对象的基板可以列举各种基板。例如基板为金属材料。基板为陶瓷材料。基板为有机高分子材料。基板为无机高分子材料。或者基板为将所述材料复合的复合材料。基板形态也无特别限定。例如可以应用在板、棒、柱、球、半球、框、纤维、丝、粉体、不织布、布、网、发泡体、膜、片、层叠体等各种形态的基板。
所述金属材料可以列举：各种金属、合金、形状记忆合金、超弹性合金、功能性金属、非晶金属、或纤维强化金属块等。金属材料构成元素例如可以列举：Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ra、Sc、Y、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Hg、Al、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Nd。合金例如可以列举：铁合金(钢(steel)、碳钢、生铁)、铜合金(磷青铜、黄铜、白铜、铍铜、钛铜)、铝合金(Al以外的合金成分从Cu、Mn、Zn、Ni等的群中适当选择)、镁合金(Mg以外的合金成分从Zn、Ca等的群中适当选择)、锌合金、锡合金、镍合金、金合金、银合金、铂合金、钯合金、铅合金、钛合金(α型合金、β型合金、α+β型合金)、镉合金、锆合金、钴合金、铬合金、钼合金、钨合金、锰合金、铁氧体系不锈钢、麻田散铁系不锈钢、砷钙锌石系不锈钢、析出强化型不锈钢、镍-钛合金、铁-锰-钛合金、超弹性合金(镍-钛合金)等。当然并不限定于所述合金等。
所述金属材料在由化合物α处理之前，优选进行表面的清洗。例如进行湿式清洗(水系：纯水、自来水、功能水，非水系：烃系、不燃性溶剂系)。或者进行干式清洗(紫外线、臭氧、紫外线+臭氧、等离子体、电晕放电、氩气气雾剂、液化二氧化碳)。
所述陶瓷材料可以列举：陶瓷器(高岭土、蛙目粘土、陶石、长石、硅石、石英、氧化铝等)、玻璃、水泥、石膏、珐琅等。从组成上来看，可以列举：氧化物系、氧化锆系、氢氧化物系、碳化物系、碳酸盐系、氮化物系、卤化物系、磷酸盐系等陶瓷材料。具体可以列举：钛酸钡、Bi2Sr2Ca2Cu3O10、高温超导陶瓷、氮化硼、铁氧体、钛酸锆酸铅、碳化硅、氮化硅、皂石、氧化锌、氮化铝、硅酸镁石、堇青石、塞隆、可切削陶瓷、锆石、钛酸钡、钛酸锆酸铅、富铝红柱石、碳黑、白碳、二氧化硅系硅藻土、煅烧硅藻土、石英/硅石、白硅石、高岭土、高岭土粘土、煅烧粘土、滑石、白云母、绢云母、硅灰石、蛇纹石、叶蜡石、碳酸钙、重晶石、氧化钛、碱性碳酸镁、白云石、氧化铝等。当然并不限定于所述陶瓷材料等。
所述陶瓷材料在由化合物α处理之前，也优选进行表面的清洗。例如进行湿式清洗。或者进行干式清洗。
所述有机高分子材料代表性的是具有C-C键、或C-H键。所述有机高分子材料可以列举：热硬化性树脂、热塑性树脂、纤维强化塑料、光硬化性树脂、硫化橡胶、未交联橡胶等。构成高分子的骨架有二维线状结构的骨架、及立体网状结构的骨架。二维线状结构聚合物可以列举：羟基乙基纤维素等纤维素、二乙酸纤维素等纤维素酯(衍生物)、淀粉、乙酸乙烯酯树脂、低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、聚丙烯、乙烯丙烯共聚物、石油树脂、聚苯乙烯、间规聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、色满-茚树脂、萜烯树脂、苯乙烯-二乙烯苯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合(ABS)树脂、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯腈、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚氰基丙烯酸酯、聚乙酸乙烯酯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)树脂、聚乙烯醇、聚乙烯甲醛、聚乙烯缩醛、乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙烯共聚物、聚偏二氟乙烯、偏二氟乙烯-乙烯共聚物、偏二氟乙烯-丙烯共聚物、1，4-反式聚丁二烯、1，2-反式聚丁二烯、聚甲醛、聚乙二醇、聚丙二醇、苯酚-福尔马林树脂、甲酚-福尔马林树脂、间苯二酚树脂、三聚氰胺树脂、二甲苯树脂、甲苯树脂、甘酞树脂、改质甘酞树脂、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)、不饱和聚酯树脂、聚酯丙烯酸酯、烯丙酯树脂、聚碳酸酯(PC)、6-尼龙、6′6-尼龙、6′10-尼龙、聚酰亚胺(PI)、聚(对苯撑均苯四酰亚胺)、聚(对苯撑联苯-3，4，3′，4′-四羧基酰亚胺)、聚(对苯撑氧基二邻苯二甲酰亚胺)、聚(对苯撑二苯甲酮-3，4，3′，4′-四羧基酰亚胺)、聚(对苯撑二苯基砜-3，4，3′，4′-四羧基酰亚胺)、聚(对苯撑环丁烷-1，2，3，5-四羧基酰亚胺)、聚酰亚胺类、聚酰胺、聚苯并咪唑、聚酰胺酰亚胺、硅树脂、加成硬化型硅酮橡胶、聚合硬化型硅酮橡胶(侧链含有乙烯基的聚硅氧烷、两末端含有乙烯基的聚硅氧烷)、缩合硬化型硅酮橡胶、加成硬化型硅酮树脂、呋喃树脂、聚氨基甲酸酯树脂、环氧树脂(EP)、聚苯醚、聚二甲基苯醚、聚苯醚(或聚二甲基苯醚)与异三聚氰酸三烯丙酯的聚合物合金、聚苯醚(或聚二甲基苯醚)与异三聚氰酸三烯丙酯以及过氧化物的聚合物合金、聚二甲苯、聚苯硫醚(PPS)、聚环烯烃(COP)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚醚醚酮(PEEK)、液晶树脂(LCP)、聚氨基甲酸酯(U)、天然橡胶、1，4-顺式丁二烯橡胶、异戊二烯橡胶、聚氯丁二烯、苯乙烯-丁二烯共聚合橡胶(SBR)、氢化苯乙烯-丁二烯共聚合橡胶、丙烯腈-丁二烯共聚合橡胶(NBR)、氢化丙烯腈-丁二烯共聚合橡胶、聚丁烯橡胶、聚异丁烯橡胶、乙烯-丙烯橡胶(EPR)、乙烯-丙烯-二烯橡胶(EPDM)、环氧乙烷-表氯醇共聚物橡胶、氯化聚乙烯橡胶、氯砜化聚乙烯橡胶、烷基化氯砜化聚乙烯橡胶、氯丁二烯橡胶、丙烯酰氯橡胶、丙烯酰溴橡胶、氟橡胶(FKM)、表氯醇及其共聚合橡胶、氯乙烯丙烯橡胶、氯化丁基橡胶、溴化丁基橡胶、四氟乙烯、六氟丙烯与偏二氟乙烯以及四氟乙烯等的均聚物橡胶及所述的二元及三元共聚物橡胶、乙烯-四氟乙烯共聚合橡胶、丙烯-四氟乙烯共聚合橡胶、乙烯丙烯酸橡胶、过氧化物型硅酮橡胶、加成型硅酮橡胶、缩合型硅酮橡胶、环氧橡胶、氨基甲酸酯橡胶(UR)、两末端不饱和基弹性体等。所述高分子材料多数情况下包括：交联剂、交联促进剂、交联助剂、自由基引发剂、阳离子引发剂、光聚合引发剂、防焦化剂、稳定剂、抗老化剂、抗紫外线剂、填充剂、强化剂、塑化剂、软化剂、着色剂、粘度调整剂等添加剂的几种。立体网状结构聚合物通过使在所述二维线状聚合物中添加了交联剂(根据需要进一步为交联促进剂或交联助剂)的调配物，在热及/或光存在下交联而得(聚合物交联型高分子)。当然，立体网状结构聚合物可以通过使在单体中添加了交联剂(根据需要进一步为交联促进剂或交联助剂)的调配物，在热及/或光存在下聚合而得(单体交联型高分子)。单体交联型高分子中的单体例如为乙烯基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、环氧基、异氰酸酯基、或氧杂环丁烷基的聚合性单体。立体网状结构聚合物例如可以列举：丙烯酸氨基甲酸酯系单体、环氧丙烯酸酯系单体、酯丙烯酸酯系单体、丙烯酸酯系单体、环氧系单体、乙烯醚系单体等。立体网状结构聚合物具体可以列举丙烯酸酯类。立体网状结构聚合物例如可以列举：丙烯酸正烷基酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸β-羟基乙酯、二乙二醇丙烯酸酯、聚乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸β-羟基丙酯、丙烯酸缩水甘油酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸二烷基氨基乙酯、丙烯酸2-氰基乙酯、丙烯酸β-乙氧基乙酯、丙烯酸芳基酯、丙烯酸苯甲酰氧基乙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯、丙烯酸四氢糠酯、四氢糠醇与ε-己內酯的加成物丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸二环戊烯氧基乙酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，9-壬二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二丙烯酸酯、缩醛二醇二丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇与ε-己內酯的加成物二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷聚乙氧化三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷聚丙氧化三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇与ε-己內酯的加成物、六丙烯酸酯、丙烯酰氧基乙基磷酸酯、丙烯酸氟烷基酯、丙烯酸磺丙酯、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、利用与丙烯酸的加成反应而得的环氧(甲基)丙烯酸酯、使丙烯酸2-羟基乙酯与二醇及二异氰酸酯反应而得的聚丙烯酸氨基甲酸酯酯、使丙烯酸与多元酸及多元醇反应而得的聚酯丙烯酸酯聚酯丙烯酸酯、丙烯酸氨基甲酸酯、环氧丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯等。立体网状结构聚合物也可以列举甲基丙烯酸酯类。立体网状结构聚合物例如为：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸异辛酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸癸酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸2-二乙基氨基乙酯、甲基丙烯酸2-叔丁基氨基乙酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸壬基苯酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸二环戊烯酯、甲基丙烯酸冰片酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯、二丙二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸甘油酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、利用与甲基丙烯酸的加成反应而得的环氧甲基丙烯酸酯、使甲基丙烯酸2-羟基乙酯与二醇及二异氰酸酯反应而得的聚甲基丙烯酸氨基甲酸酯、使甲基丙烯酸与多元酸及多元醇反应而得的聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯、多元醇甲基丙烯酸酯等。此外立体网状结构聚合物也可以列举：甲基丙烯酰氧基乙基磷酸酯、双-甲基丙烯酰氧基乙基磷酸酯、阿罗喔克塞坦(Aron Oxetane)、二[1-乙基(3-氧杂环丁基)]甲醚、3-乙基-3-(己氧基甲基)氧杂环丁烷、二甲苯二氧杂环丁烷、苯基氧杂环丁烷、氧杂环丁基倍半硅氧烷、3-乙基-3-(庚氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(辛氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(十二烷氧基甲基)氧杂环丁烷、双酚A型环氧单体、双酚F型环氧单体、酚醛清漆型环氧单体、甲苯二异氰酸酯等。当然，立体网状结构聚合物并不限定于所述这些。在聚合引发剂、交联剂、交联促进剂、交联助剂中可以使用各种立体网状结构聚合物。例如为过氧化物类、阳离子聚合引发剂、光引发剂、硫、硫系交联促进剂、多元醇系交联剂、聚胺系交联剂、聚硫醇系交联剂、丙烯酸酯系交联助剂、甲基丙烯酸酯系交联助剂、烯丙基系交联助剂等。具体可以列举：偶氮双丁腈、二苯甲酮、米其勒酮、安息香异丙醚、氯噻吨酮、异丙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苯乙酮二乙基缩酮、α-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-苯基丙烷。也可以列举苯乙酮衍生物。例如为4-(2-羟基乙氧基)苯基(2-羟基-2-丙基)酮、α-羟基-α，α′-二甲基苯乙酮、甲氧基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等。也可以列举安息香醚系化合物。例如为安息香乙醚、安息香丙醚等。也可以列举苄基二甲基缩酮等缩酮衍生物化合物。此外也可以列举：卤化酮、酰基氧化膦、酰基磷酸酯、双-(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2，4，4-三甲基戊基氧化膦、苯基二甲基氯化锍、三芳基六氟磷酸锍、三嗪二硫醇系交联剂、树脂交联剂、多元醇交联剂、H末端硅氧烷系交联剂、硅烷醇缩合系交联剂等。二苯并噻唑二硫醚、4-吗啉基二硫苯并噻唑、N-环己基-2-苯并噻唑亚磺酰胺、N-叔丁基-2-苯并噻唑亚磺酰胺、N-氧基二乙撑-2-苯并噻唑亚磺酰胺、N-二异丙基-2-苯并噻唑亚磺酰胺、N-二环己基-2-苯并噻唑亚磺酰胺、四甲基秋兰姆二硫醚、四乙基秋兰姆二硫醚、四丁基秋兰姆二硫醚、四辛基秋兰姆二硫醚、胺类、六亚甲基四胺、盐酸硫胺、四级铵盐、鏻盐、二烷基锡有机酸盐、钛酸盐、聚乙二醇、氯铂酸、氧化锌、氧化镁、氧化钙、氧化钡、氧化铝、氢氧化钙、氧化锡、氧化铁、氢氧化钙、碳酸钙、碳酸镁、脂肪酸钠、辛酸钙、异辛酸钾、丁醇钾、辛酸铯、异硬脂酸钾、聚乙二醇、聚丙二醇、己二醇、环己二醇、十二烷二醇、六亚甲基二胺、十二烷二胺、末端二氨基聚乙二醇、末端二氨基聚丙二醇、苯二硫醇、己烷二硫醇、1，10-癸烷二硫醇、1，12-十二烷二硫醇、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、二烯丙醚、异三聚氰酸三烯丙酯、三聚氰酸三烯丙酯。立体网状结构聚合物(热硬化性树脂、交联橡胶)例如通过以下方式获得：将相对于二维线状聚合物(或低分子单体)100重量份，分别添加0.1重量份～20重量份(优选为0.5重量份～10重量份)的交联剂、交联促进剂或交联助剂的组成物，在20℃～350℃的温度下，历时0.1秒钟～200分钟进行辊压片加工、砑光辊加工、压制加工、挤出加工及射出成形加工。二维线状结构聚合物(热塑性树脂、未交联橡胶)也可以利用已知的方法获得。光硬化树脂通过以下方式获得：对构成光硬化树脂的组成物，在大气中、氮气中、氩气中、或减压中，使用紫外线(UV)装置(例如高压水银UV灯、低压水银UV灯、萤光式UV灯(短电弧(ARC)氙灯、化学灯)、金属卤化物灯)，以10mJ/m2～20kJ/m2的比例，照射200nm～400nm的范围的紫外线。构成光硬化树脂的组成物例如包含光聚合催化剂。光聚合催化剂的量相对于例如具有环氧基的化合物100重量份，而为0.01重量份～5重量份。在光聚合催化剂的调配比例小于0.01重量份而少时，即便照射光，也不会充分进行环氧基的开环反应。即便大量调配超过5重量份，也不会改善反应。硫化橡胶通过以下方式获得：将包含玻璃化温度为-20℃以下的线状聚合物、交联剂、以及交联促进剂等所期望的成分的组成物，在0℃～300℃(优选为60℃～180℃)的温度下维持0.1分钟～120分钟(优选为5分钟～60分钟)。若温度为低，则反应时间花费过多，而生产性变差。反之，若温度高，则能源成本花费过多。因此，在如上所述的条件下进行操作。高分子材料也可以列举涂膜。另外，涂膜为单独的材料的情况少。即，涂膜为复合材料的情况多。涂膜通常通过以下方式获得：在二维线状聚合物(热塑性树脂)中混合交联剂、交联促进剂、交联助剂、溶剂，并将其涂布、干燥。根据需要也进行聚合处理。所述有机高分子材料根据需要具有填充剂、功能性添加剂。功能性添加剂为表现出所期望的功能的添加剂。功能性添加剂为强化剂。所述强化剂例如可以列举：碳黑、碳酸钙、滑石、扁平滑石、Mistron滑石、粘土、高岭土、扁平高岭土、纤维素、硅藻土、扁平粘土、高岭土、玻璃、钛酸钡、钛酸锶、云母、二氧化硅。强化剂例如可以列举：嫘萦、尼龙、聚酯、维尼纶、钢、芳纶(Kevlar)、碳纤维、玻璃纤维等。所述强化剂等为纤维的形态、或为布的形态。其他可以列举：铜、镍、银、金、锡、碳等的粉体。也可以列举导电材料。还也可以列举：氧化铝、氮化硅、氮氧化铝、碳化硅、金刚石等导热材料。添加量为与目的对应的量。有也使用稳定剂(抗老化剂、抗紫外线剂)的情况。稳定剂会提高高分子材料的可靠性。例如可以列举：胺-酮系缩合物(例如聚(2，2，4-三甲基-1，2-二氢喹啉)、6-乙氧基-1，2-二氢-2，2，4-三甲基喹啉等)、芳香族二级胺化合物(例如辛基二苯基胺、4，4-双(α，α-二甲基苄基)二苯基胺、N，N-二苯基-对苯二胺、N-苯基-N′-异丙基-对苯二胺、N-苯基-N′-异丙基-1，3-二甲基丁基-p-对苯二胺等)、单酚及双酚系化合物(例如苯乙烯化苯酚、2，6-二-叔丁基-4-苯酚、2-叔丁基-6-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、2，2-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4-硫双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二-叔丁基对苯二酚等)、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并咪唑锌、二甲基二硫氨基甲酸镍、1，3-双(二甲基氨基丙基)硫脲、3，3-硫二丙酸二月桂酯、亚磷酸三(壬基化苯基)酯、2-(4-羟基-3，5-叔丁基)苯胺基-1，3，5-三嗪-4，6-二硫醇、2-(4-苯基氨基)苯胺基-1，3，5-三嗪-4，6-二硫醇、2-(N-苯胺基苯基)-N′-异丙基氨基-1，3，5-三嗪-4，6-二硫醇、4-二(N-苯胺基苯基-N′-异丙基氨基)-1，3，5-三嗪-6-硫醇、2，4-二(N-苯胺基苯基-N′-异丙基氨基)-1，3，5-三嗪-6-硫醇、1，3，5-三嗪-2，4，6-三硫醇、双(2，4-二硫醇-1，3，5-三嗪基-6-氨基)苯、2-三乙氧基硅烷基丙基氨基-1，3，5-三嗪-4，6-二硫醇等。特别是可以使用具有抗氧化性基的三嗪硫醇等硫系或磷系化合物。添加量为与目的对应的量。
所述复合材料为所述金属材料与所述陶瓷材料以及所述高分子材料的适当的组合。例如复合材料为在金属材料的表面设置陶瓷材料而成。复合材料为在金属材料的表面设置高分子材料而成。复合材料为在陶瓷材料的表面设置金属材料而成。复合材料为在陶瓷材料的表面设置高分子材料而成。此外也具有各种组合。在为组合时，由材料A与材料B的接合而构成。当然并不限定于此。在复合材料由所述接合构成时，各材料可以预先进行清洁处理。或者，例如利用硅烷偶合剂等进行处理。
通过以下方式获得多种多样的复合产品：将利用所述表面处理剂进行处理的基板的其中一个设为被粘接体，将利用所述表面处理剂进行处理(或者未进行处理)的基板的另一个设为粘接体，并将两者接合。通过以下方式获得镀敷产品：将所述材料浸渍(或吹附)于无电电镀液中，接着进行电镀。也可以通过以下方式制作电路基板：在镀敷后的金属化产品上涂布抗蚀剂，从而将镀敷膜蚀刻。若在基板表面制作槽或流路，在疏水化后(或亲水化后)贴合同一材料，则可以简单地制作经疏水化(或亲水化)的微流路。若对导电性复合体、磁性复合体、或导热性复合体赋予粘接性，则可以对金属材料、陶瓷材料、高分子材料、或复合性高分子材料，实施流动体接合(加工接合或交联接合)或非流动体接合(装配接合)。在电子设备、材料领域、汽车领域、机器人领域、建筑-建设领域、环境-能源领域等大量的产业领域中，本发明有效。近年来，数码设备、便携-移动设备、高频模块设备、网络设备的多功能化、高性能化、小型化取得急速进展。实现所述进展的方法之一是：将微电脑或系统芯片(SoC)、存储器等大量芯片收纳在一个封装中的系统封装(System in Package，SiP)产品、芯片内建芯片(Chip on Chip，CoC)产品等扩大。要求用以实现设备的更高性能化或高功能化的SiP技术。为了实现高性能化或高功能化，微小部分的接合技术的发展不可或缺。在此种领域中，本发明也有效。
以下，列举具体的实施例，来说明本发明。但本发明并不限定于以下的实施例。只要不大幅损害本发明的优点，各种变形例或应用例当然也包括在本发明中。
[实施例1]
6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(TEDC)及N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺(TEDDA)，根据以下反应式(1-1)及反应式(1-2)合成。
在500mL的三口烧瓶中，放入搅拌子、及三聚氯化氰(CC：18.325g；99.37mmol：関東化学工業株式会社制造)。安装温度计及滴液漏斗。将烧瓶内置于氩气下。在其中添加四氢呋喃(THF)(200mL)。冷却至-20℃。然后，历时30分钟缓慢地滴加3-三乙氧基硅烷基丙基胺(28mL；120mmol：チツソ株式会社制造)/THF(20mL：関東化学工業株式会社制造)溶液。滴加后，历时30分钟缓慢地滴加三乙基胺(17mL；122mmol：和光純薬工業株式会社制造)/THF(20mL：関東化学工業株式会社制造)溶液。滴加后，在-20℃下搅拌1小时。反应后，将副产物的三乙基胺盐酸盐过滤分离。然后，利用旋转蒸发器进行浓缩、减压干燥。由此获得粗纯化物。对所述粗纯化物进行利用硅胶管柱色谱法(展开溶剂：氯仿)的纯化。纯化物(6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物)(31.820g；84.96mmol)为淡黄色油。核磁共振(NuclearMagnetic Resonance，NMR)数据等如下述所述。
1H NMR(400MHz，CDCl3)d 0.67(t，J＝8.0Hz，2H，CH2CH 2Si)，1.24(t，J＝6.9Hz，9H，SiOCH2CH 3)，1.73(quint，J＝8.0Hz，2H，CH2CH 2CH2)，3.49(q，J＝8.0Hz，2H，NHCH 2CH2)，3.83(q，J＝6.9Hz，2H，SiOCH 2CH3)，6.60(brs，1H，NH)
元素分析值：测定值(％)；C：38.81、N：15.01、H：6.02、计算值(％，以C12N4H22O3SiCl2计)；C：39.02、N：15.17、H：6.00
接着，在300mL的三口烧瓶中，放入搅拌子、及乙二胺(11mL；165mmol：東京化成工業株式会社制造：利用分子筛纯化)。将烧瓶内置于氩气下。滴加6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(7.821g；21.18mmol)与THF(60mL)的混合溶液。滴加后，将反应溶液缓慢地加热至90℃。然后，进行历时17小时的反应。然后，冷却至室温。通过硅藻土进行抽吸过滤。利用旋转蒸发器将滤液浓缩。然后，进行减压干燥。进行利用硅胶管柱色谱法的纯化。由此，获得淡黄色油的N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺(TEDDA、6.063g；产率为69％)。所得的化合物的鉴定是通过元素分析、NMR光谱、质谱(Mass Spectrometry，MS)测定进行。元素分析值N％利用パ一キンエルマモデル2400CHN型分析装置进行，NMR光谱测定利用日本ブル力一AC400P进行，MS利用日本电子JEOL JMS-700进行。
1H NMR(400MHz，DMSO-d6)d0.52(br t，J＝8.0Hz，2H，CH2CH 2Si)，1.12(t，J＝7.0Hz，9H，SiOCH2CH 3)，1.36(br s，4H，CH2NH 2)，1.50(br s，2H，CH2CH 2CH2)，2.60(br t，J＝5.6Hz，4H，NCH2CH 2N)，3.15(br s，6H，CH 2CH2CH2and NCH 2CH2N)，3.72(q，J＝7.0Hz，6H，SiOCH 2CH3)，6.39(br s，3H，NHCH2×3)
13C NMR(101MHz，DMSO-d6)d 7.4，18.2，22.9，41.6，42.7，43.6，57.6，165.6，165.8MS(70eV)m/z416(M+)
元素分析结果：测定值(％)；C：46.06，N：26.61，H：8.48，计算值(％，以C16N8H38O3Si计)；C：46.13，N：26.90，H：8.71
[实施例2]
沿着下述反应式进行反应。
在200mL的三口烧瓶中，放入搅拌子、及肼一水盐(4.0mL；82mmol：東京化成工業株式会社制造)。将烧瓶内置于氩气下。将烧瓶内冷却至0℃。在所述状态，滴加6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(3.734g；10.11mmol)与乙醇(50mL)的混合溶液。滴加后，将反应溶液缓慢地加热至50℃。然后，在50℃下进行历时2小时的反应。反应后，利用抽吸过滤将所析出的白色固体过滤分离。进行利用管柱色谱法的纯化。由此，获得无色粉末的6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪(DTEDH：3.403g；9.44mmol；产率为93％)。所述化合物若与空气接触，则会吸收空气中的二氧化碳并析出，根据NMR分析结果判定为目标化合物。NMR数据等如下述所述。
1H NMR(400MHz，DMSO-d6)d 0.53(br t，J＝8.0Hz，2H，CH2CH 2Si)，1.12(t，J＝6.9Hz，9H，SiOCH2CH 3)，1.50(quint.，J＝8.0Hz，2H，CH2CH 2CH2)，3.18(br s，2H，NCH 2CH2)，3.31(br s，4H，NHNH 2)，3.72(q，J＝6.9Hz，6H，SiOCH 2CH3)，6.73(br s，1H，NHCH2CH2)，7.58(br s，2H，NHNH2)；13C NMR(101MHz，DMSO-d6)d 7.3，18.2，22.8，42.6，57.6，165.3，167.4.
元素分析结果：测定值(％)；C：40.12，N：30.81，H：7.68，计算值(％，以C12N8H28O3Si计)；C：39.98，N：31.09，H：7.83
[实施例3]
由三聚氯化氰(CC)与二(N，N′-三乙氧基硅烷基丙基)胺合成DTEDC。然后，在乙醇与三乙基胺(TEA)的存在下，进行DTEDC与乙二胺的反应。进行反应溶液的过滤。然后，在1mmHg～10mmHg的减压下，将溶剂与未反应的乙二胺蒸馏除去。将产物溶解于甲醇溶液，加入活性碳进行脱色。浓缩后，进行利用硅胶色谱管柱的纯化。通过将其浓缩，而获得淡黄色的糖浆。所述糖浆根据元素分析数据、NMR光谱等判定为2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪(DTEDEA)。
[实施例4]
由三聚氯化氰(CC)与二(三乙氧基硅烷基丙基)胺合成DTEC。然后，在乙醇与三乙基胺(TEA)的存在下，进行DTEC与乙二胺的反应。进行反应溶液的过滤。然后，在10mmHg的减压下，将溶剂与未反应的乙二胺蒸馏除去。将产物溶解于甲醇溶液。进行利用活性碳的脱色。浓缩后，进行利用硅胶色谱管柱的纯化。通过将其浓缩，而获得淡黄色的糖浆。所述糖浆根据元素分析数据、NMR光谱等判定为2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪(DTEEA)。
[实施例5]
实施例5是利用实施例1的化合物(TEDDA)进行表面处理的例子。
准备10mm×20mm×0.1mm的基板。所述基板为Ti板、Mo板、Ni板、Cu板、Al板、Ag板、Pt板、Sn板、SUS316板、黄铜板。即，准备10种基板。在乙醇中在40℃下，对各基板进行历时15分钟的超声波脱脂。然后，利用乙醇进行冲洗。由此，将表面清洁化。清洁化后，在真空干燥器中进行干燥。
将所述处理后的基板浸渍于含有TEDDA的(0.1wt％)水溶液中。经过10分钟后提拉基板。然后，利用蒸馏水进行充分的冲洗。然后，在20℃的干燥干燥器中在真空下(0.1mmHg以下)放置24小时。
在所述处理后，进行TEDDA处理基板的XPS分析。XPS分析装置为X射线光电子分光分析装置(アルバツクフアイ制造：PHI-Quntera SXM Scanning X-ray Microprobe、照射角度为45度)。
比较例中，代替所述TEDDA，使用氨基丙基三乙氧基硅烷(APS：アヅマツクス制造的AIS0610.0)，并以相同的方式进行操作。
将XPS分析结果表示于下述表-1。
表-1
根据表-1判定如下。TEDDA处理基板与APS处理基板相比，整体上表面金属浓度与氧浓度减少，且氮浓度与硅浓度大幅增加。此种情况表示TEDDA强力吸附(结合)于基板表面，相对于此，APS几乎不吸附(结合)于基板表面。在所述分析中，X射线的照射角度为45度，因此测定大致自最表面7nm的深度为止的元素。在TEDDA处理基板的表面分析中，由于充分地观察到金属原子，因此判定TEDDA膜的厚度为7nm以下。在XPS分析中由于在10-6Pa以下进行测定，因此理解TEDDA以高于通常的分子间力的结合力(与化学键匹敌的结合力)吸附(结合)于基板。
[实施例6]
实施例6是利用实施例1的化合物(TEDDA)进行表面处理的例子。
准备10mm×10mm×0.1mm的基板。所述基板为氧化铝板、碳化硅板、氮化铝板、氧化锌板、碳板、玻璃板、氧化锆板、陶瓷器板、水泥板、石膏板。即，准备10种基板。接着，进行与所述实施例5相同的处理。
比较例中，代替所述TEDDA，使用氨基丙基三乙氧基硅烷(APS)，并以相同的方式进行操作。
将XPS分析结果表示于下述表-2。
表-2
根据表-2判定如下。TEDDA处理基板与APS处理基板(比较例)相比，整体上表面金属浓度与氧浓度减少，且氮浓度与硅浓度大幅增加。由于AlN板包含Al与N，SiC板包含Si与C，因此虽然所述倾向不显著，但可以看出同样的倾向。即，判定TEDDA强力吸附(结合)于陶瓷材料表面。在所述分析中，X射线的照射角度为45度，因此测定大致自最表面7nm的深度为止的元素。在TEDDA处理基板的表面分析中，由于充分地观察到金属原子，因此判定TEDDA膜的厚度为7nm以下。在XPS分析中，由于在10-6Pa以下测定，因此理解TEDDA以高于通常的分子间力的结合力(与化学键匹敌的结合力)吸附(结合)于基板。
[实施例7]
实施例7是利用实施例1的化合物(TEDDA)进行表面处理的例子。
准备10mm×20mm×0.2mm的基板。所述基板为聚乙烯板(PE：LD-PE：07-127-01：株式会社ハギテツク制造)、聚丙烯板(PP.コクゴ制造：07-175-04)、四氟乙烯板(PTFE：NO.903UL：日東電工株式会社制造)、聚甲醛板(POM：DURACON M25-44：ポリプラスチツク制造)、尼龙板(PA6：P07-142-04、コクゴ制造)、聚2，6-萘二甲酸乙二酯板(PEN：：帝人ヅュポン株式会社制造：Teonex(R))、聚对苯二甲酸乙二酯板(PET：TORAYCON、東レコン制造)、聚醚醚酮板(PEEK：PEEK450G：八十島プロシ一ド株式会社制造)、聚苯硫醚板(PPS：C-130SG：出光興産株式会社制造)、及聚碳酸酯板(PC：07-145-04：コクゴ制造)、聚酰亚胺板(PI：聚酰亚胺、東レデュポン社制造)、氨基甲酸酯板(UR：07-007-01：コクゴ制造)。接着，进行与所述实施例5相同的处理。
比较例中，代替所述TEDDA，使用氨基乙基氨基丙基三乙氧基硅烷(AEPS、アヅマツクス制造的SIT8398.0)，并以相同的方式进行操作。
将XPS分析结果表示于下述表-3。
表-3
根据表-3判定如下。TEDDA处理基板与AEPS处理基板(比较例)相比，表面碳浓度与氧浓度减少，且氮浓度与硅浓度大幅增加。除了包含氮的PA6以外，氮浓度通过TEDDA处理均大幅增加。由于未使用包含硅的树脂，因此在本发明的情况下，全部包含硅。PTFE虽然吸附量少，但明显以相当大的密接力结合。此种情况表示TEDDA强力吸附于树脂材料表面。在所述分析中，X射线的照射角度为45度，因此测定大致自最表面7nm的深度为止的元素。因此，判定TEDDA膜的厚度为7nm以下。在XPS分析中，由于在10-6Pa以下测定，因此理解TEDDA以高于通常的分子间力的结合力(与化学键匹敌的结合力)吸附(结合)于基板。
[实施例8]
实施例8是利用实施例1的化合物(TEDDA)进行表面处理的例子。
准备乙烯丙烯二烯橡胶(EPDM、JSR-EP)、硅酮橡胶板(Q：SH-851U：東レ·ダウコ一ニンゲ株式会社制造)、苯乙烯丁二烯橡胶(SBR：Nipol 1500：日本ゼオン株式会社制造)、腈丁二烯橡胶(NBR：DN300：日本ゼオン株式会社制造)、氟橡胶(FKM：G-901：ダイキン工業株式会社制造)。在所述这些材料中混合快压出炉(FastExtruding Furnace，FEF)炉黑(東京材料株式会社制造)、过氧化二异丙苯(Dicumyl Peroxide，DCP)、及ZnO，利用二辊进行混练。接着，获得厚度为2mm的未交联橡胶片。将所述未交联橡胶片重叠放入模具，利用真空热加压装置(ミカドテクノス株式会社制造：Bakyuumu boy VM01-1010VM)，在160℃下实施30分钟、2MPa的压制压力。由此，进行交联。如此获得各橡胶制基板。接着，进行与所述实施例5相同的处理。
比较例中，代替所述TEDDA，使用氨基乙基氨基丙基三乙氧基硅烷(AEPS、アヅマツクス制造的SIT8398.0)，并以相同的方式进行操作。
将XPS分析结果表示于下述表-4。
表-4
根据表-4判定如下。交联橡胶材料中，Q(交联硅酮橡胶)包含硅作为材料的构成成分，NBR包含氮作为材料的构成成分。但其他橡胶不含硅或氮。因此，在TEDDA处理基板及未处理基板的表面分析中，判定N、Si的存在、增加的原因是TEDDA因反应(或强力吸附)而存在于交联橡胶的表面。令人惊讶的是TEDDA结合(吸附)于表面的分子链摄动的橡胶。
[实施例9]
实施例9是利用实施例1的化合物(TEDDA)进行表面处理的例子。
基板为复合材料。即，在Q、PE、SBR、PA6、及PPS等高分子材料中混合表-5所记载的填充剂。填充剂与Q及SBR的混合是使用二辊进行，填充剂与PE及PA6的混合是使用捏合机进行。接着，在120℃～180℃的温度下历时5分钟进行利用模具的压制成形，获得10mm×20mm×0.1mm的基板。接着，进行与所述实施例5相同的处理。
比较例中，代替所述TEDDA，使用氨基乙基氨基丙基三乙氧基硅烷(AEPS、アヅマツクス制造的SIT8398.0)，并以相同的方式进行操作。
将XPS分析结果表示于下述表-5。
表-5
根据表-5判定如下。在复合材料中，Q(交联硅酮橡胶)包含Si作为构成成分，NBR包含N作为构成成分，但其他材料不含Si、N。因此，在TEDDA处理复合材料及未处理复合材料的表面分析中，判定N、Si的存在及增加是由于TEDDA反应(或强力吸附)而存在于复合材料表面。
[实施例10]
准备实施例5d的基板(TEDDA处理Cu板)、实施例5e的基板(TEDDA处理Al板)、实施例5i的基板(TEDDA处理SUS316板)、实施例6f的基板(TEDDA处理SiO2板)、经过与实施例7相同的处理的PI板(PI：聚酰亚胺、東レデュポン社制造)、经过与实施例7相同的处理的UR板(UR：07-007-01：コクゴ制造)。
准备实施例5d中所用的Cu板、实施例7b中所用的PP板、实施例8b中所用的Q板。不进行TEDDA处理。对所述这些基板进行超声波脱脂(在乙醇中、在40℃下、15分钟)。然后，进行利用乙醇的冲洗。接着，进行电晕放电处理(信光電気計測株式会社制造的电晕主控装置，输出电压：9kV(表面电压)，振荡频率：20kHz，温度：20℃)。
所述TEDDA处理基板、与所述TEDDA未处理基板以夹住TEDDA膜的方式进行对向配置。然后，实施1MPa的压制。压制温度为120℃。压制时间为10分钟。
准备经过与实施例7相同的处理的PI板(PI：聚酰亚胺、カプトン、東レデュポン社制造)、实施例5i的基板(TEDDA处理SUS316板)。
对TEDDA处理SUS316板(实施例5i的基板)，进一步涂布丙烯酸氨基甲酸酯系涂料(U：Urecoat、复合资材股份有限公司)。接着，进行硬化处理(50℃；24小时)。然后，以与实施例5i相同的方式，在丙烯酸氨基甲酸酯系涂膜上进行利用TEDDA水溶液的表面处理。
将所述这些TEDDA处理基板在催化剂处理液(上村工業株式会社制造的NP-8；150mL/L，HCl；150mL/L)中进行浸渍(温度：25℃，时间：1分钟)。由此，在表面载持Pd-Sn催化剂。载持有所述Pd-Sn催化剂的基板，在无电镀铜浴(上村工業株式会社制造的Through-cupper PSY-1A；100ml/L-Through-cupperPSY-1B；55ml/L，18.5％福尔马林水溶液20mL/L)中进行浸渍(温度：33℃，时间：20分钟)。然后，进行电镀。所述电镀中所用的电解浴为上村工業株式会社制造的Through-cupper ETN浴(CuSO4·5H2O；80g/L，H2SO4；200g/L，Cl-；50ppm)、Through-cupper ETN-1A浴(1ml/L)、Through-cupper ETN-1B浴(10ml/L)。电流为2.5A/dm2。时间为60分钟。温度为25℃。如此而得的镀铜膜的厚度为30μm。
比较例中，代替所述TEDDA，使用AEPS(アヅマツクス制造)，并以相同的方式进行操作。
对本实施例中所得的样品进行下述测定，因此将其结果表示于表-6。粘接强度(密接强度)的测定是使用剥离试验装置(島津製作所制造的自动立体测图仪P-100)。测定时的剥离速度为5mm/min的条件。
表-6
根据表-6判定本发明的样品的粘接强度(密接强度)非常大。
[实施例11]
在500mL的三口烧瓶中，放入搅拌子及N，N-二甲基乙二胺(20.0g；0.230mmol)。将烧瓶内置于氩气下。在烧瓶内加入THF(200mL)。滴加6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(8.3g；22.5mmol)与THF(100mL)的混合溶液。滴加后，将反应溶液缓慢地加热90℃。然后，进行历时8小时的反应。然后，冷却至室温。通过硅藻土进行抽吸过滤。利用旋转蒸发器将滤液浓缩。然后，进行减压干燥。由此，获得淡黄色油的N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺(9.1g；产率为86％)。所得的化合物的鉴定是利用元素分析、NMR光谱、MS测定来进行。元素分析值N％是利用珀金埃尔默2400CHN型分析装置进行，NMR光谱测定是利用日本布鲁克AC400P进行，MS是利用日本电子的JMS-700进行。
1H NMR(400MHz，CDCl3)d0.65(t，2H，CH2CH 2Si)，1.22(t，9H，SiOCH2CH 3)，1.66(quint，2H，CH2CH 2CH2)，2.29(s，12H，CH2NCH 3)，2.57(t，4H，NHCH2CH 2)，3.34-3.40(m，6H，NHCH 2CH2)，3.82(q，6H，SiOCH 2CH3).
13C NMR(101MHz，CDCl3)d7.7，18.2，23.1，37.7，37.9，43.2，45.1，58.2，165.5，165.9.
MS(CI+)m/z 472(M+1)
元素分析结果：测定值(％)；C：50.78，N：23.61，H：9，45，计算值(％，以C20H4 4N8O3Si计)；C：50.82，N：23.70，H：9.38
[实施例12]
在300mL的三口烧瓶中，放入搅拌子及1，6-己二胺(46.5g；0.40mol)。将烧瓶内置于氩气下。在烧瓶内加入THF(80g)。滴加6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(14.8g；0.04mol)与THF(20g)的混合溶液。滴加后，将反应溶液缓慢地加热。然后，在回流下进行历时5小时的反应。然后，冷却至室温。通过硅藻土进行抽吸过滤。利用旋转蒸发器将滤液浓缩。然后，进行减压干燥。由此，获得淡黄色油的N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺(TEDHDA、19.9g；产率为94％)。所得的化合物的鉴定是利用元素分析、NMR光谱、MS测定来进行。元素分析值N％是利用珀金埃尔默2400CHN型分析装置进行，NMR光谱测定是利用日本布鲁克AC400P进行，MS是利用日本电子的JMS-700进行。
1H NMR(400MHz，CDCl3)d0.66(t，2H，CH2CH 2Si)，1.22(t，9H，SiOCH2CH 3)，1.34-1.54(m，16H，CH2-(CH 2)4-CH2)，1.66(t，2H，CH 2CH2Si)，2.67(t，4H，CH2CH 2NH2)，3.32(brs，6H，NHCH 2CH2)，3.81(q，6H，SiOCH 2CH3).
13C NMR(101MHz，CDCl3)d 7.7，18.2，23，1，26.6，29.8，33.8，40.5，42.1，43.2，57.86，58.2，166.1.
MS(FAB+)nm/z 529(M++1)
元素分析结果：测定值(％)；C：54.62，N：21.01，H：10.01，计算值(％，以C24H52N8O3Si计)；C：54.51，N：21.19，H：9.91
[实施例13]
在300mL的三口烧瓶中，放入搅拌子及三(2-氨基乙基)胺(29.3g；0.20mmol)。将烧瓶内置于氩气下。在烧瓶内加入THF(40g)。滴加6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(7.8g；0.02mol)与THF(10g)的混合溶液。滴加后，将反应溶液缓慢地加热至90℃。然后，进行历时8小时的反应。然后，冷却至室温。通过硅藻土进行抽吸过滤。利用旋转蒸发器将滤液浓缩。然后，进行减压干燥。由此，获得淡黄色油的N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺(TEBTTA、11.2g；产率为95％)。所得的化合物的鉴定是利用元素分析、NMR光谱、MS测定来进行。元素分析值N％是利用珀金埃尔默2400CHN型分析装置进行，NMR光谱测定是利用日本布鲁克AC400P进行，MS是利用日本电子的JMS-700进行。
1H NMR(400MHz，DMSO-d6)d 0.53(brs，2H，CH2CH 2Si)，1.06(t，8H，CH2CH2NH 2)，1.13(t，9H，SiOCH2CH 3)，1.51(brs，2H，CH 2NCH 2CH 2NH2)，2.36-2.54(m，20H，CH 2NCH 2CH 2NH2)，3.23(m，6H，NHCH 2CH2)，3.72(q，6H，SiOCH 2CH3)，6.12-6.48(m，3H，NH)
13C NMR(101MHz，DMSO-d6)d 7.8，18.6，23.3，54.3，56.4，58.1，58.4，79.6，166.1.
MS(FAB+)m/z 588(M+1)
元素分析结果：测定值(％)；C：48.88，N：28.55，H：9，47，计算值(％，以C24H5 6N12O3Si计)；C：48.95，N：28.54，H：9.59
[实施例14]
在500mL的三口烧瓶中，放入搅拌子及1，12-十二烷二胺(40.1g；0.20mol)。将烧瓶内置于氩气下。在烧瓶内加入THF(200g)。滴加6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二氯化物(7.8g；0.02mol)与THF(10g)的混合溶液。滴加后，将反应溶液缓慢地加热。然后，在回流下进行历时10小时的反应。然后，冷却至室温。通过硅藻土进行抽吸过滤。利用旋转蒸发器将滤液浓缩。然后，进行减压干燥。由此，获得无色油的N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺(TEDDDA、13.1g；产率为94％)。所得的化合物的鉴定是利用元素分析、NMR光谱、MS测定来进行。元素分析值N％是利用珀金埃尔默2400CHN型分析装置进行，NMR光谱测定是利用日本布鲁克AC400P进行，MS是利用日本电子的JMS-700进行。
1H NMR(400MHz，CDCl3)d0.65(t，2H，CH2CH 2Si)，1.20(t，9H，SiOCH2CH 3)，1.26-1.51(m，2H，CH2CH 2CH2)，1.66(brs，2H，CH 2CH2Si)，2.67(t，4H，CH2CH 2NH2)，3.31(brs，6H，NHCH 2CH2)，3.82(q，6H，SiOCH 2CH3).
13C NMR(101MHz，CDCl3)d 7.6，8.7，18.2，23.126.8，29.5，30.2，33.740.5，42.1，43.16，57.358.3165.9
MS(FAB+)m/z 697(M++1)
元素分析结果：测定值(％)；C：54.62，N：21.01，H：10.01，计算值(％，以C24H52N8O3Si计)；C：54.51，N：21.19，H：9.91
另外，发明内容中所列举的其他化合物也以相同的方式合成。
[实施例15]
准备实施例5d中所用的Cu板。使用TEDDA(实施例1)、DTEDH(实施例2)、DTEDEA(实施例3)、DTEEA(实施例4)、TEDDMA(实施例11)、TEDHDA(实施例12)、TEBTTA(实施例13)、TEDDDA(实施例14)。进行与实施例5相同的表面处理。
准备实施例7b中所用的PP板。不进行利用化合物α的处理。对所述基板进行超声波脱脂(在乙醇中，在40℃下，15分钟)。然后，进行利用乙醇的冲洗。接着，进行电晕放电处理(信光電気計測株式会社制造的电晕主控装置，输出电压；9kV(表面电压)，振荡频率：20kHz，温度：20℃)。
所述各化合物的处理Cu基板、与所述未处理PP基板以夹住各化合物膜的方式进行对向配置。然后，实施1MPa的压制。压制温度为120℃。压制时间为10分钟。
准备PI板(PI：聚酰亚胺、カプトン、東レデュポン社制造)。使用TEDDA(实施例1)、TEDHDA(实施例12)、TEBTTA(实施例13)、TEDDDA(实施例14)。进行与实施例5相同的表面处理。
将所述这些处理基板在催化剂处理液(上村工業株式会社制造的NP-8；150mL/L，HCl；150mL/L)中进行浸渍(温度：25℃，时间：1分钟)。由此，在表面载持Pd-Sn催化剂。将载持有所述Pd-Sn催化剂的基板，在无电镀铜浴(上村工業株式会社制造的Through-cupper PSY-1A；100ml/L，Through-cupper PSY-1B；55ml/L，18.5％福尔马林水溶液；20mL/L)中进行浸渍(温度：33℃，时间：20分钟)。然后，进行电镀。所述电镀中所用的电解浴为上村工業株式会社制造的Through-cupper ETN浴(CuSO4·5H2O；80g/L，H2SO4；200g/L，Cl-；50ppm)、Through-cupper ETN-1A浴(1ml/L)、Through-cupper ETN-1B浴(10ml/L)。电流为2.5A/dm2。时间为60分钟。温度为25℃。如此而得的镀铜膜的厚度为30μm。
对本实施例中所得的样品进行下述测定，因此将其结果表示于表-7。粘接强度(密接强度)的测定是使用剥离试验装置(島津製作所制造的自动立体测图仪P-100)。测定时的剥离速度为5mm/min的条件。
表-7
根据表-7判定本发明的样品的粘接强度(密接强度)非常大。
在实施例1中，将乙二胺(11mL)变更为乙二胺(7mL)，除此以外，以相同的方式进行操作。其结果获得TEDDA的单体与TEDDA的二聚物(参照所述[0027]所记载的通式)的混合物。即，获得单体与二聚物的混合物(混合比例根据乙二胺量而变化)。二聚物从所述混合物的单离并不简单。以与实施例5相同的方式进行利用所述混合物的表面处理。所述表面处理的结果与实施例5的表面处理的结果相同。
本发明的表面处理剂由于可以应用于大量的基板，因此判定具有多样性。
设置于基板表面的化合物α由于富有反应性，因此可以利用所述反应特性而应用于各种领域。例如在欲将可以与化合物α反应(吸附)的化合物X设置于基板上时，操作也简单。
理解本发明可以应用于各种领域(例如装饰品、电路基板、其他复合化产品)。

Claims (29)

1.一种表面处理方法，通过涂布含有化合物α的溶液将所述化合物α设置于基板上，
所述化合物α至少含有：
M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；
氨基；以及
三嗪环，
所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，
所述三嗪环具有一个以上，
所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的C间接结合，
所述间接结合的氨基至少存在于末端位置，
所述末端位置的氨基具有一个以上。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为下述通式[I]表示的化合物，
通式[I]：
{(NR1R2)aX-Q}bY(W)c{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}d
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以全部相同，也可以不同；X、Z、Q、V为联结基；也存在无联结基X、Z、Q的情况，但X、Z、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；W为{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}以外的官能基；M为选自Si、Al、Ti的群中的至少一个；a为1以上的整数，b为1或2，c为0或1，d为1或2，b+c+d＝3，n为0、1或2。
3.根据权利要求2所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为下述通式[II]或通式[III]表示的化合物，
通式[II]：
{(NR1R2)aX-Q}bY{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}e
通式[III]：
{(NR1R2)aX-Q}bY[N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2]e
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以相同，也可以不同；X、Q为联结基；也存在无联结基X、Q的情况，但X、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；a为1以上的整数，b为1或2，e为1或2，b+e＝3，m为1以上的整数，n为0、1或2。
4.根据权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α的末端所结合的氨基为一级氨基。
5.根据权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为下述通式[IV]或通式[V]表示的化合物，
式中，A、B、C、D为下述基团：
A＝-N(Ra)Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n或-N{Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n}2
B＝-N(Re)Rf(NH2)m或-N{Rf(NH2)m}2
C＝A、B或-N(Rg)Rh
D＝Ri
Ra、Re、Rg为H或烃基；Rb、Rc、Rd、Rf、Rh、Ri为烃基；n为0、1或2；m为1或2。
6.根据权利要求5所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为选自下述群中的至少一个：N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述M-OH基及/或M-OH生成基为烷氧基硅烷基，其中M表示金属元素。
8.一种表面处理方法，通过化合物α的蒸发将所述化合物α设置于基板上，
所述化合物α至少含有：
M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；
氨基；以及
三嗪环，
所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，
所述三嗪环具有一个以上，
所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的C间接结合，
所述间接结合的氨基至少存在于末端位置，
所述末端位置的氨基具有一个以上。
9.根据权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为下述通式[I]表示的化合物，
通式[I]：
{(NR1R2)aX-Q}bY(W)c{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}d
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以全部相同，也可以不同；X、Z、Q、V为联结基；也存在无联结基X、Z、Q的情况，但X、Z、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；W为{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}以外的官能基；M为选自Si、Al、Ti的群中的至少一个；a为1以上的整数，b为1或2，c为0或1，d为1或2，b+c+d＝3，n为0、1或2。
10.根据权利要求9所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为下述通式[II]或通式[III]表示的化合物，
通式[II]：
{(NR1R2)aX-Q}bY{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}e
通式[III]：
{(NR1R2)aX-Q}bY[N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2]e
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以相同，也可以不同；X、Q为联结基；也存在无联结基X、Q的情况，但X、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；a为1以上的整数，b为1或2，e为1或2，b+e＝3，m为1以上的整数，n为0、1或2。
11.根据权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α的末端所结合的氨基为一级氨基。
12.根据权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为下述通式[IV]或通式[V]表示的化合物，
式中，A、B、C、D为下述基团：
A＝-N(Ra)Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n或-N{Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n}2
B＝-N(Re)Rf(NH2)m或-N{Rf(NH2)m}2
C＝A、B或-N(Rg)Rh
D＝Ri
Ra、Re、Rg为H或烃基；Rb、Rc、Rd、Rf、Rh、Ri为烃基；n为0、1或2；m为1或2。
13.根据权利要求12所述的表面处理方法，其特征在于，所述化合物α为选自下述群中的至少一个：N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺。
14.根据权利要求1～13中任一项所述的表面处理方法，其特征在于，在将所述化合物α设置于基板上之前，对所述基板进行选自清洗处理、电晕放电处理、等离子体放电处理、紫外线照射、酸处理、碱处理、水蒸气处理及化成处理的群中的一种或二种以上处理。
15.根据权利要求1～14中任一项所述的表面处理方法，其特征在于，在将所述化合物α设置于基板上之后，进行加热处理。
16.根据权利要求1～15中任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理以通过所述化合物α的粘接为目的。
17.根据权利要求1～15中任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理以通过所述化合物α的化学反应或物理吸附为目的。
18.一种权利要求1～17中任一项所述的表面处理方法所使用的表面处理剂，
所述表面处理剂是化合物α，或者含有化合物α，
所述化合物α至少含有：
M-OH基及/或M-OH生成基，其中M表示金属元素；
氨基；以及
三嗪环，
所述M-OH基及/或M-OH生成基具有一个以上，其中M表示金属元素，
所述三嗪环具有一个以上，
所述氨基的至少一个氨基与所述三嗪环的C间接结合，
所述间接结合的氨基至少存在于末端位置，
所述末端位置的氨基具有一个以上。
19.根据权利要求18所述的表面处理剂，其特征在于，所述化合物α为下述通式[I]表示的化合物，
通式[I]：
{(NR1R2)aX-Q}bY(W)c{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}d
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以全部相同，也可以不同；X、Z、Q、V为联结基；也存在无联结基X、Z、Q的情况，但X、Z、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；W为{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}以外的官能基；M为选自Si、Al、Ti的群中的至少一个；a为1以上的整数，b为1或2，c为0或1，d为1或2，b+c+d＝3，n为0、1或2。
20.根据权利要求19所述的表面处理剂，其特征在于，所述化合物α为下述通式[II]或通式[III]表示的化合物，
通式[II]：
{(NR1R2)aX-Q}bY{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}e
通式[III]：
{(NR1R2)aX-Q}bY[N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2]e
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以相同，也可以不同；X、Q为联结基；也存在无联结基X、Q的情况，但X、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；a为1以上的整数，b为1或2，e为1或2，b+e＝3，m为1以上的整数，n为0、1或2。
21.根据权利要求20所述的表面处理剂，其特征在于，所述化合物α的末端所结合的氨基为一级氨基。
22.根据权利要求20所述的表面处理剂，其特征在于，所述化合物α为下述通式[IV]或通式[V]表示的化合物，
式中，A、B、C、D为下述基团：
A＝-N(Ra)Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n或-N{Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n}2
B＝-N(Re)Rf(NH2)m或-N{Rf(NH2)m}2
C＝A、B或-N(Rg)Rn
D＝Ri
Ra、Re、Rg为H或烃基；Rb、Rc、Rd、Rf、Rh、Ri为烃基；n为0、1或2；m为1或2。
23.根据权利要求22所述的表面处理剂，其特征在于，所述化合物α为选自下述群中的至少一个：N，N′-双(2-氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-2，4-二肼基-1，3，5-三嗪、2-(N，N′-二-3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-4，6-二(2-氨基乙基)氨基-1，3，5-三嗪、2-(2-氨基乙基)氨基-4，6-二(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基己基)氨基-1，3，5-三嗪、6-(2-氨基乙基)氨基-2，4-双(三乙氧基硅烷基十二烷基)氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(甲基乙基酮肟基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三乙酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙烯氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三异丙氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-二(三苯甲酰氧基硅烷基)丙基氨基-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基己基氨基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-氨基乙基)氨基-6-双(三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪、N，N′-双(2-二甲基氨基乙基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(2-氨基己基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双{2-[双-(2-氨基乙基)氨基]乙基}-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺、N，N′-双(12-氨基十二烷基)-6-(3-三乙氧基硅烷基丙基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二胺。
24.一种新化合物，所述化合物为下述通式[I]表示的化合物，
通式[I]：
{(NR1R2)aX-Q}bY(W)c{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}d
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以全部相同，也可以不同；X、Z、Q、V为联结基；也存在无联结基X、Z、Q的情况，但X、Z、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；W为{Z(V-M(R3)n(OR4)3-n)}以外的官能基；M为选自Si、Al、Ti的群中的至少一个；a为1以上的整数，b为1或2，c为0或1，d为1或2，b+c+d＝3，n为0、1或2。
25.根据权利要求24所述的新化合物，其特征在于，所述通式[I]表示的化合物为下述通式[II]表示的化合物，
通式[II]：
{(NR1R2)aX-Q}bY{NH(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}e
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以相同，也可以不同；X、Q为联结基；也存在无联结基X、Q的情况，但X、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；a为1以上的整数，b为1或2，e为1或2，b+e＝3，m为1以上的整数，n为0、1或2。
26.根据权利要求24所述的新化合物，其特征在于，所述通式[I]表示的化合物为下述通式[III]表示的化合物，
通式[III]：
{(NR1R2)aX-Q}bY[N{(CH2)mSi(R3)n(OR4)3-n}2]e
式中，R1、R2、R3、R4为H或官能基；R1、R2、R3、R4可以相同，也可以不同；X、Q为联结基；也存在无联结基X、Q的情况，但X、Q全无的情况除外；Y为骨架；所述骨架具有三嗪环(C3N3)；所述三嗪环不直接结合-NH2、-N3；a为1以上的整数，b为1或2，e为1或2，b+e＝3，m为1以上的整数，n为0、1或2。
27.根据权利要求24所述的新化合物，其特征在于，所述通式[I]表示的化合物为下述通式[IV]或通式[V]表示的化合物，
式中，A、B、C、D为下述基团：
A＝-N(Ra)Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n或-N{Rb-Si(Rc)n(ORd)3-n}2
B＝-N(Re)Rf(NH2)m或-N{Rf(NH2)m}2
C＝A、B或-N(Rg)Rh
D＝Ri
Ra、Re、Rg为H或烃基；Rb、Rc、Rd、Rf、Rh、Ri为烃基；n为0、1或2；m为1或2。
28.一种接合产品，将利用权利要求1～17中任一项所述的表面处理方法而得的基板与粘接体一体地接合而成。
29.一种金属膜产品，在利用权利要求1～17中任一项所述的表面处理方法而得的基板表面设置金属膜而成。
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