CN102608882B - 调色剂、显影剂、调色剂盒、处理盒、成像装置及成像方法 - Google Patents

调色剂、显影剂、调色剂盒、处理盒、成像装置及成像方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种静电图像显影用调色剂，包含：含有着色剂和粘结剂树脂的调色剂颗粒；以及位于所述调色剂颗粒上的外部添加剂，其中所述外部添加剂含有二氧化硅颗粒，所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均粒径为70nm至400nm，一次颗粒的粒径分布指数为1.0至1.9并且平均圆度为0.5至0.9。通过使用该静电图像显影用调色剂，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布情况得到抑制，并且获得了色斑的生成得到抑制的图像。本发明还涉及含有该调色剂的静电图像显影剂、调色剂盒、处理盒、成像装置及成像方法。

Description

调色剂、显影剂、调色剂盒、处理盒、成像装置及成像方法
技术领域
本发明涉及静电图像显影用调色剂、静电图像显影剂、调色剂盒、处理盒、成像装置及成像方法。
背景技术
通常，在电子照相中，通过如下多个步骤来形成图像，这些步骤包括：通过多种手段在采用感光材料的感光体(静电潜像保持部件)上以电学方式形成潜像；利用含有调色剂的显影剂使所形成的潜像显影以形成显影图像；可任选地借助中间转印材料，将该显影图像转印至诸如纸张之类的转印接收介质上；随后通过加热、加压、加热同时加压等方式对该转印图像进行定影。
在通过这些步骤而形成的图像中，因调色剂的长时间使用，可能产生定影图像密度发生改变或者部分调色剂颗粒附着于非图像区域之类的问题。
例如，为了防止因长时间使用而导致的调色剂劣化、调色剂粘附于感光体表面之类问题的产生，专利文献JP-A-11-174731提出了至少含有调色剂颗粒和外部添加剂的调色剂，其中在通过流动式颗粒图像分析仪所测定的颗粒的平均圆度分布中，(a)该调色剂的平均圆度为0.920至0.995，且所含的平均圆度小于0.950的颗粒比例按数量计为2％至40％；并且(b)通过Coulter法测得的该调色剂的重均粒径为2.0μm至9.0μm；并且，所述外部添加剂至少具有：(A)以一次颗粒或二次颗粒的状态存在于调色剂颗粒上的无机微细粉末，并且该无机微细粉末的平均主轴直径为10μm至400μm且形状因子SF1为100至130；以及(B)通过多个颗粒的聚结而形成的、形状因子SF1超过150的非球状无机微细粉末。
发明内容
本发明的目的是提供一种静电图像显影用调色剂，其中调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
可通过如下方式实现上述目的。
(1)一种静电图像显影用调色剂，包含：含有着色剂和粘结剂树脂的调色剂颗粒；以及位于调色剂颗粒上的外部添加剂，其中所述外部添加剂含有二氧化硅颗粒，所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均粒径为70nm至400nm，所述一次颗粒的粒度分布指数为1.0至1.9并且平均圆度为0.5至0.9。
(2)根据(1)所述的静电图像显影用调色剂，其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
(3)根据(1)所述的静电图像显影用调色剂，其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
(4)根据(1)所述的静电图像显影用调色剂，其中所述调色剂颗粒的形状因子SF2为105至130。
(5)根据(1)所述的静电图像显影用调色剂，其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均粒径为100nm至350nm。
(6)根据(1)所述的静电图像显影用调色剂，其中所述二氧化硅颗粒的比重为1.0至1.9。
(7)一种静电图像显影剂，包括：根据(1)所述的静电图像显影用调色剂；以及载体。
(8)根据(7)所述的静电图像显影剂，其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
(9)根据(7)所述的静电图像显影剂，其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
(10)一种调色剂盒，其中容纳有根据(1)所述的静电图像显影用调色剂。
(11)根据(10)所述的调色剂盒，其中所容纳的根据(1)所述的静电图像显影用调色剂的体积为所述调色剂盒体积的90体积％或更大。
(12)一种处理盒，包括：显影单元，其借助于所述静电图像显影剂将形成于潜像保持部件表面上的静电潜像显影，以形成调色剂图像；并且所述显影单元中容纳有根据(7)所述的静电图像显影剂。
(13)一种成像装置，包括：静电潜像保持部件；充电单元，其用于对所述静电潜像保持部件的表面进行充电；静电潜像形成单元，其在所述静电潜像保持部件的表面上形成静电潜像；显影单元，其内部容纳有根据(7)所述的静电图像显影剂，该显影单元借助于所述静电图像显影剂将形成于所述静电潜像保持部件表面上的所述静电潜像显影，以形成调色剂图像；转印单元，其将所述调色剂图像转印至记录介质上；以及定影单元，其将所述调色剂图像定影于所述记录介质上。
(14)根据(13)所述的成像装置，其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
(15)根据(13)所述的成像装置，其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
(16)一种成像方法，包括：对静电潜像保持部件的表面进行充电；在所述充电后的静电潜像保持部件的表面上形成静电潜像；使用根据(7)所述的静电图像显影剂将形成于所述静电潜像保持部件表面上的静电潜像显影，从而形成调色剂图像；将所述调色剂图像转印至记录介质上；以及将所述调色剂图像定影于所述记录介质上。
(17)根据(16)所述的成像方法，其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
(18)根据(16)所述的成像方法，其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
根据上述(1)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与不含有从外部加入到调色剂颗粒表面的、平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(2)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度不为0.5至0.8的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(3)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与调色剂颗粒的形状因子SF1不为125至140的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(4)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与调色剂颗粒的形状因子SF2不为105至130的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(5)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均粒径不为100nm至350nm的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(6)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与二氧化硅颗粒的一次颗粒的比重不为1.0至1.9的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(7)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与静电图像显影剂不含有具有从外部添加至调色剂颗粒表面上的、平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9并且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒的调色剂的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(8)所述的本发明，提供了这样的静电图像显影用调色剂，其中与二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度不为0.5至0.8的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(9)所述的本发明，提供了这样的静电成像显影用调色剂，其中与调色剂颗粒的形状因子SF1不为125至140的情况相比，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。
根据上述(10)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与未使用含有具有从外部添加至调色剂颗粒表面的、平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒的调色剂的静电图像显影剂的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(11)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与所容纳的根据(1)所述的静电图像显影用调色剂的体积不为调色剂盒体积的90体积％或更大的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(12)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与未使用含有具有从外部添加至调色剂颗粒表面的、平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒的调色剂的静电图像显影剂的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(13)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与未使用含有具有从外部添加至调色剂颗粒表面的、平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒的调色剂的静电图像显影剂的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(14)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度不为0.5至0.8的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(15)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与调色剂颗粒的形状因子SF1不为125至140的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(16)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与未使用含有具有从外部添加至调色剂颗粒表面的、平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒的调色剂的静电图像显影剂的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(17)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度不为0.5至0.8的情况相比，色斑的生成得到抑制。
根据上述(18)所述的本发明，获得了这样的图像，其中与调色剂颗粒的形状因子SF1不为125至140的情况相比，色斑的生成得到抑制。
附图简要说明
下面将参照如下附图对本发明的示例性实施方案进行详细描述，其中：
图1为示出根据本发明示例性实施方案的成像装置的例子的示意性构造图。
图2为示出根据本发明示例性实施方案的处理盒的例子的示意性构造图。
具体实施方式
下面对本发明的示例性实施方案进行详细描述。
<静电图像显影用调色剂>
本发明示例性实施方案的静电图像显影用调色剂(下文中简称为“调色剂”)被构造为包含：调色剂颗粒，其至少含有着色剂和粘结剂树脂；以及从外部添加至调色剂颗粒表面的二氧化硅颗粒，该二氧化硅颗粒的平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9。
当调色剂采用如上构成时，调色剂颗粒表面上的二氧化硅颗粒的不均匀分布得到抑制。尽管其原因尚未阐明，但据认为是由如下原因所致。
一般来说，通过溶胶-凝胶法获得的二氧化硅颗粒是平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度超过0.9的球状颗粒。当使用这种二氧化硅颗粒作为调色剂颗粒的外部添加剂时，由于其比重较轻，使得在受到调色剂于显影机中所接受到的机械负荷时，二氧化硅颗粒几乎不能嵌于调色剂颗粒表面，这样因调色剂图像转印性能降低而导致的图像密度下降的情况可得到抑制。
然而，例如，当该球状二氧化硅颗粒与载体之间发生摩擦时，由于二氧化硅颗粒比重较小且呈球状，因此二氧化硅颗粒易于在调色剂颗粒的表面上滚动和移动。因此，据认为二氧化硅颗粒在调色剂颗粒的凹陷处易于发生不均匀分布，因而调色剂颗粒的表面暴露。一般来说，鉴于调色剂颗粒表面由包括粘结剂树脂的组分构成且具有粘性，因此表面暴露的调色剂颗粒彼此易于粘附并凝集。这样，据认为会形成有色斑生成(在成像表面的白纸部分处产生点状着色的现象)的图像。
据认为，当持续进行造成调色剂替换性降低的低图像密度(低面积覆盖率)输出时，尤其易于发生二氧化硅颗粒在调色剂颗粒凹陷处的不均匀分布。据认为这是由于载体的相对存在率升高，从而导致二氧化硅颗粒与载体之间的摩擦力变大而造成的。
此外，在粘结剂树脂易于变粘的高温高湿环境(例如，30℃、85％RH的环境)中，调色剂颗粒尤其易于发生凝集。
因此，结果便导致了在高温高湿环境且持续进行低图像密度输出的环境中，易于生成色斑的状态。
另一方面，在本发明示例性实施方案中，将具有前述粒径和比重的二氧化硅颗粒的平均圆度限定为0.5至0.9。即，通过使二氧化硅颗粒的形状从球形变为异形，即使在二氧化硅颗粒与载体间的摩擦力变大的情况下，与球状二氧化硅颗粒的情况相比，二氧化硅颗粒与调色剂颗粒表面间的接触点和接触面积也会变大。因此，据认为，根据本发明示例性实施方案的二氧化硅颗粒几乎不会在调色剂颗粒的凹陷处发生不均匀分布。这样，据认为调色剂颗粒表面的暴露被抑制，并且调色剂颗粒间的相互凝集得到抑制，因此可抑制图像中色斑的产生。
具体而言，即使如上所述在高温高湿环境中持续进行低图像密度(低面积覆盖率)输出时(此时易于形成色斑)，也抑制了二氧化硅颗粒在调色剂颗粒表面上的不均匀分布。因此，据认为抑制了调色剂颗粒表面的暴露，并且调色剂颗粒的凝集得以抑制，因此可抑制图像中色斑的形成。
顺带提及，在专利文献JP-A-11-174731中，描述了对卤化硅化合物进行气相氧化，并在气相氧化时，于二氧化硅的一次颗粒发生聚结的温度下进行煅烧，从而制得非球状二氧化硅粉末。然而，当通过这种方式对二氧化硅颗粒进行煅烧时，据认为其比重会大于1.9，这样二氧化硅颗粒易于嵌入调色剂颗粒的表面。
下面将对本发明示例性实施方案的调色剂的各组分进行详细描述。
首先，对调色剂颗粒进行描述。
[调色剂颗粒]
调色剂颗粒至少包含粘结剂树脂和着色剂，并且根据需要还可包含防粘剂和其他内部添加剂。
尽管对粘结剂树脂没有特别限制，但是其例子包括如下单体的均聚物，所述单体例如：苯乙烯类(如苯乙烯、对氯苯乙烯、α-甲基苯乙烯等)；具有乙烯基的酯类(如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯等)；乙烯基腈类(如丙烯腈、甲基丙烯腈等)；乙烯基醚类(如乙烯基甲醚和乙烯基异丁醚等)；乙烯基酮类(如乙烯基甲基酮、乙烯基乙基酮、乙烯基异丙烯基酮等)；以及烯烃类(如乙烯、丙烯、丁二烯等)；或者通过将上述两种或多种单体组合而获得的共聚物；以及它们的混合物。此外，粘结剂树脂的例子还包括非乙烯基缩合树脂，如环氧树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂和聚醚树脂；这些非乙烯基缩合树脂与上述乙烯基树脂的的混合物；以及在上述材料共存的条件下，通过使乙烯基类单体聚合而获得的接枝聚合物。
可通过已知方法，(例如)仅由苯乙烯类单体或(甲基)丙烯酸类单体、或者由这两种单体的适当组合来获得苯乙烯树脂、(甲基)丙烯酸类树脂或苯乙烯(甲基)丙烯酸共聚物树脂。顺带提及，术语“(甲基)丙烯酸”包括“丙烯酸”和“甲基丙烯酸”。
通过在二羧酸成分和二醇成分中选取适合的成分并加以组合，然后通过采用常规已知方法对该组合成分进行合成，从而获得聚酯树脂，其中常规已知方法为(例如)酯交换法、缩聚法等。
在使用苯乙烯树脂、(甲基)丙烯酸树脂或其共聚物树脂作为粘结剂树脂时，优选使用重均分子量Mw为20,000至100,000且数均分子量Mn为2,000至30,000的树脂。同时，在使用聚酯树脂作为粘结剂树脂时，优选使用重均分子量Mw为5,000至40,000且数均分子量Mn为2,000至10,000的树脂。
有利的是，粘结剂树脂的玻璃化转变温度为40℃至80℃。当玻璃化转变温度落入上述范围内时，易于保持最低定影温度。
对着色剂没有特别限制，只要其为已知的着色剂即可。其例子包括：炭黑，例如炉黑、Chanel黑、乙炔黑和热解炭黑；无机颜料，例如氧化铁红、群青蓝和氧化钛；偶氮类颜料，例如坚牢黄、双偶氮黄、吡唑啉酮红、螯合树脂、永久红和对位棕(parabrown)；酞菁颜料，如铜酞菁和非金属酞菁；以及缩合多环颜料，如阴丹士林黄、二溴蒽酮橙、芘红、喹吖啶酮红和二氧氮芑紫。
作为着色剂，可根据需要使用经表面处理的着色剂。也可将着色剂与分散剂一同使用。另外，也可将多种着色剂组合使用。
着色剂的含量优选为粘结剂树脂总质量的1质量％至30质量％。
防粘剂的例子包括：烃类蜡；天然蜡，例如巴西棕榈蜡、米蜡和小烛树蜡；合成或矿物或石油类蜡，如褐煤蜡；以及酯类蜡，如脂肪酸酯和褐煤酸酯。然而，不应理解为防粘剂仅限于此。
从储存稳定性的角度来看，防粘剂的熔融温度优选为50℃或更高、更优选为60℃或更高。此外，从耐偏移(offset)的角度来看，防粘剂的熔融温度优选为不高于110℃、更优选为不高于100℃。
防粘剂的含量优选为1质量％至15质量％、更优选为2质量％至12质量％、进一步更优选为3质量％至10质量％。
其他内部添加剂的例子包括磁性材料、电荷控制剂和无机粉末。
调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140(优选为125至135、更优选为130至135)，并且调色剂颗粒的形状因子SF2为105至130(优选为110至125、更优选为115至120)。
形状因子SF1根据如下表达式来确定。
形状因子SF1＝(ML2/A)×(π/4)×100
在上述表达式中，ML表示调色剂颗粒的绝对最大长度，A表示调色剂颗粒的投影面积。
形状因子SF1可通过使用图像分析仪主要对显微图像或扫描电子显微(SEM)图像进行分析以将该图像以数字方式表达，并且(例如)通过如下方式进行数值计算而获得。即，通过摄像机将分散在载玻片表面上的调色剂颗粒的光学显微图像引入到Luzex图像分析仪中，确定100个调色剂颗粒的最大长度和投影面积，并根据前述表达式通过计算来确定其平均值。
形状因子SF2根据如下方式来确定。
使用扫描电子显微镜(例如，由Hitachi株式会社制造的S-4100等)观察调色剂颗粒以拍摄图像；将该图像引入到图像分析仪(例如，由NirecoCorporation制造的LUZEⅢ)中；基于如下表达式计算100个调色剂颗粒中每个调色剂颗粒的SF2；确定其平均值，并将其定义为形状因子SF2。顺带提及，这样调节电子显微镜的放大倍数，使得一个视野中出现约3个至约20个外部添加剂，并将多个视野的观察集合在一起，从而根据如下表达式来计算SF2。
形状因子SF2＝{PM2/(4·A·π)}×100
在上述表达式中，PM表示调色剂颗粒的周长；A表示投影面积；π表示圆的周长与其直径的比值。
调色剂颗粒的体均粒径优选为2μm至10μm、更优选为4μm至8μm。
使用CoulterMultisizerⅡ(由BeckmanCoulter公司制造)，以50μm的孔尺寸来测量调色剂颗粒的体均粒径。此时，将调色剂颗粒分散于电解质水溶液(ISOTON水溶液)中并将该溶液超声波分散30秒或更长时间，从而进行测定。
作为测定方法，将0.5mg至50mg的测量样品加入到2mL的5质量％的表面活性剂水溶液中，其中表面活性剂为分散剂，优选为烷基苯磺酸钠。将该混合物加入到100mL至150mL的电解液中。使用超声波分散器对其中悬浮有该测量样品的电解液进行分散处理约1分钟，从而测量颗粒的粒度分布。所测定的颗粒数为50,000个。
针对基于如此测定的粒度分布所分割的粒度范围(通道)，从小的直径一侧绘制体积的累积分布。将累积率为50％时的粒径定义为体积平均粒径。
下面对二氧化硅颗粒进行描述。
[二氧化硅颗粒]
二氧化硅颗粒的平均粒径为70nm至400nm，比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9。
-平均粒径-
当二氧化硅颗粒的平均粒径小于70nm时，颗粒的形状易于成为球形，因此不能获得平均圆度为0.5至0.9的形状。此外，当将二氧化硅颗粒从外部添加至调色剂颗粒表面上时，二氧化硅颗粒难以分散在调色剂颗粒的表面上。当二氧化硅颗粒的平均粒径超过400nm时，在向二氧化硅颗粒施加机械负荷时，二氧化硅颗粒易于破碎。另外，当将二氧化硅颗粒从外部添加至调色剂颗粒表面上时，难以提高调色剂(具有从外部的二氧化硅颗粒的调色剂颗粒)的强度，并且调色剂的流动性难以提高。
二氧化硅颗粒的平均粒径优选为100nm至350nm、更优选为100nm至250nm。
二氧化硅颗粒的平均粒径是指，在圆相当直径的累积频率中，累积频率为50％时的直径(D50v)，其中圆相当直径是通过将二氧化硅颗粒分散于调色剂颗粒中并借助于SEM(扫描电镜)装置观察100个一次颗粒，然后进行一次颗粒的图像分析而获得的。
-比重-
二氧化硅颗粒的比重为1.0至1.9。
当二氧化硅颗粒的比重超过1.9时，当二氧化硅颗粒受到机械负荷时，二氧化硅颗粒易于嵌入在调色剂颗粒表面上，而当其比重小于1.0时，二氧化硅颗粒易于移动，因此二氧化硅颗粒容易不均匀地分布在调色剂颗粒的凹陷处。
二氧化硅颗粒的比重优选为1.1至1.8。
二氧化硅颗粒的比重按照如下方式来测定。
根据JIS-K-0061：92的5-2-1，使用LeChatelier比重瓶进行比重测量。按照如下方式进行操作。
(1)将约250mL乙醇投入到LeChatelier比重瓶中，并调节使其弯液面达到刻度位置。
(2)将比重瓶浸入恒温水浴中，当液体温度达到20.0±0.2℃时，由比重瓶的刻度准确读取弯液面的位置(精确度控制为0.025mL)。
(3)称取约100.000g样品，将其质量定义为W。
(4)将称好的样品投入到比重瓶内，并除去气泡。
(5)将比重瓶浸入恒温水浴中，当液体温度达到20.0±0.2℃时，由比重瓶的刻度准确读取弯液面的位置(精确度控制为0.025mL)。
(6)根据如下表达式计算比重。
D＝W/(L2-L1)(A)
S＝D/0.9982(B)
在上述表达式中，D表示样品的密度(g/cm3)(20℃)；S表示比重(20℃下)；W表示样品的表观质量(g)；L1为将样品投入到比重瓶前弯液面的读数(mL)(20℃下)；L2为将样品投入到比重瓶后弯液面的读数(mL)(20℃下)；0.9982为水在20℃时的密度(g/cm3)。
此外，根据如下方式来确定二氧化硅颗粒从外部添加至调色剂颗粒的状态下的比重。
使用安装在电子显微镜S4100中、型号为6923H的能量分散型X射线分析仪EMAX(由Horiba株式会社制造)，在20kV的加速电压下对二氧化硅颗粒进行绘制。由元素组成推测二氧化硅颗粒的材料种类，所推测的材料种类的真实比重接近于该二氧化硅颗粒的比重。
-平均圆度-
二氧化硅颗粒的平均圆度为0.5至0.9。
当二氧化硅颗粒的平均圆度超过0.9时，由于二氧化硅颗粒接近于球形，当将二氧化硅颗粒从外部添加至调色剂颗粒表面上时，混合性或在调色剂颗粒上的附着性变差，因此所得颗粒在调色剂颗粒表面上易于滚动。基于这一原因，(例如)当二氧化硅颗粒与载体间发生摩擦时，或者在调色剂被储存后，二氧化硅颗粒可能更易于不均匀分布或者可能从调色剂颗粒上脱落下来。当二氧化硅颗粒的平均圆度小于0.5时，所得颗粒的形状具有较大的纵横比，当向该二氧化硅颗粒施加机械负荷时，会造成应力集中，从而使所得颗粒易于破裂。顺带提及，当通过溶胶-凝胶法制备二氧化硅颗粒时，应当理解的是，难以制得其一次颗粒的平均圆度小于0.5的二氧化硅颗粒。
二氧化硅颗粒的平均圆度优选为0.5至0.8。
顺带提及，二氧化硅颗粒的平均圆度作为“100/SF2”而获得，其中“100/SF2”是通过将二氧化硅颗粒分散在调色剂颗粒中并借助于SEM装置观察一次颗粒，之后对所获一次颗粒进行图像分析，根据如下表达式计算得到的。
平均圆度(100/SF2)＝4π×(A/I2)
在上述表达式中，I表示图像中二氧化硅颗粒的一次颗粒的周长；A表示二氧化硅颗粒的一次颗粒的投影面积；SF2表示形状因子。
二氧化硅颗粒的平均圆度为，在通过上述图像分析而获得的100个一次颗粒的圆度的累积频率中，累积频率为50％时的圆度。
(组分和表面处理)
二氧化硅颗粒可为主要由二氧化硅(即SiO2)构成的颗粒，其可为晶态或非晶态的。此外，二氧化硅颗粒可以是使用诸如水玻璃和烷氧基硅烷之类的硅化合物作为原料而制备的颗粒，或者可以是通过对石英进行粉碎而获得的颗粒。
另外，从二氧化硅颗粒的分散性的角度看，优选对二氧化硅颗粒的表面进行疏水化处理。例如，通过在二氧化硅颗粒表面上连接烷基基团从而将二氧化硅颗粒疏水化。基于这一原因，(例如)可使具有烷基基团的已知有机硅化合物作用于二氧化硅颗粒。后面将对疏水化处理方法的细节进行说明。
上述的平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒(下文也称为“特定二氧化硅颗粒”)的添加量优选为调色剂颗粒总重量的0.3质量％至15质量％、更优选为0.5质量％至10质量％。
对所述特定二氧化硅颗粒的制备方法没有特别限制，只要该方法可获得平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的二氧化硅颗粒即可。例如，可通过如下方法制备特定二氧化硅颗粒：使用水玻璃作为原料从而获得氧化硅溶胶的方法；或所谓的湿式法，在该方法中，使用由烷氧基硅烷为代表的硅化合物作为原料并通过溶胶-凝胶法来形成颗粒。
然而，对于通过煅烧二氧化硅然后进行粉碎和分级而制得二氧化硅颗粒的干法的方法，一般来说这种二氧化硅颗粒的比重会超过1.9，因此从比重的角度来看，不能制得特定二氧化硅颗粒。另一方面，对于使用由烷氧基硅烷为代表的硅化合物作为原料并通过溶胶-凝胶法来形成颗粒的方法，会在二氧化硅颗粒中形成空隙，从而易于获得比重为1.0至1.9且平均粒径为70nm至400nm的二氧化硅颗粒。
此外，由于特定二氧化硅颗粒为平均圆度不超过0.9的异形二氧化硅颗粒，因此为了制得在调色剂颗粒表面上具有呈如此形状的特定二氧化硅颗粒的调色剂，优选的是采用包括如下步骤的二氧化硅颗粒制备方法。
本发明示例性实施方案的二氧化硅颗粒制备方法包括如下步骤：在含醇溶剂中制备碱性催化剂溶液的步骤，该碱性催化剂溶液中含有浓度为0.6摩尔/升至0.85摩尔/升的碱性催化剂(该步骤也称为“碱性催化剂溶液制备步骤”)；以及向该碱性催化剂溶液中供给四烷氧基硅烷，并且还供给碱性催化剂以获得二氧化硅颗粒(特定二氧化硅颗粒)的步骤，其中四烷氧基硅烷相对于醇的供给量为0.002摩尔/(摩尔·分钟)至0.009摩尔/(摩尔·分钟)，碱性催化剂的供给量相对于每摩尔的每分钟所供给的四烷氧基硅烷的总供给量为0.1摩尔至0.4摩尔(该步骤也称为“二氧化硅颗粒形成步骤”)。
即，在本发明示例性实施方案的二氧化硅颗粒制备方法中，在含有上述浓度的碱性催化剂的醇的存在下，分别按照前述关系供给作为原料的四烷氧基硅烷以及单独作为催化剂的碱性催化剂，由此使四烷氧基硅烷反应。从而形成了特定二氧化硅颗粒。
在本发明示例性实施方案的二氧化硅颗粒制备方法中，可通过上述技术获得平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的异形特定二氧化硅颗粒。尽管其原因尚未明确，但据认为是由如下原因造成的。
首先，当在含醇溶剂中制备含有碱性催化剂的碱性催化剂溶液，并在该溶液中分别供给四烷氧基硅烷和碱性催化剂时，向碱性催化剂溶液中供给的四烷氧基硅烷发生反应并形成核颗粒。此时，当碱性催化剂溶液中的碱性催化剂浓度落入上述范围内时，据认为在抑制了粗凝集体(例如，二次凝集体)形成的同时形成了异形核颗粒。据认为其原因如下，除了催化作用外，碱性催化剂还具有配位至将要形成的核颗粒表面的作用，由此有助于核颗粒的形状及分散稳定性，当碱性催化剂的量位于上述范围内时，碱性催化剂并不均匀地覆盖核颗粒的表面(即，碱性催化剂不均匀地分布且附着在核颗粒表面上)，因此在维持核颗粒分散稳定性的同时，导致核颗粒的表面张力及化学亲和性的部分偏差，由此形成了异形核颗粒。
这里，据认为四烷氧基硅烷的供给量与二氧化硅颗粒的粒度分布或平均圆度相关。据认为通过将四烷氧基硅烷的供给量控制为0.002摩尔/(摩尔·分钟)至0.009摩尔/(摩尔·分钟)，在颗粒生长阶段四烷氧基硅烷与核颗粒之间的接触可能性提高以及四烷氧基硅烷无偏差地被供给至核颗粒之前，可引发四烷氧基硅烷和核颗粒之间的反应。即，据认为四烷氧基硅烷和核颗粒之间的反应发生偏差。这样，据认为加大了将四烷氧基硅烷供给至核颗粒的偏差，从而使得颗粒生长分散。
顺带提及，据认为二氧化硅颗粒的平均粒径取决于四烷氧基硅烷的总供给量。
鉴于上述情况，在本发明示例性实施方案的二氧化硅颗粒制备方法中，据认为获得了粗凝集体的生成较少、并且平均粒径为70nm至400nm、比重为1.0至1.9且平均圆度为0.5至0.9的异形的特定二氧化硅颗粒。
通过使由上述方法获得的特定二氧化硅颗粒附着在调色剂颗粒的表面，可制得本发明示例性实施方案的调色剂，在该调色剂中，二氧化硅颗粒在调色剂颗粒上的不均匀分布得到抑制。
此外，在本发明示例性实施方案的二氧化硅颗粒制备方法中的碱性催化剂溶液制备步骤和二氧化硅颗粒形成步骤(这两个步骤也可统称为“特定二氧化硅颗粒制备步骤”)中，据认为形成了异形形状的核颗粒，并且可在保持该异形形状的同时使核颗粒生长，从而形成二氧化硅颗粒。因此据认为获得了具有能够抵抗机械负荷的高形状稳定性的异形二氧化硅颗粒。
另外，在特定二氧化硅颗粒制备步骤中，据认为在所形成的具有异形形状的核颗粒保持其异形形状的状态下使得颗粒生长，由此获得了二氧化硅颗粒。因此，据认为获得了能够很好地抵抗机械负荷且难以发生破损的二氧化硅颗粒。
此外，在本发明的特定二氧化硅颗粒制备方法中，是通过将四烷氧基硅烷和碱性催化剂都供给至碱性催化剂溶液中并使四烷氧基硅烷发生反应从而进行颗粒的形成，因此与仅通过溶胶-凝胶法制备异形形状的二氧化硅颗粒的情况相比，碱性催化剂的总用量小，从而可省略除去碱性催化剂的步骤。在将二氧化硅颗粒应用到要求高纯度的产品时，这是尤其有利的。
-碱性催化剂溶液制备步骤-
首先对碱性催化剂溶液的制备步骤进行描述。
在碱性催化剂溶液的制备步骤中，先制备含醇溶剂，随后向其中加入碱性催化剂以制备碱性催化剂溶液。
含醇溶剂可为仅由醇构成的溶剂，或者根据需要可为醇与其他溶剂构成的混合溶剂，所述其他溶剂例如为：水；酮(如丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮等)；溶纤剂(如甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙酸溶纤剂等)；以及醚(如二烷、四氢呋喃等)。
在为混合溶剂的情况中，比较好的是，醇相对于其他溶剂的量为80质量％或更高(有利的是，为90质量％或更高)。
顺带提及，醇的例子包括诸如甲醇和乙醇之类的低级醇。
同时，碱性催化剂为用于加速四烷氧基硅烷的反应(例如，水解反应或缩合反应)的催化剂，其例子包括碱性催化剂，如氨、脲、一元胺和季铵盐。其中，氨是尤其有利的。
碱性催化剂的浓度(含量)为0.6摩尔/升至0.85摩尔/升，优选为0.63摩尔/升至0.78摩尔/升，更优选为0.66摩尔/升至0.75摩尔/升。
当碱性催化剂的浓度低于0.6摩尔/升时，在核颗粒生长过程中所形成的核颗粒的分散性不稳定，从而可能会出现诸如形成二次凝集体之类的粗凝集体的不利情况，或者会发生凝胶化，由此使粒度分布劣化。
另一方面，当碱性催化剂的浓度超过0.85摩尔/升时，所形成的核颗粒的稳定性过高，这样会形成真球形的核颗粒，从而难以获得平均圆度不超过0.85的异形形状的核颗粒。因此，难以获得具有异形形状的特定二氧化硅颗粒。
顺带提及，碱性催化剂的浓度为相对于碱性催化剂溶液(碱性催化剂+含醇溶剂)的浓度。
-二氧化硅颗粒形成步骤-
下面将对二氧化硅颗粒形成步骤进行描述。
二氧化硅颗粒形成步骤为这样的步骤：将四烷氧基硅烷和碱性催化剂均供给到催化剂溶液中，以使四烷氧基硅烷在碱性催化剂溶液中发生反应(例如，水解反应或缩合反应)，由此形成二氧化硅颗粒。
在该颗粒形成步骤中，在开始供给四烷氧基硅烷时，通过四烷氧基硅烷的反应形成了核颗粒(核颗粒形成阶段)，随后通过该核颗粒的生长形成了二氧化硅颗粒(核颗粒生长阶段)。
供给到碱性催化剂溶液中的四烷氧基硅烷的例子包括四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷和四丁氧基硅烷。然而，从反应速度的可控性、所获得的二氧化硅颗粒的形状、粒径和粒度分布等方面来看，四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷是有利的。
相对于碱性催化剂溶液中的醇，四烷氧基硅烷的供给量为0.002摩尔/(摩尔·分钟)至0.009摩尔/(摩尔·分钟)。
这表明，相对于碱性催化剂溶液制备步骤中所用的一摩尔的醇，四烷氧基硅烷每分钟的供给量为0.002摩尔至0.009摩尔。
通过使四烷氧基硅烷的供给量落入上述范围内，易于以高比例(例如，以个数计为95％或更高)形成平均圆度为0.5至0.9的异形二氧化硅颗粒。
顺带提及，尽管二氧化硅颗粒的粒径随四烷氧基硅烷的种类或反应条件的不同而改变，但是(例如)可通过将用于颗粒形成反应的四烷氧基硅烷的总供给量控制为相对于每升二氧化硅颗粒分散液是1.08摩尔或更高，便可获得粒径为100nm或更高的一次颗粒；而通过将用于颗粒形成反应的四烷氧基硅烷的总供给量控制为相对于每升二氧化硅颗粒分散液为小于或等于5.49摩尔，便可获得粒径不超过500nm的一次颗粒。
当四烷氧基硅烷的供给量小于0.002摩尔/(摩尔·分钟)时，则逐滴加入的四烷氧基硅烷与核颗粒间的接触可能性大大降低。然而，这样会花费很长的时间才能完成全部供给量的四烷氧基硅烷的逐滴加入，生产效率差。
当四烷氧基硅烷的供给量高于0.009摩尔/(摩尔·分钟)时，四烷氧基硅烷的供给量相对于核颗粒形成阶段中四烷氧基硅烷相互间的反应而言过高，或者其供给量相对于颗粒生长步骤中四烷氧基硅烷与核颗粒间的反应而言过高，因此反应体系易于发生凝胶化，从而阻碍了核颗粒的形成和颗粒的生长。
四烷氧基硅烷的供给量优选为0.002摩尔/(摩尔·分钟)至0.0085摩尔/(摩尔·分钟)，更优选为0.002摩尔/(摩尔·分钟)至0.0080摩尔/(摩尔·分钟)。
同时，供给到碱性催化剂溶液中的碱性催化剂的例子包括上面所列举的那些。尽管所供给的碱性催化剂可与碱性催化剂溶液中事先所包含的碱性催化剂相同或不同，但是使用相同种类的碱性催化剂更好。
相对于每摩尔的每分钟所供给的四烷氧基硅烷的总供给量，碱性催化剂的供给量为0.1摩尔至0.4摩尔，优选为0.14摩尔至0.35摩尔，更优选为0.18摩尔至0.30摩尔。
当相对于每摩尔的每分钟所供给的四烷氧基硅烷的总供给量，碱性催化剂的供给量小于0.1摩尔时，在已形成的核颗粒生长过程中形成的核颗粒的分散性变得不稳定，因此可能会出现形成诸如二次凝集体之类的粗凝集体，或发生凝胶化，从而使粒径分布劣化这样的情况。
另一方面，当碱性催化剂的供给量超过0.4摩尔时，所形成的核颗粒的稳定性过高，因此可能出现这样的情况：即使在核颗粒形成阶段中形成了异形形状的核颗粒，在核颗粒生长阶段中该核颗粒也会生长成为球形，因此不能获得具有异形形状的二氧化硅颗粒。
这里，在二氧化硅颗粒形成步骤中，将四烷氧基硅烷和碱性催化剂均供给至碱性催化剂溶液中。供给方法可为连续供给模式或交替供给模式。
此外，在二氧化硅颗粒形成步骤中，碱性催化剂溶液的温度(供给时的温度)可为(例如)5℃至50℃，优选为15℃至40℃。
通过上述步骤获得了特定二氧化硅颗粒。尽管在该状态下获得的特定二氧化硅颗粒是以分散液的状态获得的，但是可将其直接用作二氧化硅颗粒分散液，或者在除去溶剂之后将二氧化硅颗粒取出并作为二氧化硅颗粒粉末使用。
在将二氧化硅颗粒用作二氧化硅颗粒分散液时，可根据需要用水或醇进行稀释或加以浓缩，从而调节二氧化硅颗粒的固体浓度。此外，可利用水溶性有机溶剂(例如，其他的醇、酯和酮)对二氧化硅颗粒分散液进行溶剂替换从而加以使用。
当将二氧化硅颗粒作为粉末使用时，需要从二氧化硅颗粒分散液中除去溶剂。除去二氧化硅颗粒分散液中的溶剂的方法的例子包括如下已知方法，例如：(1)在借助于过滤、离心、蒸馏等手段除去溶剂后，利用真空干燥器、盘式干燥器等进行干燥的方法；以及(2)利用流化层干燥器、喷雾干燥器等将浆料直接干燥的方法。尽管对干燥温度没有特别的限制，但是有利的是，干燥温度不超过200℃。当干燥温度高于200℃时，会因残留在二氧化硅颗粒表面上的硅烷醇基团的缩合反应而容易导致一次颗粒之间彼此结合，或者粗颗粒的形成。
更好的做法是，根据需要将干燥后的二氧化硅颗粒粉碎过筛，从而除去粗颗粒或凝集体。对粉碎方法没有特别的限制，例如，可通过干式粉碎机(例如，喷磨机、振动磨机、球磨机和针磨机)进行粉碎。筛分方法(例如)利用诸如振动筛和风力筛之类的已知设备来进行。
可利用疏水化处理剂对通过特定二氧化硅颗粒制备步骤获得的特定二氧化硅颗粒表面进行疏水化处理，然后使用该二氧化硅颗粒。
疏水化处理剂的例子包括已知的具有烷基(例如，甲基、乙基、丙基、丁基等)的有机硅化合物。其具体例子包括硅氮烷化合物(例如，六甲基二硅氮烷、四甲基二硅氮烷等)以及硅烷化合物(例如，甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、三甲基氯硅烷以及三甲基甲氧基硅烷等)。疏水化处理剂可单独使用，或以多种组合的方式使用。
在这些疏水化处理剂中，具有三甲基结构的有机硅化合物(例如三甲基甲氧基硅烷和六甲基二硅氮烷)是适合的。
尽管对疏水化处理剂的用量没有特别限制，但是为了获得疏水化效果，其用量为(例如)特定二氧化硅颗粒的1质量％至100质量％，优选为5质量％至80质量％。
对于获得已利用疏水化处理剂进行疏水化处理后的疏水性二氧化硅颗粒分散液的方法，其例子包括如下方法：向特定二氧化硅颗粒分散液中加入所需量的疏水化处理剂，并在搅拌情况下使该混合物于30℃至80℃下反应，从而对特定二氧化硅颗粒进行疏水化处理，获得了疏水性二氧化硅颗粒分散液。当该反应温度低于30℃时，疏水化反应难以进行，而当反应温度超过80℃时，则可能出现以下情况：因疏水化处理剂的自身缩合而造成分散液凝胶化，或者氧化硅颗粒间易于发生凝集。
此外，获得粉末状疏水性二氧化硅颗粒的方法的例子包括如下方法：通过上述方法获得疏水性二氧化硅颗粒分散液，随后通过前述方法加以干燥，由此获得疏水性二氧化硅颗粒粉末的方法；将二氧化硅颗粒分散液干燥以获得亲水性二氧化硅颗粒粉末，随后通过加入疏水化处理剂对其进行疏水处理，由此获得疏水性二氧化硅颗粒粉末的方法；以及，在获得疏水性二氧化硅颗粒分散液后，将该疏水性二氧化硅颗粒分散液干燥以获得疏水性二氧化硅颗粒，随后通过加入疏水化处理剂以进行疏水化处理，从而获得疏水性二氧化硅颗粒的方法。
这里，对粉末状的特定氧化硅颗粒进行疏水化处理的方法的例子包括这样的方法：在诸如Henschel混合机和流化床之类的处理罐中对粉末状的亲水性氧化硅颗粒进行搅拌，向其中加入疏水化处理剂，并将处理罐内部加热以使疏水化处理剂气化，从而使疏水化处理剂与粉末状的特定二氧化硅颗粒表面上的硅烷醇基团反应。尽管对处理温度没有特别限制，但是其温度可为(例如)80℃至300℃，优选为120℃至200℃。
可使除了特定二氧化硅颗粒外的其他外部添加剂附着在调色剂颗粒上。
除了特定二氧化硅颗粒外的其他外部添加剂的例子包括无机颗粒，如氧化铝、氧化钛、钛酸钡、钛酸镁、钛酸钙、钛酸锶、氧化锌、硅砂、粘土、云母、硅灰石、硅藻土、氧化铬、氧化铈、铁红、三氧化二锑、氧化镁、氧化锆、硫酸钡、碳酸钡、碳酸钙、碳化硅和氮化硅。此外，也可使用诸如氟碳树脂和硅树脂之类的树脂颗粒，以及由硬脂酸锌所代表的高级脂肪酸的金属盐。
除了特定二氧化硅颗粒外的其他外部添加剂的添加量可以为调色剂颗粒总质量的0.3质量％至3.0质量％。
下面，对本发明示例性实施方案的调色剂的制备方法进行描述。
先制备调色剂颗粒，然后将作为外部添加剂的特定二氧化硅颗粒从外部加入到调色剂颗粒中，从而获得本发明示例性实施方案的调色剂。
尽管作为调色剂颗粒的制备方法，可以列举捏合粉碎法和湿式造粒法，但是优选通过湿式造粒法来制备调色剂颗粒。湿式造粒法的例子包括已知方法，如熔融悬浮法、乳液凝集/聚结法和溶解悬浮法。
作为将外部添加剂从外部添加至所获得的调色剂颗粒中的方法，可以列举通过已知混合机(例如，V型共混机、Henschel混合机或Loedige混合机)进行混合的方法。
<静电图像显影剂>
本发明示例性实施方案的静电图像显影剂至少含有本发明示例性实施方案的调色剂。
本发明示例性实施方案的静电图像显影剂可为仅含有本发明示例性实施方案的调色剂的单组分显影剂，或者可为含有该调色剂以及载体的混合物的双组分显影剂。
对载体没有特别的限制，可以列举已知的载体。载体的例子包括树脂包覆的载体、磁性分散型载体以及树脂分散型载体。
在双组分显影剂中，本发明示例性实施方案的调色剂与载体的混合比(质量比)，以调色剂与载体之比来表示，优选为约1/100至约30/100，更优选为约3/100至约20/100。
<成像装置及成像方法>
下面将对本发明示例性实施方案的成像装置及成像方法进行描述，该成像装置及成像方法均使用了本发明示例性实施方案的调色剂。
本发明示例性实施方案的成像装置包括：静电潜像保持部件；充电单元，其用于对潜像保持部件的表面充电；静电潜像形成单元，其用于在静电潜像保持部件的表面上形成静电潜像；显影单元，其内部容纳有本发明示例性实施方案的静电图像显影剂，该显影单元利用该显影剂将形成于静电潜像保持部件表面上的静电潜像显影以形成调色剂图像；转印单元，其用于将调色剂图像转印至记录介质上；以及定影单元，其用于将调色剂图像定影至记录介质上。
根据本发明示例性实施方案的成像装置，进行了包括如下步骤的成像方法，这些步骤为：对静电潜像保持部件的表面进行充电的充电步骤；在充电后的静电潜像保持部件表面上形成静电潜像的静电潜像形成步骤；使用本发明示例性实施方案的静电图像显影剂将形成于静电潜像保持部件表面上的静电潜像显影，从而形成调色剂图像的显影步骤；将调色剂图像转印至记录介质上的转印步骤；以及将调色剂图像定影至记录介质上的定影步骤。
当将电子照相用感光体用作静电潜像保持部件时，在根据本发明示例性实施方案的成像装置中的图像形成例如通过如下方式进行。首先，通过电晕管充电器、接触充电器等对电子照相用感光体的表面进行充电，随后曝光以形成静电潜像。随后，使静电潜像与其表面上形成有显影剂层的显影辊接触或接近，从而将调色剂附着在静电潜像上，以在电子照相用感光体上形成调色剂图像。利用电晕管充电器等将这样形成的调色剂图像转印至诸如纸之类的记录介质的表面上。此外，通过定影设备将已转印到记录介质表面上的调色剂图像定影，从而在记录介质上形成图像。
顺带提及，在本发明示例性实施方案的成像装置中，(例如)包含显影单元的部分可以是以可拆卸的方式与成像装置连接的盒结构(例如，调色剂盒、处理盒等)。
作为调色剂盒，(例如)适合采用其中容纳有本发明示例性实施方案的静电图像显影用调色剂的调色剂盒，该调色剂盒以可拆卸的方式与成像装置连接。
作为处理盒，(例如)适合采用其中容纳有本发明示例性实施方案的静电图像显影剂的处理盒，该处理盒设置有利用静电图像显影剂将形成于静电潜像保持部件表面上的静电潜像显影从而形成调色剂图像的显影单元，并且以可拆卸的方式与成像装置连接。
下面对本发明示例性实施方案的成像装置的例子进行描述，但不应认为本发明仅限于此。顺带提及，这里对附图中所示的主要部件进行了描述，而省略了其他部件的描述。
图1为示出四级串联模式的成像装置的示意性构造图，其为本发明示例性实施方案的成像装置的一个例子。图1中示出的成像装置具有第一至第四电子照相成像单元10Y、10M、10C和10K，它们根据分色的图像数据，分别输出黄色(Y)、品红色(M)、青色(C)和黑色(K)的图像。将这些成像单元(在下文中也简称为“单元”)10Y、10M、10C和10K在水平方向上以预定间隔并排布置。顺带提及，这些单元10Y、10M、10C和10K中的每一个均可以为与成像装置主体可拆卸地连接的处理盒。
如图所示，可以将中间转印带20设置为在单元10Y、10M、10C和10K的上方延伸的中间转印部件。如图所示，中间转印带20围绕着与中间转印带20的内表面接触的驱动辊22和支承辊24，其中驱动辊22和支承辊24在从图的左侧到图的右侧的方向上彼此分开。中间转印带20沿着从第一单元10Y向第四单元10K的方向转动。顺带提及，使用弹簧等(未示出)，在远离驱动辊22的方向上向支承辊24施加偏压，使得预定的张力被施加到环绕着支承辊24和驱动辊22的中间转印带20上。此外，在中间转印带20的图像保持部件一侧的表面上，设置有与驱动辊22相对的中间转印部件清洁器件30。
另外，将分别储存在调色剂盒8Y、8M、8C和8K中的黄色调色剂、品红色调色剂、青色调色剂和黑色调色剂这4种颜色的调色剂分别供给到单元10Y、10M、10C和10K的显影器件(显影单元)4Y、4M、4C和4K内。
前述第一至第四单元10Y、10M、10C和10K中的每一个都具有相同的构造。因此，作为代表，下面将描述形成黄色图像、并沿着中间转印带20的转动方向设置在上游侧的第一单元10Y。第一单元10Y中相对应的元件用黄色Y来表示，以相同的方式，可分别用品红色M、青色C和黑色K这些字母来指示第二至第四单元10M、10C和10K中的元件，因此，省略了对第二至第四单元10M、10C和10K的描述。
第一单元10Y包括起到潜像保持部件作用的感光体1Y。在感光体1Y的周围，按照下述顺序依次设置如下部件：充电辊2Y，用于将感光体1Y的表面充电至预定电位；曝光器件3，其基于分色的图像信号，通过使用激光束3Y对充电表面进行曝光以形成静电潜像；显影器件(显影单元)4Y，其通过将带电的调色剂提供到静电潜像上从而对该静电潜像进行显影；一次转印辊5Y(一次转印单元)，用于将显影后的调色剂图像转印到中间转印带20上；以及感光体清洁器件(清洁单元)6Y，用于在一次转印之后去除残留在感光体1Y表面上的调色剂。
顺带提及，将一次转印辊5Y设置在中间转印带20的内侧，并设置在与感光体1Y相对的位置处。此外，将各一次转印辊5Y、5M、5C和5K与用以向各一次转印辊施加一次转印偏压的偏压电源(图中未示出)连接。通过控制部分(未示出)来控制各偏压电源，使得可以改变将要施加到各一次转印辊上的转印偏压。
下面对在第一单元10Y中形成黄色图像的操作进行描述。在操作开始前，首先借助于充电辊2Y对感光体1Y的表面充电至约-600V至约-800V。
通过在导电基材(在20℃下的体积电阻率：小于或等于1×10-6Ωcm)上叠加感光层而形成感光体1Y。通常该感光层具有高电阻(常用树脂的电阻)，然而其具有这样的性质：在用激光束3Y对其进行照射时，被激光束照射的部分的比电阻会发生改变。然后，根据从控制部分(未示出)传送来的黄色图像数据，通过曝光器件3将激光束3Y输出到已充电的感光体1Y的表面上。激光束3Y照射在感光体1Y表面上的感光层上，使得具有黄色印刷图案的静电图像形成在感光体1Y的表面上。
本文所说的静电图像是指通过充电而在感光体1Y的表面上形成的图像，其为通过如下方式形成的所谓负潜像：通过用激光束3Y照射使感光层的被照射部分的比电阻降低，从而使感光体1Y的表面上的带电电荷释放出来，而未被激光束3Y照射的部分处的电荷仍然残留。
随着感光体1Y的运行，在感光体1Y上形成的静电图像旋转到预定的显影位置。随后在该显影位置处，使用显影器件4Y将感光体1Y上的静电图像转化为可见图像(调色剂图像)。
显影器件4Y容纳有(例如)本发明示例性实施方案的静电图像显影剂，该显影器件4Y至少储存有黄色调色剂和载体。
显影器件4Y储存有本发明示例性实施方案的黄色调色剂。在显影器件4Y中搅拌该黄色调色剂时，黄色调色剂摩擦带电，具有与感光体1Y上的带电电荷极性相同的极性(负极性)并保持在显影剂辊(显影剂保持部件)上。当感光体1Y的表面通过显影器件4Y时，黄色调色剂通过静电作用附着在感光体1Y表面上电荷被去除的潜像部分上，因此通过使用黄色调色剂使得潜像显影。使其上形成有黄色调色剂图像的感光体1Y以预定的速度继续运行，从而将在感光体1Y上显影的调色剂图像传送至预定的-次转印位置。
当位于感光体1Y上的黄色调色剂图像被传送至一次转印位置时，将预定的一次转印偏压施加到一次转印辊5Y，从而使方向为由感光体1Y至一次转印辊5Y的静电力作用于调色剂图像上，从而将感光体1Y上的调色剂图像转印至中间转印带20上。此时，所施加的转印偏压具有与调色剂的极性(负极性)相反的极性(正的)。例如，通过控制部分(未示出)将第一单元10Y控制为约+10μA。
同时，通过清洁器件6Y除去残留在感光体1Y上的调色剂并回收。
另外，与第一单元的一次转印偏压相似，控制分别施加到第二单元10M的一次转印辊5M以及随后的一次转印辊5C和5K上的一次转印偏压。
以这样的方式，将使用第一单元10Y而其上转印有黄色调色剂图像的中间转印带20依次传送通过第二至第四单元10M、10C和10K，使得各颜色的调色剂图像叠加从而实现多次转印。
中间转印带20(其中已通过第一至第四单元将四色调色剂图像多次转印在中间转印带20上)到达二次转印部分，该二次转印部分由中间转印带20、与中间转印带20内表面接触的支承辊24和设置在中间转印带20的图像保持表面侧上的二次转印辊(二次转印单元)26构成。同时，在预定时间将记录纸(转印接收材料)P从供给机构中供给到二次转印辊26与中间转印带20彼此按压接触的空隙中，并将预定的二次转印偏压施加到支承辊24上。此时，所施加的转印偏压的极性(负的)与调色剂的极性(也具有负极性)相同，并且方向为从中间转印带20向着记录纸P的静电力作用于调色剂图像上，从而将中间转印带20上的调色剂图像转印到记录纸P上。顺带提及，此时根据用于检测二次转印部分电阻的电阻检测单元(未示出)所测得的电阻来确定二次转印偏压，并对其电压进行控制。
随后，将记录纸P送至定影器件(辊状的定影单元)28中一对定影辊的压接部(咬合部)，并对调色剂图像进行加热，从而将其上叠加有各颜色的调色剂图像熔融并定影于记录纸P上。
其上转印有调色剂图像的转印接收材料的例子包括在电子照相系统的复印机和打印机等中使用的普通纸以及OHP纸。
为了在定影之后进一步提高图像表面的光滑度，优选的是，转印接收材料的表面尽可能光滑。例如，适合使用通过用树脂等涂覆普通纸的表面而获得的涂覆纸、印刷用的铜版纸等。
将完成了彩色图像的定影的记录纸P向着排出部分传送，从而一系列的彩色成像操作结束。
顺带提及，尽管上述列举的成像装置具有通过中间转印带20将调色剂图像转印至记录纸P上的构造，然而不应认为本发明局限于该构造，本发明也可以具有其中将调色剂图像直接从感光体转印至记录纸上的结构。
<处理盒和调色剂盒>
图2为示出处理盒的一个合适例子的示意性构造图，该处理盒用于容纳本发明示例性实施方案的静电图像显影剂。处理盒200包括一体化的充电辊108、显影器件111、感光体清洁器件113、用于曝光的开口部分118以及用于除电曝光的开口部分117，这些器件与感光体107一起利用安装用导轨116而组合在一起。顺带提及，图2中，参考数字300表示转印接收材料。
之后，将该处理盒200以可拆卸的方式连接到由转印器件112、定影器件115和其它组成部分(未示出)构成的成像装置上。
图2中示出的处理盒200配备有充电辊108、显影器件111、清洁器件113、用于曝光的开口部分118、以及用于除电曝光的开口部分117；然而，可以对这些器件进行选择性地组合。除了感光体107之外，本发明示例性实施方案的处理盒还可具有至少一个选自充电辊108、显影器件111、清洁器件(清洁单元)113、用于曝光的开口部分118和用于除电曝光的开口部分117中的部件。
下面将描述本发明示例性实施方案的调色剂盒。本发明示例性实施方案的调色剂盒为其中容纳有静电图像显影用调色剂的调色剂盒，该调色剂盒以可拆卸的方式连接到成像装置上。优选的是，所容纳的本发明静电图像显影用调色剂为调色剂盒体积的90％以上。
顺带提及，图1中所示成像装置为具有以下构造的成像装置，在该成像装置中以可拆可装的方式安装有调色剂盒8Y、8M、8C和8K，并且显影器件4Y、4M、4C和4K通过调色剂供给管(未示出)连接至与各显影器件(颜色)相对应的调色剂盒。此外，当调色剂盒中容纳的调色剂不足时，可替换调色剂盒。
例子
下面将根据以下实施例对本发明示例性实施方案进行更详细地描述，但应当理解的时，本发明示例性实施方案并不以任何方式局限于这些实施例。顺带提及，在下述描述中，除非另外指明，否则所有“份”和“百分比”分别为“质量份”和“质量％”。
[实施例1]
<调色剂的制备>
[调色剂颗粒的制备]
(聚酯树脂分散液的制备)
·乙二醇(由WakoPureChemicalIndustries生产)：37份
·新戊二醇(由WakoPureChemicalIndustries生产)：65份
·1，9-壬二醇(由WakoPureChemicalIndustries生产)：32份
·对苯二甲酸(由WakoPureChemicalIndustries生产)：96份
将上述单体置于烧瓶中；在一小时内升温至200℃；在证实了反应体系内部已被均匀搅拌后，向其中加入1.2份二丁基氧化锡。此外，在蒸馏除去所形成的水的同时，于6小时内将温度由200℃升至240℃，并在240℃下继续脱水缩合反应4小时，由此获得酸值为9.4mg-KOH/g、重均分子量为13,000且玻璃化转变温度为62℃的聚酯树脂。
接下来，将熔融态的聚酯树脂以100g/分钟的速率转移至CAVITRONCD1010(由Eurotec公司生产)中。将浓度为0.37质量％的稀氨水(其是通过用离子交换水稀释试剂氨水而得到的)置于另一单独预备的水性介质罐内，并通过热交换器于120℃下加热的同时，将该稀氨水以0.1L/分钟的速率与前述熔融聚酯树脂一起转移至前述CAVITRON中。使CAVITRON在转子的转速为60Hz且压力为5kg/cm2的条件下运转。
这样便获得了其中分散有树脂颗粒的非晶态聚酯树脂分散液，其中所述树脂颗粒的平均粒径为160nm、固体含量为30％、玻璃化转变温度为62℃且重均分子量Mw为13,000。
(着色剂分散液的制备)
·青色颜料[C.I.颜料蓝15:3，由DainichiseikaColor&ChemicalsMfg.公司生产]：10份
·阴离子表面活性剂[NEOGENSC，由Dai-ichiKogyoSeiyaku公司生产]：2份
·离子交换水：80份
将前述组分混合，并利用高压对撞分散机ULTIMAIZER(HJP30006，由SuginoMachineLimited生产)分散1小时，从而获得体均粒径为180nm且固体含量为20％的着色剂分散液。
(防粘剂分散液的制备)
·石蜡[HNP9，由NipponSeiro公司生产]：50份
·阴离子表面活性剂[NEOGENSC，由Dai-ichiKogyoSeiyaku公司生产]：2份
·离子交换水：200份
将前述组分在120℃下加热，利用IKA生产的ULTRA-TURRAXT50将所得混合物充分混合并分散。随后，使用压力排出型均质器对所得分散液继续进行分散处理，从而获得体均粒径为200nm且固体含量为20％的防粘剂分散液。
(调色剂颗粒(1)的制备)
·聚酯树脂分散液：200份
·着色剂分散液：25份
·聚合氯化铝：0.4份
·离子交换水：100份
将上述组分置于不锈钢烧瓶内，并利用IKA生产的ULTRA-TURRAX将其充分混合并分散。随后在搅拌烧瓶的同时，将所得分散液在油浴中加热至48℃。在48℃下保持30分钟，之后缓慢加入70份与上述相同的聚酯树脂分散液。
接下来，使用浓度为0.5摩尔/升的氢氧化钠水溶液将体系内的pH值调节为8.0，将不锈钢制烧瓶密封，搅拌轴的密封为磁力密封，在持续搅拌的同时将溶液加热至90℃，随后保持3小时。待反应结束后，将反应混合物以2℃/分钟的降温速率冷却，过滤并用离子交换水充分洗涤，随后利用Nutsche式抽滤进行固液分离。进一步将其分散在30℃的3L离子交换水中，并以300rpm的速度搅拌并洗涤15分钟。将该操作进一步重复6次，当滤液的pH值达7.54且导电率为6.5μS/cm时，用No.5A滤纸并通过Nutsche式抽滤进行固液分离。接下来，进行真空干燥12小时，由此获得调色剂颗粒(1)。
由Coulter计数器测定的调色剂颗粒(1)的体均粒径D50V为5.8μm，SF1为130。
[外部添加剂的制备)
(二氧化硅颗粒的制备)
-碱性催化剂溶液制备步骤[碱性催化剂溶液(1)的制备]-
在容积为3升且配备有搅拌叶、滴液嘴和温度计的玻璃反应容器内，投入600份甲醇和90份的10％氨水，将其搅拌混合以获得碱性催化剂溶液(1)。此时，碱性催化剂溶液(1)中的氨催化剂量，即NH3的量(NH3[摩尔]/(氨水+甲醇)[升])，为0.62摩尔/升。
-颗粒形成步骤[二氧化硅悬浮液(1)的制备]-
接下来，将碱性催化剂溶液(1)的温度调至45℃，并用氮气置换碱性催化剂溶液(1)。随后在以120rpm的转速搅拌碱性催化剂溶液(1)的条件下，同时开始逐滴加入300份四甲氧基硅烷(TMOS)和120份氨水(其中氨水中催化剂(NH3)的浓度为4.4％)，且四甲氧基硅烷与氨水的供给量如下。逐滴添加操作进行了20分钟，由此获得二氧化硅颗粒的悬浮液(二氧化硅颗粒悬浮液(1))。
这里，四甲氧基硅烷(TMOS)的供给量设定为15g/min，即，相对于碱性催化剂溶液(1)中甲醇的总摩尔数，其供给量为0.0053mol/(mol·min)。此外，相对于每分钟四烷氧基硅烷的总供给量，将4.44％的氨水的供给量设定为6.0g/min。这相当于相对于每摩尔的每分钟供给的四烷氧基硅烷的总供给量，氨水的供给量为0.159mol/min。
接下来，通过加热蒸馏从而蒸馏除去所得二氧化硅悬浮液(1)中的250g溶剂，并加入250g纯水。随后，通过冷冻干燥机将所得物干燥，由此获得具有异形形状的亲水性二氧化硅颗粒(1)。
-二氧化硅颗粒的疏水化处理-
接下来，将20g甲氧基三甲基硅烷加入到100g亲水性二氧化硅颗粒(1)中，并使该混合物在150℃下反应2小时，由此获得二氧化硅的表面经过疏水化处理的具有异形形状的疏水性二氧化硅颗粒[二氧化硅颗粒(1)]。
-二氧化硅颗粒的物理性质-
将所得疏水性二氧化硅颗粒(1)加入到调色剂颗粒(1)中，并对100个二氧化硅颗粒(1)的一次颗粒进行SEM照相。随后，对所得SEM照片进行图像分析。结果发现，二氧化硅颗粒(1)的一次颗粒为平均粒径(D50V)为150nm、平均圆度[100/SF2]为0.55的异形颗粒。
另外，通过如上所述的根据JIS-K-0061：92中5-2-1的方法来测定二氧化硅颗粒(1)的比重。
二氧化硅颗粒(1)的物理性质也示于表1中。
-调色剂的制备-
将0.4g二氧化硅颗粒(1)加入到20g所得调色剂颗粒(1)中，并在0.4L的样品磨中以15,000rpm的转速混合30秒，由此获得附着有疏水性二氧化硅颗粒(1)的调色剂(1)。
<评价>
将所得调色剂(1)和载体以调色剂(1)与载体之比为5/95(质量比)的比例投入到V型混合机中，将混合物搅拌20分钟，由此获得显影剂(1)。
顺带提及，这里所用的载体是通过如下方式制得的。
-载体-
将1,000份Mn-Mg铁素体(体均粒径：50μm，形状因子SF1：120，由Powdertech有限公司生产)放入捏合机中；加入通过将150份丙烯酸全氟辛基甲酯-甲基丙烯酸甲酯共聚物(聚合比：20/80，Tg：72℃，重均分子量：72,000，由SokenChemical&Engineering有限公司生产)溶于700份甲苯中而得到的溶液；在常温下混合20分钟，然后将混合物加热至70℃并减压干燥；之后取出干燥后的物质以得到涂覆载体。此外，将所得到的涂覆载体用75μm网孔的筛网过筛以除去粗粉末，从而得到载体。发现该载体的形状因子SF1为122。
将所得显影剂(1)填充在成像装置DocuCentreColor400的改装机(由FujiXerox株式会社生产)的显影器中，并对色斑加以评价。结果示于表1中。
-色斑的评价-
关于色斑的评价，在高温高湿环境(30℃、85％RH)下输出10,000张面积覆盖率为20％的图像，随后输出100张面积覆盖率为100％的全图像，由此计算出图像区域中有色斑形成的张数。
[实施例2至8和比较例1至5]
按照与调色剂(1)的制备相同的方式来制备实施例2至8的调色剂(2)至(8)和比较例1至5的调色剂(101)至(105)，不同之处在于：将从外部添加至调色剂颗粒(1)中的二氧化硅颗粒(1)分别改为二氧化硅颗粒(2)至(8)和二氧化硅颗粒(101)至(105)。
按照与二氧化硅颗粒(1)相同的方式，检测所得二氧化硅颗粒(2)至(8)和二氧化硅颗粒(101)至(105)的物理性质。
通过图像分析方式获得的各一次颗粒的平均粒径(D50V)、平均圆度[100/SF2]和比重示于表1中“二氧化硅颗粒”下的“物理性质”一栏中。
此外，按照与显影剂(1)的制备相同的方式来制备显影剂(2)至(8)和显影剂(101)至(105)，不同之处在于：分别用调色剂(2)至(8)和调色剂(101)至(105)取代调色剂(1)。
按照与实施例1相同的方式进行色斑评价，不同之处在于分别使用了显影剂(2)至(8)和显影剂(101)至(105)。
实施例2至8以及比较例1至5中所用的二氧化硅颗粒(2)至(8)和二氧化硅颗粒(101)至(105)分别按照如下方式制备。
首先，对二氧化硅颗粒(2)至(8)和二氧化硅颗粒(103)至(105)的制备方法进行描述。
-二氧化硅颗粒(2)至(8)和二氧化硅颗粒(103)至(105)的制备-
按照与碱性催化剂溶液(1)相同的方式制备碱性催化剂溶液(2)至(8)和碱性催化剂溶液(103)至(105)，不同之处在于：将“600g”的甲醇改为表1中“添加组分”下“甲醇”的“质量(g)”一栏中示出的量；并且将“90g”的10％氨水改为表1中“添加组分”下“10％氨水”的“质量(g)”一栏中示出的量。
制备后各碱性催化剂溶液(2)至(8)和碱性催化剂溶液(103)至(105)中催化剂的量“NH3量”示于表1中“添加组分”下“10％氨水”的“NH3量[摩尔/L]”一栏中。
接下来，按照与二氧化硅颗粒悬浮液(1)相同的方式制备二氧化硅颗粒悬浮液(2)至(8)和二氧化硅颗粒悬浮液(103)至(105)，不同之处在于：分别使用碱性催化剂溶液(2)至(8)和碱性催化剂溶液(103)至(105)来取代碱性催化剂溶液(1)；并且将加入到碱性催化剂溶液中的四甲氧基硅烷的量和供给量以及加入到碱性催化剂溶液中的氨水的催化剂浓度、量及供给量分别改为表1中所示的量。
具体而言，关于加入到碱性催化剂溶液中的四甲氧基硅烷的量和供给量，将“300g”的四甲氧基硅烷的量改为表1中“总添加量”下“TMOS”的“质量(g)”一栏中示出的量；并且将四甲氧基硅烷的供给量“15g/min”改为表1中“供给量[g/分钟]”下“TMOS”一栏中的量。
关于添加至碱性催化剂溶液中的催化剂含量、氨水的量和供给量，将“4.44％”的氨水中催化剂的浓度改为表1中“总添加量”下“氨水”的“NH3浓度[％]”一栏中示出的量；将“120g”的氨水量改为表1中“总添加量”下“氨水”的“质量[g]”一栏中示出的量；并将“6g/分钟”的氨水供给量改为表1中“供给量[g/min]”下“氨水”一栏中示出的量。
这里，在表1中“供给量(相对量)”下“NH3量[mol/min](相对于TMOS)”一栏中示出了如下量，该量是加入到各碱性催化剂溶液(2)至(8)和碱性催化剂溶液(103)至(105)中的氨水催化剂的供给量，并且是相对于每摩尔的每分钟所供给的四烷氧基硅烷的总供给量的量。
另外，在表1中“供给量(相对量)”下“TMOS量[mol/(mol·min)](相对于甲醇)”一栏中示出了如下量，该量是加入到各碱性催化剂溶液(2)至(8)和碱性催化剂溶液(103)至(105)中的四烷氧基硅烷(TMOS)的供给量，并且是相对于各碱性催化剂溶液(2)至(8)和碱性催化剂溶液(103)至(105)中每摩尔甲醇的量。
对于所得到的各二氧化硅颗粒悬浮液(2)至(8)和二氧化硅颗粒悬浮液(103)至(105)，蒸馏除去溶剂，并按照与二氧化硅颗粒悬浮液(1)相同的方式对残余物进行干燥，由此获得亲水性二氧化硅颗粒(2)至(8)和亲水性二氧化硅颗粒(103)至(105)。
接下来，按照与实施例1相同的方式对各亲水性二氧化硅颗粒(2)至(8)和亲水性二氧化硅颗粒(103)至(105)进行疏水化处理，由此获得疏水性二氧化硅颗粒(2)至(8)和疏水性二氧化硅颗粒(103)至(105)。
-二氧化硅颗粒(101)的制备-
使用空气分级机对100g的市售二氧化硅颗粒AEROSIL#50(由NipponAerosil公司生产)进行分级，由此制得二氧化硅颗粒(101)。
-二氧化硅颗粒(102)的制备-
使用空气分级机对100g的市售二氧化硅颗粒TG-C122(由CabotCorporation生产)进行分级，由此获得二氧化硅颗粒(102)。
从上述结果可看出，与比较例相比，根据本发明的实施例，即使在高温高湿环境下持续输出低图像密度的图像(10,000张)之后，所输出的图像中也几乎不会产生色斑。
虽然已经参照本发明的某些示例性实施方案示出并且描述了本发明，但是本领域技术人员应当理解，可在不偏离由所附权利要求限定的本发明的精神和范围的条件下对其进行各种更改。

Claims (17)

1.一种静电图像显影用调色剂，包含：
含有着色剂和粘结剂树脂的调色剂颗粒；以及
位于所述调色剂颗粒上的外部添加剂，
其中所述外部添加剂含有二氧化硅颗粒，
所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均粒径为70nm至400nm，比重为1.0至1.9并且平均圆度为0.5至0.9。
2.根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂，
其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
3.根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂，
其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
4.根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂，
其中所述调色剂颗粒的形状因子SF2为105至130。
5.根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂，
其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均粒径为100nm至350nm。
6.一种静电图像显影剂，包含：
根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂；以及
载体。
7.根据权利要求6所述的静电图像显影剂，
其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
8.根据权利要求6所述的静电图像显影剂，
其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
9.一种调色剂盒，其中容纳有根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂。
10.根据权利要求9所述的调色剂盒，
其中所容纳的根据权利要求1所述的静电图像显影用调色剂的体积为所述调色剂盒体积的90体积％或更大。
11.一种处理盒，包括显影单元，该显影单元借助于静电图像显影剂将形成于潜像保持部件表面上的静电潜像显影，以形成调色剂图像，并且所述显影单元中容纳有根据权利要求6所述的静电图像显影剂。
12.一种成像装置，包括：
静电潜像保持部件；
充电单元，其对所述静电潜像保持部件的表面进行充电；
静电潜像形成单元，其在所述静电潜像保持部件的表面上形成静电潜像；
显影单元，其内部容纳有根据权利要求6所述的静电图像显影剂，该显影单元借助于所述静电图像显影剂将形成于所述静电潜像保持部件表面上的所述静电潜像显影，以形成调色剂图像；
转印单元，其将所述调色剂图像转印至记录介质上；以及
定影单元，其将所述调色剂图像定影于所述记录介质上。
13.根据权利要求12所述的成像装置，
其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
14.根据权利要求12所述的成像装置，
其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
15.一种成像方法，包括：
对静电潜像保持部件的表面进行充电；
在所述充电后的静电潜像保持部件的表面上形成静电潜像；
使用根据权利要求6所述的静电图像显影剂将形成于所述静电潜像保持部件表面上的静电潜像显影，从而形成调色剂图像；
将所述调色剂图像转印至记录介质上；以及
将所述调色剂图像定影在所述记录介质上。
16.根据权利要求15所述的成像方法，
其中所述二氧化硅颗粒的一次颗粒的平均圆度为0.5至0.8。
17.根据权利要求15所述的成像方法，
其中所述调色剂颗粒的形状因子SF1为125至140。
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