CN101835718B - 基板用玻璃组合物及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明通过在确保作为FPD用基板、尤其是PDP用基板的特性和品质的同时降低高温粘度,从而提供生产性优良的基板用玻璃组合物。基板用玻璃组合物的特征在于,以氧化物基准的质量%表示,作为玻璃主要组成,含有SiO2:55~75%、Al2O3:5~15%、MgO:4~18%、CaO:3~12%、SrO:4~18%、BaO:0~20%、Na2O+K2O:6~20%、ZrO2:0.5~6%、MgO+CaO+SrO+BaO:18~25%,且含有SO3:0.001~0.6%,将粘度设为η时,满足logη=2的温度在1545℃以下,失透温度低于满足logη=4的温度,热膨胀系数为75×10-7~90×10-7/℃,比重在2.8以下,玻璃化温度在600℃以上。
Description
技术领域
本发明涉及作为平板显示器(以下简称为FPD)用基板或太阳能电池用基板、尤其是等离子体显示面板(以下简称为PDP)用基板有用,且适合于通过浮法来制造大板的基板用玻璃组合物及其制造方法。
背景技术
以往,PDP一般通过在基板玻璃上以550~600℃左右的温度对金属电极、绝缘糊料、阻挡肋(rib)糊料等进行烧成后,将对向板及其周围熔接密封而制得。一直以来,通常使用被广泛用于建筑或汽车领域的钠钙玻璃作为PDP基板用玻璃。
但是,钠钙玻璃的玻璃化温度为530~560℃,因此如果在上述烧成温度下经受热处理,则基板玻璃发生变形或收缩,尺寸有明显变化,所以存在难以以高精度实现与对向板的电极对位的课题。
为了解决该基板玻璃的热变形或热收缩的问题,已知热膨胀系数与钠钙玻璃接近且玻璃化温度、应变点高的基板用玻璃组合物(参照专利文献1)。
但是,专利文献1中记载的基板用玻璃组合物与钠钙玻璃相比,高温下的玻璃粘度高。因此,必须提高在基板玻璃制造时所实施的各工序(熔化工序、澄清工序、成形工序)的温度,即玻璃熔化温度、澄清温度及成形温度,产生难以稳定地进行生产、对制造设备的使用寿命造成不良影响、基板玻璃的制造成本升高的问题。
因此,基于玻璃的稳定生产、制造设备的使用寿命延长等提高玻璃生产性、降低成本等理由,要求降低玻璃的高温粘度。
但是,仅降低了高温粘度的玻璃组成并不能够满足PDP用基板玻璃所要求的特性。即,无法使基板用玻璃组合物的比重、玻璃化温度、耐化学性、介电常数、体积电阻率、折射率、热膨胀率、应变点、强度(例如破坏韧性)、耐损伤性(例如裂纹萌生负荷(crack initiation load))等特性处于作为PDP用玻璃基板所应满足的范围内。
此外,如果通过制成降低了高温粘度的玻璃组成而使澄清工序的温度降低,则澄清剂的效果减弱,对作为FPD用基板玻璃、尤其是PDP用基板玻璃的泡品质造成影响。制造基板用玻璃组合物时,为使玻璃中的泡(气泡)减少,通常使用SO3作为澄清剂。SO3以碱土金属的硫酸盐的形式被添加入玻璃原料。然后,SO3在熔融玻璃中分解产生SO2气体。该SO2气体与存在于熔融玻璃中的气泡一起上浮,从而促进澄清作用。但是,制成降低了玻璃的高温粘度的组成而使澄清工序的温度降低的情况下,不易发生熔融玻璃中的SO3的分解,澄清剂的效果减弱。
专利文献1:日本专利特开平8-165138号公报
发明的揭示
为解决上述问题,本发明的目的在于通过在确保作为FPD用基板或太阳能电池用基板、尤其是PDP用基板的特性和品质的同时降低高温粘度,从而提供生产性优良的基板用玻璃组合物及其制造方法。
为达到上述目的,本发明提供一种基板用玻璃组合物,其特征在于,以氧化物基准的质量%表示,作为玻璃主要组成,含有
SiO2 55~75%
Al2O3 5~15%
MgO 4~18%
CaO 3~12%
SrO 4~18%
BaO 0~20%
Na2O+K2O 6~20%
ZrO2 0.5~6%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%,
且含有
SO3 0.001~0.6%,
将粘度设为η时,满足logη=2的温度在1545℃以下,失透温度在满足logη=4的温度以下,热膨胀系数为75×10-7~90×10-7/℃,比重在2.8以下,玻璃化温度在600℃以上。
较好的是本发明的基板用玻璃组合物以氧化物基准的质量%表示,作为玻璃主要组成,含有
SiO2 55~70%
Al2O3 5~10%
MgO 4~10%
CaO 3~8%
SrO 4~13%
BaO 0~11%
Na2O+K2O 6~15%
ZrO2 0.5~4%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%,
且含有
SO3 0.01~0.4%。
较好的是本发明的基板用玻璃组合物中,相对于玻璃主要组成原料添加以SO3换算为0.5~10质量%的硫酸盐而制成玻璃原料、将该玻璃原料于1350℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量(%)与将该玻璃原料于1500℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量(%)之差在0.17以上。
此外,较好的是本发明的基板用玻璃组合物的破坏韧性在0.7MPa·m1/2以上。
此外,较好的是本发明的基板用玻璃组合物的150℃下的体积电阻率在1011Ω·cm以上。
此外,本发明提供一种基板用玻璃组合物制造方法,该方法如下所述:按照获得以氧化物基准的质量%表示作为玻璃主要组成含有
SiO2 55~75%
Al2O3 5~15%
MgO 4~18%
CaO 3~12%
SrO 4~18%
BaO 0~20%
Na2O+K2O 6~20%
ZrO2 0.5~6%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%
的玻璃的条件调制原料,相对于该原料添加以SO3换算为0.5~10质量%的硫酸盐而制成玻璃原料,将该玻璃原料于1200~1400℃熔化后,于1400~1700℃澄清,通过浮法成形为平板玻璃,从而获得所述基板用玻璃组合物。
此外,本发明提供一种基板用玻璃组合物制造方法,该方法如下所述:按照获得以氧化物基准的质量%表示作为玻璃主要组成含有
SiO2 55~70%
Al2O3 5~10%
MgO 4~10%
CaO 3~8%
SrO 4~13%
BaO 0~11%
Na2O+K2O 6~15%
ZrO2 0.5~4%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%
的玻璃的条件调制原料,相对于该原料添加以SO3换算为0.5~10质量%的硫酸盐而制成玻璃原料,将该玻璃原料于1200~1400℃熔化后,于1400~1700℃澄清,通过浮法成形为平板玻璃,从而获得所述基板用玻璃组合物。
本发明的基板用玻璃组合物在确保作为FPD用基板或太阳能电池用基板、尤其是PDP用基板的特性的同时,高温粘度降低。藉此,可降低基板用玻璃组合物制造时所实施的各工序的温度,即熔化工序、澄清工序及成形工序(例如,通过浮法实施的成形工序)的温度。降低基板用玻璃组合物制造时所实施的各工序的温度具有生产性提高、生产容易、生产稳定、制造设备的使用寿命延长、基板用玻璃组合物的制造成本降低的优点。
而且,由于本发明的基板用玻璃组合物的澄清性优良,即澄清起始温度低,因此即使在降低了澄清工序的温度的情况下,也能很好地发挥澄清剂的效果。其结果是,可获得气泡数少的高品质的基板玻璃。
此外,由于作为浮法成形的基准的温度(粘度η满足logη=2的温度)降低,因而可减少所得的基板用玻璃组合物的锡缺陷。如果采用浮法的成形工序的温度高,则浮法锡槽中的熔融锡的蒸发量增加。蒸发的锡容易凝集在浮法锡槽的顶棚附近,落到玻璃带上,产生锡缺陷。
本发明的基板用玻璃组合物与以往的PDP用基板中使用的玻璃相比还具有以下优点。
·低比重。
·失透性优良。
·高强度(破坏韧性高)。
·耐损伤性优良。
实施发明的最佳方式
以下,进一步说明本发明的基板用玻璃组合物。
本发明的基板用玻璃组合物以氧化物基准的质量%表示,作为玻璃主要组成,含有
SiO2 55~75%
Al2O3 5~15%
MgO 4~18%
CaO 3~12%
SrO 4~18%
BaO 0~20%
Na2O+K2O 6~20%
ZrO2 0.5~6%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%,
且含有
SO3 0.001~0.6%。
本发明的基板用玻璃组合物采用上述组成的理由如下所述。
以下,如无特别限定,将质量%简记为%。
SiO2:形成玻璃的骨架的成分,不足55%时玻璃的耐热性变差。超过75%时,热膨胀系数下降,玻璃的高温粘性增加,熔化性可能会变差。
SiO2的含量优选为55~72%。较好为55~70%,更好为55~68%。
AL2O3:具有提高玻璃化温度、提高耐热性的效果,但不足5%时其效果弱。另一方面,超过15%时,玻璃的高温粘性增加,熔化性下降。
AL2O3的含量优选为5~12%。较好为5~10%,更好为5~8%。
MgO:具有降低玻璃熔化时的粘性、促进熔化的作用,具有增加破坏韧性、降低比重的效果,但不足4%时其效果弱。另一方面,超过18%时,玻璃的热膨胀系数有过大的倾向,且失透温度升高,玻璃变得不稳定。
MgO的含量优选为4~15%。较好为4~10%。
CaO:具有提高玻璃化温度、增大热膨胀系数以及降低玻璃的高温粘性、减轻比重的效果。其含量不足3%时,玻璃的热膨胀系数变得过小。另一方面,超过12%时,热膨胀系数变得过大,且失透温度变得过高。
CaO的含量优选为3~10%。较好为3~8%,更好为3.1~8%,特好为3.2~6%。
SrO:与CaO同样,具有提高玻璃化温度、增大热膨胀系数、增加电阻的效果。其含量不足4%时,玻璃化温度变得过低。另一方面,超过18%时,玻璃的热膨胀系数变得过大,比重变得过大。
SrO的含量优选为4~15%。较好为4~13%,更好为4~10%,特好为4~8%。
BaO:与CaO、SrO同样,具有提高玻璃化温度、增大热膨胀系数以及降低玻璃的高温粘性的效果,因此可以含有。但是,其含量超过20%时,玻璃的热膨胀系数变得过大,比重变得过重,因此其含量在20%以下。
BaO的含量优选在18%以下。较好是在16%以下,更好是在14%以下,特好是在11%以下,最好是在9%以下。
但是,若考虑到环境负担,较好是实质上不含BaO。
MgO+CaO+SrO+BaO:它们的总量不足18%时,玻璃的高温粘性过度上升,玻璃化温度变得过低。另一方面,它们的总量超过25%时,比重变得过大。
它们的总量优选为19~25%。
Na2O、K2O:为增大玻璃的热膨胀系数,必需包含至少一种。它们的总量不足6%时,玻璃的热膨胀系数变得过小。另一方面,总量超过20%时,玻璃的耐热性下降。
它们的总量优选为6~18%。较好为6~15%,更好为6~13%。
其中,K2O用于进一步增大玻璃的热膨胀系数。较好是含有1%以上。另一方面,如果过度添加这些成分,则玻璃的耐热性下降的倾向大。从该角度考虑,更好的是Na2O在0~10%的范围内,K2O在1~10%的范围内。
另一方面,Li2O会降低玻璃的耐热性,因此除不可避免的杂质外实质上不含有。
ZrO2:为提高玻璃的耐热性和化学耐久性而使用,但不足0.5%时其效果弱。另一方面,其含量超过6%时,玻璃的失透温度变得过高,热膨胀系数变得过低。
ZrO2的含量优选为0.5~4.5%。较好为0.5~4%,更好为0.5~3.5%,特好为0.5~3%。
另外,为了提高熔化性,可含有B2O3。但是,如果含量过高,则基板玻璃的热膨胀系数变得过低,因此优选不足1.5%。但是,本发明的基板用玻璃组合物中较好是实质上不含有B2O3。
制造本发明的基板用玻璃组合物时,添加SO3作为澄清剂。作为SO3源,在玻璃原料中投入硫酸钾(K2SO4)、硫酸钠(Na2SO4)、硫酸钙(CaSO4)等硫酸盐,而在制造后的基板用玻璃组合物中残存有作为澄清剂添加的SO3的一部分。但是,在玻璃原料中投入制造后的基板用玻璃组合物中的残存量超过0.6%的量的SO3的情况下,制造时玻璃会发生再沸腾等,玻璃中有气泡残存。
另外,将SO3用作澄清剂时,添加量(相对于上述玻璃主要组成原料的添加量。下同)如果超过10%,则在熔化过程中会从玻璃熔液分离而无法熔化。此外,如果不足0.5%,则澄清效果差。因此添加0.5~10%。优选为0.5~8%,较好为0.5~4%,更好为0.7~2%。
此时,在基板用玻璃组合物中的残存量以SO3换算为0.001~0.6%,优选为0.002~0.5%,较好为0.005~0.4%,更好为0.01~0.4%。
在制造本发明的基板用玻璃组合物时,作为澄清剂添加的SO3的澄清效果,即从玻璃熔液除去气泡的效果良好。
作为澄清剂添加的SO3在玻璃熔液中分解,由此产生的SO2成为气泡,与玻璃熔液中的气泡一起上浮,藉此发挥澄清效果。因此,在澄清工序中,SO3发生分解,从玻璃熔液中减少的SO3越多,澄清效果越好。
较好的是本发明的基板用玻璃组合物中,相对于100%的玻璃主要组成原料添加以SO3换算为0.5~10质量%的硫酸盐而制成玻璃原料,SO3(1350℃)(%)与SO3(1500℃)(%)之差(以下称为ΔSO3)在0.17以上,所述SO3(1350℃)是将该玻璃原料于1350℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内水冷冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量,所述SO3(1500℃)是将该玻璃原料于1500℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内水冷冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量。这里,1350℃是在玻璃制造时所实施的熔化工序中的玻璃熔液的代表性的温度,1500℃是澄清工序中的玻璃熔液的代表性的温度。
SO3含量不是玻璃熔液中的SO3含量,而是以将玻璃原料于1350℃或1500℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内水冷冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量作为指标。这是因为无法测定玻璃熔液中的SO3含量。此外,如果于1350℃或1500℃保持30分钟以上,则玻璃熔液中的SO3含量基本恒定。如果在30秒~1分钟的较短时间内水冷冷却至20~30℃,则可以实质上忽略冷却过程中的SO3含量的变化。
ΔSO3如果在上述范围内,则作为澄清剂添加的SO3中,在澄清工序中分解而从玻璃熔液中减少的量多,因此可以说是澄清效果好的玻璃。
ΔSO3更好是在0.18%以上,进一步更好是在0.19%以上。此外,ΔSO3较好是在1.5%以下。
因此,本发明的理想的玻璃组成的一例为:以氧化物基准的质量%表示,作为玻璃的主要组成,含有
SiO2 55~70%
Al2O3 5~10%
MgO 4~10%
CaO 3~8%
SrO 4~13%
BaO 0~11%
Na2O+K2O 6~15%
ZrO2 0.5~4%
MgO+CaO+SrO+BaO 18~25%,
且含有
SO3 0.01~0.4%。
本发明的更理想的玻璃组成较好是由SiO2、Al2O3、MgO、CaO、SrO、Na2O、K2O和ZrO2构成。
本发明的基板用玻璃组合物中,除上述成分外,为了改善玻璃的熔化性、澄清性、成形性,也可相对于玻璃主要组成原料添加总量在2%以下、较好是1.5%以下的SnO2、As2O3、Sb2O3、P2O5、F、Cl。
此外,为了提高基板用玻璃组合物的耐久性,可相对于玻璃主要组成原料添加总量在5%以下的La2O3、TiO2、SnO2、ZnO。
为了调整基板用玻璃组合物的色调,还可添加Fe2O3、CoO、NiO、Nd2O3等着色剂。可以相对于玻璃主要组成原料添加总量在3%以下的上述着色剂,较好的是添加1%以下的上述着色剂。
本发明的基板用玻璃组合物的高温粘度低于以往的PDP基板用玻璃。具体而言,与102dPa·s的粘度相对应的玻璃熔液的温度T2在1545℃以下。
粘度102dPa·s是表示玻璃熔液的粘度足够低的基准粘度。因此,玻璃熔液的粘度达到102dPa·s的温度T2是玻璃熔液的基准温度。
以往的PDP用基板玻璃的T2大都超过1545℃。由于本发明的基板用玻璃组合物的T2在1545℃以下,因此熔化工序可在低于以往的温度下实施。其结果是,可实现玻璃的稳定生产。此外,由于熔化工序中的熔化槽的温度变低,因此熔化槽的使用寿命延长。由于熔化工序中投入的燃料的量减少,因此玻璃制造成本下降。
T2优选在1543℃以下,较好是在1540℃以下,更好是在1510℃以下,特好是在1500℃以下。此外,从确保熔化性的角度考虑,T2较好是在1400℃以上。
本发明的基板用玻璃组合物的与104dPa·s的粘度相对应的玻璃熔液的温度T4较好是在1200℃以下。
粘度104dPa·s是对玻璃进行浮法成形时的基准粘度。因此,玻璃熔液的粘度达到104dPa·s的温度T4也是浮法成形工序中的玻璃熔液的基准温度。
以往的PDP基板用玻璃的T4超过1200℃。由于本发明的基板用玻璃组合物的T4在1200℃以下,因此浮法成形工序可在低于以往的温度下实施。其结果是,可实现玻璃的稳定生产。此外,浮法锡槽的使用寿命延长。此外,由于加热浮法锡槽所需的燃料减少,因此基板玻璃的制造成本下降。此外,由于从浮法锡槽导出的玻璃带的温度下降,因此浮法成形之后实施的退火工序所需的能量减少。
此外,通过降低浮法成形工序的温度,可减少所得玻璃的锡缺陷。浮法成形工序的温度如果高,则浮法锡槽中的温度,特别是熔融锡的温度升高。其结果是,熔融锡的蒸发量增加。蒸发的锡凝集在浮法锡槽的顶棚附近,落到玻璃带上,产生锡缺陷。
通过降低浮法成形工序的温度,可降低浮法锡槽中的温度,特别是熔融锡的温度。其结果是,熔融锡的蒸发量减少,由蒸发的熔融锡导致的玻璃的锡缺陷减少。
T4优选在1180℃以下,较好是在1160℃以下,更好是在1150℃以下。此外,从确保成形性的角度考虑,T4较好是在1000℃以上。
本发明的基板用玻璃组合物的失透温度在T4以下,更好是低于T4。如上所述,T4也是浮法成形工序中的玻璃熔液的基准温度。失透温度如果低于T4,则适合于用浮法成形。此外,本发明的基板用玻璃组合物较好是失透温度比T4低1℃以上,特好是低5℃以上,最好是低10℃以上。
本发明的基板用玻璃组合物的热膨胀系数较好是在75×10-7~90×10-7/℃的范围内。将本发明的基板用玻璃组合物用于PDP基板时,作为制造PDP时所用的玻璃料材料或糊料材料,必须使用与玻璃的热膨胀率一致的材料。在制造PDP时所实施的烧成工序的温度区域(50~350℃)内选择热膨胀系数在上述范围以外的材料是非常困难的。
本发明的基板用玻璃组合物的热膨胀系数α更好是在80×10-7~90×10-7/℃的范围内。
本发明的基板用玻璃组合物的比重优选在2.8以下。比重如果超过2.8,则基板用玻璃组合物变重,不利于处理,特别是不利于运输。基板用玻璃组合物的比重为2.8以下是大型的基板的特别重要的特性。
本发明的基板用玻璃组合物的比重较好是在2.77以下,更好是在2.75以下。
本发明的基板用玻璃组合物的玻璃化温度(Tg)优选在600℃以上。玻璃化温度如果不足600℃,则在制造标称40英寸这样的大型PDP时,热处理造成的玻璃的收缩量无法达到足够小。
本发明的基板用玻璃组合物的Tg较好是在610℃以上,更好是在615℃以上。
较好的是本发明的基板用玻璃组合物的强度高,具体而言,较好的是破坏韧性在0.7MPa·m1/2以上。破坏韧性如果在0.7MPa·m1/2以上,则在制造和使用PDP时不易产生玻璃基板的缺损或裂纹。破坏韧性更好是在0.71MPa·m1/2以上,进一步更好是在0.72MPa·m1/2以上。
本发明的基板用玻璃组合物的150℃下的体积电阻率优选在1011Ω·cm以上。制造PDP时,在基板玻璃的表面形成银电极。为了防止对银电极通电时通过的电流的一部分流过银电极周边的玻璃,较好是基板用玻璃组合物的绝缘性良好。150℃下的体积电阻率如果在1011Ω·cm以上,则绝缘性良好,即使是PDP大型化或高密度化时,也不用担心向形成于基板玻璃上的银电极通电时通过的电流的一部分会流过该银电极周边的玻璃。
通常,仅着眼于降低高温粘度来选择基板用玻璃组合物的组成时,难以使150℃下的体积电阻率达到1011Ω·cm以上。本发明的基板用玻璃组合物可在确保150℃下的玻璃的体积电阻率达到1011Ω·cm以上的同时降低玻璃的高温粘度。
本发明的基板玻璃的150℃下的玻璃的体积电阻率较好是在2×1011Ω·cm以上,更好是在5×1011Ω·cm以上。
本发明的基板用玻璃组合物适合作为FPD用基板或太阳能电池用基板,尤其适合作为PDP用基板。
其光谱透射率在425~475nm、510~560nm、600~650nm的范围内都最好在85%以上。
作为PDP用基板玻璃使用时,其厚度优选为0.3mm~3.0mm。
本发明的玻璃(基板用玻璃组合物)例如可通过如下方法制造。即,按照目标成分将常用的各成分的原料调合,将其连续地投入熔化炉,于1200~1400℃加热熔化,于1400~1700℃澄清后,通过浮法将该熔融玻璃成形为规定的板厚,退火后切割,从而获得透明的玻璃基板。
实施例
以下,采用实施例对本发明进一步进行说明,但本发明不应限定于这些实施例来进行解释。
表1所示为例1~4(实施例)、例5~7(比较例)的玻璃组成。
按照目标组成调制主要组成(SiO2~Zr2O)的原料,相对于该原料添加以SO3换算为0.8%的硫酸钠而制成玻璃原料,用铂坩埚以1500~1600℃的温度对该玻璃原料进行4小时的加热使其熔化。熔化时插入铂搅拌器搅拌2小时,进行玻璃的均质化。然后,将玻璃熔液倒出,退火后进行研磨,形成为厚2.8mm的板状。
对于以上获得的玻璃,测定玻璃组成(单位:质量%)、50~350℃的热膨胀系数(α50-350,单位:10-7/℃)、玻璃化温度(Tg,单位:℃)、150℃下的体积电阻率(logρ,单位:Ωcm)、比重、破坏韧性(单位:MPa·m1/2)、T2(单位:℃)、T4(单位:℃)及失透温度(单位:℃)。结果示于表1。另外,表中加括号的表示计算值。
玻璃化温度按照以下方法求得。将玻璃在退火点的温度保持30分钟后,以60℃/分钟的冷却速度退火。然后,对于该经退火的玻璃,用差示热膨胀计求出从室温到屈服点为止的热膨胀率相对于温度的曲线。在该曲线的最先出现弯曲的点的前后引出切线,将对应切线的交点的温度作为玻璃化温度。
此外,SO3(1350℃)和SO3(1500℃)通过以下步骤测定。
按照目标组成调制主要组成(SiO2~Zr2O)的原料,相对于该原料添加以SO3换算为0.8%的硫酸盐而制成玻璃原料,用铂坩埚于1350℃或1500℃熔化该玻璃原料,保持30分钟后,在30秒~1分钟内水冷冷却至20~30℃,制成玻璃样品,通过FP法(基本参数定量法)测定SO3(1350℃)或SO3(1500℃)。
[表1]
例1 | 例2 | 例3 | 例4 | 例5 | 例6 | 例7 | |
SiO2 | 65.4 | 57.5 | 58.0 | 57.3 | 56.2 | 59.5 | 62.2 |
Al2O3 | 5.0 | 7.4 | 7.5 | 7.4 | 14.1 | 7.1 | 9.6 |
MgO | 7.2 | 4.5 | 4.5 | 5.7 | 6.0 | 3.2 | 4.6 |
CaO | 3.0 | 4.3 | 5.1 | 3.3 | 6.0 | 5.2 | 6.4 |
SrO | 9.0 | 13.1 | 11.6 | 8.2 | 0.0 | 7.2 | 2.8 |
BaO | 0.0 | 1.0 | 1.0 | 7.8 | 5.7 | 3.6 | 0.0 |
Na2O | 6.4 | 4.9 | 4.9 | 4.8 | 8.0 | 3.5 | 5.3 |
K2O | 3.5 | 4.5 | 4.5 | 4.5 | 3.0 | 7.6 | 7.4 |
ZrO2 | 0.5 | 2.8 | 2.9 | 1.0 | 1.0 | 3.1 | 1.7 |
Na2O+K2O | 9.9 | 9.4 | 9.4 | 9.3 | 11.0 | 11.1 | 12.7 |
MgO+CaO+SrO+BaO | 19.2 | 22.9 | 22.2 | 25.0 | 17.7 | 19.2 | 13.8 |
SO3添加量 | 0.8 | 0.8 | 0.8 | 0.8 | 0.8 | 0.8 | 0.8 |
SO3(1350℃) | (0.41) | (0.42) | 0.38 | 0.34 | (0.38) | (0.31) | (0.33) |
SO3(1500℃) | (0.09) | 0.17 | 0.16 | 0.15 | (0.17) | (0.18) | (0.17) |
ΔSO3 | (0.32) | (0.25) | 0.22 | 0.19 | (0.21) | (0.13) | (0.16) |
Tg[℃] | 620 | 645 | 648 | 630 | 649 | 644 | 648 |
T2[℃] | 1541 | (1512) | (1513) | 1500 | 1589 | 1554 | (1595) |
T4[℃] | 1125 | (1136) | (1138) | 1114 | 1220 | 1197 | (1174) |
失透温度[℃] | 1120 | 1100 | 1120 | 1090 | 1225 | 1140 | 未测定 |
α50-350[10-7/℃] | 78 | 81 | 81 | 83 | 82 | 82 | 80 |
比重 | 2.61 | 2.76 | 2.74 | 2.76 | (2.64) | (2.69) | 2.55 |
破坏韧性[MPa/m2] | (0.77) | (0.75) | (0.76) | (0.72) | (0.73) | (0.69) | (0.69) |
logρ[Ωcm] | (11.0) | (12.0)) | (12.0) | 12.3 | (9.2) | (12.0) | (10.7) |
由表1可知,实施例的玻璃(例1~4)的T2在1545℃以下,因此生产性优良。此外,失透温度低于T4,所以可通过浮法进行稳定的成形。此外,ΔSO3在0.17%以上,因此澄清性优良。此外,作为PDP用基板玻璃的耐化学性、介电常数、折射率、应变点、耐损伤性也优良。因此,特别适用于一边在2m以上的大型显示器基板用玻璃板或太阳能电池用基板。
产业上利用的可能性
本发明的基板用玻璃组合物适合作为FPD用基板,尤其适合作为PDP用基板。另外,本发明的基板用玻璃组合物也可用作太阳能电池用基板或磁盘用基板。
在这里引用2007年10月25日提出申请的日本专利申请2007-277126号的说明书、权利要求书和说明书摘要的全部内容,作为本发明说明书的揭示采用。
Claims (8)
3.如权利要求1或2所述的基板用玻璃组合物,其特征在于,相对于玻璃主要组成原料添加以SO3换算为0.5~10质量%的硫酸盐而制成玻璃原料、将该玻璃原料于1350℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量(%)与将该玻璃原料于1500℃熔化、保持30分钟~2小时后在30秒~1分钟内冷却至20~30℃而得的玻璃中的SO3含量(%)之差在0.17以上。
4.如权利要求1或2所述的基板用玻璃组合物,其特征在于,破坏韧性在0.7MPa·m1/2以上。
5.如权利要求1或2所述的基板用玻璃组合物,其特征在于,150℃下的体积电阻率在1011Ω·cm以上。
6.如权利要求1或2所述的基板用玻璃组合物,其特征在于,所述满足logη=4的温度在1200℃以下。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007277126 | 2007-10-25 | ||
JP2007-277126 | 2007-10-25 | ||
PCT/JP2008/069157 WO2009054419A1 (ja) | 2007-10-25 | 2008-10-22 | 基板用ガラス組成物およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101835718A CN101835718A (zh) | 2010-09-15 |
CN101835718B true CN101835718B (zh) | 2013-11-06 |
Family
ID=40579523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008801130630A Expired - Fee Related CN101835718B (zh) | 2007-10-25 | 2008-10-22 | 基板用玻璃组合物及其制造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8377834B2 (zh) |
EP (1) | EP2202207B1 (zh) |
JP (1) | JP5573157B2 (zh) |
KR (1) | KR101231520B1 (zh) |
CN (1) | CN101835718B (zh) |
TW (1) | TWI394733B (zh) |
WO (1) | WO2009054419A1 (zh) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2008-10-22 JP JP2009538237A patent/JP5573157B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-22 EP EP08842802.4A patent/EP2202207B1/en not_active Not-in-force
- 2008-10-22 WO PCT/JP2008/069157 patent/WO2009054419A1/ja active Application Filing
- 2008-10-22 KR KR1020107006225A patent/KR101231520B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2008-10-22 CN CN2008801130630A patent/CN101835718B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-24 TW TW097140904A patent/TWI394733B/zh not_active IP Right Cessation
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JP特开2005-15328A 2005.01.20 |
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---|---|
EP2202207A4 (en) | 2010-11-17 |
JP5573157B2 (ja) | 2014-08-20 |
TWI394733B (zh) | 2013-05-01 |
EP2202207B1 (en) | 2013-05-29 |
CN101835718A (zh) | 2010-09-15 |
EP2202207A1 (en) | 2010-06-30 |
TW200936525A (en) | 2009-09-01 |
WO2009054419A1 (ja) | 2009-04-30 |
US8377834B2 (en) | 2013-02-19 |
US20100137122A1 (en) | 2010-06-03 |
KR101231520B1 (ko) | 2013-02-07 |
KR20100068399A (ko) | 2010-06-23 |
JPWO2009054419A1 (ja) | 2011-03-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Tokyo, Japan Patentee after: AGC Corporation Address before: Tokyo, Japan Patentee before: Asahi Glass Co., Ltd. |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20131106 Termination date: 20191022 |