TWI404693B

TWI404693B - Glass composition for substrate

Info

Publication number: TWI404693B
Application number: TW098106167A
Authority: TW
Inventors: Kensuke Nagai; Tetsuya Nakashima
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Priority date: 2008-02-27
Filing date: 2009-02-26
Publication date: 2013-08-11
Also published as: TW200951090A; US8349751B2; EP2246310B1; EP2246310A1; KR101273782B1; JPWO2009096611A1; US20100210443A1; EP2246310A4; JP5392096B2; KR20100086005A; WO2009096611A1; CN101959819A

Description

基板用玻璃組成物

發明領域

本發明係關於一種在作為平面顯示器(以下簡稱FPD)用基板，特別是電漿顯示器面板(以下簡稱PDP)用基板上是有用的，而且耐磨性優良之基板用玻璃組成物。此外，本發明係關於一種抑制黃變的基板用玻璃組成物。

發明背景

過去以來，PDP通常是在基板玻璃上以550~600℃左右的溫度燒結金屬電極、絕緣膠、光敏條狀糊(rib paste)等，然後將對向板和周圍予以封接而製成。過去以來，通常是使用廣泛被應用作為建築用或汽車用的鈉鈣玻璃(Soda-Lime-Silica Glass)來作為PDP基板用玻璃。

但是，因為鈉鈣玻璃的玻璃轉移點為530~560℃，如果在上述燒結溫度接受熱處理，基板玻璃會變形或收縮，尺寸發生顯著變化，故有難以良好的精密度來實現與對向板之電極位置對準的課題。

為解決該基板玻璃之熱變形或熱收縮的問題，已知有熱膨脹係數和鈉鈣玻璃相近，而且玻璃轉移點及應變點高的基板用玻璃組成物(參照專利文獻1)。

專利文獻1：特開平8-165138號公報

可是，FPD用基板玻璃為了防止破損等目的有時要實施該玻璃端部的磨邊(研磨)操作。另外，利用浮法使玻璃成形後，為了除去玻璃表面的還原層，要施行研磨。然而，習知之基板用玻璃容易引發所謂，在研磨作業中的作業性差、生產性低、製造成本增加的問題。

相對於此，單純具有優良的研磨性之玻璃組成在滿足PDP用基板玻璃所需求的特性上是有困難的。亦即，要讓玻璃轉移點、熱膨脹係數、體積電阻率、高溫黏度、比重等特性都能滿足作為PDP用基板玻璃的範圍是困難的。

為解決上述問題點，本發明係以提供一種既確保作為PDP用基板的特性及品質，且研磨性優異，又能以高生產性製造之基板用玻璃組成物為目的。此外，本發明之目的係為提供一種抑制黃變的基板用玻璃組成物。黃變係指為了使電漿放電而在玻璃基板表面燒結形成銀電極，玻璃基板表面因而有變色成黃色的現象。

為達成上述目的，本發明提供一種基板用玻璃組成物，特徵在於其以氧化物為基準且以質量%表示時，玻璃母材組成係由

SiO₂ 　55~75%

Al₂ O₃ 　5~15%

MgO　0~4%

CaO　超過5.5%但在12%以下

SrO　5~18%

BaO　0~13%

ZrO₂ 　0.5~6%

Na₂ O　0~10%

K₂ O　0~15%

Na₂ O+K₂ O　6~20%

MgO+CaO+SrO+BaO　17~25%

CaO+SrO　15~25%

所構成，玻璃轉移點為600℃以上，在50~350℃的平均熱膨脹係數為75×10^-7 ~90×10^-7 /℃，且磨耗度在98以上。

本發明之基板用玻璃組成物既可確保作為FPD用基板，特別是PDP用基板的特性，且可以獲得研磨性優異、生產性高，而且能以低成本製造之基板用玻璃。此外，可以獲得不易發生黃變的基板用玻璃。

另外，本發明之基板用玻璃組成物因為玻璃轉移點高且熱安定性優異，容易進行研磨等的加工，故亦可有效地作為太陽電池基板用玻璃。

圖式簡單說明

[第1圖]為經過磨邊的基板用玻璃之端部的概略斷面圖。

用以實施發明之最佳形態

以下將進一步就本發明之基板用玻璃組成物做說明。

本發明之基板用玻璃組成物以氧化物為基準且以質量%表示時，玻璃母材組成係由

SiO₂ 　55~75%

Al₂ O₃ 　5~15%

MgO　0~4%

CaO　超過5.5%但在12%以下

SrO　5~18%

BaO　0~13%

ZrO₂ 　0.5~6%

Na₂ O　0~10%

K₂ O　0~15%

Na₂ O+K₂ O　6~20%

MgO+CaO+SrO+BaO　17~25%

CaO+SrO　15~25%

所構成。

本發明之基板用玻璃組成物中，限定為上述組成的理由如下。

以下只要沒有特別的例外說明，質量%單純地以%表示。

SiO₂ ：形成玻璃骨格的成分，不滿55%時玻璃耐熱性會變差。超過75%時熱膨脹係數降低，有玻璃的高溫黏性增加，溶解性惡化之虞。

SiO₂ 的含量以55~65%為佳。較佳為55~60%，更佳為55~57%。

Al₂ O₃ ：雖然有昇高玻璃轉移點使耐熱性提高的效果，但是在不滿5%時該效果有限。另一方面，超過15%時玻璃的高溫黏性增加，溶解性降低。

Al₂ O₃ 的含量以5~10%為佳。較佳為5~8%，更佳為5~7%。此外，如果考慮抑制黃變的事項，則以8~10%較為合適。

MgO：如果是0~4%，則會使玻璃熔解時的黏性下降，有促進熔解的作用。該含有率如果比4%高，則所獲得之基板用玻璃的研磨性會有降低之虞。

MgO的含量以0~3.5%為佳。較佳為0~3%。

CaO：如果超過5.5但在12%以下，就具有使基板用玻璃的研磨性提高的效果。另外，具有使玻璃的轉移點提高和熱膨脹係數增大，以及使玻璃的高溫黏性下降，比重變輕的效果。其含量在5.5%以下時，玻璃的熱膨脹係數會變得太小。而且，無法期待研磨性的提昇。另一方面，超過12%時，熱膨脹係數會變得太大，而且失透溫度會變得太高。

CaO的含量以6~10%為佳。較佳為6~8%，更佳為6~7.5%。如果考慮抑制黃變的事項，則以5.8~10%為宜。較佳為5.8~8%，更佳為5.8~7.5%。

SrO：和CaO同樣地，如果是5~18%就具有使基板用玻璃之研磨性提昇，玻璃的轉移點提高和熱膨脹係數增大，並使電阻增加的效果。其含量不滿5%時，玻璃轉移點會變得太低。而且，無法期待研磨性的提昇。另一方面，超過18%時，玻璃的熱膨脹係數變得太大，比重也變得太大。

SrO的含量以8~15%為佳。較佳為8~13%，更佳為9~12%。

BaO：和CaO、SrO同樣地，因為如果在13%以下就具有使基板用玻璃的研磨性提昇，玻璃轉移點提高和熱膨脹係數增大，以及使玻璃的高溫黏性下降的效果，故同樣可以含有。但是，當其含量超過13%時，玻璃的熱膨脹係數會變得太大，比重變得太重，故其含量在13%以下。

BaO的含量以10%以下為佳。較佳為9%以下，更佳為8%以下。

另外，如果考慮環境的負荷，則特別合適的是實質上不含BaO。

MgO+CaO+SrO+BaO：這些的合計量不滿17%時，玻璃的高溫黏性會上昇過度，玻璃轉移點則是變得太低。另一方面，這些的合計量超過25%時比重會變得太大。

這些的合計量以18~25%為佳，較佳為19~25%。

CaO+SrO：CaO+SrO+BaO的合計量不滿15%時，無法達到提高基板用玻璃之研磨性的目的。而且，玻璃的高溫黏性上昇過度，玻璃轉移點變得太低。另一方面，這些的合計量超過25%時比重會變得太大。

其中，為使基板用玻璃的研磨性更為提昇，CaO+SrO是15~25%。合適者是15~23%，較佳為15~20%。

Na₂ O+K₂ O：為獲得預定的熱膨脹係數，至少有一種是必須的。這些的合計量不滿6%時，熱膨脹係數會變得太小。另一方面，當合計量超過20%時，玻璃的耐熱性會降低。

這些的合計量以7~17%為佳，較佳為7~15%。如果考慮到要抑制黃變，則以7~14%為佳，更佳為7~13%。

其中，Na₂ O為0~10%，K₂ O為0~15%。如果Na₂ O為2~10%，K₂ O為1~13%，則因基板用玻璃的研磨性更為提高故而合適。如果考慮到要抑制黃變，則以Na₂ O為2~8%，K₂ O為1~10%為佳，如果Na₂ O為3~8%，K₂ O為1.5~10%則更好。

另一方面，Li₂ O因為會使玻璃的耐熱性降低，所以除了不可避免的雜質以外實質上並不含有。

ZrO₂ ：雖然是為提高玻璃的耐熱性及化學耐久性而使用，但是不滿0.5%時，其效果有限。另一方面，當其含量超過6%時，玻璃的失透溫度會變得太高，熱膨脹係數則變得太低。

ZrO₂ 的含量以1~5%為佳。較佳為1~4%，更佳為1~3.5%。

根據以上說明，本發明之基板用玻璃組成物以氧化物為基準且以質量%表示時，玻璃母材組成係以由

SiO₂ 　55~65%

Al₂ O₃ 　5~10%

MgO　0~3.5%

CaO　5.8~10%

SrO　8~15%

BaO　0~10%

ZrO₂ 　1~5%

Na₂ O　2~10%

K₂ O　1~13%

Na₂ O+K₂ O　7~17%

MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%

CaO+SrO　15~23%

所構成者為佳。

如果考慮抑制黃變的情形，基板用玻璃組成物係由

SiO₂ 　55~65%

Al₂ O₃ 　8~10%

MgO　0~3.5%

CaO　5.8~10%

SrO　8~15%

BaO　0~10%

ZrO₂ 　1~5%

Na₂ O　2~8%

K₂ O　1~10%

Na₂ O+K₂ O　7~14%

MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%

CaO+SrO　15~23%

來構成玻璃母材組成，並以含有0.06~0.15%的Fe₂ O₃ 作為添加劑者為佳。

此外，為提高溶解性，亦可含有B₂ O₃ 。但是，如果過度含有，則因為基板玻璃的熱膨脹係數會降得太低，而以不滿1.5%為佳。另外，本發明之基板用玻璃組成物中以實質上不含B₂ O₃ 較為合適。

另外，在製造本發明之基板用玻璃組成物時，添加SO₃ 作為澄清劑為佳。合適的作法是將硫酸鉀(K₂ SO₄ )、硫酸鈉(Na₂ SO₄ )、硫酸鈣(CaSO₄ )等之硫酸鹽投入玻璃原料中以作為SO₃ 的來源，但是在製造後的基板用玻璃組成物中有時會殘存一部分作為澄清劑所添加之SO₃ 澄清劑。在投入玻璃原料中的量會使得製造後之基板用玻璃組成物中的殘存量超過0.6%的情形中，於製造時使玻璃發生再沸騰等，會有在玻璃中殘存氣泡的傾向。

再者，使用SO₃ 作為澄清劑時，其添加量如果是SO₃ 相對於前述玻璃母材組成原料100質量份會超10質量份，則在溶解過程中就會有從玻璃熔融液分離出來而出現未完全熔融的情形。另外，如果不滿0.5質量份則是缺乏澄清效果。因此，以添加0.5~10質量份為佳。較佳為0.5~8質量份，更佳為0.5~4質量份，特別好的是0.7~2質量份(以下，記載為「質量份」時，意指相對於玻璃母材組成原料100質量份的添加量。)。

此時，SO₃ 換算的殘存量(含量)對基板用玻璃組成物以質量%表示，合適者為0.001~0.6%，較佳為0.002~0.5%，更佳為0.005~0.4%，特別合適的是0.01~0.4%。

本發明之基板用玻璃組成物除上述成分以外為改善玻璃的熔融性、澄清性、成形性，相對於玻璃母材組成原料以使SnO₂ 、AS₂ O₃ 、Sb₂ O₃ 、P₂ O₅ 、F、Cl的合計量在2質量份以下為佳，較佳為1.5質量份以下。

另外，為使基板用玻璃組成物的耐久性提高，相對於玻璃母材組成原料亦可添加使得La₂ O₃ 、TiO₂ 、SnO₂ 、ZnO的合計量在5質量份以下的添加劑。

此外，為調整基板用玻璃組成物的色調，亦可添加Fe₂ O₃ 、CoO、NiO、Nd₂ O₃ 等之著色劑。相對於玻璃母材組成原料，此種著色劑以添加使得合計量成為3質量份以下為佳，較佳為添加1質量份以下。

另外，從熔解性的觀點來看，如果含有0.06%以上的Fe₂ O₃ 是合適的。而，為抑制玻璃的黃變，以含有0.15%以下的Fe₂ O₃ 為宜。Fe₂ O₃ 以含有0.06~0.14%為佳，較佳為0.07~0.13%，更佳為含有0.08~0.12%。

本發明之玻璃組成物的玻璃基板以，在玻璃基板表面形成銀電極時，從形成銀電極側的玻璃基板表面起到深度10μm為止的表層中，Fe²⁺ 的平均含量用Fe₂ O₃ 換算在0.0725%以下者為佳。

本發明之基板用玻璃組成物和習知之PDP基板用玻璃相比，高溫黏度降低者為佳。具體而言，以相當於10² dPa‧s的黏度之玻璃熔融液的溫度T₂ 在1570℃以下者為佳。

黏度10² dPa‧s是表示玻璃熔融液的黏度降得夠低的基準黏度。因此，玻璃熔融液的黏度變成10² dPa‧s的溫度T₂ 就是玻璃熔融液的基準溫度。

本發明之基板用玻璃組成物可以在低溫實施其熔解工程。其結果，可以使玻璃能夠安定的生產。另外，在熔解工程時，因為熔解槽的溫度低，所以熔解槽的壽命會延長。因為熔解工程時所投入的燃料量減少，所以玻璃製造成本會下降。

T₂ 以1560℃以下為佳，較佳為1550℃以下，更佳為1540℃以下，特別合適的是1500℃以下。

本發明之基板用玻璃組成物以相當於10⁴ dPa‧s的黏度之玻璃熔融液的溫度T₄ 在1200℃以下者為佳。

黏度10⁴ dPa‧s是使玻璃以浮法成形時之基準黏度。因此，玻璃熔融液的黏度變成10⁴ dPa‧s之溫度T₄ 也是浮法成形工程中之玻璃熔融液的基準溫度。

本發明之基板用玻璃組成物可以在比習知更低溫下實施浮法成形工程。其結果，玻璃可以安定的成形。而且，錫槽(float bath)的壽命會延長。另外，因為加熱錫槽時所需要的燃料減少，所以基板玻璃的製造成本下降。而且，因為從錫槽被送出來的玻璃帶(glass ribbon)溫度變低，所以在浮法成形後接著要實施的退火步驟中所需要的能量可以削減。

本發明之基板用玻璃組成物在50~350℃的平均熱膨脹係數落在75×10^-7 ~90×10^-7 /℃的範圍。將本發明之基板用玻璃組成物使用於PDP基板時，於製造PDP時所使用的玻璃料和漿料必須使用和玻璃的熱膨脹係數大致相同的材料。在製造PDP時所實施之燒結工程的溫度範圍(50~350℃)，熱膨脹係數要選到脫離上述範圍的材料是非常困難的。

本發明之基板用玻璃組成物，其熱膨脹係數以80×10^-7 ~90×10^-7 /℃的範圍較佳。

本發明之基板用玻璃組成物比重以2.9以下為佳。比重如果超過2.9，則因為基板用玻璃組成物變重，在處理上，尤其是輸送上並不合適。基板用玻璃組成物的比重如果在2.9以下，對於大型的基板而言是特別重要的特性。

本發明之基板用玻璃組成物以比重在2.8以下為佳，較佳為2.75以下。

本發明之基板用玻璃組成物的玻璃轉移點Tg在600℃以上。玻璃轉移點如果不滿600℃，在製造號稱40英吋之類的大型PDP時，因熱處理所造成之玻璃的收縮量就不夠小。

本發明之基板用玻璃組成物的Tg以615℃以上較佳，更佳為630℃以上。又更好的是640℃以上，特別合適的是650℃以上。

本發明之基板用玻璃組成物在150℃的體積電阻率以10¹¹ Ω‧cm以上為佳。製造PDP時在基板玻璃的表面形成銀電極。對銀電極通電時，為防止通電的電流有一部分流到銀電極周邊的玻璃，基板用玻璃組成物以絕緣性優良者為佳。在150℃的體積電阻率如果是10¹¹ Ω‧cm以上就有優良的絕緣性，即使將PDP大型化或高密度化，對形成於基板玻璃上之銀電極通電時也不會有所通電的電流一部分流到該銀電極周邊的玻璃之虞。

通常，只著眼於降低高溫黏度以選擇基板用玻璃組成物的組成時，難以使得在150℃之玻璃的體積電阻率達到10¹¹ Ω‧cm以上。如果是本發明的基板用玻璃組成物，則可使得在150℃之玻璃的體積電阻率保持於10¹¹ Ω‧cm以上且可以降低玻璃的高溫黏度。

本發明之基板玻璃以在150℃之玻璃的體積電阻率為2×10¹¹ Ω‧cm以上者為佳，較佳為5×10¹¹ Ω‧cm以上。

本發明之基板用玻璃組成物，其研磨性判斷標準之一的磨耗度(FA)在98以上。因此，以防止玻璃有裂痕或缺口等破損情形為目的之磨邊(端部的研磨)操作的作業性高。因此，可以提高生產性並使製造成本降低。

另外，在提高磨邊品質，使破損率降低所帶來的產率提昇上也有貢獻。而且，以防止對玻璃表面形成電極時的銀著色為目的之玻璃表面的研磨作業性高。因此，生產性提高，可以使製造成本降低。

本發明之基板玻璃以磨耗度(FA)在100以上者為佳，較佳為105以上，特別合適的是105~150。

此處，磨耗度意指如是之測定值。

將預先測定質量所得之測定面積為9cm² 的試料保持在圓盤狀之鑄鐵製平面淺盤距中心80mm的位置。然後，在一邊將其維持於水平狀態，一邊以60次/分的速度使其旋轉的狀態下，將水20ml中添加了平均粒徑20μm之氧化鋁研磨粒而製得之研磨液以5分鐘的時間一致性地供給於表面。接著，負以9.807N的荷重進行研磨之後，測定質量。然後，從研磨前後質量之差來求出磨耗質量m。

接著針對由日本光學玻璃工業會所指定之標準試料(BSC7)進行相同的操作，同樣地求出磨耗質量m₀ 。

然後利用下式求出磨耗度(FA)。

FA=(m/d)/(m₀ /d₀ )×100

式中，d意指試料比重，d₀ 意指標準試料(BSC7)的比重。該比重意指藉由使用純水之阿基米德法測定而得的值。

接著將就上述之以防止破損等為目的之磨邊(研磨)進行說明。

本發明中所稱的磨邊是，在將基板玻璃切斷成所需的尺寸後等，將在端部所產生的邊緣部分加以研磨，例如，如第1圖所示，除去角部使磨邊斷面12形成圓弧形狀(未必要限定為圓弧形狀，也可以是其他形狀。)。

施行磨邊的方法並無特殊限制。例如，如過去所公知的方法一般，可以採用在要轉動的圓輪周面設置研磨粒部之附磨粒轉輪，進行板狀玻璃端部的磨邊操作。

接著將就以上述之以防止銀著色等為目的之基板用玻璃表面的研磨做說明。

如果在表面上存在著還原層的基板玻璃表面上燒結銀膠以形成銀電極，則因為會有該表面發生變色的情形，所以會有要研磨前述還原層以將其除去的情形。

施行研磨的方法並無特殊限制。例如，可以如過去所公知的方法一般，使用氧化鈰等作為研磨劑，利用奧斯卡(Oscar)式研磨機來研磨基板玻璃表面。

另一方面，和研磨相關連，採用在旋轉的中心部前端設置研磨粒部的附研磨粒擴孔鑽(core drill)來研削板玻璃，也可以容易地開孔。

本發明之基板用玻璃組成物就研磨性之其他尺度而言，以200g的荷重將維氏刻壓機(Vickers Indenter)壓入時之裂痕的深度在37μm以上者為佳。這種情形也可以容易地進行磨邊或研磨和開孔。但是，在當做尺度來考量時，上述磨耗度比起裂痕深度因為是根據研磨而得的基準，故而較為合適。

上述的裂痕深度是將維氏刻壓機壓入所形成的壓痕垂直地切斷，在端面測定垂直裂痕深度而得者。

本明之基板用玻璃，其上述的裂痕深度以39~100μm較佳。

另外，本發明之基板用玻璃如果考慮抑制黃變的要求，則將銀膠塗布在玻璃表面並施行燒結後，其除去該銀膠後之玻璃表面的黃色著色b*以4以下者為佳，較佳者為3.5以下，特別合適的是0~3。

取決於本發明之基板用玻璃組成物，可以藉由例如以下的方法來製造基板用玻璃。亦即，調合一般所使用之各成分的原料以形成目標成分，將其連續式地投入熔解爐，在1200~1400℃加熱使之熔融，在1400~1700℃使其澄清之後，利用浮法使該熔融玻璃成形為預定的板厚，退火後再予切斷，從而獲得透明的玻璃基板。

實施例

以下將利用實施例來進一步說明本發明。

例1~5(實施例)、例6~8比較例之玻璃組成示於表1，例9~13(實施例)之玻璃組成示於表2。

進行原料調製以形成如表1、2中所記載之母材組成(SiO₂ ~Zr₂ O)，並且含有如表2中所記載之添加劑；相對於該原料100質量份，添加以SO₃ 換算為0.8質量份之硫酸鹽做為玻璃原料，用白金坩堝將該玻璃原料在1500~1600℃的溫度加熱4小時，使之熔解。當熔解時插入白金攪拌器，攪拌2小時，施行玻璃的均質化。接著讓玻璃融液流出，退火後，進行研磨做成厚度2.8mm的板狀。

針對這樣做而獲得之玻璃測定其玻璃組成(質量%)、玻璃轉移點Tg(℃)、50~350℃的平均熱膨脹係數α_50-350 (10^-7 /℃)、在150℃的體積電阻率ρ(Ω‧cm)、T₂ (℃)、T₄ (℃)、比重(g/cm³ )、磨耗度及裂痕深度(μm)。結果示於表1、2。另外，玻璃中之SO₃ 的殘存量相當於0.05~0.3質量%。而，表中的括號的數值表示計算值。

50~350℃的平均熱膨脹係數是用示差熱膨脹計(TMA)測定的值，根據JIS R3102(1995年)所求得的值。

玻璃轉移點是用TMA測定的值，根據JIS R3103-3(2001年度)求出。

體積電阻率是透過採用3端子法的電極，測定施加100V時流經玻璃中的電流值，再算出來。

T₂ 、T₄ 是針對類似於各例1~13的組成用旋轉黏度計測定黏度，將例1~13的玻璃在黏度變成10² dPa‧s時的溫度T₂ 及變成10⁴ dPa‧s時的溫度T₄ ，利用加權平均計算求得。

玻璃轉移點以如下方式求得。將玻璃保持在退火點(Annealing Point)的溫度30分鐘後，以60℃/分的冷卻速度使之退火。接著針對該退火後的玻璃用示差式熱膨脹計求出熱膨脹率相對於從室溫到變形點為止的溫度之曲線。在該曲線最初出現彎曲的點前後拉出切線，以對應於切線交點之溫度為玻璃轉移點。

b*值以如下方式求得。將以上述方式獲得之玻璃予以熔解，使其流出形成板狀並退火，將兩面施以鏡面研磨做成厚度2.8mm的板狀玻璃。為使還原反應層形成在該板狀玻璃表面，用氫10體積%及氮90體積%的環境氣體之電氣爐在750℃施行5小時的加熱。在設有該還原反應層的板狀玻璃表面上塗布銀膠(杜邦公司製，DOTITE)，以200℃/小時的速度昇溫，在560℃燒結1小時後，以60℃/小時的速度使其降溫至室溫，利用10%的硝酸除去銀膠後，測定可見光透射率。銀電極下面及其周邊的黃色著色是以JIS-Z8729的方法，從該數值求出C光源的L*a*b*系色座標的色差b*值。

從表1、2可知，實施例的玻璃(例1~5、9~13)磨耗度在98以上，研磨性優良。

此外，玻璃轉移點在600℃以上，熱膨脹係數為75×10^-7 /℃~90×10^-7 /℃，體積電阻率ρ在10¹¹ Ω‧cm以上，適合於作為PDP用基板玻璃。

相對於此，例6及例8因為CaO在5.5%以下，而且CaO+SrO不滿15%，所以磨耗度低。

而，例7因為SrO不滿5%，而且CaO+SrO不滿15%，所以磨耗度低。

因此，例6~8的玻璃生產性降低。

此外，例9~13的玻璃b*在4以下，可以確認不易發生黃變。

調合原料使其成為本發明之玻璃組成物，熔解後，利用浮法成形為板狀玻璃。切斷成預定的尺寸後，施行目的在於防止破損等的玻璃端部磨邊操作。另外，依需要，為了除去玻璃表面的還原層而施行玻璃表面的研磨。

具有本發明之組成的基板用玻璃可以良好的效率進行玻璃端部的磨邊(研磨)。另外，可以有效率地進行玻璃表面的研磨。其結果，可以製造目的在於生產性高而且成本低的基板用玻璃。

產業之可利用性

本發明之基板用玻璃組成物適合於作為FPD用基板，特別是PDP用基板。

再者，本發明之基板用玻璃組成物亦可作為磁碟用基板使用。

另，2008年2月27日提出申請之日本專利申請案2008-046356號的說明書、申請專利範圍、圖式及摘要之所有內容在此全部引用，沿用作為本發明之說明書的揭示。

10．．．基板玻璃

12．．．磨邊部

T．．．基板玻璃的厚度

[第1圖]為經過磨邊的基板用玻璃之端部的概略斷面圖。

Claims

一種基板用玻璃組成物，特徵在於，以氧化物為基準且以質量%表示時，玻璃母材組成係由所構成，且玻璃轉移點為600℃以上，在50~350℃的平均熱膨脹係數為75×10^-7 ~90×10^-7 /℃，磨耗度在98以上。
如申請專利範圍第1項記載之基板用玻璃組成物，其中，以氧化物為基準且以質量%表示時，玻璃母材組成係由所構成。
如申請專利範圍第1或第2項記載之基板用玻璃組成物，其中，以氧化物為基準且以質量%表示時，玻璃母材組成係由 CaO+SrO 15~23%所構成，並含有0.06~0.15%的Fe₂ O₃ 作為添加劑，將銀膠塗布於玻璃表面施行燒結後，除去該銀膠後的玻璃表面之黃色著色b*在4以下。
如申請專利範圍第1或2項記載之基板用玻璃組成物，其在150℃的體積電阻率為10¹¹ Ω．cm以上。