CN1100734C - 等离子体显示屏基板玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明属于玻璃生产技术领域。本发明PDP专用基板玻璃的成分组成和用量配比为：SiO2 50～61 Na2O 3～5 Al2O34～10 K2O 4～8 CaO3～6 MgO 1～4 ZrO2 1～4 BaO 4～15 SrO 3～10 TiO2 0.01～1 P2O3 0.0～0.8。生产该成用基板玻璃，熔化池的空间温度为1600～1650℃，玻璃液流入锡槽前的温度控制在1150～1250℃，退火窑入口温度为570～650℃。

Description

等离子体显示屏基板玻璃
本发明属于玻璃生产技术领域，主要提出一种等离子体显示屏基板玻璃。
等离子体显示技术(Plasma Display Panel简称PDP)，是利用气体放电产生的紫外线激发荧光粉发光的一种发光型平板显示技术。在其实现大型化和超高精细化的进程中，作为钠—钙—硅平板玻璃，由于尺寸热稳定性距等离子体显示的加工工艺要求存在较大差距，在制备PDP焙烧工艺过程中，玻璃板除发生热变形外，还出现严重的热收缩现象，即加热后玻璃板几何尺寸小于加热前，严重影响了显示板的光电性能，增加了制作难度，限制了PDP的发展和使用。
本发明的目的是提出一种新的平板玻璃成分和相应工艺的改进，特别适用于等离子体显示屏基板，其提高了平板玻璃的热学性能、力学性能、电学性能，并充分达到PDP显示屏的加工要求。
本发明基板玻璃的基本组成为(重量百分比)；SiO2 50～61  Na2O 3～5  Al2O3 4～10  K2O 4～8  CaO 3～6  MgO1～4  ZrO2 1～4  BaO 4～15  SrO 3～10  TiO2 0.01～1P2O3 0.0～0.8。
在上述玻璃组成中，可以出现其它的微量成份，包括加SO3氟化物、O2这样的助燃剂和澄清剂。由于玻璃配合料中引入的着色杂质，为了使玻璃呈现无色透明，可以增加钴、锰等脱色剂。在上述玻璃组成中由于加入了BaO、ZrO2及较高含量的Al2O3，可以显著改变玻璃的热学性能，使其呈现高密度、高软化点、低膨胀的特性，同时，由于引用BaO可以大幅度吸收显示过程中所激发的χ射线，以减轻对人体的辐射伤害。
本发明还涉及采用浮法生产PDP专用基板玻璃的工艺方法改进。
本发明给出的附图为：
附图1为采用浮法生产PDP专用基板玻璃的工艺流程图。
附图2为为本发明专用基板玻璃熔化、成型部分示意图。
其基本工艺流程如图1所示，浮法生产玻璃的方法是在玻璃炉内熔化玻璃料，去除气泡、夹杂物并经过彻底均化的玻璃液源源流入锡槽，槽中装满密度大于玻璃、与熔融玻璃互不浸润的锡液，流入的玻璃液在其上扩展，并在自身重力和表面张力作用下，形成表面光滑的玻璃板，再经过冷却制成大面积平板玻璃送出。本发明的生产工艺与上述的普通浮法玻璃生产工艺相同，因此不再详述。
如附图2所示，将准确配料均混的配合料用自动投料机投入投料池1中，缓缓流入熔化池2中，将配合料熔化。熔融的玻璃液在回流的作用下流入澄清、均化部3，使玻璃排除气泡，达到均匀，经过冷却部4之后经流道5流入成型锡槽6内，使玻璃滩平成板状，经自动传送辊道传入退火窑7，经严格退火后成为成品玻璃。上述工艺与原有浮法玻璃生产工艺相同。
本发明生产专用PDP基板玻璃，熔化池的空间温度为1600～1650℃，延缓玻璃液在澄清、均化部的时间，时间较原来多10％左右，具体做法是加大澄清、均化部的面积，使其较生产普通玻璃时大10％左右。在成型时，玻璃液流入锡槽前的温度应比普通Na2O-O-Ca-SiO2玻璃温度高，控制在1150～1250℃，退火窑入口温度为570～650℃。
实施例：
本发明PDP专用基板玻璃的成分组成及配比(重量百分比)
    SiO2                            58
    Na2O                            4.5
    Al2O3                          8
    K2O                             7
    CaO                              4
    MgO                              1
    ZrO2                            3.5
    BaO                              11
    SrO                              2.5
    TiO2                            0.5
在上述实施例中，为使玻璃易于熔化、澄清，特别加入适量的澄清剂SB2O3，助熔剂(氟化物)等添加剂，熔化温度为1550℃，熔化池空间温度为1620℃，成型温度为1200℃，退火温度为630℃，窑炉操作气氛为氧化气氛。
其性能结果为：
膨胀系数                         83×10-7/℃(50～350℃)
应变点                           573℃
软化点                   840℃
密度                     2.78g/cm3
体电阻率                 2.02×1013Ω·cm。
在本发明中，上述玻璃氧化物组成及生产属于关键技术特征，众所周知，在配料时使用的各种矿物质、化工产品在配合料进入熔窑进行高温熔融之后，将转化为上述的玻璃组成氧化物，即本发明所公开的氧化物形式，也在本发明范围之内。

Claims (1)

1、等离子体显示屏基板玻璃，其特征是成分组成和配比为(重量百分比)：SiO2 50～61  Na2O 3～5  Al2O3 4～10K2O 4～8  CaO 3～6  MgO 1～4  ZrO2 1～4  BaO 4～15SrO 3～10  TiO2 0.01～1  P2O3 0.0～0.8。
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