CN102442776A - 数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象、玻璃化温度在685℃以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻璃。本发明的数据存储介质用基板玻璃的特征在于，以质量％表示含有47～60％的SiO2、8～20％的Al2O3、0～8％的MgO、0～6％的CaO、1～18％的SrO、3.7～13％的BaO、1～6％的TiO2、1～5％的ZrO2、2～8％的Na2O、1～15％的K2O，玻璃化温度在685℃以上。

Description

数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板
本申请是国际申请号为PCT/JP2008/055307，国际申请日为2008年3月21日的PCT国际申请进入中国阶段后国家申请号为200880001560.1的标题为“数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板”的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及在磁盘、光盘等数据存储介质的基板中使用的基板用玻璃及玻璃基板。
背景技术
作为磁盘、光盘等数据存储介质基板用玻璃，广泛使用钠钙玻璃。但是，由钠钙玻璃形成的基板可能会因所谓的白斑现象而导致其在库存过程中表面性状发生显著变化。因此，在使用钠钙玻璃作为磁盘基板时，存在形成于基板上的基底膜、磁性膜、保护膜等膜容易剥离的问题。此外，为了使白斑现象不易发生，有对钠钙玻璃进行化学强化处理的方法。但是，化学强化处理存在工序增加、化学强化处理后的基板表面容易附着污垢等问题。于是，目前提出了即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象的数据存储介质用基板玻璃(专利文献1、专利文献2)。
专利文献1：美国专利第6,949,485号公报
专利文献2：美国专利第5,599,754号公报
发明的揭示
然而，专利文献2中记载的基板用玻璃的玻璃化温度(Tg)不到680℃，没有玻璃化温度超过680℃的基板用玻璃。另外，专利文献1的例8中揭示了玻璃化温度为710℃的数据存储介质用基板玻璃，但该玻璃的耐酸性极差(将玻璃在90℃的0.1mol/l的HCl水溶液中浸渍20小时后的重量减少量为11.3mg/cm2)，有在玻璃的研磨工序和清洗工序中暴露于pH较低的化学液时容易发生表面粗糙化的问题。
于是，本发明的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象、玻璃化温度在680℃以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻璃。
本发明提供一种数据存储介质用基板玻璃，该玻璃的特征在于，以质量％表示含有47～60％的SiO2、8～20％的Al2O3、0～8％的MgO、0～6％的CaO、1～18％的SrO、0～13％的BaO、1～6％的TiO2、1～5％的ZrO2、2～8％的Na2O、1～15％的K2O，玻璃化温度在680℃以上。
此外，本发明也提供由所述数据存储介质用基板玻璃形成的玻璃基板。
利用本发明，可提供具有以下优点的数据存储介质用玻璃基板。
(1)即使不进行化学强化处理耐候性也优良，在库存过程中不易产生附着物(白斑)。
(2)可使热膨胀系数与以往使用的钠钙玻璃大致相同或在其以上。
(3)可将玻璃化温度提高至680℃以上，所以可进一步增加数据存储介质的记录密度。
(4)耐酸性优良，在玻璃的研磨工序和清洗工序中暴露于pH较低的化学液时不易发生表面粗糙化。
(5)密度小，为2.8g/cm3以下，作为数据记录介质使用时可实现轻量化。此外，由于基板不易挠曲，因此可增大记录容量。此外，记录介质受到冲击时不易破裂。
(6)杨氏模量高，为75GPa以上，基板不易挠曲，因此可增大记录容量。此外，记录介质受到冲击时不易破裂。
(7)可抑制因制造玻璃基板时的失透而导致的原材料利用率的下降。
实施发明的最佳方式
本发明的基板用玻璃(下面有时简称为本发明的玻璃)可用于磁盘、光盘等数据存储介质用的基板。另外，只要未特别言及，则组成以质量百分率表示。
本发明的玻璃的耐酸性(将玻璃在90℃的0.1mol/l的HCl水溶液中浸渍20小时后的重量减少量)较好为5mg/cm2以下。更好为1mg/cm2以下，特好为0.5mg/cm2以下，最好为0.1mg/cm2以下。优选上述耐酸性的原因是：在玻璃的研磨工序和清洗工序中暴露于pH较低的化学液时不易发生表面粗糙化。
本发明的玻璃在50～350℃下的平均线膨胀系数(下面有时称为热膨胀系数)较好的是与钠钙玻璃大致相同或在其以上，即75×10-7/℃以上。更好为76×10-7/℃以上，特好为77×10-7/℃以上，最好为78×10-7/℃以上。优选上述热膨胀系数的原因是：热膨胀系数被要求与安装在数据存储介质用基板上的插孔的金属的热膨胀系数(典型的是100×10-7/℃以上)更为接近，至少在以往使用的钠钙玻璃的热膨胀系数以上。
本发明的玻璃的玻璃化温度在680℃以上。更好为685℃以上，最好为690℃以上。玻璃化温度在680℃以上的原因是：容易增大数据存储介质的存储密度。即，为增大存储密度，有效的是增加作为磁记录层的磁性层的矫顽力，为此，需要在更高的温度下进行在形成磁性层时实施的热处理。如果数据存储介质用基板中使用的玻璃的玻璃化温度不到680℃，则可能无法在所要的温度下进行所述热处理。
本发明的玻璃的粘度达到104dPa·s时的温度T4和液相温度TL的差ΔT(＝TL-T4)较好为50℃以下，即ΔT≤50℃。如果ΔT超过50℃，则成形可能会变得困难。更好为30℃以下，特好为0℃以下。优选上述ΔT的原因是：在通过浮法、熔融法、下引法、加压法等进行大量生产时，可抑制因失透而导致的原材料利用率下降。其中，较好的是通过浮法将本发明的玻璃成形。
本发明的玻璃的密度较好为2.8g/cm3以下。更好为2.77g/cm3以下，最好为2.75g/cm3以下。优选上述密度的原因是：实施数据记录介质的轻量化。此外也因为：在为了增加记录介质的记录容量而进行基板的薄板化、减小记录介质和读取头的间隔时，抑制伴随所述基板的薄板化而发生的挠曲或翘曲。此外也因为：在记录介质受到冲击时，可使基板不易挠曲，抑制应力的产生，使破裂不易发生。
本发明的玻璃的杨氏模量、即本发明的玻璃基板的杨氏模量较好为75GPa以上。更好为76GPa以上，特好为78GPa以上，最好为80GPa以上。优选上述杨氏模量的原因是：在为了增加记录介质的记录容量而进行基板的薄板化、减小记录介质和读取头的间隔时，抑制伴随所述基板的薄板化而发生的挠曲或翘曲。此外也因为：在记录介质受到冲击时，可使基板不易挠曲，抑制应力的产生，使破裂不易发生。
接着，以氧化物为基准、如无特别限定则以质量百分率表示，对本发明的基板用玻璃的组成(各成分的含量)进行说明。
SiO2是形成玻璃骨架的必需成分。如果不足47％，则玻璃变得不稳定。此外，耐候性、耐酸性、杨氏模量可能会下降。更好为48％以上，特好为49％以上，最好为50％以上。如果超过60％，则热膨胀系数过小，制作玻璃时的熔化温度过高。较好为57％以下。
此外，SiO2的以摩尔百分率表示的含量较好为59％以上。如果SiO2不到59摩尔％，则耐酸性可能会下降。
Al2O3具有提高玻璃的耐候性和杨氏模量的效果，是必需成分。此外也具有提高玻璃化温度的效果。如果不足8％，则所述效果不明显。较好为10％以上，更好为11％以上。如果超过20％，则熔融玻璃的粘度过高，成形、特别是浮法成形变得困难。此外，液相温度也过高。较好为18％以下，更好为17％以下，特好为16％以下。
MgO不是必需成分，但具有使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融、提高杨氏模量的效果，至多可以含有8％。如果超过8％，则有化学耐久性恶化、玻璃变得不稳定、液相温度也过高的可能。在欲使所述ΔT更小等情况下，较好为7％以下。含有MgO的情况下，较好的是含有1％以上。
CaO不是必需成分，但具有使熔融玻璃的粘度下降、提高杨氏模量或使玻璃容易熔融的效果，至多可以含有6％。如果CaO超过6％，则有玻璃的化学耐久性恶化、玻璃变得不稳定、液相温度过高的可能。较好为5.5％以下。另外，欲降低液相温度或欲使所述ΔT更小的情况下，较好的是含有1.5％以上的CaO。如果欲使CaO不足1.5％，则有热膨胀系数下降的倾向。为了回避该问题，例如会引发如下问题：如果增加碱金属氧化物，则玻璃化温度下降，如果增加SrO和BaO，则密度变大，如果增加MgO，则液相温度升高，等等。较好为2％以上。
SrO具有增大热膨胀系数、使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融的效果，是必需的。如果不足1％，则所述效果不明显。较好为2％以上，更好为3％以上，特好为4％以上，最好为5％以上。如果超过18％，则有化学耐久性恶化、玻璃变得不稳定、液相温度也过高、玻璃的密度过高的可能。较好为17％以下，更好为16％以下，特好为15％以下，最好为14％以下。
BaO不是必需成分，但具有提高玻璃化温度、增大热膨胀系数、使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融的效果，至多可以含有13％。如果超过13％，则有玻璃的耐候性下降、液相温度过高、玻璃的密度过高的可能。较好为10％以下。在欲减小密度等情况下，较好为8％以下。含有BaO时，较好的是含有0.5％以上。另外，在欲进一步提高耐候性的情况下，较好的是实质上不含有BaO。
TiO2具有增大热膨胀系数、提高玻璃的耐候性、提高玻璃化温度或提高杨氏模量的效果，是必需的。如果超过6％，则玻璃可能会变得不稳定。较好为5％以下。如果不足1％，则玻璃的耐热性或玻璃化温度下降。较好的是含有2％以上，更好的是含有3％以上。
ZrO2具有提高玻璃的耐候性、提高玻璃化温度的效果，是必需的。如果超过5％，则有玻璃变得不稳定、液相温度过高、密度过高的可能。
TiO2和ZrO2的含量之和(TiO2+ZrO2)较好为11％以下。如果(TiO2+ZrO2)不足11％，则有耐热性或玻璃化温度下降、或者是高温粘性升高的可能。
BaO和ZrO2的含量之和较好为6.5摩尔％以下。如果该和超过6.5摩尔％，则密度或液相温度可能会过高。
Na2O具有增大热膨胀系数、使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融的效果，是必需的。
如果Na2O超过8％，则玻璃的耐候性可能会下降。较好为5％以下。如果不足2％，则热膨胀系数变小。
K2O具有增大热膨胀系数、使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融的效果，是必需的。
如果K2O超过15％，则有玻璃的耐候性下降、液相温度过高的可能。较好为14.5％以下，更好为13％以下，特好为12％以下，最好为不足11％。如果不足1％，则热膨胀系数变小。较好为3％以上，更好为5％以上。
(Na2O+K2O)较好为16％以下。如果超过16％，则有耐候性下降、玻璃化温度降低的可能。较好为15％以下，更好为14％以下，特好为13％以下。(Na2O+K2O)较好为5％以上。如果不足5％，则熔融玻璃的粘度可能会过高。更好为8％以上。
K2O/Na2O较好为1.5以上40以下。如果不足1.5，则有玻璃化温度降低、热膨胀系数变小的可能。或者，由于为了抑制玻璃化温度的下降而不得不含有更多的Al2O3、ZrO2、SiO2等成分等原因，高温粘性可能会升高。如果超过40，则熔融玻璃的粘度可能会过高。较好为30以下，更好为10以下，特好为5以下。
SiO2/(TiO2+ZrO2)较好为5.0～10.0。如果不足5.0，则玻璃化温度可能会降低。如果超过10，则液相温度可能会升高。较好为9.8以下，更好为9.5以下。
本发明的玻璃实质上或本质上由上述成分形成，除此之外也可以在不影响本发明的目的的范围内含有以下例举的成分。上述成分以外的成分的含量的总和较好为20％以下，更好为5％以下。
至多可以含有总量为5％的SO3、Cl、As2O3、Sb2O3等澄清剂和Fe2O3、NiO、CoO等着色剂。
为了增大热膨胀系数、使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融，至多可以含有总计10％的ZnO、Li2O。含有Li2O时，其含量较好为0.1～5％。如果Li2O的含量超过5％，则有耐候性下降、玻璃化温度降低的可能。总计更好为5％以下，特好为3％以下。
为提高玻璃的熔化性和稳定性，可以含有B2O3、P2O5、V2O5等，为了增大杨氏模量，可以含有La2O3、Y2O3等稀土金属氧化物，它们的总量至多为15％。较好为5％以下。
SrO和BaO的以摩尔％表示的含量的总和与RO(MgO、CaO、SrO及BaO的以摩尔％表示的含量的总和)的比值较好为0.01以上3以下。如果不足0.01，则有玻璃的液相温度过高、玻璃化温度降低的可能。如果超过3，则有玻璃的耐候性下降、玻璃的密度升高、玻璃的强度下降的可能。较好为2以下，更好为1以下。
本发明的玻璃基板可用作磁盘、光盘等数据存储介质用的基板。
本发明的玻璃基板由本发明的玻璃形成，较好的是在充分清洗表面、使其处于无法观察到附着物的状态、然后在120℃、2个大气压的水蒸气气氛中放置20小时后，该玻璃基板的表面上所存在的大小在10μm以上的附着物的数量NL为1个/cm2以下，大小在1μm以上但小于10μm的附着物的数量NS为107个/cm2以下。
如果NL超过1个/cm2或NS超过107个/cm2，则在玻璃基板的库存过程中，在玻璃基板表面产生附着物(白斑)，在磁盘中，形成于玻璃基板上的基底膜、磁性膜、保护膜等膜容易剥离。该附着物被认为是因空气中的水分和二氧化碳的影响而生成并附着于玻璃基板的反应生成物，即使进行擦拭也无法除去。NL较好为0.5个/cm2以下，更好为0.2个/cm2以下。NS较好为105个/cm2以下，更好为0.8×105个/cm2以下，特好为0.6×105个/cm2以下。
对本发明的玻璃及玻璃基板的制造方法无特别限定，可采用各种方法。例如，按照目标组成调和常用的各成分的原料，用玻璃熔融窑将其加热熔融。然后，通过鼓泡、搅拌、澄清剂的添加等将玻璃均质化，再利用公知的浮法、加压法或下引法等方法成形为规定厚度的平板玻璃，退火后根据需要进行研削、研磨等加工，形成为规定尺寸和形状的玻璃基板。作为成形法，特别优选适合于大量生产的浮法。
实施例
按照表1、2的从SiO2至K2O的栏中以质量百分率表示的组成调和各成分的原料，用铂坩锅在1550～1650℃的温度下熔化3～5小时。接着，使熔融玻璃流出，将其成形为板状，退火。
对于由此得到的玻璃板，通过以下所示的方法测定玻璃化温度Tg(单位：℃)、热膨胀系数α(单位：×10-7/℃)、密度ρ(单位：g/cm3)、杨氏模量E(单位：GPa)、粘度达到104泊时的温度T4(单位：℃)、液相温度TL(单位：℃)、耐酸性A(单位：mg/cm2)、所述NL(单位：个/cm2)以及所述NS(单位：个/cm2)。结果示于表中。另外，表中的带*的项目是根据组成推定的值，“-”表示未测定。
Tg：采用差示热膨胀计，以石英玻璃作为参照试样，测定从室温以5℃/分钟的比例升温时的玻璃的伸长率，直至玻璃软化到已经无法观测到伸长时的温度、即屈服点，将与热膨胀曲线中的拐点相当的温度作为玻璃化温度。
α：与上述Tg的测定同样地进行操作，由所得的热膨胀曲线算出50～350℃下的平均热膨胀系数。
ρ：通过阿基米德法测定。
E：通过超声波脉冲法对厚度为8～20mm、尺寸为4cm×4cm的玻璃板进行测定。
T4：用旋转粘度计测定。
TL：用研钵将玻璃粉碎成2mm左右的玻璃粒子，将该玻璃粒子排列放置于铂舟中，在梯温炉中热处理24小时。将析出结晶的玻璃粒子的温度的最高值作为液相温度。TL较好为1200℃以下。
A：对厚度为2mm、尺寸为4cm×4cm的玻璃板的两面进行镜面研磨，用碳酸钙和中性洗剂清洗后，在已加热至90℃的0.1mol/l的HCl水溶液中浸渍20小时。测定浸渍前后的玻璃的重量减少量和玻璃的表面积，取其比值作为耐酸性。
NL、NS：对厚度为1～2mm、尺寸为4cm×4cm的玻璃板的两面进行镜面研磨，用碳酸钙和中性洗剂清洗后，装入超加速寿命试验器(不饱和型压力蒸煮器TPC-410，田叶井爱斯佩克(タバィェスペック)株式会社)，在120℃、2个大气压的水蒸气气氛中静置20小时。用微分干涉显微镜观察取出的玻璃板的表面200μm见方的范围，对大小为10μm以上的附着物的个数以及大小为1μm以上且不足10μm的附着物的个数进行计数，由它们的个数和上述观察面积200μm×200μm算出。
例1～8的玻璃是实施例，例9～13的玻璃是比较例。例10的玻璃是美国专利第6,949,485号说明书(例8)中记载的玻璃。
[表1]
  例1   例2   例3   例4   例5   例6   例7
  SiO2   54.4   54.7   53.6   53.0   52.9   51.2   51
  Al2O3   12.8   13.0   12.9   12.7   11.7   13   14.4
  MgO   4.9   4.5   4.2   4.1   3.8   2.9   1.7
  CaO   5.2   5.1   5.0   3.7   4.9   2.4   4
  SrO   3.1   3.1   6.9   10.7   7.9   13.2   11.7
  BaO   0   0   0   0   1.6   0   0
  TiO2   4.8   4.8   4.2   4.1   4.1   4   4
  ZrO2   1.9   1.9   1.8   1.8   3.3   3.5   3.5
  Na2O   3.7   3.7   3.7   3.6   3.6   3.1   3.1
  K2O   9.2   9.2   7.7   6.2   6.2   6.7   6.7
  Na2O+K2O   12.9   12.9   11.4   9.8   9.8   9.8   9.8
  K2O/Na2O   2.5   2.5   2.1   1.7   1.7   2.2   2.2
  SiO2/(TiO2+ZrO2)   8.1   8.2   8.9   9.0   7.1   6.8   6.8
  Tg   683   687   689   691   693   704   714
  α   86   85   84   81   81   80   80
  ρ   2.62   2.61   2.67   2.71   2.73   2.76   2.75
  E   78   78*   80*   81   82*   78*   82
  T4   1161   1170*   1152*   1147   1151*   1170*   1185
  TL   1200   1180   1180   1140   -   1150   1170
  A   0.05*   0.05*   0.05*   0.03   0.05*   0.05*   0.05*
  NL   0*   0*   0   0   0*   0*   0*
  NS   2*   2*   2   2   1*   1*   0*
[表2]
  例8   例9   例10   例11   例12   例13
  SiO2   50.3   53.7   43.9   58.2   54.4   54.7
  Al2O3   16.4   12.6   16.5   13.0   12.8   12.9
  MgO   1.1   4.8   2.6   7.4   4.9   4.9
  CaO   3.5   5.2   8.9   2.8   6.1   7.0
  SrO   11.6   3.1   14   0   0   0
  BaO   0   0.0   0.5   0   0   0
  TiO2   3.9   2.4   8.8   3.7   7.2   4.9
  ZrO2   3.4   5.5   0   0   0   1.9
  Na2O   2.6   3.7   2.3   0.5   0.5   2.4
  K2O   7.2   9.1   2.5   14.5   14.2   11.4
  Na2O+K2O   9.8   12.8   4.8   15.0   14.7   13.8
  K2O/Na20   2.8   2.5   1.1   30.4   3O.4   4.9
  SiO2/(TiO2+ZrO2)   6.9   6.8   5.0   15.8   7.5   8.1
  Tg   733   696   710   685*   700*   691*
  α   78   84   75   74*   76*   78*
  ρ   2.73   2.65   2.89   2.49*   2.55*   2.58*
  E   79*   81   90*   81*   86*   85*
  T4   1227*   1185   1076*   1225*   1184*   1176*
  TL   -   超过1200   -   超过1200   超过1200   超过1200
  A   0.05*   0.05*   11.3   0.05*   0.05*   0.05*
  NL   0*   0*   0   0*   0*   0*
  NS   3*   8*   1   8*   5*   3*
[表3]
  例1   例2   例3   例4   例5   例6   例7
  SiO2   60.0   60.6   60.0   60.1   60.0   60.0   59.9
  Al2O3   8.3   8.5   8.5   8.5   7.8   9.0   10.0
  MgO   8.1   7.4   7.0   6.9   6.4   5.1   3.0
  CaO   6.2   6.1   6.0   4.5   6.0   3.0   5.0
  SrO   2.0   2.0   4.5   7.0   5.2   9.0   8.0
  BaO   0   0   0   0   0.7   0   0
  TiO2   4.0   4.0   3.5   3.5   3.5   3.5   3.5
  Zr02   1.0   1.0   1.0   1.0   1.8   2.0   2.0
  Na2O   4.0   4.0   4.0   4.0   4.0   3.5   3.5
  K2O   6.5   6.5   5.5   4.5   4.5   5.0   5.0
  (SrO+BaO)/RO   0.12   0.13   0.26   0.38   0.32   0.53   0.50
[表4]
  例8   例9   例10   例11   例12   例13
  SiO2   60.0   60.0   51.2   63.0   60.0   60.0
  Al2O3   11.5   8.3   11.3   8.3   8.3   8.3
  MgO   2.0   8.0   4.5   12.0   8.0   8.0
  CaO   4.5   6.2   11.1   3.2   7.2   8.2
  SrO   8.0   2.0   9.5   0   0   0
  BaO   0   0   0.2   0   0   0
  TiO2   3.5   2.0   7.7   3.0   6.0   4.0
  ZrO2   2.0   3.0   0.0   0   0   1.0
  Na2O   3.0   4.0   2.6   0.5   0.5   2.5
  K2O   5.5   6.5   1.9   10.0   10.0   8.0
  (SrO+BaO)/RO   0.55   0.12   0.55   0   0   0
表5、6中揭示的是以质量％表示的玻璃组成和根据该组成推定的Tg、α、ρ、E、T4、TL、A、NL、NS。例14～22是实施例，例23是比较例。
此外，表7、8中揭示的是例14～23的玻璃的以摩尔％表示的组成。
[表5]
  例14   例15   例16   例17   例18   例19   例20
  SiO2   49.0   59.0   50.1   50.2   51.1   51.1   49.5
  Al2O3   13.9   8.7   19.0   11.2   12.3   12.3   15.6
  MgO   0.1   2.1   0   3.9   4.0   3.1   0
  CaO   2.0   6.0   6.0   0   4.0   4.4   4.4
  SrO   14.0   1.0   1.0   9.0   1.5   5.1   1.0
  BaO   0.0   0   8.1   4.7   12.0   8.7   10.2
  TiO2   2.8   4.8   4.4   4.4   4.0   4.0   4.4
  ZrO2   4.9   4.9   1.1   5.0   1.7   1.7   4.9
  Na2O   2.0   2.0   4.7   2.0   3.5   3.5   7.0
  K2O   11.4   11.5   5.6   9.6   6.0   6.0   3.0
  Na2O+K2O   13.4   13.5   10.3   11.6   9.5   9.5   10.0
  K2O/Na2O   0.18   5.8   1.2   4.8   1.7   1.7   0.4
  SiO2/(TiO2+ZrO2)   6.40   6.1   9.1   5.3   9.0   9.0   5.3
  Tg   687   685   726   695   709   701   718
  α   88.9   81   81   81   80   81   81
  ρ   2.77   2.58   2.70   2.80   2.80   2.80   2.80
  E   75   75   75   78   78   78   77
  T4   1215   1220   1274   1205   1205   1183   1250
  TL   -   -   -   -   -   -   -
  A   -   -   -   -   -   -   -
  NL   0   -   -   -   -   -   -
  NS   20   1   1   20   5   3   1
[表6]
  例21   例22   例23
  SiO2   54.2   54.6   47.5
  Al2O3   l 0.9   9.0   11.4
  MgO   6.9   2.9   0.0
  CaO   1.6   5.8   3.3
  SrO   1.0   1.0   9.5
  BaO   0   3.7   14.1
  TiO2   4.8   4.7   3.7
  ZrO2   5.0   4.9   1.6
  Na2O   2.0   2.1   3.3
  K2O   13.7   11.3   5.6
  Na2O+K2O   15.8   13.3   8.8
  K2O/Na2O   6.9   5.5   1.7
  SiO2/(TiO2+ZrO2)   5.6   5.7   9.0
  Tg   681   688   706
  α   85   85   75
  ρ   2.59   2.67   2.97
  E   77   76   86
  T4   1198   1194   1190
  TL   -   -   -
  A   -   -   -
  NL   -   -   -
  NS   5   l   1
[表7]
  例14   例15   例l 6   例17   例18   例l 9   例20
  SiO2   60.4   65.9   60.0   60.1   60.0   60.0   60.1
  Al2O3   10.1   5.7   13.4   7.9   8.5   8.5   11.2
  MgO   0.1   3.5   0   7.0   7.0   5.5   0.0
  CaO   2.6   7.2   7.7   0.0   5.0   5.5   5.7
  SrO   10.0   0.6   0.7   6.2   1.0   3.5   0.7
  BaO   0.0   0.0   3.8   2.2   5.5   4.0   4.8
  TiO2   2.6   4.0   4.0   4.0   3.5   3.5   4.0
  ZrO2   2.9   2.7   0.6   2.9   1.0   1.0   2.9
  Na2O   2.4   2.2   5.5   2.3   4.0   4.0   8.2
  K2O   8.9   8.2   4.3   7.3   4.5   4.5   2.3
  (SrO+BaO)/RO   0.78   0.06   0.37   0.55   0.35   0.41   0.49
[表8]
  例21   例22   例23
  SiO2   60.3   62.3   60.0
  Al2O3   7.1   6.1   8.5
  MgO   11.4   5.0   0.0
  CaO   1.9   7.1   4.5
  SrO   0.6   0.7   7.0
  BaO   0.0   1.6   7.0
  TiO2   4.0   4.0   3.5
  ZrO2   2.7   2.7   1.0
  Na2O   2.2   2.3   4.0
  K2O   9.8   8.2   4.5
  (SrO+BaO)/RO   0.05   0.16   0.76
产业上利用的可能性
本发明的玻璃基板可作为磁盘、光盘等数据存储介质的基板在极为广泛的领域内使用。
另外，在这里引用2007年3月23日提出申请的日本专利申请2007-077020号的说明书、权利要求书、附图和摘要的所有内容作为本发明说明书的揭示。

Claims (17)

1.一种数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，以质量％表示含有47～60％的SiO2、8～20％的Al2O3、0～8％的MgO、0～6％的CaO、1～18％的SrO、3.7～13％的BaO、1～6％的Ti O2、1～5％的ZrO2、2～8％的Na2O、1～15％的K2O，玻璃化温度在685℃以上。
2.如权利要求1所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，K2O的以质量％表示的含量与Na2O的以质量％表示的含量的比值K2O/Na2O为1.5以上。
3.如权利要求1或2所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，所述K2O/Na2O为10以下。
4.如权利要求1～3中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，Na2O的含量和K2O的含量之和Na2O+K2O为16质量％以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，Na2O+K2O为13质量％以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，SiO2的以质量％表示的含量与TiO2和ZrO2的以质量％表示的含量之和的比值SiO2/(TiO2+ZrO2)为5.0～10.0。
7.如权利要求1～6中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，含有11质量％以上的Al2O3。
8.如权利要求1～7中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，TiO2和ZrO2的含量之和为11质量％以下。
9.如权利要求1～8中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，SiO2的含量为59摩尔％以上。
10.如权利要求1～9中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，BaO和ZrO2的含量之和为6.5摩尔％以下。
11.如权利要求1～10中任一项所述的数据存储介质基板用玻璃，其特征在于，密度为2.8g/cm3以下。
12.如权利要求1～11中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，将液相温度记为TL(单位：℃)、将粘度达到104dPa·s时的温度记为T4(单位：℃)时，TL-T4≤50℃。
13.如权利要求1～12中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，将玻璃在90℃的0.1mol/l的HCl水溶液中浸渍20小时后的重量减少量为5mg/cm2以下。
14.如权利要求1～13中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，在50～350℃下的平均线膨胀系数为75×10-7/℃以上。
15.一种玻璃基板，其特征在于，由权利要求1～14中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃形成。
16.一种玻璃基板，由权利要求1～14中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃形成，其特征在于，在120℃和2个大气压的水蒸气气氛中放置20小时后，该玻璃基板的表面上所存在的大小在10μm以上的附着物的数量为1个/cm2以下，大小在1μm以上但小于10μm的附着物的数量为107个/cm2以下。
17.一种玻璃基板，由权利要求1～14中任一项所述的数据存储介质用基板玻璃形成，其特征在于，杨氏模量为75GPa以上。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110944953A (zh) * 2017-07-26 2020-03-31 Ａｇｃ株式会社 半导体封装用支承玻璃

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009054419A1 (ja) * 2007-10-25 2009-04-30 Asahi Glass Company, Limited 基板用ガラス組成物およびその製造方法
CN101622205B (zh) 2008-01-28 2012-09-26 旭硝子株式会社 数据存储介质基板用玻璃、数据存储介质用玻璃基板及磁盘
CN101959819A (zh) * 2008-02-27 2011-01-26 旭硝子株式会社 基板用玻璃组合物
JP5904239B2 (ja) * 2009-04-02 2016-04-13 旭硝子株式会社 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
JP5699434B2 (ja) * 2009-04-02 2015-04-08 旭硝子株式会社 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
JP5267436B2 (ja) 2009-11-20 2013-08-21 旭硝子株式会社 情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
JP5471353B2 (ja) 2009-11-24 2014-04-16 旭硝子株式会社 情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク
US8806895B2 (en) * 2010-12-09 2014-08-19 Hoya Corporation Manufacturing method for a glass substrate for magnetic disk
JP2012160252A (ja) 2011-01-31 2012-08-23 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JP6175742B2 (ja) * 2011-05-18 2017-08-09 日本電気硝子株式会社 高屈折率ガラス
JP5981841B2 (ja) * 2012-12-27 2016-08-31 株式会社神戸製鋼所 磁気記録媒体用アルミニウム基板の製造方法
JP5680809B1 (ja) 2013-06-20 2015-03-04 日本板硝子株式会社 ガラス組成物、化学強化ガラス、及び情報記録媒体用ガラス基板
US11951713B2 (en) 2020-12-10 2024-04-09 Corning Incorporated Glass with unique fracture behavior for vehicle windshield
JPWO2022138693A1 (zh) * 2020-12-23 2022-06-30

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5599754A (en) 1994-10-14 1997-02-04 Asahi Glass Company Ltd. Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof
JPH1025129A (ja) * 1996-07-12 1998-01-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 基板用ガラス
JP3989988B2 (ja) * 1996-09-04 2007-10-10 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法
US6313052B1 (en) 1998-02-27 2001-11-06 Asahi Glass Company Ltd. Glass for a substrate
TW565539B (en) 1998-08-11 2003-12-11 Asahi Glass Co Ltd Glass for a substrate
US6387510B1 (en) 1999-04-13 2002-05-14 Asahi Glass Company, Limited Glass for a data storage medium substrate and glass substrate for data storage media
JP5022532B2 (ja) * 1999-06-08 2012-09-12 旭硝子株式会社 基板用ガラスおよびガラス基板
JP4635297B2 (ja) * 1999-06-08 2011-02-23 旭硝子株式会社 基板用ガラスおよびガラス基板
JP2001134925A (ja) 1999-08-25 2001-05-18 Asahi Glass Co Ltd 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
JP2001172043A (ja) * 1999-12-20 2001-06-26 Asahi Glass Co Ltd 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
JP2001294441A (ja) 2000-04-11 2001-10-23 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラス
JP2001348246A (ja) * 2000-06-01 2001-12-18 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラスおよびガラス基板
US6949485B2 (en) * 2000-06-01 2005-09-27 Asabi Glass Company, Limited Glass for substrate and glass substrate
JP4572453B2 (ja) 2000-07-19 2010-11-04 旭硝子株式会社 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
JP4549184B2 (ja) 2002-06-03 2010-09-22 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板並びに情報記録媒体およびその製造方法
WO2004039738A1 (ja) 2002-10-29 2004-05-13 Hoya Corporation 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法
US7601446B2 (en) * 2002-11-07 2009-10-13 Hoya Corporation Substrate for information recording medium, information recording medium and method for manufacturing same
JP2004288228A (ja) 2003-01-31 2004-10-14 Hoya Corp 情報記録媒体用基板、情報記録媒体およびその製造方法
JP5131190B2 (ja) * 2006-05-10 2013-01-30 旭硝子株式会社 ディスプレイ基板用フロートガラス及びその製造方法
WO2008062847A1 (fr) 2006-11-22 2008-05-29 Asahi Glass Company, Limited Verre pour substrat support d'enregistrement d'informations
JP5206261B2 (ja) 2007-10-26 2013-06-12 旭硝子株式会社 情報記録媒体基板用ガラス、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110944953A (zh) * 2017-07-26 2020-03-31 Ａｇｃ株式会社 半导体封装用支承玻璃

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