JP2001261365A - 基板用ガラス - Google Patents
基板用ガラスInfo
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- JP2001261365A JP2001261365A JP2000084060A JP2000084060A JP2001261365A JP 2001261365 A JP2001261365 A JP 2001261365A JP 2000084060 A JP2000084060 A JP 2000084060A JP 2000084060 A JP2000084060 A JP 2000084060A JP 2001261365 A JP2001261365 A JP 2001261365A
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- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高ヤング率かつ高膨張係数の基板用ガラスの提
供。 【解決手段】モル％で、Ａｌ2Ｏ3：１０〜５０、Ｃａ
Ｏ：２０〜７０、ＳｉＯ2：０〜２５、ＭｇＯ：０〜２
５、ＳｒＯ：０〜２５、ＢａＯ：０〜２５、ＺｎＯ：０
〜２５、ＴｉＯ2：０〜２５、ＺｒＯ2：０〜１５、Ｌｉ
2Ｏ：０〜１５、Ｎａ2Ｏ：０〜１５、Ｋ2Ｏ：０〜１
５、Ｙ2Ｏ3：０〜２５、Ｌａ2Ｏ3：０〜２５、である基
板用ガラス。
供。 【解決手段】モル％で、Ａｌ2Ｏ3：１０〜５０、Ｃａ
Ｏ：２０〜７０、ＳｉＯ2：０〜２５、ＭｇＯ：０〜２
５、ＳｒＯ：０〜２５、ＢａＯ：０〜２５、ＺｎＯ：０
〜２５、ＴｉＯ2：０〜２５、ＺｒＯ2：０〜１５、Ｌｉ
2Ｏ：０〜１５、Ｎａ2Ｏ：０〜１５、Ｋ2Ｏ：０〜１
５、Ｙ2Ｏ3：０〜２５、Ｌａ2Ｏ3：０〜２５、である基
板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
ディスク等の情報記録媒体、バンドパスフィルタ等の光
回路部品、等の基板に用いられるガラスに関する。
ディスク等の情報記録媒体、バンドパスフィルタ等の光
回路部品、等の基板に用いられるガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、情報記録媒体用基板、たとえば磁
気ディスク（ハードディスク）用基板の材料としては、
アルミニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが
知られている。現在では、サイズや用途に応じて主にア
ルミニウムおよびガラスが実用化されている。なかでも
ガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れている
ため、その使用範囲が拡大している。
気ディスク（ハードディスク）用基板の材料としては、
アルミニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが
知られている。現在では、サイズや用途に応じて主にア
ルミニウムおよびガラスが実用化されている。なかでも
ガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れている
ため、その使用範囲が拡大している。
【０００３】このような基板に従来使用されているガラ
スとして、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：６５．３
％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ
2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）が例示される。
スとして、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：６５．３
％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ
2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）が例示される。
【０００４】一方、情報記録媒体用基板のたわみや反り
の問題を解決するために、高ヤング率のガラスが求めら
れている。このような問題を解決するガラスとして、特
開平１０−８１５４２号公報には、ヤング率が１００Ｇ
Ｐａ以上であるガラスが開示されている。
の問題を解決するために、高ヤング率のガラスが求めら
れている。このような問題を解決するガラスとして、特
開平１０−８１５４２号公報には、ヤング率が１００Ｇ
Ｐａ以上であるガラスが開示されている。
【０００５】また、バンドパスフィルタ等の光回路部品
においては、ガラスまたは結晶化ガラスからなる基板が
用いられている。たとえば、光回路の分波用または合波
用バンドパスフィルタには、結晶化ガラス基板に種々の
セラミックス薄膜またはガラス薄膜を積層したものが用
いられてきている。このような基板用の結晶化ガラスと
して、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：７４．５％、Ａ
ｌ2Ｏ3：３．８％、ＭｇＯ：１．１％、ＣａＯ：０．１
％、ＺｎＯ：０．４％、ＺｒＯ2：０．６％、Ｌｉ2Ｏ：
１８．１％、Ｎａ2Ｏ：０．１％、Ｋ2Ｏ：１．２％、Ｐ
2Ｏ5：０．１％、である結晶化ガラス（以下「従来結晶
化ガラス」という。）が例示される。この従来結晶化ガ
ラスには、Ｌｉ2Ｏ・２ＳｉＯ2等の結晶が析出してい
る。
においては、ガラスまたは結晶化ガラスからなる基板が
用いられている。たとえば、光回路の分波用または合波
用バンドパスフィルタには、結晶化ガラス基板に種々の
セラミックス薄膜またはガラス薄膜を積層したものが用
いられてきている。このような基板用の結晶化ガラスと
して、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：７４．５％、Ａ
ｌ2Ｏ3：３．８％、ＭｇＯ：１．１％、ＣａＯ：０．１
％、ＺｎＯ：０．４％、ＺｒＯ2：０．６％、Ｌｉ2Ｏ：
１８．１％、Ｎａ2Ｏ：０．１％、Ｋ2Ｏ：１．２％、Ｐ
2Ｏ5：０．１％、である結晶化ガラス（以下「従来結晶
化ガラス」という。）が例示される。この従来結晶化ガ
ラスには、Ｌｉ2Ｏ・２ＳｉＯ2等の結晶が析出してい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクには多く
の金属材料が用いられており、ガラス基板とその周囲で
用いられる金属材料の膨張係数マッチングが重要であ
る。たとえば、ガラス基板を固定しているクランプはス
テンレス鋼等の金属である。このガラス基板は磁気ディ
スク使用時には高速で回転し、その際、駆動モータ等の
発熱によってクランプの温度は９０℃またはそれ以上に
上昇する。
の金属材料が用いられており、ガラス基板とその周囲で
用いられる金属材料の膨張係数マッチングが重要であ
る。たとえば、ガラス基板を固定しているクランプはス
テンレス鋼等の金属である。このガラス基板は磁気ディ
スク使用時には高速で回転し、その際、駆動モータ等の
発熱によってクランプの温度は９０℃またはそれ以上に
上昇する。
【０００７】クランプとガラス基板の膨張係数の差が大
きいほど、このクランプの温度上昇により次のような問
題が生じる可能性が高くなる。すなわち、クランプによ
るガラス基板の固定が緩んだり、またはガラス基板に歪
みやたわみが生じ、その結果、データ記録箇所の位置ず
れが起って書き込みエラーまたは読み込みエラーが生じ
る。なお、金属材料の５０〜３５０℃における平均線膨
張係数αは、典型的には１１０×１０-7／℃程度であ
る。
きいほど、このクランプの温度上昇により次のような問
題が生じる可能性が高くなる。すなわち、クランプによ
るガラス基板の固定が緩んだり、またはガラス基板に歪
みやたわみが生じ、その結果、データ記録箇所の位置ず
れが起って書き込みエラーまたは読み込みエラーが生じ
る。なお、金属材料の５０〜３５０℃における平均線膨
張係数αは、典型的には１１０×１０-7／℃程度であ
る。
【０００８】また、磁気ディスクのたわみや反りの問題
を解決するために、基板に用いられるガラスのヤング率
が高いことが求められている。前記従来ガラスのαは８
７×１０-7／℃であり、前記膨張係数マッチングの問題
の解決が図られているが、ヤング率は８３ＧＰａであり
決して高くはない。
を解決するために、基板に用いられるガラスのヤング率
が高いことが求められている。前記従来ガラスのαは８
７×１０-7／℃であり、前記膨張係数マッチングの問題
の解決が図られているが、ヤング率は８３ＧＰａであり
決して高くはない。
【０００９】また、表面に積層薄膜が形成されている光
回路部品用基板においても、基板とその積層薄膜との膨
張係数マッチングが重要である。たとえば、該光回路部
品を通過した光の中心波長の温度依存性を０．００３ｎ
ｍ／℃以下にするためには、基板のαは８０×１０-7／
℃以上であることが求められる。また、基板は研磨加工
されるので高強度したがって高ヤング率であることが求
められている。
回路部品用基板においても、基板とその積層薄膜との膨
張係数マッチングが重要である。たとえば、該光回路部
品を通過した光の中心波長の温度依存性を０．００３ｎ
ｍ／℃以下にするためには、基板のαは８０×１０-7／
℃以上であることが求められる。また、基板は研磨加工
されるので高強度したがって高ヤング率であることが求
められている。
【００１０】前記従来結晶化ガラスのαは８７×１０-7
／℃であり、またそのヤング率は９４ＧＰａであって比
較的高いが、結晶化工程が必須であり、したがって製造
工程がガラス基板に比べて多い問題がある。本発明は、
以上の課題を解決する、高ヤング率かつ高膨張係数の基
板用ガラスの提供を目的とする。
／℃であり、またそのヤング率は９４ＧＰａであって比
較的高いが、結晶化工程が必須であり、したがって製造
工程がガラス基板に比べて多い問題がある。本発明は、
以上の課題を解決する、高ヤング率かつ高膨張係数の基
板用ガラスの提供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記酸化物基
準のモル％表示で、実質的に、 Ａｌ2Ｏ3 １０〜５０、 ＣａＯ ２０〜７０、 ＳｉＯ2 ０〜２５、 ＭｇＯ ０〜２５、 ＳｒＯ ０〜２５、 ＢａＯ ０〜２５、 ＺｎＯ ０〜２５、 ＴｉＯ2 ０〜２５、 ＺｒＯ2 ０〜１５、 Ｌｉ2Ｏ ０〜１５、 Ｎａ2Ｏ ０〜１５、 Ｋ2Ｏ ０〜１５、 Ｙ2Ｏ3 ０〜２５、 Ｌａ2Ｏ3 ０〜２５、 からなる基板用ガラスを提供する。また、本発明は、前
記基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板およ
び光回路部品用ガラス基板を提供する。
準のモル％表示で、実質的に、 Ａｌ2Ｏ3 １０〜５０、 ＣａＯ ２０〜７０、 ＳｉＯ2 ０〜２５、 ＭｇＯ ０〜２５、 ＳｒＯ ０〜２５、 ＢａＯ ０〜２５、 ＺｎＯ ０〜２５、 ＴｉＯ2 ０〜２５、 ＺｒＯ2 ０〜１５、 Ｌｉ2Ｏ ０〜１５、 Ｎａ2Ｏ ０〜１５、 Ｋ2Ｏ ０〜１５、 Ｙ2Ｏ3 ０〜２５、 Ｌａ2Ｏ3 ０〜２５、 からなる基板用ガラスを提供する。また、本発明は、前
記基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板およ
び光回路部品用ガラス基板を提供する。
【００１２】本発明者は、ＳｉＯ2含有量が２５モル％
超であるケイ酸塩ガラスまたはケイ酸塩結晶化ガラスに
おいて高ヤング率および高膨張係数を同時に満たすこと
が困難であるのは、ケイ酸塩ガラスまたはケイ酸塩結晶
化ガラスのガラス構造に由来することを見出し、本発明
に至った。
超であるケイ酸塩ガラスまたはケイ酸塩結晶化ガラスに
おいて高ヤング率および高膨張係数を同時に満たすこと
が困難であるのは、ケイ酸塩ガラスまたはケイ酸塩結晶
化ガラスのガラス構造に由来することを見出し、本発明
に至った。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の基板用ガラス（本発明の
ガラスという。）の液相温度は１４００℃以下であるこ
とが好ましい。１４００℃超ではガラス製造時に失透す
るおそれがある。より好ましくは１３５０℃以下、特に
好ましくは１３００℃以下、最も好ましくは１２５０℃
以下である。
ガラスという。）の液相温度は１４００℃以下であるこ
とが好ましい。１４００℃超ではガラス製造時に失透す
るおそれがある。より好ましくは１３５０℃以下、特に
好ましくは１３００℃以下、最も好ましくは１２５０℃
以下である。
【００１４】本発明のガラスのヤング率Ｅは９０ＧＰａ
以上であることが好ましい。９０ＧＰａ未満では、基板
がたわんだり反ったりするおそれがある、または基板の
強度が低くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１
００ＧＰａ以上、特に好ましくは１１０ＧＰａ以上であ
る。
以上であることが好ましい。９０ＧＰａ未満では、基板
がたわんだり反ったりするおそれがある、または基板の
強度が低くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１
００ＧＰａ以上、特に好ましくは１１０ＧＰａ以上であ
る。
【００１５】本発明のガラスの比弾性率、すなわちヤン
グ率Ｅを密度ｄで除したものＥ／ｄは３４ＧＰａ／ｇ／
ｃｍ3以上であることが好ましい。３４ＧＰａ／ｇ／ｃ
ｍ3未満では基板がたわんだり反ったりするおそれがあ
る。より好ましくは３５ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上、特に
好ましくは３６ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上、最も好ましく
は３７ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上である。
グ率Ｅを密度ｄで除したものＥ／ｄは３４ＧＰａ／ｇ／
ｃｍ3以上であることが好ましい。３４ＧＰａ／ｇ／ｃ
ｍ3未満では基板がたわんだり反ったりするおそれがあ
る。より好ましくは３５ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上、特に
好ましくは３６ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上、最も好ましく
は３７ＧＰａ／ｇ／ｃｍ3以上である。
【００１６】本発明のガラスの５０〜３５０℃における
平均線膨張係数αは７０×１０-7／℃以上であることが
好ましい。７０×１０-7／℃未満では、磁気ディスクの
金属製クランプ、バンドパスフィルタの積層薄膜、等と
の膨張係数マッチングが困難になるおそれがある。より
好ましくは８０×１０-7／℃以上、特に好ましくは８４
×１０-7／℃以上、最も好ましくは８９×１０-7／℃以
上である。
平均線膨張係数αは７０×１０-7／℃以上であることが
好ましい。７０×１０-7／℃未満では、磁気ディスクの
金属製クランプ、バンドパスフィルタの積層薄膜、等と
の膨張係数マッチングが困難になるおそれがある。より
好ましくは８０×１０-7／℃以上、特に好ましくは８４
×１０-7／℃以上、最も好ましくは８９×１０-7／℃以
上である。
【００１７】本発明のガラスは、下記酸化物基準のモル
％表示で、実質的に、 Ａｌ2Ｏ3 ２０〜３５、 ＣａＯ ４５〜６０、 ＳｉＯ2 ４〜９、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＳｒＯ ０〜１０、 ＢａＯ ０〜１０、 ＺｎＯ ０〜１０、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜７、 Ｌｉ2Ｏ ０〜８、 Ｎａ2Ｏ ０〜６、 Ｋ2Ｏ ０〜６、 Ｙ2Ｏ3 ０〜４、 Ｌａ2Ｏ3 ０〜４、 からなり、Ａｌ2Ｏ3およびＣａＯの含有量の合計とＳｉ
Ｏ2の含有量の比（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／ＳｉＯ2が１０
以上であることが好ましい。
％表示で、実質的に、 Ａｌ2Ｏ3 ２０〜３５、 ＣａＯ ４５〜６０、 ＳｉＯ2 ４〜９、 ＭｇＯ ０〜１０、 ＳｒＯ ０〜１０、 ＢａＯ ０〜１０、 ＺｎＯ ０〜１０、 ＴｉＯ2 ０〜１０、 ＺｒＯ2 ０〜７、 Ｌｉ2Ｏ ０〜８、 Ｎａ2Ｏ ０〜６、 Ｋ2Ｏ ０〜６、 Ｙ2Ｏ3 ０〜４、 Ｌａ2Ｏ3 ０〜４、 からなり、Ａｌ2Ｏ3およびＣａＯの含有量の合計とＳｉ
Ｏ2の含有量の比（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／ＳｉＯ2が１０
以上であることが好ましい。
【００１８】次に、本発明のガラスの組成について、モ
ル％を単に％と表示して説明する。Ａｌ2Ｏ3はガラスを
安定化させる成分であり必須である。５０％超ではガラ
ス化が困難になる。好ましくは４５％以下、より好まし
くは４０％以下、特に好ましくは３５％以下である。１
０％未満でもガラス化が困難になる。好ましくは１５％
以上、より好ましくは２０％以上である。
ル％を単に％と表示して説明する。Ａｌ2Ｏ3はガラスを
安定化させる成分であり必須である。５０％超ではガラ
ス化が困難になる。好ましくは４５％以下、より好まし
くは４０％以下、特に好ましくは３５％以下である。１
０％未満でもガラス化が困難になる。好ましくは１５％
以上、より好ましくは２０％以上である。
【００１９】ＣａＯはガラスを安定化させる成分であり
必須である。７０％超ではガラス化が困難になる。好ま
しくは６５％以下、より好ましくは６０％以下である。
２０％未満でもガラス化が困難になる。好ましくは３０
％以上、より好ましくは４０％以上、特に好ましくは４
５％以上である。
必須である。７０％超ではガラス化が困難になる。好ま
しくは６５％以下、より好ましくは６０％以下である。
２０％未満でもガラス化が困難になる。好ましくは３０
％以上、より好ましくは４０％以上、特に好ましくは４
５％以上である。
【００２０】ＳｉＯ2は必須ではないが、ガラスを安定
化させ、また液相温度を低下させるために、２５％まで
含有してもよい。２５％超ではＥおよび／またはαが小
さくなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、
より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１２％以
下、最も好ましくは９％以下である。
化させ、また液相温度を低下させるために、２５％まで
含有してもよい。２５％超ではＥおよび／またはαが小
さくなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、
より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１２％以
下、最も好ましくは９％以下である。
【００２１】ＳｉＯ2を含有する場合、その含有量は
０．１％以上であることが好ましい。０．１％未満では
ガラス化が困難になるおそれがある、または液相温度が
高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１％以上、よ
り好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上であ
る。
０．１％以上であることが好ましい。０．１％未満では
ガラス化が困難になるおそれがある、または液相温度が
高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１％以上、よ
り好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上であ
る。
【００２２】ＳｉＯ2の含有量が０．１％以上である場
合、Ａｌ2Ｏ3およびＣａＯの含有量の合計とＳｉＯ2の
含有量の比（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／ＳｉＯ2は２以上で
あることが好ましい。ここで、（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／
ＳｉＯ2は、Ｅおよび／またはαに影響する因子であ
る。この比が２未満ではＥおよび／またはαが小さくな
りすぎる。好ましくは４以上、より好ましくは６以上、
特に好ましくは８以上、最も好ましくは１０以上であ
る。
合、Ａｌ2Ｏ3およびＣａＯの含有量の合計とＳｉＯ2の
含有量の比（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／ＳｉＯ2は２以上で
あることが好ましい。ここで、（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／
ＳｉＯ2は、Ｅおよび／またはαに影響する因子であ
る。この比が２未満ではＥおよび／またはαが小さくな
りすぎる。好ましくは４以上、より好ましくは６以上、
特に好ましくは８以上、最も好ましくは１０以上であ
る。
【００２３】ＭｇＯは必須ではないが、Ｅを大きくする
ために、または液相温度を低下させるために、２５％ま
で含有してもよい。２５％超ではかえって液相温度が高
くなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、よ
り好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下で
ある。ＭｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上で
あることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好
ましくは５％以上である。
ために、または液相温度を低下させるために、２５％ま
で含有してもよい。２５％超ではかえって液相温度が高
くなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、よ
り好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下で
ある。ＭｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上で
あることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好
ましくは５％以上である。
【００２４】ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではな
いが、溶融ガラスの粘度を小さくするために、または液
相温度を低下させるために、それぞれ２５％まで含有し
てもよい。２５％超ではＥが小さくなりすぎるおそれが
ある。それぞれの含有量は、好ましくは２０％以下、よ
り好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下で
ある。ＳｒＯを含有する場合、またはＢａＯを含有する
場合、それぞれの含有量は１％以上であることが好まし
い。より好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上
である。
いが、溶融ガラスの粘度を小さくするために、または液
相温度を低下させるために、それぞれ２５％まで含有し
てもよい。２５％超ではＥが小さくなりすぎるおそれが
ある。それぞれの含有量は、好ましくは２０％以下、よ
り好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下で
ある。ＳｒＯを含有する場合、またはＢａＯを含有する
場合、それぞれの含有量は１％以上であることが好まし
い。より好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上
である。
【００２５】ＺｎＯは必須ではないが、Ｅを大きくする
ために、または液相温度を低下させるために、２５％ま
で含有してもよい。２５％超ではかえって液相温度が高
くなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、よ
り好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下で
ある。ＺｎＯを含有する場合、その含有量は１％以上で
あることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好
ましくは４％以上である。
ために、または液相温度を低下させるために、２５％ま
で含有してもよい。２５％超ではかえって液相温度が高
くなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、よ
り好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下で
ある。ＺｎＯを含有する場合、その含有量は１％以上で
あることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好
ましくは４％以上である。
【００２６】ＴｉＯ2は必須ではないが、Ｅを大きくす
るために、または化学的耐久性を高くするために、２５
％まで含有してもよい。２５％超では液相温度が高くな
りすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好
ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下であ
る。ＴｉＯ2を含有する場合、その含有量は１％以上で
あることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好
ましくは３％以上である。
るために、または化学的耐久性を高くするために、２５
％まで含有してもよい。２５％超では液相温度が高くな
りすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好
ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下であ
る。ＴｉＯ2を含有する場合、その含有量は１％以上で
あることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好
ましくは３％以上である。
【００２７】ＺｒＯ2は必須ではないが、Ｅを大きくす
るために、または化学的耐久性を高くするために、２５
％まで含有してもよい。２５％超では液相温度が高くな
りすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好
ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下、最も
好ましくは７％以下である。ＺｒＯ2を含有する場合、
その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ま
しくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。
るために、または化学的耐久性を高くするために、２５
％まで含有してもよい。２５％超では液相温度が高くな
りすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好
ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下、最も
好ましくは７％以下である。ＺｒＯ2を含有する場合、
その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ま
しくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。
【００２８】Ｌｉ2Ｏは溶融ガラスの粘度を小さくする
ために、またはＥを大きくするために、またはαを大き
くするために、１５％まで含有してもよい。１５％超で
は液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは
１０％以下、より好ましくは８％以下、特に好ましくは
６％以下である。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、その含有量
は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％
以上、特に好ましくは３％以上である。
ために、またはＥを大きくするために、またはαを大き
くするために、１５％まで含有してもよい。１５％超で
は液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは
１０％以下、より好ましくは８％以下、特に好ましくは
６％以下である。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、その含有量
は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％
以上、特に好ましくは３％以上である。
【００２９】Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏは溶融ガラスの粘度を
小さくするために、またはαを大きくするために、それ
ぞれ１５％まで含有してもよい。１５％超ではＥが小さ
くなりすぎるおそれがある。好ましくは１０％以下、よ
り好ましくは７％以下、特に好ましくは５％以下であ
る。Ｎａ2Ｏを含有する場合、またはＫ2Ｏを含有する場
合、それぞれの含有量は１％以上であることが好まし
い。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上
である。
小さくするために、またはαを大きくするために、それ
ぞれ１５％まで含有してもよい。１５％超ではＥが小さ
くなりすぎるおそれがある。好ましくは１０％以下、よ
り好ましくは７％以下、特に好ましくは５％以下であ
る。Ｎａ2Ｏを含有する場合、またはＫ2Ｏを含有する場
合、それぞれの含有量は１％以上であることが好まし
い。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上
である。
【００３０】Ｙ2Ｏ3は必須ではないが、Ｅを大きくする
ために２５％まで含有してもよい。２５％超では液相温
度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以
下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以
下である。Ｙ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は１％以
上であることが好ましい。より好ましくは２％以上であ
る。なお、液相温度をより低くしたい場合はＹ2Ｏ3を実
質的に含有しないことが好ましい。
ために２５％まで含有してもよい。２５％超では液相温
度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以
下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以
下である。Ｙ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は１％以
上であることが好ましい。より好ましくは２％以上であ
る。なお、液相温度をより低くしたい場合はＹ2Ｏ3を実
質的に含有しないことが好ましい。
【００３１】Ｌａ2Ｏ3は必須ではないが、Ｅを大きくす
るために２５％まで含有してもよい。２５％超では液相
温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％
以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％
以下である。Ｌａ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は１
％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上
である。
るために２５％まで含有してもよい。２５％超では液相
温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％
以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％
以下である。Ｌａ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は１
％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上
である。
【００３２】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で
含有してもよい。前記その他成分の含有量の合計は２５
モル％以下であることが好ましい。より好ましくは１５
モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下である。前
記その他成分について以下に述べる。
るが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で
含有してもよい。前記その他成分の含有量の合計は２５
モル％以下であることが好ましい。より好ましくは１５
モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下である。前
記その他成分について以下に述べる。
【００３３】Ｅを大きくするために、Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ
2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇ
ａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2
Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2
Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ 2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2
Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からな
る群（以下この群を群Ａという。）から選ばれる１種以
上の成分を含有してもよい。群Ａの成分の含有量の合計
は２０モル％以下であることが好ましい。２０モル％超
では、液相温度が高くなりすぎるおそれがある、または
密度が大きくなりすぎ比弾性率が低下するおそれがあ
る。より好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１
０モル％以下、最も好ましくは３モル％以下である。ま
た、群Ａの成分を含有する場合、それらの含有量の合計
は０．１モル％以上であることが好ましい。より好まし
くは１モル％以上、特に好ましくは２モル％以上であ
る。
2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇ
ａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2
Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2
Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ 2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2
Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からな
る群（以下この群を群Ａという。）から選ばれる１種以
上の成分を含有してもよい。群Ａの成分の含有量の合計
は２０モル％以下であることが好ましい。２０モル％超
では、液相温度が高くなりすぎるおそれがある、または
密度が大きくなりすぎ比弾性率が低下するおそれがあ
る。より好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１
０モル％以下、最も好ましくは３モル％以下である。ま
た、群Ａの成分を含有する場合、それらの含有量の合計
は０．１モル％以上であることが好ましい。より好まし
くは１モル％以上、特に好ましくは２モル％以上であ
る。
【００３４】ガラス溶解を促進するために、またはガラ
スを安定化させるために、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、ＴｅＯ2、
ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3等を含有してもよい。これらの含有量
の合計は１０モル％以下であることが好ましい。ガラス
の清澄促進のために、ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5等を
含有してもよい。これらの含有量の合計は２モル％以下
であることが好ましい。
スを安定化させるために、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、ＴｅＯ2、
ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3等を含有してもよい。これらの含有量
の合計は１０モル％以下であることが好ましい。ガラス
の清澄促進のために、ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5等を
含有してもよい。これらの含有量の合計は２モル％以下
であることが好ましい。
【００３５】本発明のガラスは溶融後板状に成形され、
その後、徐冷工程、切断工程を経てガラス基板とされ
る。本発明においては結晶化工程は不要である。
その後、徐冷工程、切断工程を経てガラス基板とされ
る。本発明においては結晶化工程は不要である。
【００３６】次に、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
および光回路部品用ガラス基板について説明する。本発
明の情報記録媒体用ガラス基板は、本発明のガラスから
なり、所望の寸法に切断されているガラス板であって、
情報記録媒体の基板に用いられる。ここでいう情報記録
媒体として、磁気ディスク、光ディスク等が例示され
る。
および光回路部品用ガラス基板について説明する。本発
明の情報記録媒体用ガラス基板は、本発明のガラスから
なり、所望の寸法に切断されているガラス板であって、
情報記録媒体の基板に用いられる。ここでいう情報記録
媒体として、磁気ディスク、光ディスク等が例示され
る。
【００３７】本発明の光回路部品用ガラス基板は、本発
明のガラスからなり、所望の寸法に切断されているガラ
ス板であって、光回路部品の基板に用いられる。ここで
いう光回路部品として、高密度波長分割多重（ＤＷＤ
Ｍ）光通信システムで使用される光合波用／光分波用バ
ンドパスフィルタ、利得平坦化フィルタ等が例示され
る。なお、本発明の光回路部品用ガラス基板の表面に
は、通常、積層薄膜が形成される。
明のガラスからなり、所望の寸法に切断されているガラ
ス板であって、光回路部品の基板に用いられる。ここで
いう光回路部品として、高密度波長分割多重（ＤＷＤ
Ｍ）光通信システムで使用される光合波用／光分波用バ
ンドパスフィルタ、利得平坦化フィルタ等が例示され
る。なお、本発明の光回路部品用ガラス基板の表面に
は、通常、積層薄膜が形成される。
【００３８】
【実施例】表のＡｌ2Ｏ3〜Ｌａ2Ｏ3の欄にモル％表示で
示した組成となるように原料を調合して白金るつぼに入
れ、１４５０〜１６５０℃に加熱し３〜５時間溶融し
た。この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラス
を均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成
形後、徐冷を行った。
示した組成となるように原料を調合して白金るつぼに入
れ、１４５０〜１６５０℃に加熱し３〜５時間溶融し
た。この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラス
を均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成
形後、徐冷を行った。
【００３９】得られたガラスについて、密度ｄ（単位：
ｇ／ｃｍ3）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、５０〜３
５０℃における平均線膨張係数α（単位：１０-7／℃）
および液相温度ＴL（単位：℃）を測定した。ヤング率
を密度で除した比弾性率Ｅ／ｄ（単位：ＧＰａ／ｇ／ｃ
ｍ3）の値とともに表に示す。ｄ、Ｅ、α、ＴLの測定方
法は以下のとおりである。
ｇ／ｃｍ3）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、５０〜３
５０℃における平均線膨張係数α（単位：１０-7／℃）
および液相温度ＴL（単位：℃）を測定した。ヤング率
を密度で除した比弾性率Ｅ／ｄ（単位：ＧＰａ／ｇ／ｃ
ｍ3）の値とともに表に示す。ｄ、Ｅ、α、ＴLの測定方
法は以下のとおりである。
【００４０】ｄ：約２０ｇのガラスについて、アルキメ
デス法により測定した。 Ｅ：４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面が平行になるよう
に研磨して、厚さを１０〜２０ｍｍとした試料につい
て、超音波パルス法により測定した。 α：直径５ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状に加工し、熱機
械分析装置（リガク（株）製、商品名ＴＭＡ８１４０）
を用いて５℃／分の昇温速度で測定し、５０〜３５０℃
における平均線膨張係数を算出した。 ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、
このガラス粒を白金ボートの上に並べて置く。この白金
ボートを温度傾斜炉に入れて２４時間熱処理し、結晶が
析出しているガラス粒が位置していた部分の温度の最高
値を液相温度とした。
デス法により測定した。 Ｅ：４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面が平行になるよう
に研磨して、厚さを１０〜２０ｍｍとした試料につい
て、超音波パルス法により測定した。 α：直径５ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状に加工し、熱機
械分析装置（リガク（株）製、商品名ＴＭＡ８１４０）
を用いて５℃／分の昇温速度で測定し、５０〜３５０℃
における平均線膨張係数を算出した。 ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、
このガラス粒を白金ボートの上に並べて置く。この白金
ボートを温度傾斜炉に入れて２４時間熱処理し、結晶が
析出しているガラス粒が位置していた部分の温度の最高
値を液相温度とした。
【００４１】例１〜１０は実施例である。例１１は前記
従来ガラス、例１２は特開平１０−８１５４２号公報に
実施例３として開示されているガラスであり、いずれも
比較例である。
従来ガラス、例１２は特開平１０−８１５４２号公報に
実施例３として開示されているガラスであり、いずれも
比較例である。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】本発明により、書き込みエラーまたは読
み込みエラー等のトラブルが起りにくい磁気ディスク等
の情報記録媒体を提供できる。また、強度が大きく温度
依存性の小さいバンドパスフィルタ等の光回路部品を提
供できる。さらに、結晶化工程が不要であり、結晶化ガ
ラス基板に比べて製造工程が少ない情報記録媒体用ガラ
ス基板または光回路用ガラス基板を提供できる。
み込みエラー等のトラブルが起りにくい磁気ディスク等
の情報記録媒体を提供できる。また、強度が大きく温度
依存性の小さいバンドパスフィルタ等の光回路部品を提
供できる。さらに、結晶化工程が不要であり、結晶化ガ
ラス基板に比べて製造工程が少ない情報記録媒体用ガラ
ス基板または光回路用ガラス基板を提供できる。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA18 BB01 BB06 BB07 CC10 DA01 DA02 DA03 DA04 DB04 DB05 DC01 DD01 DE01 DE02 DE03 DE04 DF01 EA01 EA02 EA03 EA04 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 ED04 EE04 EE05 EE06 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FB04 FC01 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FJ02 FJ03 FJ04 FK01 FK02 FK03 FK04 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN29 NN33 5D006 CB04 CB07 5D029 KA24 KC09 KC14
Claims (7)
- 【請求項１】下記酸化物基準のモル％表示で、実質的
に、 Ａｌ2Ｏ3 １０〜５０、 ＣａＯ ２０〜７０、 ＳｉＯ2 ０〜２５、 ＭｇＯ ０〜２５、 ＳｒＯ ０〜２５、 ＢａＯ ０〜２５、 ＺｎＯ ０〜２５、 ＴｉＯ2 ０〜２５、 ＺｒＯ2 ０〜１５、 Ｌｉ2Ｏ ０〜１５、 Ｎａ2Ｏ ０〜１５、 Ｋ2Ｏ ０〜１５、 Ｙ2Ｏ3 ０〜２５、 Ｌａ2Ｏ3 ０〜２５、 からなる基板用ガラス。 - 【請求項２】ＳｉＯ2の含有量が０．１モル％以上であ
って、Ａｌ2Ｏ3およびＣａＯの含有量の合計とＳｉＯ2
の含有量の比（Ａｌ2Ｏ3＋ＣａＯ）／ＳｉＯ2が２以上
である請求項１に記載の基板用ガラス。 - 【請求項３】液相温度が１４００℃以下である請求項１
または２に記載の基板用ガラス。 - 【請求項４】ヤング率が９０ＧＰａ以上である請求項
１、２または３に記載の基板用ガラス。 - 【請求項５】５０〜３５０℃における平均線膨張係数が
７０×１０-7／℃以上である請求項１、２、３または４
に記載の基板用ガラス。 - 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の基板用ガ
ラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項７】請求項１〜５のいずれかに記載の基板用ガ
ラスからなる光回路部品用ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000084060A JP4273620B2 (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | 基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000084060A JP4273620B2 (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | 基板用ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001261365A true JP2001261365A (ja) | 2001-09-26 |
| JP4273620B2 JP4273620B2 (ja) | 2009-06-03 |
Family
ID=18600594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000084060A Expired - Fee Related JP4273620B2 (ja) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | 基板用ガラス |
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6954029B2 (en) | 2002-06-18 | 2005-10-11 | Kyocera Corporation | Back panel and/or spacer for display apparatus and display apparatus using the same |
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| JP2008214166A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| CN110407457A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-11-05 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种视窗玻璃及其制备方法 |
| CN112876067A (zh) * | 2021-03-17 | 2021-06-01 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种高硬度高杨氏模量氧化物高熵玻璃及其制备方法和用途 |
| CN113402165A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-09-17 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物、化学强化玻璃及其制造方法 |
| WO2024016788A1 (zh) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 荣耀终端有限公司 | 一种钇铝硅酸盐玻璃、制备方法及电子设备 |
-
2000
- 2000-03-24 JP JP2000084060A patent/JP4273620B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6954029B2 (en) | 2002-06-18 | 2005-10-11 | Kyocera Corporation | Back panel and/or spacer for display apparatus and display apparatus using the same |
| KR100939675B1 (ko) | 2002-06-18 | 2010-02-03 | 쿄세라 코포레이션 | 디스플레이장치용 부재 및 이것을 이용한 디스플레이장치 |
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| JP2008214166A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| CN110407457A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-11-05 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种视窗玻璃及其制备方法 |
| CN112876067A (zh) * | 2021-03-17 | 2021-06-01 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种高硬度高杨氏模量氧化物高熵玻璃及其制备方法和用途 |
| CN113402165A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-09-17 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物、化学强化玻璃及其制造方法 |
| CN113402165B (zh) * | 2021-07-28 | 2022-07-29 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物、化学强化玻璃及其制造方法 |
| WO2024016788A1 (zh) * | 2022-07-20 | 2024-01-25 | 荣耀终端有限公司 | 一种钇铝硅酸盐玻璃、制备方法及电子设备 |
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