CN102898022A - 基板用玻璃及玻璃基板 - Google Patents

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CN102898022A CN2012102620828A CN201210262082A CN102898022A CN 102898022 A CN102898022 A CN 102898022A CN 2012102620828 A CN2012102620828 A CN 2012102620828A CN 201210262082 A CN201210262082 A CN 201210262082A CN 102898022 A CN102898022 A CN 102898022A
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远藤淳
中岛哲也
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Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

本发明提供适合于高记录密度化的不容易破裂的基板用玻璃。本发明的基板用玻璃，以下述氧化物基准的摩尔％表示，含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3为81～92％，Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O为3～9％，MgO及CaO的含量之和MgO+CaO为4～13％，Na2O、K2O及CaO的含量之和Na2O+K2O+CaO为0～10％，TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2为0～5％。

Description

基板用玻璃及玻璃基板
技术领域
本发明涉及磁盘（硬盘）等信息记录媒体、被用于信息记录媒体等的玻璃基板以及用于这些基板的玻璃。
背景技术
近年来，随着硬盘驱动器的记录容量的增加，快速推进高记录密度化。但是，随着高记录密度化，存在磁性粒子的微细化损害热稳定性、串扰以及再生信号的SN比降低的问题。因此，作为光和磁的融合技术，热辅助磁记录技术备受瞩目。该技术是在通过对磁记录层照射激光或近场光而使得局部被加热的部分的矫顽磁力降低的状态下施加外部磁场并记录、通过GMR元件等读取记录磁化的技术，能够记录在高保持力的媒体，因此能够保持热稳定性的同时使磁性粒子微细化。但是，在将高保持力媒体制成多层膜而进行成膜的情况下，需要充分地加热基板，要求高耐热基板。
另外，提出了在垂直磁记录方式中也满足高记录密度化要求的与以往的磁记录层不同的磁记录层，但是这样的磁记录层的形成通常需要在基板为高温的情况下进行。
因此，提出了作为能够满足如前所述的热辅助磁记录技术的基板的硅基板(参照专利文献1)。
硅基板与玻璃基板相比通常存在强度方面的问题。因此，基板为高温的情况下形成磁记录层的磁盘的制造方法中也优选使用玻璃基板。
作为信息记录媒体用基板、特别是磁盘用基板，广泛使用玻璃基板，使用例如高杨氏模量的含锂的铝硅酸盐玻璃或对其实施化学强化处理后的玻璃(参照专利文献2)，或者对具有特定组成的玻璃进行热处理而使结晶相析出的结晶化玻璃(参照专利文献3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2009-199633号公报
专利文献2:日本专利特开2001-180969号公报
专利文献3:日本专利特开2000-119042号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
对于化学强化处理用基板玻璃，为了高效地实施化学强化处理，将其耐热性降低，有可能会因在将上述高保持力媒体制成多层膜而进行成膜时的加热而发生弯曲。此外，如果对化学强化处理玻璃基板进行上述加热，则有可能导致经离子交换处理的交换层内因该加热而扩散，从而强度降低。此外，如果想使用结晶化玻璃基板，则有可能因结晶相和块体的热膨胀系数的差异而由上述加热引起基板表面变形。
如果提高记录媒体的转速，则记录媒体发生挠曲、共振增大，记录媒体的表面与磁头发生冲突，读取错误或磁头撞毁的危险性增高。因此，在目前的记录媒体中，不能将磁头与记录媒体的距离(浮上距离)减小到一定程度以下，因此成为阻碍磁记录层的记录密度增加的主要因素。上述记录媒体的挠曲和共振的问题可通过使用高弹性模量的基板材料来解决。
使用玻璃作为磁盘基板时，需要进行圆形加工、去芯、内外圆周面加工等大量的加工处理。这些加工处理中，在玻璃边缘部等产生大量会成为破坏基点的损伤，在制作过程中和安装到心轴等其他操作时形成的微小的损伤都会导致基板的破损。特别是伴随着磁盘旋转的高速化，该问题变得更严重。该问题可通过使用不容易产生裂纹的基板用玻璃来解决。
本发明的目的在于提供可全面地对应上述要求的具有理想的高比弹性模量和高玻璃化温度、且不容易损坏的基板用玻璃。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明提供一种基板用玻璃(以下称为本发明的玻璃)，以下述氧化物基准的摩尔％表示，含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3为81～92％，Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O为3～9％，MgO及CaO的含量之和MgO+CaO为4～13％，Na2O、K2O及CaO的含量之和Na2O+K2O+CaO为0～10％，TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2为0～5％。另外，例如含有0～7％的B2O3是指B2O3不是必须的，但可以含有其至7％的涵义。
此外，还提供上述基板用玻璃，其中，B2O3含量与Al2O3含量的比B2O3/Al2O3为0.6以下。
此外，还提供上述基板用玻璃，其中，Na2O+K2O+CaO与SiO2+Al2O3+B2O3的比(Na2O+K2O+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.125以下。
此外，还提供上述基板用玻璃，其中，SiO2为74％以下、Al2O3为8％以上、Li2O为低于2％、MgO为11％以下、TiO2为3％以下、ZrO2为3％以下、Li2O+Na2O+K2O为3.5％以上、MgO+CaO为5～12.5％、TiO2+ZrO2为3.5％以下、(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.15以下。
此外，还提供含有Li2O或Na2O的上述基板用玻璃。
此外，还提供上述基板用玻璃，其中，B2O3为3％以下、Li2O为2％以上、Na2O为4％以下、Li2O+Na2O+K2O为3.5％以上。
此外，还提供上述基板用玻璃，其中，(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.04～0.16。
此外，还提供上述10种成分的含量合计为98％以上的上述基板用玻璃。
此外，还提供由上述基板用玻璃形成的玻璃基板。
此外，还提供用于信息记录媒体基板的上述玻璃基板。
此外，还提供信息记录媒体基板为磁盘基板的上述玻璃基板。
此外，还提供将由上述基板用玻璃形成的玻璃板化学强化而成的化学强化玻璃基板。
此外，还提供用于信息记录媒体基板的上述化学强化玻璃基板。
此外，还提供信息记录媒体基板为磁盘基板的上述化学强化玻璃基板。
本发明提供一种磁盘，其在上述玻璃基板或者上述化学强化玻璃基板上形成有磁记录层。
发明的效果
可获得用于信息记录媒体等的玻璃化温度高的基板用玻璃。藉此，可提高在基板上形成磁性膜后所实施的热处理温度、获得记录密度高的信息记录媒体。
此外，可获得用于信息记录媒体等的比弹性模量高的基板用玻璃。藉此，可以获得在驱动装置旋转中不易发生翘曲或挠曲、记录密度高的信息记录媒体。
此外，可获得用于信息记录媒体等的不容易损伤的基板用玻璃。藉此，在制造工序及安装到心轴等其他操作时，不易受损，且不容易发生基板破裂。
此外，在安装基板时金属制的心轴由金属制的构件固定，因此如果该金属制的心轴及金属制构件与基板的热膨胀系数的差较大，则有可能在温度变化时产生应力、发生基板破裂。通常玻璃的热膨胀系数比金属的热膨胀系数小，因此理想的是，在基板使用玻璃时尽可能使用热膨胀系数大的基板用玻璃，来提高与金属制的心轴及金属驱动装置等其他构件的热膨胀匹配。
根据本发明，可获得用于信息记录媒体等的平均线膨胀系数大的基板用玻璃。藉此，与金属制的驱动装置等其他构件的热膨胀匹配提高、温度波动时所产生的应力变小、不易发生基板破裂等情况。
实施发明的最佳方式
以下，以本发明的玻璃用于磁盘基板的情况为例进行说明，但本发明不限定于此。
优选本发明的玻璃的比弹性模量E/d为32MNm/kg以上。如果E/d低于32MNm/kg，则磁盘驱动装置旋转中易发生翘曲或挠曲，可能很难获得高记录密度的信息记录媒体。典型的是，E/d为40MNm/kg以下。另外，E为杨氏模量(单位：GPa)，d为密度(单位：g/cm3)。
本发明的玻璃的玻璃化温度Tg较好是690℃以上。如果低于690℃，则由于热而基板容易变形，因此无法充分提高磁性层形成热处理温度，有可能难以实现磁性层的矫顽磁力的增加。更好是在700℃以上。
本发明的玻璃在-50～70℃时的平均线膨胀系数α典型地是20×10-7/℃～45×10-7/℃以上。在希望减小与金属制的驱动装置等其他构件的热膨胀系数的差而不容易发生因温度变化时产生的应力引起的基板的破裂等的情况下，α较好是32×10-7/℃以上，更好是34×10-7/℃以上。
较好是本发明的玻璃的裂纹发生概率P低于80％。如果P在80％以上，则在制造工序及安装到心轴等其他操作时，容易受损，有容易发生基板破裂之虞。P更好是70％以下。
以下，对于本发明的玻璃的组成，以摩尔％表示进行说明。
SiO2是形成玻璃骨架的成分，是必要成分。如果低于66％，则耐酸性下降、d变大、玻璃变得易损伤、Tg降低或液相温度上升，导致玻璃变得不稳定。SiO2较好是67%以上，更好是68%以上。如果超过77％，则粘度变为102dPa·s时的温度T2和粘度变为104dPa·s时的温度T4上升，玻璃的熔解、成形变得困难，E或E/d下降，或者α变小。SiO2较好是74％以下，更好是72％以下，特好是70％以下。
Al2O3具有提高耐候性的效果，是必要成分。如果低于7％，则上述效果较小，或者E、E/d或Tg下降。Al2OX较好是8%以上，更好是10%以上。如果超过17％，则上述的T2及T4上升，玻璃的熔解、成形变得困难，耐酸性下降，α变小或者液相温度变得过高。Al2O3较好是在16％以下，更好是在15％以下，进一步更好是在14％以下。
B2O3虽然不是必要成分，但为了具有不易损伤玻璃或者使玻璃的熔解性提高的效果，也可以在不超过7％的范围内含有该成分。如果超过7％，则E、E/d或Tg下降，或者一旦与碱金属氧化物成分共存就非常容易挥散。较好是6.5％以下。在希望提高Tg或者抑制挥散的情况下，B2O3较好是在4％以下，更好是在2％以下，进一步更好是不含B2O3。
如果SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3低于81％，则玻璃容易损伤。如果超过92％，则上述T2和T4上升，玻璃的熔解、成形会变得困难。SiO2+Al2O3+B2O3较好是90％以下，更好是88％以下。在希望提高玻璃的熔解性、成形性的情况下，较好是上述合计为86％以下。
较好是B2O3含量与Al2O3含量的比B2O3/Al2O3为0.6以下。如果超过0.6，则E或E/d有可能降低。B2O3/Al2O3更好是0.5％以下，进一步更好是0.4％以下，特别好是0.3％以下，最好是0.2％以下。
Li2O虽然不是必要成分，但为了增大E、E/d或α，或者使玻璃的熔解性提高，也可以在不超过9％的范围内含有该成分。如果超过9％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。Li2O较好是7％以下。在希望增大E或E/d的情况下，Li2O较好是在3％以下，更好是低于2％，进一步更好是在1％以下，特别好是不含Li2O。
Na2O虽然不是必要成分，但为了具有增大α或者使玻璃的熔解性提高的效果，也可以在不超过8％的范围内含有该成分。如果超过8％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。较好是7.5％以下。此外，含有Na2O时，其含量较好是在1％以上。在希望增大α时，Na2O较好是3％以上，更好是4％以上，进一步更好是5％以上，特好是6％以上。
K2O虽然不是必要成分，但为了具有增大α或者使玻璃的熔解性提高的效果，也可以在不超过3％的范围内含有该成分。如果超过3％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。K2O较好是2％以下，更好是1％以下，进一步更好是不含K2O。
Li2O、Na2O及K2O的含量合计R2O如果低于3％，则α变小或者玻璃的熔解性下降。较好是3.5％以上，更好是4％以上，进一步更好是4.5％以上，特别好是5％以上。如果R2O超过9％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。R2O较好是8.5％以下，更好是8％以下，进一步更好是7.5％以下。
MgO虽然不是必要成分，但为了增大E、E/d或α，或者使玻璃的熔解性提高，也可以在不超过13％的范围内含有该成分。如果超过13％，则Tg降低，玻璃容易损伤，或者液相温度变得过高。MgO较好是12％以下，更好是11％以下，进一步更好是10.5％以下，特别好是10％以下。含有MgO时，其含量较好为4％以上。在希望增大E或E/d时，MgO较好是5％以上，更好是6％以上，进一步更好是7％以上，特好是8％以上。
CaO虽然不是必要成分，但为了增大α或者使玻璃的熔解性提高，也可以在不超过6％的范围内含有该成分。如果超过6％，则Tg降低，玻璃容易损伤，或者液相温度变得过高。CaO较好是5％以下，更好是3％以下，进一步更好是2％以下，特别好是1％以下。
如果MgO及CaO的含量之和MgO+CaO低于4％，则α变小或者玻璃的熔解性下降。MgO+CaO较好是5％以上，更好是6％以上，进一步更好是7％以上，特别好是8％以上，最好是9％以上。如果上述合计值超过13％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。MgO+CaO较好是12.5％以下，进一步较好是12％以下，特别好是11.5％以下，最好是11％以下。
MgO+CaO与SiO2+Al2O3+B2O3的比(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)较好是0.16以下。如果超过0.16，则有可能耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)更好为0.15以下，进一步更好为0.14以下。
如果Na2O、K2O及CaO的含量之和Na2O+K2O+CaO超过10％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。Na2O+K2O+CaO较好是9％以下。在希望增大α等的情况下，Na2O+K2O+CaO较好是2％以上，更好是5％以上，进一步更好是7％以上，特好是8％以上。
Na2O+K2O+CaO与SiO2+Al2O3+B2O3的比(Na2O+K2O+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)较好是0.125以上。如果超过0.125％，则耐酸性或耐候性下降，Tg降低，或者玻璃容易损伤。(Na2O+K2O+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)更好是0.124以下，进一步更好是0.123以下，特别好是0.122以下，最好是0.121以下。
TiO2不是必要成分，但具有在维持耐候性的前提下增大E或E/d、提高Tg或使玻璃的熔解性提高的效果，因此也可以在不超过5％的范围内含有该成分。如果超过5%，则d增大、α减小，有可能玻璃容易损伤或者容易分相。TiO2更好是3％以下，进一步更好是2％以下，特别好是1％以下，最好是不含TiO2。
ZrO2不是必须成分，但具有在维持耐候性的前提下增大E或E/d、提高Tg或使玻璃的熔解性提高的效果，因此可在不超过5%的范围内含有该成分。如果超过5%，则d增大、α减小，有可能玻璃容易损伤或者液相温度变得过高。ZrO2更好是3％以下，进一步更好是2％以下，特别好是1％以下，最好是不含ZrO2。
TiO2及ZrO2的含量之和最大为5％，典型的是在3.5％以下。如果超过5%，则d增大、α减小，有可能玻璃容易损伤。TiO2及ZrO2的含量之和更好是3％以下，进一步更好是2％以下，特别好是1％以下，最好是不含TiO2及ZrO2中的任一种。
本发明的玻璃实质上由上述成分形成，但在不损害本发明的目的的范围内也可以含有合计不超过3％的范围的其它成分。较好是低于2％，典型的是低于1％。
SrO或BaO有时会增大d或者使玻璃容易受损伤，但也有在维持耐候性的前提下增大α、或者使玻璃的熔解性提高的效果。此时的含量较好是合计量在2％以下。更好是合计量在1.5％以下，进一步更好是在1％以下。典型的是不含SrO及BaO。
此外，可在合计不超过2％的范围内含有SO3、Cl、As2O3、Sb2O3、SnO2等澄清剂。
此外，也可在合计不超过2％的范围内含有Fe2O3、Co3O4、NiO等着色剂。
由本发明的玻璃形成的信息记录媒体用玻璃基板通常是圆形玻璃板。
磁盘用玻璃基板被广泛应用于笔记本电脑等中使用的2.5英寸基板(玻璃基板外径：65mm)或便携式MP3播放器等中使用的1.8英寸基板(玻璃基板外径：48mm)等，其市场逐年扩大，另一方面要求能够以低廉的价格供给。被用于这种玻璃基板的玻璃最好适合大量生产。
平板玻璃的大量生产广泛采用浮法、熔融法、下拉法等连续成形法进行，由于本发明的玻璃如前所述是可通过例如浮法成形的玻璃，因此适合大量生产。
对本发明的玻璃及玻璃基板的制造方法无特别限定，可采用各种方法。例如，调和常用的各成分的原料以形成目标组成，用玻璃熔融窑将其加热熔融。然后，通过鼓泡、搅拌、添加澄清剂等使玻璃均质化，再利用公知的浮法、加压法、熔融法或下拉法等方法成形为规定厚度的平板玻璃，退火后根据需要进行研削、研磨等加工，形成为规定尺寸和形状的玻璃基板。作为成形法，特别优选适合于大量生产的浮法。此外，也可采用浮法以外的其他连续成形法，即熔融法、下拉法。
实施例
调和各成分的原料，以形成表1的例1～8及表3的例28、29的SiO2至Zr2O的栏中以摩尔％表示的组成，用铂坩锅在1550～1600℃的温度下熔解3～5小时，来制作玻璃。熔解时，将铂搅拌器插入熔融玻璃中搅拌2小时，使玻璃均质化。接着，将熔融玻璃倒出并成形为大致平板状，以每分钟1℃的冷却速度退火至室温，然后加工成所需厚度的玻璃板。表中，Si+Al+B表示SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和(单位:摩尔％)，B/Al表示B2O3含量与Al2O3含量的比，R2O表示Li2O、Na2O及K2O的含量之和(单位:摩尔％)，Mg+Ca表示MgO及CaO的含量之和(单位:摩尔％)，MgCa/SiAlB表示(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)，Na+K+Ca表示Na2O、K2O及CaO的含量之和(单位:摩尔％)，NaKCa/SiAlB表示(Na2O+K2O+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)，Ti+Zr表示TiO2及ZrO2的含量之和(单位:摩尔％)。
对于这样得到的玻璃板，通过以下所示方法测定密度d(单位:g/cm3)、上述平均线膨胀系数α(单位:×10-7/℃)、杨氏模量E(单位:GPa)、比弹性模量E/d(单位:MNm/kg)、玻璃化温度Tg(单位:℃)以及裂纹发生概率P(单位:％)。结果示于表中。
d：使用20～50g无气泡的玻璃，用阿基米德法进行测定。
α：使用差示热膨胀计，以石英玻璃作为参照试样，测定从室温开始以5℃/分钟的比率升温时的玻璃的伸长率，直至玻璃软化再也观测不到伸长时的温度，即屈服点，根据所得的热膨胀曲线算出-50～70℃下的平均热膨胀系数。
E：通过超声波脉冲法对厚度为5～10mm、尺寸为3cm见方的玻璃板进行测定。
Tg：使用差示热膨胀计，以石英玻璃作为参照试样，测定从室温开始以5℃/分钟的比率升温至屈服点时的玻璃的伸长率，将相当于所得热膨胀曲线的弯曲点的温度作为玻璃化温度。
P：用胶体二氧化硅对厚度为1～2mm、尺寸为4cm×4cm的玻璃板的两面进行镜面研磨，使用研磨后的样品来测定裂纹发生概率。在露点为-28℃～-27℃的气氛中，维氏硬度计负载采用2kgf＝19.6N，将维氏压头敲入以形成15个点，测定在压痕的四角产生的裂纹的条数。将该产生的裂纹条数除以可能产生的裂纹条数60而得的值作为裂纹发生率(单位:％)。另外，P的测定精度为约±10％。
表1～3的例1～27是实施例，例28、29是比较例。
从这些结果可知，实施例的玻璃具有高玻璃化温度，并且具有比例28的玻璃高的比弹性模量，还具有比例28的玻璃高的裂纹耐性。
[表1]
  例   1   2   3   4   5   6   7   8   9   10
  SiO2   67.0   68.5   68.5   68.5   66.0   66.0   68.5   68.5   74.0   66.0
  Al2O3   12.0   13.0   15.0   15.0   11.2   14.2   13.0   15.0   13.0   17.0
  B2O3   4.0   0   2.0   2.0   6.1   6.1   0   0   0   5.0
  Li2O   0   0   4.0   3.3   3.3   4.2   6.2   0   0   0
  Na2O   5.0   7.2   5.2   1.2   1.2   1.2   1.0   1.0   6.0   6.0
  K2O   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  MgO   6.5   9.9   7.9   7.9   5.1   5.1   7.7   7.7   5.0   6.0
  CaO   5.0   1.0   1.0   1.0   4.6   1.6   5.2   1.2   2.0   0
  TiO2   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  ZrO2   0.5   0.5   0.5   0.5   2.5   2.5   0.5   0.5   0   0
  Si+Al+B   83.0   81.5   85.5   85.5   83.3   86.3   81.5   83.5   87.0   88.0
  B/Al   0.33   0   0.13   0.13   0.54   0.43   0   0   0   0.29
  R2O   5.0   7.2   5.2   5.2   4.5   4.5   5.2   7.2   6.0   6.0
  Mg+Ca   11.5   10.9   8.9   8.9   9.7   6.7   12.9   8.9   7.0   6.0
  MgCa/SiAlB   0.14   0.13   0.10   0.10   0.12   0.08   0.16   0.11   0.08   0.07
  Na+K+Ca   10.0   8.2   6.2   2.2   5.8   2.8   6.2   2.2   8.0   6.0
  NaKCa/SiAlB   0.120   0.100   0.072   0.025   0.070   0.032   0.075   0.026   0.092   0.068
  Ti+Zr   0.5   0.5   0.5   0.5   2.5   2.5   0.5   0.5   0   0
  d   2.43   2.47   2.45   2.45   2.47   2.46   2.48   2.46   2.41   2.40
  α   34.3   42.0   32.7   22.8   28.5   23.6   27.7   24.2   35.5   33.0
  Tg   742   747   741   743   694   711   752   756   740   724
  E   78.3   82.0   83.4   88.4   82.8   85.0   89.6   90.9   81.3   79.9
  E/d   32.2   33.2   34.0   36.1   33.6   34.5   36.1   37.0   33.7   33.3
  P   67   53   47   33   53   47   65   40   6   56
[表2]
  例   11   12   13   14   15   16   17   18   19   20
  SiO2   70.0   74.0   70.0   71.0   72.0   69.0   69.0   71.0   71.0   66.0
  Al2O3   17.0   8.0   11.0   15.0   10.5   14.0   11.0   12.0   11.5   17.0
  B2O3   5.0   2.0   0   0   1.5   2.0   3.0   0   0   0
  Li2O   0   0   0   0   0   2.0   0.0   0   0   9.0
  Na2O   6.0   3.0   6.0   8.0   3.5   0   6.0   6.0   6.0   0
  K2O   1.0   1.0   1.0   1.0   0   3.0   0   0   0   0
  MgO   0   7.0   11.0   5.0   6.5   10.0   7.0   7.0   7.0   8.0
  CaO   0   5.0   0   0   6.0   0   1.0   1.0   1.0   0
  TiO2   0   0   0   0   0   0   0   3.0   2.0   0
  ZrO2   1.0   0   1.0   0   0   0   3.0   0   1.5   0
  Si+Al+B   92.0   84.0   81.0   86.0   84.0   85.0   83.0   83.0   82.5   83.0
  B/Al   0.29   0.25   0.00   0.00   0.14   0.14   0.27   0   0   0
  R2O   7.0   4.0   7.0   9.0   3.5   5.0   6.0   6.0   6.0   9.0
  Mg+Ca   0   12.0   11.0   5.0   12.5   10.0   8.0   8.0   8.0   8.0
  MgCa/SiAlB   0   0.14   0.14   0.06   0.15   0.12   0.10   0.10   0.10   0.10
  Na+K+Ca   7.0   9.0   7.0   9.0   9.5   3.0   7.0   7.0   7.0   0
  NaKCa/SiAlB   0.076   0.107   0.086   0.105   0.113   0.035   0.084   0.084   0.085   0
  Ti+Zr   1.0   0   1.0   0   0   0   3.0   3.0   3.5   0
  d   2.39   2.41   2.46   2.42   2.43   2.41   2.49   2.46   2.49   2.43
  α   33.7   35.2   41.6   45.2   32.5   30.7   35.2   36.4   35.6   29.6
  Tg   721   698   725   719   729   739   728   743   753   720
  E   76.7   79.6   84.0   80.2   81.6   83.2   83.2   83.7   84.7   90.6
  E/d   32.1   33.0   34.1   33.2   33.5   34.5   33.3   34.0   34.0   37.3
  P   45   0   31   50   27   49   35   44   45   53
[表3]
  例   21   22   23   24   25   26   27   28   29
  SiO2   70.0   77.0   73.0   73.0   72.0   69.0   73.0   66.0   68.5
  Al2O3   17.0   7.0   11.0   17.0   10.0   14.0   11.0   11.2   13.0
  B2O3   3.0   0   0   0   0   0   0   7.8   0
  Li2O   5.0   3.0   2.0   4.0   5.0   4.0   4.0   0   0
  Na2O   0   0   4.0   0   0   0   0   0   5.2
  K2O   1.0   0   0   0   0   3.0   0   0   0
  MgO   4.0   13.0   10.0   0.0   8.0   10.0   7.0   5.1   7.7
  CaO   0   0   0   6.0   0   0   0   4.6   5.2
  SrO   0   0   0   0   0   0   0   5.2   0
  BaO   0   0   0   0   0   0   0   0.1   0
  TiO2   0   0   0   0   0   0   5.0   0   0
  ZrO2   0   0   0   0   5.0   0   0   0   0.5
  Si+Al+B   90.0   84.0   84.0   90.0   82.0   83.0   84.0   85.0   81.5
  B/Al   0.18   0   0   0   0   0   0   0.70   0
  R2O   6.0   3.0   6.0   4.0   5.0   7.0   4.0   0   5.2
  Mg+Ca   4.0   13.0   10.0   6.0   8.0   10.0   7.0   9.7   12.9
  MgCa/SiAlB   0.04   0.15   0.12   0.07   0.10   0.12   0.08   0.11   0.16
  Na+K+Ca   1.0   0   4.0   6.0   0   3.0   0   9.9   10.3
  NaKCa/SiAlB   0.011   0   0.048   0.067   0   0.036   0   0.116   0.126
  Ti+Zr   0   0   0   0   5.0   0   5.0   0   0.5
  d   2.38   2.40   2.42   2.41   2.55   2.43   2.45   2.5   2.44
  α   23.5   22.5   33.2   21.2   20.7   34.9   20.7   30.1   40.5
  Tg   735   731   725   784   781   729   762   720   741
  E   83.5   86.6   84.7   84.6   92.0   85.5   88.2   77.0   82.2
  E/d   35.1   36.0   35.0   35.0   36.1   35.2   35.9   30.8   33.7
  P   21   0   0   60   1   58   1   60   92
产业上利用的可能性
可以利用本发明制造磁盘等信息记录媒体以及用于信息记录媒体等的玻璃基板。

Claims (15)

1.一种基板用玻璃，以下述氧化物基准的摩尔％表示，
含有66～77％的SiO2、7～17％的Al2O3、0～7％的B2O3、0～9％的Li2O、0～8％的Na2O、0～3％的K2O、0～13％的MgO、0～6％的CaO、0～5％的TiO2、0～5％的ZrO2，
SiO2、Al2O3及B2O3的含量之和SiO2+Al2O3+B2O3为81～92％，
Li2O、Na2O及K2O的含量之和Li2O+Na2O+K2O为3～9％，
MgO及CaO的含量之和MgO+CaO为4～13％，
Na2O、K2O及CaO含量之和Na2O+K2O+CaO为0～10％，
TiO2及ZrO2的含量之和TiO2+ZrO2为0～5％。
2.如权利要求1所述的基板用玻璃，其特征在于，B2O3含量与Al2O3含量的比B2O3/Al2O3为0.6以下。
3.如权利要求1或2所述的基板用玻璃，其特征在于，Na2O+K2O+CaO与SiO2+Al2O3+B2O3的比(Na2O+K2O+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.125以下。
4.如权利要求1～3中任一项所述的基板用玻璃，其特征在于，
SiO2为74％以下、Al2O3为8％以上、Li2O为低于2％、MgO为11％以下、TiO2为3％以下、ZrO2为3％以下、Li2O+Na2O+K2O为3.5％以上、MgO+CaO为5～12.5％、TiO2+ZrO2为3.5％以下、(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.15以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的基板用玻璃，其特征在于，含有Li2O或Na2O。
6.如权利要求1～4中任一项所述的基板用玻璃，其特征在于，B2O3为3％以下、Li2O为2％以上、Na2O为4％以下、Li2O+Na2O+K2O为3.5％以上。
7.如权利要求6所述的基板用玻璃，其特征在于，(MgO+CaO)/(SiO2+Al2O3+B2O3)为0.04～0.16。
8.如权利要求1～7中任一项所述的基板用玻璃，其特征在于，所述10种成分的含量之和为98％以上。
9.一种玻璃基板，其特征在于，由权利要求1～8中任一项所述的基板用玻璃形成。
10.如权利要求9所述的玻璃基板，其特征在于，用于信息记录媒体基板。
11.如权利要求10所述的玻璃基板，其特征在于，所述信息记录媒体基板为磁盘基板。
12.一种化学强化玻璃基板，其特征在于，该基板是将由权利要求1～8中任一项所述的基板用玻璃形成的玻璃基板化学强化而成的。
13.如权利要求12所述的化学强化玻璃基板，其特征在于，用于信息记录媒体基板。
14.如权利要求13所述的化学强化玻璃基板，其特征在于，所述信息记录媒体基板为磁盘基板。
15.一种磁盘，其特征在于，在权利要求11的玻璃基板或者权利要求14的化学强化玻璃基板上形成有磁记录层。
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