JP3431279B2 - 陽極接合に使用する低膨張ガラス - Google Patents
陽極接合に使用する低膨張ガラスInfo
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- JP3431279B2 JP3431279B2 JP12405394A JP12405394A JP3431279B2 JP 3431279 B2 JP3431279 B2 JP 3431279B2 JP 12405394 A JP12405394 A JP 12405394A JP 12405394 A JP12405394 A JP 12405394A JP 3431279 B2 JP3431279 B2 JP 3431279B2
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- Japan
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- glass
- thermal expansion
- coefficient
- anodic bonding
- silicon
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、熱膨張率が小さく、特
に熱膨張曲線がシリコンに近似した特性を持つ、シリコ
ン接合用ガラスとして好適な低膨張ガラスに関する。
に熱膨張曲線がシリコンに近似した特性を持つ、シリコ
ン接合用ガラスとして好適な低膨張ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】最も汎用性のある安価な低膨張ガラスと
して、従来より、コーニング社の硼珪酸ガラスが産業及
び民生用のさまざまな分野に利用されている。この硼珪
酸ガラスは、重量百分率でＳｉＯ2 ８１％、Ｂ2 Ｏ3 １
３％、Ａｌ2 Ｏ3 ２％、Ｎａ2Ｏ ４％の概略組成であ
り、室温から３００℃までの範囲における平均熱膨張係
数が約３３×１０-7／℃を示す低膨張ガラスである。
して、従来より、コーニング社の硼珪酸ガラスが産業及
び民生用のさまざまな分野に利用されている。この硼珪
酸ガラスは、重量百分率でＳｉＯ2 ８１％、Ｂ2 Ｏ3 １
３％、Ａｌ2 Ｏ3 ２％、Ｎａ2Ｏ ４％の概略組成であ
り、室温から３００℃までの範囲における平均熱膨張係
数が約３３×１０-7／℃を示す低膨張ガラスである。
【０００３】一方、気体や流体の流量や圧力を制御する
ためのセンサーとして、小型、低コスト化が可能な半導
体圧力センサーが開発され、既に実用化が始まってい
る。半導体圧力センサーは、シリコンのピエゾ抵抗効果
を利用して圧力を検知するものであり、シリコンダイヤ
フラムを支持する台座として、シリコンと熱膨張率がよ
く一致した材料が必要になる。そのような台座として、
既述の硼珪酸ガラスが現在利用されている。この硼珪酸
ガラスが用いられている理由は、上記のように、この硼
珪酸ガラスが、シリコン（熱膨張係数３４×１０-7／
℃）と近似した平均熱膨張係数を有するとともに、アル
カリ成分（Ｎａ2 Ｏ）を含有しているために、気密性の
高いガラスとシリコンとの接合方法である、陽極接合を
行うことができるからである。
ためのセンサーとして、小型、低コスト化が可能な半導
体圧力センサーが開発され、既に実用化が始まってい
る。半導体圧力センサーは、シリコンのピエゾ抵抗効果
を利用して圧力を検知するものであり、シリコンダイヤ
フラムを支持する台座として、シリコンと熱膨張率がよ
く一致した材料が必要になる。そのような台座として、
既述の硼珪酸ガラスが現在利用されている。この硼珪酸
ガラスが用いられている理由は、上記のように、この硼
珪酸ガラスが、シリコン（熱膨張係数３４×１０-7／
℃）と近似した平均熱膨張係数を有するとともに、アル
カリ成分（Ｎａ2 Ｏ）を含有しているために、気密性の
高いガラスとシリコンとの接合方法である、陽極接合を
行うことができるからである。
【０００４】しかし、この硼珪酸ガラスは、平均熱膨張
係数はシリコンに近似した値を示すものの、熱膨張曲線
そのものは、シリコンと異なっている。すなわち、縦軸
を熱膨張、横軸を温度としてそれぞれ表示した場合、シ
リコンは下に凸の熱膨張曲線を示すが、この硼珪酸ガラ
スは転移温度（約５５０℃）以下の温度において上に凸
の曲線を示す。その結果、例えば、この硼珪酸ガラスを
台座とした圧力センサーは、温度変化によってシリコン
に歪が発生するために、温度補償回路が必要となり、更
には、高精度な測定に支障をきたすという課題があっ
た。
係数はシリコンに近似した値を示すものの、熱膨張曲線
そのものは、シリコンと異なっている。すなわち、縦軸
を熱膨張、横軸を温度としてそれぞれ表示した場合、シ
リコンは下に凸の熱膨張曲線を示すが、この硼珪酸ガラ
スは転移温度（約５５０℃）以下の温度において上に凸
の曲線を示す。その結果、例えば、この硼珪酸ガラスを
台座とした圧力センサーは、温度変化によってシリコン
に歪が発生するために、温度補償回路が必要となり、更
には、高精度な測定に支障をきたすという課題があっ
た。
【０００５】一方、一般に、熱膨張係数が小さいガラス
は、溶融温度が高く、脱泡することが難しい。そのた
め、溶融性を向上させるためにＰｂＯを用いたり、脱泡
を促進させるための清澄剤としてＡｓ2 Ｏ3 やＳｂ2 Ｏ
3 を用いたりして、ガラスを均質化させる工夫がされて
いる。しかるに、これらの物質はいずれも人体に有害で
あるため、ガラスの製造工程においてはその揮散物の処
理を、また、切断や研磨加工および薬液処理等の工程に
おいてはその廃液の処理を、それぞれ、特別に行わねば
ならないという課題があった。
は、溶融温度が高く、脱泡することが難しい。そのた
め、溶融性を向上させるためにＰｂＯを用いたり、脱泡
を促進させるための清澄剤としてＡｓ2 Ｏ3 やＳｂ2 Ｏ
3 を用いたりして、ガラスを均質化させる工夫がされて
いる。しかるに、これらの物質はいずれも人体に有害で
あるため、ガラスの製造工程においてはその揮散物の処
理を、また、切断や研磨加工および薬液処理等の工程に
おいてはその廃液の処理を、それぞれ、特別に行わねば
ならないという課題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な従来の課題を解決するためになされたものであり、熱
膨張曲線がシリコンに近似した特性を持ち、また、人体
に有害な、ＰｂＯやＡｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 といった融
剤や清澄剤を使用しなくとも均質なガラスを工業的に製
造可能な低膨張ガラスを提供する。
な従来の課題を解決するためになされたものであり、熱
膨張曲線がシリコンに近似した特性を持ち、また、人体
に有害な、ＰｂＯやＡｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 といった融
剤や清澄剤を使用しなくとも均質なガラスを工業的に製
造可能な低膨張ガラスを提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、モル％表示
で、実質的に、ＳｉＯ2：５４〜６８％、Ａｌ2Ｏ3：８
〜１８％、Ｂ 2 Ｏ 3 ：３〜８％、ＭｇＯ：１〜１１％、Ｃ
ａＯ：０〜３％、ＢａＯ：０〜３％、ＺｎＯ：７〜１５
％、Ｎａ2Ｏ：０．５〜４％、Ｋ2Ｏ：０〜４％、Ｎａ2
Ｏ＋Ｋ2Ｏ：０．５〜６％からなり、実質的にＰｂＯ、
Ａｓ 2 Ｏ 3 、Ｓｂ 2 Ｏ 3 を含有せず、室温から３００℃まで
の範囲における平均熱膨張係数が、２５〜４０×１０-7
／℃の範囲にあることを特徴とする低膨張ガラスであ
る。
で、実質的に、ＳｉＯ2：５４〜６８％、Ａｌ2Ｏ3：８
〜１８％、Ｂ 2 Ｏ 3 ：３〜８％、ＭｇＯ：１〜１１％、Ｃ
ａＯ：０〜３％、ＢａＯ：０〜３％、ＺｎＯ：７〜１５
％、Ｎａ2Ｏ：０．５〜４％、Ｋ2Ｏ：０〜４％、Ｎａ2
Ｏ＋Ｋ2Ｏ：０．５〜６％からなり、実質的にＰｂＯ、
Ａｓ 2 Ｏ 3 、Ｓｂ 2 Ｏ 3 を含有せず、室温から３００℃まで
の範囲における平均熱膨張係数が、２５〜４０×１０-7
／℃の範囲にあることを特徴とする低膨張ガラスであ
る。
【０００８】また、本発明のより好ましい範囲は、Ｓｉ
Ｏ2 ：６０〜６８％、Ａｌ2 Ｏ3 ：８〜１２％、Ｂ2 Ｏ
3 ：４〜８％、ＭｇＯ：５〜１０％、ＣａＯ：０〜３
％、ＢａＯ：０〜３％、ＺｎＯ：７〜１２％、Ｎａ2
Ｏ：１〜３％、Ｋ2 Ｏ：０〜２％、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：
１．５〜４％である。
Ｏ2 ：６０〜６８％、Ａｌ2 Ｏ3 ：８〜１２％、Ｂ2 Ｏ
3 ：４〜８％、ＭｇＯ：５〜１０％、ＣａＯ：０〜３
％、ＢａＯ：０〜３％、ＺｎＯ：７〜１２％、Ｎａ2
Ｏ：１〜３％、Ｋ2 Ｏ：０〜２％、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：
１．５〜４％である。
【０００９】以下に組成限定の理由を説明する。ＳｉＯ
2 は、ガラスのネットワークフォーマーであり、５４％
より少ないとガラスの安定性が悪化するとともに、膨張
係数が大きくなる。また、６８％を超えると溶融が著し
く困難となる。より好ましい範囲は６０〜６８％であ
る。
2 は、ガラスのネットワークフォーマーであり、５４％
より少ないとガラスの安定性が悪化するとともに、膨張
係数が大きくなる。また、６８％を超えると溶融が著し
く困難となる。より好ましい範囲は６０〜６８％であ
る。
【００１０】Ａｌ2 Ｏ3 は、ガラスの安定性と化学的耐
久性を向上させるとともに低膨張に寄与する成分である
ため、８％以上含有する必要があるが、１８％を超える
と粘性が上昇し、溶融が困難となる。より好ましい範囲
は８〜１２％である。
久性を向上させるとともに低膨張に寄与する成分である
ため、８％以上含有する必要があるが、１８％を超える
と粘性が上昇し、溶融が困難となる。より好ましい範囲
は８〜１２％である。
【００１１】Ｂ2Ｏ3は、高温粘性を低下させ、溶融性を
良化させる成分であり、かかる効果を得るためには３％
以上が必要であるが、８％を超えると化学的耐久性が悪
化する。より好ましい範囲は４〜８％である。
良化させる成分であり、かかる効果を得るためには３％
以上が必要であるが、８％を超えると化学的耐久性が悪
化する。より好ましい範囲は４〜８％である。
【００１２】ＭｇＯは、ガラスの熱膨張係数を大きくす
ることなく溶融性を向上させる成分である。１％より少
ないとその効果がなく、また、１１％を超えると失透し
やすくなる。より好ましい範囲は５〜１０％である。
ることなく溶融性を向上させる成分である。１％より少
ないとその効果がなく、また、１１％を超えると失透し
やすくなる。より好ましい範囲は５〜１０％である。
【００１３】ＣａＯおよびＢａＯは、ともに、ガラスの
溶融性を向上させるうえで効果のある成分であるので添
加することができるが、それぞれ３％を超えると熱膨張
係数が大きくなる。
溶融性を向上させるうえで効果のある成分であるので添
加することができるが、それぞれ３％を超えると熱膨張
係数が大きくなる。
【００１４】ＺｎＯは、熱膨張係数を大きくすることな
く溶融性および化学的耐久性を向上させる成分であるた
め必須であるが、７％より少ないとその効果がない。ま
た、１５％を超えると失透しやすくなる。より好ましい
範囲は７〜１２％である。
く溶融性および化学的耐久性を向上させる成分であるた
め必須であるが、７％より少ないとその効果がない。ま
た、１５％を超えると失透しやすくなる。より好ましい
範囲は７〜１２％である。
【００１５】Ｎａ2 ＯおよびＫ2 Ｏは、溶融性を改善す
る成分であるが、同時に、熱膨張係数を大きくするた
め、その含有量は特に注意深く規定されなければならな
い。また、シリコンとの陽極接合を行うには、易動性の
アルカリ成分が必要であるが、特にＮａ2 Ｏは移動しや
すいため、陽極接合する際には効果的なガラス成分であ
る。
る成分であるが、同時に、熱膨張係数を大きくするた
め、その含有量は特に注意深く規定されなければならな
い。また、シリコンとの陽極接合を行うには、易動性の
アルカリ成分が必要であるが、特にＮａ2 Ｏは移動しや
すいため、陽極接合する際には効果的なガラス成分であ
る。
【００１６】Ｎａ2 Ｏが、０．５％より少ないと陽極接
合が困難となり、４％を超えると膨張係数が大きくなり
すぎる。より好ましい範囲は１〜３％である。Ｋ2 Ｏ
は、一部Ｎａ2 Ｏと置換して含有することによって化学
的耐久性を向上させることができるが、４％を超えると
膨張係数が大きくなりすぎる。２％以下がより好まし
い。Ｎａ2 ＯとＫ2 Ｏとの合計量が０．５％より少ない
と陽極接合が困難となり、６％を超えると膨張係数が大
きくなりすぎる。より好ましくは１．５〜４％である。
合が困難となり、４％を超えると膨張係数が大きくなり
すぎる。より好ましい範囲は１〜３％である。Ｋ2 Ｏ
は、一部Ｎａ2 Ｏと置換して含有することによって化学
的耐久性を向上させることができるが、４％を超えると
膨張係数が大きくなりすぎる。２％以下がより好まし
い。Ｎａ2 ＯとＫ2 Ｏとの合計量が０．５％より少ない
と陽極接合が困難となり、６％を超えると膨張係数が大
きくなりすぎる。より好ましくは１．５〜４％である。
【００１７】本発明のガラスにおいては、人体に有害な
成分であるＰｂＯやＡｓ2 Ｏ3 Ｓｂ2 Ｏ3 を用いること
なく均質なガラスを得るために、以上の基本成分の他
に、清澄剤として、Ｃｌ、ＳＯ3 、ＮＯ2 、ＣｅＯ2 よ
りなる群から選ばれる１種以上の成分を３％以下含有す
ることができる。また、通常、原料や耐火煉瓦等から不
可避的に混入してくる不純物、例えば、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｔ
ｉＯ2 、ＺｒＯ2 等は０．５％以下含まれていも支障な
い。
成分であるＰｂＯやＡｓ2 Ｏ3 Ｓｂ2 Ｏ3 を用いること
なく均質なガラスを得るために、以上の基本成分の他
に、清澄剤として、Ｃｌ、ＳＯ3 、ＮＯ2 、ＣｅＯ2 よ
りなる群から選ばれる１種以上の成分を３％以下含有す
ることができる。また、通常、原料や耐火煉瓦等から不
可避的に混入してくる不純物、例えば、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｔ
ｉＯ2 、ＺｒＯ2 等は０．５％以下含まれていも支障な
い。
【００１８】また、室温から３００℃までの範囲におけ
る平均熱膨張係数が、２５〜４０×１０-7／℃の範囲を
外れるとシリコンとの熱膨張係数の差が大きくなりす
ぎ、両者を接合した場合、剥離したり、歪を生じたりす
る。
る平均熱膨張係数が、２５〜４０×１０-7／℃の範囲を
外れるとシリコンとの熱膨張係数の差が大きくなりす
ぎ、両者を接合した場合、剥離したり、歪を生じたりす
る。
【００１９】本発明のガラスは、常法により、調合した
原料を約１５５０〜１６００℃に加熱して溶融しガラス
化し、次いで、この溶融ガラスをロールアウト等で成形
することにより製造できる。
原料を約１５５０〜１６００℃に加熱して溶融しガラス
化し、次いで、この溶融ガラスをロールアウト等で成形
することにより製造できる。
【００２０】
【実施例】表１の組成（単位：モル％）のガラスが１ｋ
ｇになるように原料を秤量、混合し、次いで、これを白
金製坩堝に入れ、１５５０℃および１６００℃の温度で
６時間溶融し、ガラス化した。次いで、この溶融ガラス
を鋳型に流し込んでガラスブロックを成形し、しかる後
に、ガラス転移温度付近に保持した電気炉中に入れて徐
冷した。次いで、このガラスブロック中の泡を数え、溶
融性の評価指標とし表１の溶融性の欄に示した。また、
１６００℃で溶融して得たガラスブロックから試験片を
作成し、示差熱膨張計を用いて、熱膨張率を測定した。
得られたデータから計算した３０〜３００℃の範囲にお
ける平均熱膨張係数（単位：×１０-7／℃）を表１の熱
膨張係数の欄に示した。
ｇになるように原料を秤量、混合し、次いで、これを白
金製坩堝に入れ、１５５０℃および１６００℃の温度で
６時間溶融し、ガラス化した。次いで、この溶融ガラス
を鋳型に流し込んでガラスブロックを成形し、しかる後
に、ガラス転移温度付近に保持した電気炉中に入れて徐
冷した。次いで、このガラスブロック中の泡を数え、溶
融性の評価指標とし表１の溶融性の欄に示した。また、
１６００℃で溶融して得たガラスブロックから試験片を
作成し、示差熱膨張計を用いて、熱膨張率を測定した。
得られたデータから計算した３０〜３００℃の範囲にお
ける平均熱膨張係数（単位：×１０-7／℃）を表１の熱
膨張係数の欄に示した。
【００２１】いずれの実施例においても、熱膨張曲線
は、シリコンと同様な下に凸となった。その一例を図１
に示した。表１および図１においては、比較例のガラス
について測定した結果も示した。表１に示した溶融性
は、１５５０℃溶融、１６００℃溶融いずれの場合も残
存泡数が１００個／ｋｇ未満のものを◎印で、１６００
℃では１００個／ｋｇ未満であるが１５５０℃では１０
０個／ｋｇ以上のものを〇印で、１５５０℃、１６００
℃いずれの場合も１００個／ｋｇ以上のものを×印で、
それぞれ表示した。なお、例１２（比較例）のガラス
は、残存気泡等が多く測定用試験片を作成しなかった。
は、シリコンと同様な下に凸となった。その一例を図１
に示した。表１および図１においては、比較例のガラス
について測定した結果も示した。表１に示した溶融性
は、１５５０℃溶融、１６００℃溶融いずれの場合も残
存泡数が１００個／ｋｇ未満のものを◎印で、１６００
℃では１００個／ｋｇ未満であるが１５５０℃では１０
０個／ｋｇ以上のものを〇印で、１５５０℃、１６００
℃いずれの場合も１００個／ｋｇ以上のものを×印で、
それぞれ表示した。なお、例１２（比較例）のガラス
は、残存気泡等が多く測定用試験片を作成しなかった。
【００２２】表１から明らかなように、本発明のガラス
は、ＰｂＯやＡｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 を含有しなくても
溶融性に優れ、かつ、熱膨張係数が２５〜４０×１０-7
／℃の小さい値を示す。
は、ＰｂＯやＡｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2 Ｏ3 を含有しなくても
溶融性に優れ、かつ、熱膨張係数が２５〜４０×１０-7
／℃の小さい値を示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【発明の効果】本発明のガラスは、ＰｂＯやＡｓ2 Ｏ
3 、Ｓｂ2 Ｏ3 を含有しなくても溶融性に優れ、かつ、
熱膨張係数が２５〜４０×１０-7／℃の小さい値を示
す。また、熱膨張曲線がシリコンときわめて良く一致す
るため、シリコンと接合した場合に歪が発生しにくい。
さらに、アルカリ成分を微量含有しているため、比較的
低い温度、圧力で陽極接合を行うことができる。したが
って、本発明のガラスは、シリコンと接合して使用する
基板として好適なものである。
3 、Ｓｂ2 Ｏ3 を含有しなくても溶融性に優れ、かつ、
熱膨張係数が２５〜４０×１０-7／℃の小さい値を示
す。また、熱膨張曲線がシリコンときわめて良く一致す
るため、シリコンと接合した場合に歪が発生しにくい。
さらに、アルカリ成分を微量含有しているため、比較的
低い温度、圧力で陽極接合を行うことができる。したが
って、本発明のガラスは、シリコンと接合して使用する
基板として好適なものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】熱膨張曲線を示グラフ
Claims (2)
- 【請求項１】 モル％表示で、実質的に、ＳｉＯ2：５
４〜６８％、Ａｌ2Ｏ3：８〜１８％、Ｂ 2 Ｏ 3 ：３〜８
％、ＭｇＯ：１〜１１％、ＣａＯ：０〜３％、ＢａＯ：
０〜３％、ＺｎＯ：７〜１５％、Ｎａ2Ｏ：０．５〜４
％、Ｋ2Ｏ：０〜４％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：０．５〜６％
からなり、実質的にＰｂＯ、Ａｓ 2 Ｏ 3 、Ｓｂ 2 Ｏ 3 を含有
せず、室温から３００℃までの範囲における平均熱膨張
係数が、２５〜４０×１０-7／℃の範囲にあることを特
徴とする陽極接合に使用する低膨張ガラス。 - 【請求項２】 モル％表示で、実質的に、ＳｉＯ2：６
０〜６８％、Ａｌ2Ｏ3：８〜１２％、Ｂ2Ｏ3：４〜８
％、ＭｇＯ：５〜１０％、ＣａＯ：０〜３％、ＢａＯ：
０〜３％、ＺｎＯ：７〜１２％、Ｎａ2Ｏ：１〜３％、
Ｋ2Ｏ：０〜２％、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：１．５〜４％から
なる請求項１記載の陽極接合に使用する低膨張ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12405394A JP3431279B2 (ja) | 1993-06-08 | 1994-06-06 | 陽極接合に使用する低膨張ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-164225 | 1993-06-08 | ||
| JP16422593 | 1993-06-08 | ||
| JP12405394A JP3431279B2 (ja) | 1993-06-08 | 1994-06-06 | 陽極接合に使用する低膨張ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753235A JPH0753235A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3431279B2 true JP3431279B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=26460805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12405394A Expired - Fee Related JP3431279B2 (ja) | 1993-06-08 | 1994-06-06 | 陽極接合に使用する低膨張ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3431279B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000162068A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-06-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体圧力センサの構造 |
| JP2002220255A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-08-09 | Asahi Glass Co Ltd | 無鉛ガラス、電子回路基板用組成物および電子回路基板 |
| US20080090717A1 (en) * | 2004-12-16 | 2008-04-17 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass Composition And Process For Producing The Same |
| US20100029460A1 (en) * | 2007-02-22 | 2010-02-04 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass for anodic bonding |
| JP2009155148A (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Central Glass Co Ltd | ガラス組成物 |
| KR101606600B1 (ko) | 2008-02-26 | 2016-03-25 | 코닝 인코포레이티드 | 실리케이트 유리용 청징제 |
| US8341976B2 (en) | 2009-02-19 | 2013-01-01 | Corning Incorporated | Method of separating strengthened glass |
| US9637408B2 (en) * | 2009-05-29 | 2017-05-02 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium containing glass |
| JP5732758B2 (ja) * | 2010-07-13 | 2015-06-10 | 旭硝子株式会社 | 固体撮像装置用カバーガラス |
| JP5737043B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-06-17 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
-
1994
- 1994-06-06 JP JP12405394A patent/JP3431279B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0753235A (ja) | 1995-02-28 |
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