KR100590346B1 - 저팽창 유리-세라믹 - Google Patents

저팽창 유리-세라믹 Download PDF

Info

Publication number
KR100590346B1
KR100590346B1 KR1019990046666A KR19990046666A KR100590346B1 KR 100590346 B1 KR100590346 B1 KR 100590346B1 KR 1019990046666 A KR1019990046666 A KR 1019990046666A KR 19990046666 A KR19990046666 A KR 19990046666A KR 100590346 B1 KR100590346 B1 KR 100590346B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
glass
ceramic
zno
weight
mgo
Prior art date
Application number
KR1019990046666A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20000029330A (ko
Inventor
핑크니린다루쓰
Original Assignee
코닝 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닝 인코포레이티드 filed Critical 코닝 인코포레이티드
Publication of KR20000029330A publication Critical patent/KR20000029330A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100590346B1 publication Critical patent/KR100590346B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
    • C03C10/0045—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3 and MgO as main constituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0036—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents

Abstract

본 발명은 산화물에 대한 중량%로, 60∼75 SiO2, 8∼20 Al2O3, 2∼10 ZnO, 1∼6 MgO, 1∼10 TiO2, 0∼6 ZrO2, 0∼3 BaO, ZnO+MgO는 5.5 이상, 및 TiO2+ZrO 2는 4 이상을 포함한 투명한 유리-세라믹에 관한 것이다. 상기 유리-세라믹은 22∼32×10-7/℃의 선형 열팽창계수 및 850℃ 이상의 변형점을 갖는다.
유리, 세라믹, 투명, 액정디스플레이, 광학장치

Description

저팽창 유리-세라믹{Low expansion glass-ceramics}
본 발명은 투명한 저팽창 첨정석-기초 유리-세라믹 물질에 관한 것이다.
"유리-세라믹"의 제목으로 1997년 3월 31일에 출원된 미국특허출원 제09/030,863호는 고온의 폴리실리콘 (polysilicon) 박막용 기판으로 사용될 수 있는 물질을 개시하고 있으며, 본 명세서에 참고로 첨부하였다. 출원번호 제09/030,863호에 기재된 투명한 유리-세라믹 물질은 다결정성 실리콘, 특히 고온의 폴리-Si (poly-Si)와 상용성이 있는 열팽창계수 및 높은 변형점을 갖는다. 출원번호 제09/030,863호에 기술되어 있는 상기 유리-세라믹은 실리콘과 매우 유사한 팽창계수 (C.T.E. 32∼42×10-7/℃)를 갖는다.
높은 변형점을 갖고, 실리카 및 실리콘 사이의 열팽창 특성을 갖는 유리 세라믹을 제공하는 것이 바람직하다. 25∼1000℃ 범위의 온도에서 약 32×10-7/℃ 이하의 열팽창 및 850℃를 초과하는 변형점을 갖는 유리-세라믹은 다양한 분야에서 바람직할 수 있다. 또한, 저 열팽창 및 고 변형점과 함께 낮은 밀도를 갖는 유리-세라믹을 제공하는 것도 바람직하다.
본 발명의 목적은 소량의 지르코니아 (zirconia), Mg-페탈라이트 (Mg-petalite), β-석영 고용체 (solid solution, s.s.) 또는 티타네이트 (titanate)를 함유하며, 지배 결정상으로 첨정석을 함유하는 투명한 유리-세라믹에 관한 것으로, 상기 유리-세라믹은 산화물에 대한 중량%로 다음과 같은 조성을 포함한다: 60∼75 SiO2, 8∼20 Al2O3, 2∼10 ZnO, 1∼6 MgO, 1∼10 TiO2, 0∼6 ZrO2, 0∼3 BaO, ZnO+MgO는 5.5 이상, 및 TiO2+ZrO2는 4 이상.
투명함이란 본 발명의 1.1mm 두께의 유리-세라믹 시트 (sheet)가 스펙트럼의 가시광선 영역 (400nm 내지 700nm)에 걸쳐 85% 이상의 투과도를 나타냄을 의미한다. 바람직하게, 특정 분야에서, 예를 들면, 근자외선 영역에서 350∼400nm에 걸쳐 상기 시트가 50% 이상의 투과도를 나타내는 것 또한 바람직하다.
본 발명의 투명한 첨정석-기초 유리-세라믹은 선행 기술의 유리-세라믹 물질에 비하여 많은 잇점을 나타낸다. 예를 들면, 상기 유리 세라믹은 25℃ 내지 300℃의 온도 범위에서 약 22 내지 32×10-7/℃, 좀 더 바람직하게는 25∼30×10-7/℃의 열팽창계수를 가지며, 850℃ 이상, 좀 더 바람직하게는 875℃ 이상, 및 가장 바람직하게는 900℃ 이상의 변형점을 나타낸다. 첨정석 고용체는 상기 물질 내에서 지배 결정상을 포함한다.
상기 유리-세라믹은 결과적으로 높은 열 안정성을 가지며, 900℃의 온도에서 24시간 동안 및 1000℃에서 8시간 동안 뒤틀림 (distorting), 와핑 (warping) 또는 투명도를 잃지 않고 유지될 수 있다. 상기 물질 내의 지배적인 (및 통상적으로 단일한) 결정상은 첨정석 고용체 (Zn,Mg)Al2O4로 이루어지며, 비록 첨정석이 예를 들면 지르코니아, Mg-페탈라이트, β-석영 고용체 또는 MgTi2O5와 같은 소량의 다른 결정상이 수반될 수 있을지라도, 투명도 또는 특성에 어떠한 악영향도 미치지 않는다. 지배 결정상이라 함은 상기 결정상이 존재하는 전체 결정상의 적어도 약 75 부피%, 좀 더 바람직하게는 적어도 85% 및 가장 바람직하게는 적어도 95%임을 의미한다. 또한, 바람직하게는 본 발명의 상기 유리-세라믹은 적어도 약 20중량%의 유리질 매트릭스 (glassy matrix) 내에 분산된 결정상이다.
본 발명의 유리-세라믹은 우수한 화학적 내구성을 나타낸다. 이들은 또한 2.70g/cc 미만의 밀도를 나타낸다.
본 발명의 유리들은 1575 내지 1650℃의 온도에서 용융될 수 있으며, 주조 (casting), 가압 (pressing) 및 롤링 (rolling)을 포함한 통상적인 성형 공정을 사용할 수 있다. 통상적인 용융 및 성형 기술, 특히 롤링에 대한 상기 전구체 (precursor) 유리의 상용성때문에 큰 시트의 제조시 상기 물질은 적절한 대체물이 될 수 있다. 유리에 비하여 이들의 높은 굳기 및 강도는 상기 유리 물질에 비교할 때 더 얇은 시트의 사용을 가능하게 한다 (12×106 psi 이상의 영 계수 (Young's modulus), 10×103 psi을 초과하는 파열 계수 (modulus of rupture)).
본 발명의 저팽창, 내열성 유리-세라믹은 활성 매트릭스 액정 디스플레이 (active matrix liquid crystal displays, AMLCD)와 같은 고온 박막을 사용하는 기 판으로부터 광도파관과 같은 광학 장치용 부품에 이르기까지 다양한 분야에 사용될 수 있다. 이들은 특히 AMLCD 분야에서 기판용으로 사용될 수 있는데, 이는 외면 드라이브 회로 (peritheral drive circuitry)가 저렴한 비용으로 적은 공간에서 상기 기판 상에 직접적으로 놓여질 수 있기 때문이다. 상기 유리들의 높은 변형점은 850℃를 초과하는 고온에서의 공정을 가능하게 한다. 또한, 본 발명의 상기 물질들은 예를 들면, 평평한 판넬 디스플레이, 태양열 배터리 (batteries), 광마스트 (photomask) 및 광마그네틱 디스크 (optomagnetic disks)와 같은 다양한 전기, 전자 및 광전자 장치 내의 기판 물질을 포함하나, 이에 한정되지 않고 광범위한 분야에서 사용할 수 있다.
비록 상기 유리들이 고-팽창, 저-실리카 유리보다 높은 온도에서 용융해야 할 필요가 있을지라도, 이들은 상대적으로 매끄러운 점도 곡선을 유지하며, 1000 내지 5000 poise 이상의 액체 점도와 유사하거나, 그 이상의 점도를 갖는다. 상기 유리-세라믹은 850℃를 초과하는 변형점을 가지며, 낮은 열팽창을 필요로 하는 분야에 바람직하다. 또한, 상기 실리카 물질이 많을수록 밀도가 더 낮아지며, 이는 많은 분야에 바람직하다.
본 발명은 약 22∼32×10-7/℃의 열팽창 계수 및 약 850℃ 이상의 변형점을 갖는 투명한 첨정석-기초 유리-세라믹에 관한 것이다. 상기 물질 내의 지배적이고 통상적으로는 단독의 결정상은 첨정석 고용체 (Zn,Mg)(Al,Ti)2O4로 이루어져 있 다.
유리-세라믹은 잔류 유리 매트릭스 내에 분산된 무작위 방향 결정으로 이루어져 있으며, 전구체 유리 바디 (body)의 조절된 내부 핵화 (nucleation) 및 결정화 (crytallization)를 통하여 제조될 수 있다. 결과적으로, 바람직한 조성의 유리 성형 뱃치 (batch)가 용융되고, 상기 용융물은 냉각되고, 동시에 통상적인 유리 성형 기술을 이용하여 예정된 배열의 유리 형태로 성형된다. 상기 언급된 본 발명의 첨정석 결정-함유 유리 세라믹 전구체 유리를 위한 유리 성형 뱃치는 쉽게 용융되며, 결과적으로 형성된 용융물은 다양하게 변형된 구조의 제품으로 제조될 수 있다. 상기 전구체 유리의 조성물 및 결과적으로 성형된 유리-세라믹은 중량%로 하기 성분을 포함하거나, 하기 성분으로 필수적으로 구성된다:
SiO2 60∼75 BaO 0∼3
Al2O3 8∼20
ZnO 2∼10
MgO 1∼6
TiO2 1∼10 (ZnO+MgO)≥5.5%
ZrO2 0∼6 (TiO2+ZrO2)≥4%
필요하거나 원한다면, As2O5 또는 Sb2O3와 같은 정제제 (fining agents)가 상술된 유리 조성물에 부가될 수 있다. 또한, 원한다면, 최대 5%의 Rb2O, WO3, Nb2O5, AlF3, B2O3, CeO2, Y2O 3 또는 P2O5와 같은 다른 산화물 또는 불화물 및/또는 최대 8%의 Cs2O, Bi2O3, Ta2O3, Ga2O 3, PbO 또는 La2O3가 첨가될 수 있다. K2O, Na2O, Li2O, CaO 및 SrO의 수준은 바람직하게 3% 이하로 제한되며, 가장 바람직하게는 0이다. 본 발명의 유리-세라믹은 유동성 알칼리 이온이 없는 것이 바람직하다.
만일 SiO2의 양이 60% 미만이면, 첨정석 대 잔류 유리의 비율이 증가하고, 상기 열팽창 계수를 증가시킨다. Al2O3는 상기 첨정석, (Zn,Mg)Al2O 4의 필수 성분이다 (1몰 (ZnO, MgO)가 1몰의 Al2O3와 결합한다). 그러므로, 만일 Al2O 3가 8% 미만이면, 첨정석이 거의 성형될 수 없으며, 열팽창 계수가 매우 낮을 수 있다. 만일 Al2O3의 양이 20%를 초과할 경우, 액체 온도가 증가하여 상기 유리를 더욱 용융하기 어렵게 한다.
MgO 및 ZnO는 모두 Al2O3와 함께 주요한 첨정석 결정 형성자 (former)이다. 그러므로, 하나 또는 다른 하나 또는 이들 모두는 상기 유리-세라믹 조성물 내에 존재해야 한다. ZnO는 매우 미세한 낟알의 첨정석 결정의 결정화를 도우며, 원하지 않는 상의 결정화를 최소화시킨다. 최적 특성을 위해 최소 2%의 ZnO가 바람직하다. ZnO는 상기 융점 온도가 너무 높게 되어서 유리 용융을 어렵게 하는 것을 방지하기 위하여 바람직하게는 10% 미만이어야 한다. 모든-Mg 첨정석 (MgAl2O4)이 제조될 수 있는 반면, MgO는 투명도를 감소시키는 경향이 있는 Mg-페탈 라이트, β-석영, 및 MgTi2O5와 같은 비-첨정석 상의 성장을 매우 촉진시킨다. 그러므로, 최대 6% MgO가 바람직하다.
상기 첨정석 상을 충분히 결정화시키고, 원하는 특성을 얻기 위해서는 (ZnO+MgO)의 합은 바람직하게는 적어도 5.5중량%이다. 핵화 및 투명도를 최적화시키기 위해 (TiO2+ZrO2)의 합은 바람직하게는 적어도 4%이다. 티타니아는 상기 첨정석 결정의 내부 성분 및 상기 유리 내의 매우 효과적인 핵화제로서 모두 작용한다. 티타니아 단독, 지르코니아 단독 또는 상기 두 산화물의 혼합물이 첨정석 상을 핵화시키는 반면, 지르코니아 단독에 의한 핵화는 일반적으로 실용적인 관점에서 바람직하지 않은데, 이는 ZrO2가 상기 유리의 액화 온도를 의미있게 상승시키며, 매우 가파른 점도 곡선 및 스토닝 (stoning) 위험이 있을 수 있기 때문이다. 지르코니아는 또한 유리-세라믹의 밀도를 증가시키며, 이는 대부분의 분야에서 바람직하지 않다. 또한, 지르코니아는 의미있는 수준의 마그네시아 (magnesia)를 함유한 유리 내의 첨정석의 핵화에 있어서, 티타니아보다 덜 효과적이다. 만일 잘 핵화되지 않는다면, 상기 조성물 범위 내의 마그네시아-함유 유리들은 첨정석 대신 또는 이에 부가하여 β-석영 고용체 및 Mg-페탈라이트를 제조하려는 경향이 있어, 가장 심각한 경우에는 균열 (cracking) 뿐만 아니라, 상기 유리-세라믹 내에 바람직하지 않은 결정이 성장하고, 계속적으로 흐릿해지거나 불투명해진다. 조성물 내에 마그네시아가 많을수록 상기 첨정석 상을 효과적으로 핵화시키는데 필요한 티타니아의 양은 더 많아진다. Mg 무함유 첨정석 결정에 5% TiO2가 충분한 반 면, 일반적으로 ZrO2가 없을 때, 약 2중량% 이상의 MgO를 함유한 조성물 내에 필요한 티타니아는 최소 7.5%이다.
통상적으로 유리-세라믹은 이들의 전구체 유리보다 상당히 더 높은 변형점을 갖는데, 이는 상기 결정상이 상기 유리 내에 많은 유동제 (fluxing agent)를 취하여, 상기 전구체 유리보다 덜 흐르는--그러므로 더 "단단한"-- 잔류 유리 (실질적으로는 변형점이 상기 유리-세라믹 내에서 측정되는 "유리")를 형성시킨다. 상술된 상기 유리-세라믹은 실리카 함유량이 높고, 이론적으로 실리카와 구조적으로 매우 유사하여, 850℃ 이상, 바람직하게는 875℃ 이상, 및 더 바람직하게는 900℃ 이상의 변형점을 제공한다.
바람직하게, 전구체 유리 조성 및 궁극적으로는 상기 유리-세라믹은 산화물에 대한 중량%로 다음 성분을 포함하거나, 필수적으로 다음 성분으로 구성된다:
SiO2 60∼75 BaO 0∼3
Al2O3 8∼20
ZnO 2∼10
MgO 1∼6
TiO2 1∼10 (ZnO+MgO)≥5.5%
ZrO2 0∼6 (TiO2+ZrO2)≥4%
가장 바람직하게는, 전구체 유리 조성 및 궁극적으로는 유리-세라믹은 산화물에 대한 중량%로, 다음 성분을 포함하거나, 필수적으로 구성된다:
SiO2 65∼75 BaO 0∼2
Al2O3 10∼15
ZnO 3∼7
MgO 2∼5
TiO2 4∼8 (ZnO+MgO)≥6%
ZrO2 0∼4 (TiO2+ZrO2)≥4%
STEM 현미경사진으로부터 본 발명의 바람직한 투명 유리-세라믹의 첨정석 결정의 크기는 지름 (7.5∼20nm)에서 75 내지 200Å임을 알 수 있다. 부분적으로 매우 미세한 결정 크기 때문에, 상기 물질들은 2 마이크론×2마이크론 표면적에 걸쳐, 10Å 미만의 표면 거칠기 (Ra)의 유리 상태로 마모될 수 있고, 유리-세라믹으로 도자기화 (ceramming)한 후 상기 표면 거칠기 정도를 유지한다.
본 발명의 물질은 통상적인 유리 용융 및 성형 공정, 특히, 롤링을 사용할 수 있으며, 그러므로, 박막 폴리실리콘 태양열 전지 또는 평평한 판넬 디스플레이용 기판에 필요한 큰 시트를 저렴한 비용으로 생산할 수 있다. 또한, 유리 또는 용융 실리카와 비교하여 더 높은 굳기 및 강도는 예를 들면 활성 매트릭스 액정 디스플레이 및 다른 평평한 판넬 디스플레이용 기판에서 더 얇은 시트의 사용을 가능하게 한다.
상술된 투명한 유리-세라믹은 핵 및 계속적인 결정의 성장에 사용되는 통상적인 2-단계 열처리에 의해 얻어질 수 있다. 또한, 이는 1-단계 열처리에 의해 얻어질 수 있다. 1 (또는 2) 단계 열처리에서, 결정을 성장시키기 위한 온도의 상한가는 바람직하게는 875∼1050℃의 범위내에 있어야 한다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 좀 더 상세하게 설명하지만 하기 실시예에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다. 표 1은 본 발명의 조성 파라미터 (parameter)를 예시하며, 유리 조성의 수치를 산화물에 대한 중량%로 나타낸다. 각 성분의 합이 100이거나, 또는 100에 가깝기 때문에, 실용적으로 상기 기록된 값들은 중량%로 나타내어질 수 있다. 실제 뱃치 성분은 산화물 또는 다른 뱃치 성분과 함께 용융될 때, 적절한 비율로 바람직한 산화물로 전환되는 다른 화합물을 포함할 수 있다.
표 1에 나타난 유리-세라믹은 표준 실험 방법을 이용하여 제조되었다. 유리 뱃치는 1600∼1650℃에서 4 내지 16시간동안 백금 도가니에서 볼밀(ball mill)되고, 용융되었으며, 5"×6"×0.5" 패티 (patties)의 강철 판으로 주조되었다. 상기 유리 패티는 725∼750℃에서 1시간 동안 어닐되었으며, 연속적으로 하룻밤동안 냉각되었다. 그 후, 상기 유리 패티로부터 쿠폰 (Coupon)이 절단되었으며, 표 1 (H.T.)에서 나타난 바와 같이 하나 또는 그 이상의 열처리 단계를 이용하여 도자기화되었다. 본 발명의 유리들은 775∼800℃에서 1-2시간 도안 핵화될 수 있고, 그 후, 950∼1050℃의 온도에서 2∼4시간동안 결정화될 수 있다. 상기 유리-세라믹에 존재하는 결정상을 결정하는데 표준 분말 X-선 회절법 (Standard powder X-ray diffraction techniques)이 사용되었다. 언급된 모든 실시예에서, 존재하는 유일한 결정 상은 첨정석 고용체 (solid solution, s.s.)이다.
상기 유리-세라믹의 조성물 범위는 (중량%로) 산화물에 대한 중량%로, 60∼75 SiO2, 8∼20 Al2O3, 2∼10 ZnO, 1∼6 MgO, 1∼10 TiO2 및 0∼6 ZrO2를 포함한다. BaO 또는 Cs2O와 같은 변형제 (modifier)의 추가 (<3%)로 유리 안정성을 돕는다. 상기 첨정석 상의 결정화를 위해서 (ZnO+MgO)의 합은 적어도 5.5%이어야 하며, 최적 핵화 및 투명도를 위해 (TiO2+ZrO2)의 합은 적어도 4%이어야 한다. 바람직한 정제제인 As2O5이 포함된다.
유리 뱃치들이 1600∼1650℃에서 4∼16시간 동안 백금 도가니에서 볼밀되고, 용융되었으며, 강철 판으로 주조되었다. 상기 유리 패티들은 725∼750℃에서 1시간 동안 어닐되었고, 계속적으로 하룻밤동안 냉각되었다. 그 후, 상기 유리 패티로부터 쿠폰이 절단되었고, 표 1에 나타난 바와 같이 하나 또는 그 이상의 가열처리 단계를 이용하여 도자기화되었다. 상기 유리들은 통상적으로 775∼800℃에서 1∼2시간동안 핵화되었고, 950∼1050℃의 온도에서 2∼4 시간동안 결정화되었다. 상기 유리-세라믹 내에 존재하는 결정상을 결정하기 위하여 표준 분말 X-선 회절법이 사용되었다. 25 내지 300℃에서 표준 방법을 이용하여 유리-세라믹 시료들에 대하여 열팽창 계수가 측정되었다.
상기 물질의 상한가 사용 온도를 측정하기 위해, 유리-세라믹 시료의 변형점을 측정하기 위해 광선 벤딩 점도법 (beam bending viscosity techniques)이 사용되었다. 유리 (또는 이 경우에는 유리-세라믹)의 변형점은 내부 응력 (stress) 이 수시간 내에 의미있게 감소되는 온도이며, 상기 유리의 점도가 1014.5 포이즈 (poise)인 온도로 정의된다. 물질의 최대 사용 온도를 정의하는 하나의 공통된 방법은 그 변형점 이하 50도의 온도로 정의하는 것이다.
표 1은 대표적인 유리-세라믹 조성물의 조성을 중량%로 나타내고 있다. 모든 실시예에서, 유일한 결정 상은 첨정석 고용체(s.s.)이다. 표 1은 또한 유리 분야에서 통상적인 기술에 따라 유리-세라믹 상에서 결정된 몇몇 화학적이고 무리적인 특성의 측정치를 나타내고 있다. ℃로, 변형점 및 어닐점 (anneal point)은 광선 벤딩 점도계에 의해 결정되었다. 25∼300℃ 온도 범위에 걸친 선형 열팽창 계수 (C.T.E.)는 팽창계 (dilatometry)를 이용하여 측정되었다. 밀도는 g/㎤로 나타내었다.
액체 온도, 액체 점도 및 유리가 103 포이즈, 104 포이즈, 105 포이즈 및 106 포이즈의 점도를 나타내는 온도를 포함하여, 전구체 유리에 대한 액체 및 고온 점도 관련 데이타도 또한 표 1에 나타내었다. 상기 점도 정보는 본 발명의 바람직한 실시예에서 유리-세라믹 조성물이 상대적으로 큰 작업 범위를 갖는 유리 물질을 형성하도록 선택되기 때문에 적절하며, 이는 상기 유리에 대한 점도 곡선이 가파르지 않음을 의미한다 (즉, 점도 대 온도의 변화는 점진적이다).
통상적으로 유리-세라믹은 이들의 전구체 유리보다 상당히 높은 변형점 온도를 갖는데, 이는 상기 결정 상이 상기 유리 내에서 많은 유동제를 흡수하여, 상기 전구체 유리보다 더 적게 흐르는-그러므로 "단단한"-잔류 유리 (실질적으로 변형점 이 유리-세라믹 내에서 측정되는 "유리")를 형성한다. 상술된 상기 유리-세라믹은 실리카가 매우 높은 (>80%) 조성을 갖는 잔류 유리를 갖도록 고안되어, 일반적으로 900℃ 이상의 변형점을 제공한다.
통상적인 용융 및 성형 기술, 특히, 롤링과 상기 전구체 유리의 상용성은 큰 시트의 제조시 상기 물질을 적절한 대체물이 되도록 한다. 유리와 비교하여 더 높은 굳기 및 강도 (탄성계수 >12×106 psi, 파열 계수 > 11×103 psi)는 또한, 상기 유리와 비교하여 더 얇은 유리-세라믹 시트의 사용을 가능하게 한다.
바람직한 조성은 낮은 밀도, 높은 변형점 및 우수한 유리 작업 특성을 갖는다. 표 1로부터 얻은 바람직한 실시예는 실시예 4 (C.T.E. = 30×10-7/℃), 실시예 6 (C.T.E. = 28×10-7/℃), 실시예 9 (C.T.E. = 27×10-7/℃) 및 실시예 22 (C.T.E. = 25×10-7/℃)을 포함한다. 상기 내열성 유리-세라믹은 활성 매트릭스 액정 디스플레이 및 박막 태양열 전지용 기판에서부터 광학 장치의 부품에 이르기까지 광범위한 분야에 사용될 수 있다.
중량% 1 2 3 4 5 6 7
SiO2 64.8 63.4 66.3 67.0 65.8 68.7 70.7
Al2O3 15.8 17.3 15.5 15.7 15.4 14.1 12.9
ZnO 7.5 6.4 5.8 3.9 7.0 5.2 4.8
MgO 2.1 3.2 2.8 3.9 2.2 2.6 2.4
BaO 1.7 1.7 1.6 1.6 1.6 1.4 1.3
TiO2 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0
ZrO2 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0
NH4NO3 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
As2O5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
H.T. 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2
CTE(×10-7/℃) 31.3 32.7 30.2 30.4 30.9 28.3 27.3
변형점 ℃ 910 903 924 898 907 902 908
어닐점 ℃ 988 982 1000 990
밀도 (g/㎤) 2.62 2.59 2.64 2.59 2.56
밀도:유리 2.55 2.59 2.54 2.52
탄성계수 (106 psi) 12.8 12.9 12.6
액체 온도 ℃ 1480 1450 1485 1485 1490 1490 1475
액체온도에서 근사 점도 1800 1500 2500
T℃@103p 1532 1518 1572
T℃@104p 1363 1353 1395
T℃@105p 1242 1235 1270
T℃@106p 1149 1146 1176
중량% 8 9 10 11 12 13 14
SiO2 72.4 71.3 70.2 71.6 72.4 73.2 71.6
Al2O3 11.9 13.0 12.8 12.7 11.9 13.0 12.7
ZnO 4.4 3.2 5.8 4.4 4.4 4.4 4.3
MgO 2.2 3.2 1.8 2.1 2.2 2.2 2.1
BaO 1.2 1.3 1.3 1.2 1.2 1.2 -
B2O3 - - - - 1.0 - -
Cs2O - - - - - - 2.2
TiO2 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 4.0 5.0
ZrO2 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 2.0 2.0
NH4NO3 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
As2O5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
H.T. 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2 800/1 1000/2
CTE(×10-7/℃) 25.2 27.3 26.7 25.2 26.3 24.7 25.3
변형점 ℃ 909 908 916 938 878 929 910
어닐점 ℃ 991 988 997 1014 1006 993
밀도 (g/㎤) 2.54 2.54 2.57 2.54 2.53 2.52 2.54
밀도:유리 2.50 2.50 2.53 2.50 2.47 2.49
액체 온도 ℃ 1485 1480 1475 1480 1490 1440
액체온도에서의 근사 점도 6500 15,500
T℃@103 p
T℃@104 p 1449 1470
T℃@105 p 1316 1327
T℃@106 p 1222 1217
본 발명의 유리 세라믹은 저밀도, 높은 변형점 및 우수한 유리 작업 특성을 가져서, 활성 매트릭스 액정 디스플레이 및 박막 태양열 전지용 기판에서부터 광학 장치의 부품에 이르기까지 광범위한 분야에 사용될 수 있다.

Claims (23)

  1. 산화물에 대한 중량%로, 65∼75 SiO2, 10∼15.7 Al2O3, 3∼7 ZnO, 2∼5 MgO, 4∼8 TiO2, 0∼4 ZrO2, 0∼2 BaO, ZnO+MgO는 6 이상 및 TiO2+ZrO2는 4 이상을 포함하며, 주 결정상으로 고용체 첨정석을 함유하고, 25∼300℃의 온도에서 22∼32×10-7/℃의 선형 열팽창계수(CTE)를 나타내는 투명한 유리-세라믹.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 850℃ 이상의 변형점을 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 25∼30×10-7/℃의 CTE를 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  4. 제3항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 875℃ 이상의 변형점을 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  5. 제3항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 900℃ 이상의 변형점을 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  6. 제1항에 있어서, 상기 ZnO+MgO 혼합물은 10중량% 미만인 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  7. 제1항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 전이금속 산화물, P2O5, Rb2O, CaO, SrO, B2O3, CeO2, 설페이트 및 할라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 선택 성분을 더욱 포함하며, 상기 성분의 양은 전체 5중량% 이하인 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  8. 제1항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 총 3중량% 미만의 Li2O, Na2O, CaO, SrO 및 K2O를 하나 또는 그 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  9. 제1항에 따른 유리-세라믹 조성물을 함유한 기판을 포함하는 광학 장치.
  10. 제1항에 따른 유리-세라믹 조성물을 함유한 기판을 포함하는 평평한 판넬 디스플레이 장치.
  11. 제1항에 따른 유리-세라믹 조성물을 함유한 기판을 포함하는 액정 디스플레이 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 중량%로, 65∼75 SiO2, 10∼15 Al2O3, 3∼7 ZnO, 2∼5 MgO, 4∼8 TiO2, 0∼4 ZrO2, 0∼2 BaO, ZnO+MgO는 6 이상, 및 TiO2+ZrO2는 4 이상인 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  13. 제12항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 850℃ 이상의 변형점을 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  14. 제12항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 25∼30×10-7/℃의 CTE를 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  15. 제14항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 875℃ 이상의 변형점을 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  16. 제14항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 900℃ 이상의 변형점을 갖는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  17. 제12항에 있어서, 상기 ZnO+MgO 혼합물은 10중량% 미만인 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  18. 제12항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 전이금속 산화물, P2O5, Rb2O, CaO, SrO, CeO2, 설페이트 및 할라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 선택 성분을 더욱 포함하며, 상기 성분의 양은 전체 5중량% 이하인 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  19. 제12항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 Cs2O, Bi2O3, Ta2O3, Ga2O3, PbO 및 La2O3로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 선택 성분을 더욱 포함하며, 상기 성분의 양은 8중량% 이하인 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  20. 제12항에 있어서, 상기 유리-세라믹은 총 3중량% 미만의 Li2O, Na2O, CaO, SrO 및 K2O를 하나 또는 그 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 유리-세라믹.
  21. 제12항에 따른 유리-세라믹을 함유한 기판을 포함하는 광학 장치.
  22. 제12항에 따른 유리-세라믹 조성물을 함유한 기판을 포함하는 평평한 판넬 디스플레이.
  23. 제12항에 따른 유리-세라믹 조성물을 함유한 기판을 포함하는 액정 디스플레이.
KR1019990046666A 1998-10-27 1999-10-26 저팽창 유리-세라믹 KR100590346B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10585298P 1998-10-27 1998-10-27
US60/105,852 1998-10-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20000029330A KR20000029330A (ko) 2000-05-25
KR100590346B1 true KR100590346B1 (ko) 2006-06-15

Family

ID=22308141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990046666A KR100590346B1 (ko) 1998-10-27 1999-10-26 저팽창 유리-세라믹

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6248678B1 (ko)
EP (1) EP0997445B1 (ko)
JP (1) JP5008214B2 (ko)
KR (1) KR100590346B1 (ko)
CN (1) CN1254688A (ko)
DE (1) DE69915428T2 (ko)
TW (1) TWI240712B (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101385891B1 (ko) 2006-03-31 2014-04-24 유로케라 β-스포듀민 유리-세라믹 물질 및 그 제조방법
KR101515680B1 (ko) * 2008-10-20 2015-04-27 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 자성-유전 조립체 및 그 제조방법

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4680347B2 (ja) * 1999-06-01 2011-05-11 株式会社オハラ 高剛性ガラスセラミックス基板
JP4704585B2 (ja) * 2000-07-07 2011-06-15 株式会社オハラ 低膨張透明結晶化ガラス、結晶化ガラス基板及び光導波路素子
KR20020006822A (ko) * 2000-07-13 2002-01-26 서두칠 무 알칼리 유리
US6632758B2 (en) 2001-05-03 2003-10-14 Corning Incorporated Transparent gallate glass-ceramics
US6555232B1 (en) * 2001-11-28 2003-04-29 Corning, Incorporated High strain point glasses
JP4166032B2 (ja) * 2002-03-15 2008-10-15 株式会社オハラ Ｓｂｎ系結晶化ガラス
JP3740158B2 (ja) * 2002-07-16 2006-02-01 Ｔｄｋ株式会社 フラットパネルディスプレイ用基板および薄膜ｅｌ素子
FR2844261B1 (fr) * 2002-09-11 2006-02-24 Snc Eurokera Verre mineral ceramisable, fabrication d'articles en vitroceramique, lesdits articles
FR2856055B1 (fr) * 2003-06-11 2007-06-08 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques, composites les renfermant et composition utilisee
WO2004110943A2 (en) 2003-06-19 2004-12-23 Elop Electro-Optics Industries Ltd. Glass ceramics for laser systems
US7326477B2 (en) 2003-09-23 2008-02-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel boules, wafers, and methods for fabricating same
US7045223B2 (en) 2003-09-23 2006-05-16 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel articles and methods for forming same
WO2005066091A2 (en) * 2003-12-30 2005-07-21 Corning Incorporated High strain point glasses
JP4977474B2 (ja) * 2003-12-31 2012-07-18 コーニング インコーポレイテッド アルミニウムケイリン酸塩ガラス
WO2005066990A2 (de) * 2004-01-05 2005-07-21 Schott Ag Verwendungen von glaskeramiken
JP4245047B2 (ja) 2004-03-31 2009-03-25 株式会社村田製作所 透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置
WO2006023594A2 (en) * 2004-08-18 2006-03-02 Corning Incorporated High strain glass/glass-ceramic containing semiconductor-on-insulator structures
WO2006023289A2 (en) * 2004-08-18 2006-03-02 Corning Incorporated Strained semiconductor-on-insulator structures and methods for making strained semiconductor-on-insulator structures
FR2879591B1 (fr) * 2004-12-16 2007-02-09 Saint Gobain Vetrotex Fils de verre aptes a renforcer des matieres organiques et/ou inorganiques
US7919815B1 (en) 2005-02-24 2011-04-05 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Spinel wafers and methods of preparation
DE102005018607A1 (de) * 2005-04-21 2006-10-26 Schott Ag Herstellung von Glas mittels neuen Läutermitteln, ein derart erhaltenes Glas sowie die Verwendung solcher Gläser
EP1736452A1 (en) * 2005-06-21 2006-12-27 Elop Electro-Optics Industries Ltd. Glass-ceramics for laser systems
US9656903B2 (en) * 2005-11-04 2017-05-23 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing high strength glass fibers in a direct melt operation and products formed there from
US7799713B2 (en) 2005-11-04 2010-09-21 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
US8586491B2 (en) 2005-11-04 2013-11-19 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass, high performance glass fibers and articles therefrom
US9187361B2 (en) 2005-11-04 2015-11-17 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing S-glass fibers in a direct melt operation and products formed there from
US7823417B2 (en) * 2005-11-04 2010-11-02 Ocv Intellectual Capital, Llc Method of manufacturing high performance glass fibers in a refractory lined melter and fiber formed thereby
US8338319B2 (en) * 2008-12-22 2012-12-25 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass fibers and fibers formed therewith
KR101200129B1 (ko) * 2007-06-20 2012-11-12 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 유전체 세라믹 조성물 및 적층 세라믹 콘덴서
EP2188123A1 (en) * 2007-08-31 2010-05-26 Corning Incorporated Multi-hit capable transparent, multi-stack armor system
US8053382B2 (en) * 2007-10-02 2011-11-08 Hitachi, Ltd. Optical glass
USD628718S1 (en) 2008-10-31 2010-12-07 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Shingle ridge vent
USD615218S1 (en) 2009-02-10 2010-05-04 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Shingle ridge vent
DE102008054386B3 (de) * 2008-12-08 2010-06-17 Schott Ag Transparente Glaskeramik mit niedriger Dichte und deren Verwendung
US8252707B2 (en) * 2008-12-24 2012-08-28 Ocv Intellectual Capital, Llc Composition for high performance glass fibers and fibers formed therewith
DE102009006778B4 (de) 2009-01-31 2014-12-04 Technische Universität Bergakademie Freiberg Verfahren zur Herstellung einer flamm- oder plasmagespritzten thermoschock- und korrosionsbeständigen Keramikschicht auf Basis von Al2O3-TiO2-ZrO2
JP4815002B2 (ja) 2009-06-04 2011-11-16 株式会社オハラ 情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
ES2443592T3 (es) * 2010-11-04 2014-02-19 Corning Incorporated Vitrocerámica transparente de espinela exenta de As2O3 y Sb2O3
DE102012202697A1 (de) * 2012-02-22 2013-08-22 Schott Ag Transparente farbarme Lithiumaluminiumsilikat-Glaskeramik und deren Verwendung
US10370855B2 (en) 2012-10-10 2019-08-06 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Roof deck intake vent
USD710985S1 (en) 2012-10-10 2014-08-12 Owens Corning Intellectual Capital, Llc Roof vent
US9604871B2 (en) 2012-11-08 2017-03-28 Corning Incorporated Durable glass ceramic cover glass for electronic devices
CN103342465B (zh) * 2013-06-27 2016-06-08 山东建筑大学 利用赤泥和粉煤灰复合制备玻璃陶瓷的方法
FR3008695B1 (fr) * 2013-07-16 2021-01-29 Corning Inc Verre aluminosilicate dont la composition est exempte de metaux alcalins, convenant comme substrat de plaques de cuisson pour chauffage a induction
US9624136B2 (en) 2014-07-01 2017-04-18 Corning Incorporated Transparent spinel article and tape cast methods for making
CN104445952B (zh) * 2014-11-14 2017-03-08 武汉理工大学 一种高硬度透明微晶玻璃及其制备方法
CN105601116A (zh) * 2014-11-19 2016-05-25 成都光明光电股份有限公司 高硬度透明微晶玻璃及其制备方法
CN111453995A (zh) * 2014-11-19 2020-07-28 成都光明光电股份有限公司 以尖晶石为主的微晶玻璃及其制备方法
US11267747B2 (en) * 2015-03-24 2022-03-08 Corning Incorporated High strength, scratch resistant and transparent glass-based materials
CN105384337A (zh) * 2015-11-04 2016-03-09 芜湖东旭光电装备技术有限公司 玻璃、导光板、背光模组、液晶面板、液晶显示终端及玻璃的制备方法
CN108821598B (zh) * 2015-12-03 2021-09-28 成都光明光电有限责任公司 微晶玻璃及其制备方法
US11192818B2 (en) 2017-11-30 2021-12-07 Corning Incorporated Ion exchangeable, transparent gahnite-spinel glass ceramics with high hardness and modulus
CN109928616A (zh) * 2017-12-15 2019-06-25 成都光明光电股份有限公司 玻璃组合物
MX2021005461A (es) 2018-11-26 2021-06-18 Owens Corning Intellectual Capital Llc Composicion de fibra de vidrio de alto rendimiento con modulo de elasticidad mejorado.
CA3117986A1 (en) 2018-11-26 2020-06-04 Owens Corning Intellectual Capital, Llc High performance fiberglass composition with improved specific modulus
CN113365957B (zh) 2018-11-30 2023-12-26 康宁股份有限公司 具有高硬度和模量的可离子交换的不透明锌尖晶石-尖晶石玻璃陶瓷
CN111377614B (zh) * 2018-12-27 2022-02-18 华为机器有限公司 一种铝硅酸盐微晶玻璃及其制备方法和产品
JP2022523029A (ja) * 2019-01-28 2022-04-21 コーニング インコーポレイテッド ガラスセラミック物品、組成物、及びその製造方法
US11542193B2 (en) * 2019-06-27 2023-01-03 Corning Incorporated Glass-ceramic and methods of making the same
CN116409934A (zh) * 2021-12-30 2023-07-11 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种透明尖晶石玻璃陶瓷及其制备方法和应用
CN115010369A (zh) * 2022-06-27 2022-09-06 武汉理工大学 一种可化学强化的尖晶石微晶玻璃及其制备方法和应用
CN115784616A (zh) * 2022-11-15 2023-03-14 常熟佳合显示科技有限公司 一种mas微晶玻璃及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0869105A1 (en) * 1997-03-31 1998-10-07 Corning Incorporated Transparent glass-ceramics

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3497366A (en) * 1966-07-13 1970-02-24 Owens Illinois Inc Glass,ceramic and method
DE1596855B2 (de) 1967-03-29 1971-11-25 Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz Zusammensetzungen zum herstellen von undurchsichtigen glas keramiken mit gezielt einstellbaren zwischen 9 und 75 10 hoch 7 grad c liegenden ausdehnungskoeffizienten
US3681102A (en) * 1970-03-27 1972-08-01 Corning Glass Works Transparent glass-ceramic articles comprising zinc spinel
US3681097A (en) 1970-08-19 1972-08-01 Corning Glass Works Low expansion zinc petalite-beta quartz glass-ceramic articles
GB1544779A (en) 1977-02-11 1979-04-25 Nat Res Dev Glass-ceramic fabrication process and spinel material
US4687750A (en) * 1986-09-08 1987-08-18 Corning Glass Works Transparent glass-ceramics containing gahnite
JPH0667774B2 (ja) 1988-02-15 1994-08-31 株式会社オハラ 透明結晶化ガラス
US5028567A (en) 1988-05-24 1991-07-02 501 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramics
US5330939A (en) 1990-03-09 1994-07-19 Ceramica Filippo Marazzi S.P.A. Method of preparing vitreous ceramic composition suitable for coating ceramic articles
JP2799544B2 (ja) 1994-04-28 1998-09-17 株式会社オハラ 情報記録ディスク用結晶化ガラス
JP3121990B2 (ja) 1994-07-25 2001-01-09 京セラ株式会社 ガラス−セラミック基板
US5476821A (en) * 1994-11-01 1995-12-19 Corning Incorporated High modulus glass-ceramics containing fine grained spinel-type crystals
US5491116A (en) 1995-04-03 1996-02-13 Corning Incorporated Fine-grained glass-ceramics
EP0952966A4 (en) * 1996-11-21 2000-08-23 Corning Inc GLASS CERAMICS BASED ON BETA QUARTZ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0869105A1 (en) * 1997-03-31 1998-10-07 Corning Incorporated Transparent glass-ceramics

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101385891B1 (ko) 2006-03-31 2014-04-24 유로케라 β-스포듀민 유리-세라믹 물질 및 그 제조방법
KR101515680B1 (ko) * 2008-10-20 2015-04-27 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 자성-유전 조립체 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN1254688A (zh) 2000-05-31
DE69915428D1 (de) 2004-04-15
DE69915428T2 (de) 2005-02-17
TWI240712B (en) 2005-10-01
JP5008214B2 (ja) 2012-08-22
KR20000029330A (ko) 2000-05-25
EP0997445A1 (en) 2000-05-03
EP0997445B1 (en) 2004-03-10
US6248678B1 (en) 2001-06-19
JP2000143289A (ja) 2000-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100590346B1 (ko) 저팽창 유리-세라믹
JP4226680B2 (ja) ガラスセラミック
JP2516537B2 (ja) 低膨張透明結晶化ガラス
US7645714B2 (en) Crystallized glass, and method for producing crystallized glass
JP4773608B2 (ja) ガラスセラミックス及び温度補償部材
JP6945414B2 (ja) コーディエライトガラスセラミック、その製造および使用
US6593257B1 (en) Glass-ceramic composition for recording disk substrate
JP3421284B2 (ja) 負熱膨張性ガラスセラミックスおよびその製造方法
KR100563362B1 (ko) 고온 치수 안정성을 갖는 투명한 유리-세라믹의 제조방법
KR20050053693A (ko) 결정화 가능한 글라스와, 용이하게 연마된 표면을 갖는매우 단단한 브레이크-저항성의 글라스 세라믹을 생산하기위한 이들의 용도
USRE39437E1 (en) Negative thermal expansion glass ceramic
TW201827371A (zh) 玻璃陶瓷
JP2003146692A (ja) ディスプレイパネル用のガラス組成物
JP4168931B2 (ja) 光フィルタ基板用結晶化ガラスおよび光フィルタ
US6524982B1 (en) Glass-ceramic composition for recording disk substrate
US6582826B1 (en) Glass-ceramics
JPS61286237A (ja) リングレ−ザ−ジヤイロに適するガラスセラミツク体およびその製造方法
CA1239655A (en) B.sub.2o.sub.3-p.sub.2o.sub.5-sio.sub.2 glass- ceramics
US6514890B1 (en) Glass-ceramic composition for recording disk substrate
WO2005066087A2 (en) Aluminum silicophosphate glasses
US4047960A (en) Refractory partially crystalline materials with good visible transparency
JP4647256B2 (ja) ガラスセラミックス
US4255199A (en) Stable, chemically-strengthenable lithium aluminosilicate glasses
US6458728B1 (en) Glass-ceramic composition for recording disk substrate
JP4736207B2 (ja) 光フィルタ基板用結晶化ガラスおよび光フィルタ

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120524

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130524

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee