TWI394733B - Glass composition for substrate and method for producing the same - Google Patents

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TWI394733B
TWI394733B TW097140904A TW97140904A TWI394733B TW I394733 B TWI394733 B TW I394733B TW 097140904 A TW097140904 A TW 097140904A TW 97140904 A TW97140904 A TW 97140904A TW I394733 B TWI394733 B TW I394733B
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Kensuke Nagai
Tetsuya Nakashima
Kei Maeda
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Asahi Glass Co Ltd
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Description

基板用玻璃組成物及其製造方法
本發明係關於平板顯示器(以下，簡稱為FPD)用基板或太陽電池用基板，特別係作為電漿顯示面板(以下，簡稱為PDP)用基板為係為有用，藉由浮法所成之大型板之製造時適宜之基板用玻璃組成物及其製造方法。
以往，PDP一般而言，於基板玻璃上將金屬電極、絕緣膠、rib-paste等以550~600℃左右之溫度燒成後，藉由將對向板與周圍熔接密封而製造。以往，被廣泛使用作為PDP基板用玻璃，作為建築用或汽車用之鈉鈣矽玻璃(soda-lime-silica glass)則一般性地被使用至今。
但，由於鈉鈣矽玻璃之玻璃轉移點係為530~560℃，若以上述之燒成溫度受到熱處理，基板玻璃會變形或收縮，因尺寸顯著變化，而有難以實現與對向板之高精度電極位置對準之課題。
為了解決此基板玻璃之熱變形或熱收縮之問題，周知有熱膨脹係數與鈉鈣矽玻璃相近，玻璃轉移點、應變點為高之基板用玻璃組成物(參考專利文獻1)。
然而，專利文獻1所記載之基板用玻璃組成物，與鈉鈣矽玻璃相比，在高溫中玻璃之黏度為高。因此，必須提高基板玻璃製造時所實施之各步驟(熔解步驟、澄清步驟、成形步驟)之溫度，即，玻璃熔解溫度、澄清溫度及成形溫度，而穩定生產則為困難，給予製造設備之壽命帶來不良影響，產生基板玻璃之製造成本變高之問題。
因此，由玻璃之穩定生產，延長製造設備之壽命等之提升玻璃生產性，低成本化等理由，而被要求降低玻璃之高溫黏度一事。
然而，若單僅只係使成為降低了高溫黏度之玻璃組成，則無法滿足PDP用之基板玻璃所要求之特性。即，無法使基板用玻璃組成物之比重、玻璃轉移點、耐藥品性、介電係數、體積阻率、折射率、熱膨脹係數、應變點、強度(例如，破壞韌性)、抗刮傷性(例如、Crack Initiation Load)等之特性滿足作為PDP用基板玻璃應滿足之範圍。
又，藉由使成為降低了高溫黏度之玻璃組成，若澄清步驟之溫度下降，則澄清劑之效果降低，會對作為FPD用基板玻璃，特別係PDP用基板玻璃之泡品質有所影響。於製造基板用玻璃組成物時，為了減少玻璃中之泡(氣泡)，作為澄清劑通常使用SO3 。SO3 係作為鹼土類金屬之硫酸鹽添加於玻璃原料中。其後，SO3 在熔融玻璃中分解產生SO2 氣體。藉由此SO2 氣體與存在於熔融玻璃中之氣泡一起浮出，而促進澄清作用。然而，作為降低了玻璃之高溫黏度之組成，若將澄清步驟之溫度降低之場合，因熔融玻璃中之SO3 的分解變得不易產生，則澄清劑之效果降低。
[專利文獻1]特開平8-165138號公報
為了解決上述之問題點，本發明以提供一種藉由可一面確保作為FPD用基板或太陽電池用基板，特別係作為PDP用基板之特性及品質，一面使高溫黏度下降，而生產性為優良之基板用玻璃組成物及其製造方法為目的。
為了達成上述目的，本發明為提供一種在氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有
SiO2 　55~75%
Al2 O3 　5~15%
MgO　4~18%
CaO　3~12%
SrO　4~18%
BaO　0~20%
Na2 O+K2 O　6~20%
ZrO2 　0.5~6%
MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%
含有，
SO3 　0.001~0.6%
設黏度為η時，滿足log η=2之溫度為1545℃以下，失透溫度為滿足log η=4之溫度以下，熱膨脹係數為75×10-7 ~90×10-7 /℃，比重為2.8以下，玻璃轉移點為600℃以上為其特徵之基板用玻璃組成物。
本發明之基板用玻璃組成物在以氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，以含有
SiO2 　55~70%
Al2 O3 　5~10%
MgO　4~10%
CaO　3~8%
SrO　4~13%
BaO　0~11%
Na2 O+K2 O　6~15%
ZrO2 　0.5~4%
MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%
含有，
SO3 　0.01~0.4%
為佳。
本發明之基板用玻璃組成物，相對於玻璃母材組成原料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%作為玻璃原料，將該玻璃原料於1350℃下熔化，保持30分鐘~2小時後，於30秒~1分鐘間冷卻至20~30℃之玻璃中的SO3 含有量(%)，與將該玻璃原料於1500℃下熔化，保持30分鐘~2小時後，於30秒~1分鐘間冷卻至20~30℃之玻璃中的SO3 含有量(%)之差為0.17以上為佳。
又，本發明之基板用玻璃組成物，其破壞韌性以0.7MPa‧m1/2 以上為佳。
又，本發明之基板用玻璃組成物，於150℃下之體積阻率以1011 Ω‧cm以上為佳。
又，本發明為提供一種調整原料以使可得到以氧化物為基準之質量%表示，作為玻璃母材組成，含有
SiO2 　55~75%
Al2 O3 　5~15%
MgO　4~18%
CaO　3~12%
SrO　4~18%
BaO　0~20%
Na2 O+K2 O　6~20%
ZrO2 　0.5~6%
MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%
之玻璃，相對於該原料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%添加作為玻璃原料，將該玻璃原料於1200~1400℃下熔化後，於1400~1700℃下澄清，藉由浮法成形為板玻璃，得到[0010]中記載之基板用玻璃組成物之基板用玻璃組成物製造方法。
又，本發明為提供一種調整原料以使可得到氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有
SiO2 　55~70%
Al2 O3 　5~10%
MgO　4~10%
CaO　3~8%
SrO　4~13%
BaO　0~11%
Na2 O+K2 O　6~15%
ZrO2 　0.5~4%
MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%
之玻璃，相對於該原料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%添作為玻璃原料，將該玻璃原料於1200~1400℃下熔化，於1400~1700℃下澄清，藉由浮法成形為板玻璃，得到[0011]中所記載之基板用玻璃組成物的基板用玻璃組成物之製造方法。
本發明之基板用玻璃組成物，可一面確保作為FPD用基板或太陽電池用基板，特別係作為PDP用基板之特性，一面其高溫黏度變低。藉此，基板用玻璃組成物製造時所實施之各步驟之溫度，即，可降低熔解步驟、澄清步驟及成形步驟(例如，藉由浮法之成形步驟)之溫度。降低基板用玻璃組成物製造時所實施之各步驟之溫度一事，具有提高生產性，容易生產，安定生產，延長製造設備之壽命，降低基板用玻璃組成物之製造成本之有利點。
更進一步，本發明之基板用玻璃組成物，因澄清性優良，即，因其澄清開始溫度為低，就算澄清步驟之溫度降低之場合時，其澄清劑之效果也可理想地發揮。此結果，可得到泡數為少之高品質之基板玻璃。
又，藉由使浮法成形之大概基準溫度(黏度η為滿足log η=2之溫度)下降，可減少所得之基板用玻璃組成物之錫缺陷。若藉由浮法之成形步驟之溫度為高，浮式槽中之熔融錫之蒸發量則增加。蒸發後之錫在浮式槽之頂棚附近凝集，掉落於玻璃帶而容易產生錫缺陷。
更進一步，本發明之基板用玻璃組成物，跟以往PDP用基板所用之玻璃相比，有以下之優點。
˙低比重。
˙失透性優良。
˙高強度(高破壞韌性)。
˙抗刮傷性優良。
[實施發明之最佳形態]
以下，更進一步說明關於本發明之基板用玻璃組成物。
本發明之基板用玻璃組成物，在氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有
SiO2 　55~75%
Al2 O3 　5~15%
MgO　4~18%
CaO　3~12%
SrO　4~18%
BaO　0~20%
Na2 O+K2 O　6~20%
ZrO2 　0.5~6%
MgO+CaO+SrO+BaO　18~25%
含有
SO3 　0.001~0.6%。
本發明之基板用玻璃組成物，使成為上述組成之理由為如以下所述。
於以下中，若無特別限制，將質量%單純以%表示。
SiO2 ：係為形成玻璃之骨格的成分，若未滿55%其玻璃耐熱性變差。若超過75%其熱膨脹係數下降，而有玻璃之高溫黏性增加其熔解性惡化之虞。
SiO2 之含有量，以55~72%為佳。較佳為55~70%，更佳為55~68%。
Al2 O3 ：雖有提升玻璃轉移點，使耐熱性提高之效果，但若不滿5%時此效果為小。另一方面，若超過15%時玻璃之高溫黏性增加，而熔解性下降。
Al2 O3 之含有量，以5~12%為佳。較佳為5~10%更佳為5~8%。
MgO：具有降低玻璃熔解時之黏性，促進熔解之作用，雖有使破壞靭性增加，降低比重之效果，但若不滿4%時此效果為小。另一方面，若超過18%時玻璃之熱膨脹係數有變得過大之傾向，且失透溫度變高，玻璃變得不安定。
MgO之含有量，以4~15%為佳。更佳為4~10%。
CaO：具有提升玻璃之轉移點與增大熱膨脹係數，及降低玻璃之高溫黏性，使比重變輕之效果。其含有量若不滿3%時玻璃之熱膨脹係數則會變得過小。另一方面，若超過12%時熱膨脹係數變得過大，且失透溫度變得過高。
CaO之含有量，以3~10%為佳。較佳為3~8%，更佳為3.1~8%，特佳為3.2~6%。
SrO：具有與CaO同樣地提升玻璃之轉移點與增大熱膨脹係數，使電阻增加之效果。其含有量若不滿4%時玻璃轉移點變得過低。另一方面，若超過18%時玻璃之熱膨脹係數變得過大，比重則變得過大。
SrO之含有量，以4~15%為佳。較佳為4~13%，更佳為4~10%，特佳為4~8%。
BaO：由於具有與CaO、SrO同樣地提升玻璃之轉移點與增大熱膨脹係數，及降低玻璃之高溫黏性之效果，故可使其含有。但其含有量若超過20%時，因為玻璃之熱膨脹係數會變得過大，比重變得過重，故為20%以下。
BaO之含有量，以18%以下為佳。較佳為16%以下，更佳為14%以下，特佳為11%以下，最佳為9%以下。
但，若考慮對環境之負荷，以實質上不含有BaO為佳。
MgO+CaO+SrO+BaO：若此些之合計量不滿18%時玻璃之高溫黏性則過度上昇，玻璃轉移點變得過低。另一方面，此些之合計量超過25%時比重則變得過大。
此些之合計量以19~25%為佳。
Na2 O、K2 O：為使玻璃之熱膨脹係數變大至少一種係為必要。若此些之合計量不滿6%時玻璃之熱膨脹係數變得過小。另一方面，合計量超過20%時玻璃之耐熱性降低。
此些之合計量以6~18%為佳。較佳為6~15%，更佳為6~13%。
其中，由於K2 O使玻璃之熱膨脹係數變得更大，以含有1%以上為佳。另一方面，若過度添加此些成分，玻璃之耐熱性降低的傾向為大。從相關觀點來看，使Na2 O在0~10%、K2 O在1~10%之範圍為佳。
另一方面，Li2 O，因會降低玻璃之耐熱性，除不可避免之雜質以外實質上為不含有。
ZrO2 ：為使玻璃之耐熱性及化學耐久性提升而使用，但若不滿0.5%時其效果為小。另一方面，其含有量若超過6%時則玻璃之失透溫度變得過高，熱膨脹係數變得過低。
ZrO2 之含有量，以0.5~4.5%為佳。較佳為0.5~4%，更佳為0.5~3.5%，特佳為0.5~3%。
更進一步，為使熔解性提升，亦可含有B2 O3 。但，若過度含有，由於基板玻璃之熱膨脹係數變得過低，以不滿1.5%未滿為佳。但，對於本發明之基板用玻璃組成物以實質上不含有B2 O3 為佳。
本發明之基板用玻璃組成物之製造時，作為澄清劑添加SO3 。作為SO3 來源，投入硫酸鉀(K2 SO4 )、硫酸鈉(Na2 SO4 )、硫酸鈣(CaSO4 )等之硫酸鹽於玻璃原料中，但對於製造後之基板用玻璃組成物，作為澄清劑所添加之SO3 的一部份會殘留。但，若將製造後之基板用玻璃組成物中殘留量成為超過0.6%之量投入玻璃原料中之場合時，製造時使玻璃再沸等時在玻璃中會殘留氣泡。
尚且，將SO3 作為澄清劑使用時，若添加量(相對於前述玻璃母材組成原料之添加量。以下，同樣))超過10%，於熔解中將會從玻璃熔液中分離，而殘留未熔。又，若不滿0.5%澄清效果欠佳。因此，添加0.5~10%。以0.5~8%為佳，較佳為0.5~4%，更佳為0.7~2%。
此種場合，對基板用玻璃組成物之殘留量以SO3 換算下為0.001~0.6%，以0.002~0.5%為佳、0.005~0.4%為較佳，0.01~0.4%為更佳。
本發明之基板用玻璃組成物，其製造時中，藉由作為澄清劑所添加之SO3 的澄清效果，即，從玻璃熔液中除去氣泡之效率優良。
作為澄清劑所添加之SO3 ，在玻璃熔液中分解，藉此所發生之SO2 成為氣泡，藉由與玻璃熔液中之泡一起浮上而發揮澄清效果。因此，澄清步驟中，SO3 分解，從玻璃熔液所減少之SO3 越多其澄清效果越高。
本發明之基板用玻璃組成物，相對於玻璃母材組成原料100%，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%作為玻璃原料，將該玻璃原料在1350℃下熔解，保持30分鐘~2小時後，於30秒~1分鐘水冷冷卻至20~30℃之玻璃中之SO3 含有量(SO3 (1350℃))(%)，與將該玻璃原料在1500℃下熔解，保持30分鐘~2小時後，於30秒~1分鐘水冷冷卻至20~30℃之玻璃中之SO3 含有量(SO3 (1500℃))(%)之差((以下，稱為Δ SO3 。))為0.17以上為佳。於此，1350℃係為玻璃製造時所實施之熔解步驟中玻璃熔液的代表性溫度，1500℃係為澄清步驟中玻璃熔液之代表性溫度。
另外，SO3 含有量並非為玻璃熔液中之物，以玻璃原料在1350℃或1500℃下熔解，保持30分鐘~2小時後、於30秒~1分鐘水冷冷卻至20~30℃之玻璃中之SO3 含有量作為指標。係由於無法測定玻璃熔液中之SO3 含有量。又，若保持1350℃或1500℃ 30分鐘以上，玻璃熔液中之SO3 含有量則大致成為固定。若於30秒~1分鐘之短時間內水冷冷卻至20~30℃，可實質上忽視冷卻時之SO3 含有量之變化。
若Δ SO3 在上述之範圍，作為澄清劑所添加之SO3 中，於澄清步驟中分解，由於從玻璃熔液中減少之量為多，可稱為澄清效果優良之玻璃。
Δ SO3 ，以0.18%以上為較佳，更佳為0.19%以上。又，Δ SO3 ，以1.5%以下為佳。
因此，本發明中理想之玻璃組成之一例，以氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有
SiO2 　55~70%
Al2 O3 　5~10%
MgO　4~10%
CaO　3~8%
SrO　4~13%
BaO　0~11%
Na2 O+K2 O　6~15%
ZrO2 　0.5~4%
MgO+CaO+SrO+BaO　　18~25%
含有
SO3 　0.01~0.4%。
另外，本發明中更理想之玻璃組成係由SiO2 、Al2 O3 、MgO、CaO、SrO、Na2 O、K2 O及ZrO2 所構成為佳。
本發明之基板用玻璃組成物，除上述成分以外，為了改善玻璃之熔解性、澄清性、成形性，相對於玻璃母材組成原料，亦可添加使SnO2 、As2 O3 、Sb2 O3 、P2 O5 、F、Cl之合計量成為2%以下，理想為1.5%以下。
又，為提升基板用玻璃組成物之耐久性，相對於玻璃母材組成原料，亦可添加使La2 O3 、TiO2 、SnO2 、ZnO之合計量成為5%以下。
更進一步，為了調整基板用玻璃組成物之色調，可添加Fe2 O3 、CoO、NiO、Nd2 O3 等之染色劑。此般之染色劑，相對於玻璃母材組成原料，可添加使合計量成為3%以下，以添加成為1%以下為佳。
本發明之基板用玻璃組成物，其高溫黏度與以往之PDP基板用玻璃相比變得較低。具體而言，相當於102 dPa‧s之黏度時之玻璃熔液之溫度T2 為1545℃以下。
黏度102 dPa‧s係為表示玻璃熔液之黏度變得非常低之基準黏度。因此，使玻璃熔液之黏度成為102 dPa‧s之溫度T2 係為玻璃熔液之基準溫度。
以往之PDP用基板玻璃之場合，T2 主要為超過1545℃。本發明之基板用玻璃組成物，因T2 為1545℃以下，可使熔解步驟在比以往低溫之情況下實施。此結果，使玻璃安定生產變為可能。又，由於熔解步驟時之熔解槽之溫度變低，熔解槽之壽命延長。因熔解步驟時所投入之燃料之量變少，玻璃製造成本下降。
T2 以1543℃以下為佳，1540℃以下較佳，更佳為1510℃以下，以1500℃以下為特佳。又，從確保熔解性之觀點，T2 以1400℃以上為佳。
本發明之基板用玻璃組成物，相當於104 dPa‧s之黏度之玻璃熔液之溫度T4 以1200℃以下為佳。
黏度104 dPa‧s係為將玻璃以浮法成形時之基準黏度。因此，使玻璃熔液之黏度成為104 dPa‧s之溫度T4 ，也係為於浮法成形步驟中玻璃熔液之基準溫度。
以往之PDP基板用玻璃之場合，T4 為超過1200℃。本發明之基板用玻璃組成物，因T4 在1200℃以下，可將浮法成形步驟在比以往更低之溫度下實施。此結果，使玻璃之安定生產成為可能。又，延長浮式槽之壽命。又，由於加熱浮式槽所需之燃料變少，基板玻璃之製造成本下降。又，因為由浮式槽所取出之玻璃帶之溫度變低，減少了伴隨在浮法成形後所實施之徐冷步驟所需要之能源。
又，藉由降低浮法成形步驟之溫度，可減少所得玻璃之錫缺陷。若浮法成形步驟之溫度為高，浮式槽內之溫度，特別係熔融錫之溫度變高。此結果，熔融錫之蒸發量增加。所蒸發之錫在浮式槽之棚頂附近凝集，落下於玻璃帶上而產生錫缺陷。
藉由降低浮法成形步驟之溫度，浮式槽內之溫度，特別係可降低熔融錫之溫度。此結果，熔融錫之蒸發量減少，而減少起因於所蒸發之熔融錫的玻璃之錫缺陷。
T4 以1180℃以下為佳，1160℃以下為較佳，更佳為1150℃以下。又，從確保成形性之觀點，T4 以1000℃以上為佳。
本發明之基板用玻璃組成物，失透溫度為T4 以下，以T4 低為佳。如上述般，T4 也係為浮法成形步驟中玻璃熔液之基準溫度。若失透溫度比T4 還低，適合於藉由浮法之成形。又，本發明之基板用玻璃組成物，失透溫度以比T4 低1℃以上為更佳，低5℃以上為特佳，低10℃以上為最佳。
本發明之基板用玻璃組成物，熱膨脹係數位在75×10-7 ~90×10-7 /℃之範圍為佳。將本發明之基板用玻璃組成物作為PDP基板使用之場合，作為製造PDP時所使用之玻料(frit)材料或漿材料，必須使用與玻璃之熱膨脹係數為一致者。製造PDP時所實施之燒成步驟之溫度領域(50~350℃)中，選用熱膨脹係數為超脫上述之範圍者係為非常困難。
本發明之基板用玻璃組成物，熱膨脹係數α以位於80×10-7 ~90×10-7 /℃之範圍為佳。
本發明之基板用玻璃組成物，比重在2.8以下為佳。若比重超過2.8，由於基板用玻璃組成物變重，在運用上，特別係在輸送上為不理想。基板用玻璃組成物之比重在2.8以下，對大型之基板而言係特別重要之特性。
本發明之基板用玻璃組成物，比重在2.77以下為佳，2.75以下為更佳。
本發明之基板用玻璃組成物，玻璃轉移點(Tg)在600℃以上為佳。若玻璃轉移點不滿600℃未滿，在製造稱為40吋之大型PDP場合時，熱處理所造成之玻璃之收縮量則不會變得夠小。
本發明之基板用玻璃組成物，以Tg在610℃以上較佳，更佳為615℃以上。
本發明之基板用玻璃組成物，以高強度為佳，具體而言，以破壞韌性為0.7MPa‧m1/2 以上為佳。若破壞韌性為0.7MPa‧m1/2 以上，於PDP製造時及使用時，玻璃基板之缺陷或龜裂則變得不易發生。破壞韌性以在0.71MPa‧m1/2 以上為較佳，以0.72MPa‧m1/2 以上為更佳。
本發明之基板用玻璃組成物，在150℃中之體積阻率以1011 Ω‧cm以上為佳。製造PDP時，基板玻璃之表面上形成有銀電極。將銀電極通電時，為了防止通過之電流的一部份流過銀電極周邊之玻璃，基板用玻璃組成物以絕緣性優良者為佳。若於150℃中之體積阻率為1011 Ω‧cm以上，其絕緣性優良，就算將PDP大型化或高密度化之場合時，將基板玻璃上所形成之銀電極通上電流時，並無通過電流之一部份流過該銀電極周邊之玻璃之虞。
通常，選擇注目於僅只將高溫黏度降低之基板用玻璃組成物之組成之場合時，難以使150℃中之體積阻率為1011 Ω‧cm以上。本發明之基板用玻璃組成物之場合，可一面確保150℃中玻璃之體積阻率為1011 Ω‧cm以上，一面使玻璃之高溫黏度下降。
本發明之基板玻璃，150℃中玻璃之體積阻率以2×1011 Ω‧cm以上為佳，以5×1011 Ω‧cm以上為更佳。
本發明之基板用玻璃組成物，適合作為FPD用基板或太陽電池用基板，特別係適合作為PDP用基板。
其分光穿透率在425~475nm、510~560nm、600~650nm之範圍中分別成為85%以上為佳。
另外，作為PDP用基板使用之場合，其厚度以0.3mm~3.0mm為佳。
本發明之玻璃(基板用玻璃組成物)，例如可以如下之方法製造。即，將通常所使用之各成分之原料調合使成為目標成分，將此連續地投入熔解爐中，在1200~1400℃中加熱熔融，在1400~1700℃中澄清後，將此熔融玻璃藉由浮法成形成指定之板厚，藉由徐冷後切斷，得到透明玻璃基板。
 實施例
以下，使用實施例進一步說明本發明，但本發明不應被解釋受限於此些實施例。
表1為表示例1~4(實施例)、例5~7(比較例)之玻璃組成。
調整母材組成(SiO2 ~Zr2 O)之原料成為目標組成，相對於該原料，將硫酸鈉以SO3 換算添加0.8%作為玻璃原料，使用鉑坩堝將該玻璃原料在1500~1600℃之溫度加熱4小時，熔解。於熔解時，將鉑攪拌棒插入，攪拌2小時，進行玻璃之均質化。接著將玻璃熔液流出，徐冷後，進行研磨作成厚度為2.8mm之板狀。
關於以此般所得之玻璃，測定了玻璃組成(單位：質量%)，50~350℃之熱膨脹係數(α50-350 、單位：10-7 /℃)、玻璃轉移點(Tg、單位：℃)、150℃中之體積阻率(log ρ、單位：Ωcm)、比重、破壞韌性(單位：MPa‧m1/2 )、T2 (單位：℃)、T4 (單位：℃)及失透溫度(單位：℃)。結果如表1所示。另外，表中括弧內係為計算值。
玻璃轉移點係以如下之方式所求得。將玻璃保持在徐冷點之溫度中30分鐘後，以60℃/分之冷卻速度進行徐冷。接著對於此經過徐冷之玻璃，使用示差式熱膨脹計，求取相對於由室溫至屈伏點之溫度之熱膨脹係數的曲線。於此曲線之最初彎曲之點的前後畫上接線，將對應接線之交點的溫度作為玻璃轉移點。
又，將SO3 (1350℃)及SO3 (1500℃)以下述之順序進行測定。
將母材組成(SiO2 ~Zr2 O)之原料調整成為目標組成，相對於該原料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.8%成為玻璃原料，使用鉑坩堝將該玻璃原料在1350℃或1500℃中熔解，保持30分鐘後，以水冷冷卻30秒~1分鐘至20~30℃，作成玻璃樣品，將SO3 (1350℃)或SO3 (1500℃)以FP法(基本參數定量法)進行了測定。
如表1明顯表示，由於實施例之玻璃(例1~4)之T2 為1545℃以下，其生產性優良。又，因失透溫度比T4 還低，藉由浮法可安定成形。又，因Δ SO3 為0.17%以上，其澄清性優良。又，作為PDP用基板玻璃之耐藥品性、介電係數、折射率、應變點、抗刮傷性也為優良。因此，特別係適用於1邊為2m以上之大型顯示基板用玻璃板或太陽電池用基板。
 [產業上之可利用性]
本發明之基板用玻璃組成物作為FPD用基板，特別係作為PDP用基板極為適宜。
尚且，本發明之基板用玻璃組成物也可作為太陽電池用基板或磁碟用基板使用。
猶，本發明之說明書之揭示，係引用自於2007年10月25日申請專利之日本特許出願2007-277126號之說明書、申請專利範圍、及摘要之全內容，本發明說明書之內容係為引用其者。

Claims (9)

  1. 一種基板用玻璃組成物，其特徵為以氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有 含有SO3 0.001~0.6%，設η為黏度時，滿足log η=2之溫度為1545℃以下，失透溫度(Devitrification Temperature)為滿足log η=4之以下溫度，熱膨脹係數為75×10-7 ~90×10-7 /℃，比重為2.8以下，玻璃轉移點為600℃以上。
  2. 如專利申請範圍第1項記載之基板用玻璃組成物，其中以氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有SiO2 55~70% 含有SO3 0.01~0.4%。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項記載之基板用玻璃組成物，其中相對於玻璃母材組成材料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%作為玻璃原料，該玻璃原料於1350℃下熔化，保持30分鐘~2小時後，於30秒~1分鐘間冷卻至20~30℃之玻璃中的SO3 含有量(%)，與該玻璃原料於1500℃下熔化，保持30分鐘~2小時後，於30秒~1分鐘間冷卻至20~30℃之玻璃中的SO3 含有量(%)之差為0.17以上。
  4. 如申請專利範圍第1項記載之基板用玻璃組成物，其中破壞韌性為0.7MPa．m1/2 以上。
  5. 如申請專利範圍第1項記載之基板用玻璃組成物，其中於150℃下之體積電阻率為1011 Ω．cm以上。
  6. 如申請專利範圍第1項記載之基板用玻璃組成物，其中上述滿足log η=4之溫度為1200℃以下。
  7. 如申請專利範圍第1項記載之基板用玻璃組成物，其中上述K2 O之含有量為1~10%。
  8. 一種基板用玻璃組成物之製造方法，其特徵為調整原料以使可得到以氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有 之玻璃，相對於該原料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%作為玻璃原料，將該玻璃原料於1200~1400℃下熔化後，於1400~1700℃下澄清，藉由浮法成形為板玻璃而得到如申請專利範圍第1項記載之基板用玻璃組成物。
  9. 一種基板用玻璃組成物之製造方法，其特徵為調整原料以使可得到以氧化物為基準之質量%表示下，作為玻璃母材組成，含有 之玻璃，相對於該原料，將硫酸鹽以SO3 換算添加0.5~10質量%作為玻璃原料，將該玻璃原料於1200~1400℃下熔化後，於1400~1700℃下澄清，藉由浮法成形為板玻璃而得到如申請專利範圍第2項記載之基板用玻璃組成物。
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