BRPI0611539B1

BRPI0611539B1 - método de aplicar um revestimento a uma superfície, camada de aspersão a frio e objeto revestido

Info

Publication number: BRPI0611539B1
Application number: BRPI0611539A
Authority: BR
Inventors: Kreye Heinrich; Zimmermann Stefan; Schmidt Tobias; Papp Uwe
Original assignee: Starck H C Gmbh
Priority date: 2005-05-05
Filing date: 2006-04-28
Publication date: 2017-04-04
Also published as: US20150004337A1; AU2006243447A1; RU2434073C2; ZA200709469B; CA2606478A1; MX2007013600A; EP1880035B1; KR20080005562A; RU2007144638A; US8802191B2; TW200706696A; JP5065248B2; CA2606478C; JP2008540822A; WO2006117144A1; RU2434073C9; NO20076124L; IL187110A0; TWI392768B; BRPI0611539A2

Abstract

método de aplicar revestimento a superfícies, uso de um pó de um material, camada de aspersão a frio, objeto revestido e uso de um revestimento de metal refratário. a presente invenção refere-se a um método de aplicação de revestimentos a superfícies, em que um fluxo de gás forma uma mistura de gás-pó com o pó de um material selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio ou misturas de pelo menos dois dos mesmos, ou suas ligas com pelo menos dois dos mesmos, ou com outros metais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a 150 pm, em que uma velocidade supersônica é conferida ao fluxo de gás e o jato da velocidade supersônica é dirigido para a superfície de um objeto. os revestimentos preparados são usados, por exemplo, como revestimentos de proteção contra corrosão.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "MÉTODO DE APLICAR UM REVESTIMENTO A UMA SUPERFÍCIE, CAMADA DE ASPERSÃO A FRIO E OBJETO REVESTIDO".

[001] A presente invenção refere-se a um método para aplicação de revestimentos que contêm somente pequenas quantidades de impurezas gasosas, em particular oxigênio.

[002] A aplicação de revestimentos de metal refratário em superfícies apresenta numerosos problemas.

[003] Nos processos convencionais, o metal é, em geral, completa ou parcialmente fundido, na maioria dos casos, em consequência de os metais prontamente oxidarem ou absorverem outras impurezas gasosas. Por este motivo, os processos convencionais, tais como deposição - soldagem e aspersão de plasma, devem ser realizados sob um gás de proteção ou a vácuo.

[004] Em tais casos, a despesa em termos de aparelhos é alta, o tamanho dos componentes é limitado, e o teor de impurezas gasosas é ainda insatisfatório.

[005] A introdução pronunciada de calor transmitida para o interior do objeto a ser revestido, resulta em um potencial muito alto para distorção e significa que esses processos não podem ser empregados em caso de componentes complexos, que muitas vezes também contêm constituintes que fundem a temperaturas baixas. Os componentes complexos devem, portanto, ser retirados antes de serem reprocessa-dos, com o resultado de que, em geral, o reprocessamento raramente é econômico e somente a reciclagem do material dos componentes (raspagem) é realizada.

[006] Além do mais, no caso de aspersão de plasma a vácuo, as impurezas do tungstênio e do cobre, que se originam dos eletrodos usados, são introduzidas no revestimento, o que é geralmente indesejável. No caso, por exemplo, do uso de revestimentos de tântalo ou nióbio, para a proteção contra corrosão, tais impurezas reduzem o efeito protetor do revestimento pela formação das assim chamadas células microgalvânicas.

[007] Além disso, tais processos são processos de metalurgia por fu-são, que sempre envolvem as desvantagens inerentes dos mesmos, tais como, por exemplo, crescimento unidirecional do grão. Isto ocorre em particular nos processos a laser, em que um pó apropriado é aplicado à superfície e é fundido por meio de um raio laser. Um problema adicional é a porosidade, que pode ser observada, em particular, quando um pó de metal é aplicado primeiro e é subsequentemente fundido por meio de uma fonte de calor. No pedido de patente WO 02/064287 foram feitas tentativas para solucionar esses problemas ao meramente fundir nas partículas de pó por meio de um raio de energia, tal como por exemplo raios laser, e sinterizá-los. Entretanto, os resultados não são sempre satisfatórios e uma despesa alta, em termos de aparelho é requerida, e permanecem os problemas associados com a introdução de uma reduzida mas, mesmo assim, alta quantidade de energia em um componente complexo.

[008] O pedido de patente WO-A-03/106051 descreve um método e um aparelho para aspersão a frio com pressão baixa. Nesse processo, um revestimento de partículas de pó é aspergido em um gás substancialmente a temperaturas ambiente em uma peça de trabalho. O processo é conduzido em um ambiente de pressão ambiental baixa, que é inferior à pressão atmosférica, para acelerar as partículas de pó aspergidas. Com esse processo, um revestimento de um pó é formado sobre uma peça de trabalho.

[009] O pedido de patente EP-A-1382720 descreve um outro método e aparelho para aspersão a frio em pressão baixa. Nesse processo, o alvo a ser revestido e a pistola de aspersão a frio estão localizados dentro de uma câmara a vácuo em pressões abaixo de 80 kPa.

Com esse processo uma peça de trabalho é revestida com um pó.

[0010] Em vista dessa técnica anterior, foi, portanto, o objetivo prover um novo processo para revestir substratos que é distinguido pela introdução de uma pequena quantidade de energia, uma despesa pequena em termos de aparelho e uma ampla aplicabilidade para materiais veículo e materiais de revestimento diferentes, e em que o metal a ser aplicado não é fundido durante o processamento.

[0011] Outro objetivo da presente invenção foi prover um novo processo para preparar revestimentos densos e resistentes à corrosão, especialmente revestimentos de tântalo, que possuem teor baixo de impurezas, preferivelmente teor baixo de impurezas de oxigênio e nitrogênio, cujos revestimentos são altamente qualificados para uso como camada protetora contra corrosão, especialmente em equipamento de fábricas químicas.

[0012] Existem processos que são de um modo geral apropriados para essa finalidade, em contraste com os processos convencionais de aspersão térmica (aspersão de chama, plasma, chama de alta velocidade, arco, plasma a vácuo, plasma com pressão baixa) e solda-gem de depósito, não há nenhuma fusão no ou do material de revestimento, causada por energia térmica produzida no aparelho de revestimento. O contato com uma chama ou gases de combustão por calor deve ser evitado, porque esses podem causar a oxidação das partículas de pó, e consequentemente elevam o teor de oxigênio nas camadas resultantes.

[0013] Esses processos são conhecidos da pessoa versada na técnica, por exemplo, como a aspersão de gás a frio, os processos de aspersão a frio, aspersão dinâmica de gás a frio, aspersão cinética e que são descritos, por exemplo, no pedido de patente EP-A-484533. Apropriado também de acordo com a invenção é o processo descrito na patente DE-A-10253794.

[0014] O assim chamado processo de aspersão a frio ou o processo de aspersão cinética são particularmente apropriados para o método de acordo com a invenção; o processo de aspersão a frio que é descrito no pedido de patente EP-A-484533, é especialmente apropriado, e este relatório descritivo está incorporado aqui por referência.

[0015] Da mesma forma, existe um método vantajosamente empregado para aplicar revestimentos em superfícies, em que um fluxo de gás forma uma mistura de gás/pó com um pó de um material selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio, misturas de pelo menos dois dos mesmos, ou suas ligas umas com as outras, ou com outros metais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a 150 pm, em que uma velocidade supersônica é conferida ao fluxo de gás e um jato de velocidade supersônica é formado, o que assegura a velocidade do pó na mistura de gás/pó de 300 a 2.000 m/s, preferivelmente 300 a 1.200 m/s, e o jato é direcionado para a superfície do objeto.

[0016] As partículas do pó de metal em colisão na superfície do objeto formam um revestimento, as partículas sendo deformadas muito consideravelmente.

[0017] As partículas de pó estão vantajosamente presentes no jato, em uma quantidade que assegura a densidade da taxa de fluxo das partículas de 0,01 a 200 g/s cm2, preferivelmente 0,01 a 100 g/s cm2, muito preferivelmente 0,01 g/s cm2 a 20 g/s cm2, ou mais preferido de 0,05 g/s cm2 a 17 g/s cm2.

[0018] A densidade da taxa de fluxo é calculada de acordo com a fórmula F = m/(TT/4*D2), em que F = densidade da taxa de fluxo, D = seção cruzada do bico, m = taxa de alimentação do pó. Uma taxa de alimentação do pó de, por exemplo, 70 g/min = 1,1667 g/s é um exemplo típico de uma taxa de alimentação de pó.

[0019] Em valores de D inferiores abaixo de 2 mm, valores nota- damente maiores do que 20 g/s cm2 podem ser alcançados. Neste caso, F pode facilmente assumir valores de 50 g/s cm2 ou até mesmo maiores em taxas de distribuição de pó maiores.

[0020] Como, o gás com o qual o pó de metal forma uma mistura de gás-pó geralmente é usado um gás inerte, tal como argônio, néon, hélio ou nitrogênio ou misturas de dois ou mais dos mesmos. Em casos particulares, o ar pode também ser usado. Se os regulamentos de segurança são atendidos, o uso também de hidrogênio ou misturas de hidrogênio com outros gases pode ser adotado.

[0021] Em uma versão preferida do processo, a aspersão compreende as etapas de: [0022] - prover um orifício de aspersão adjacente à superfície a ser revestida por aspersão; - prover, ao orifício de aspersão, um pó de um material par-ticulado escolhido do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstê-nio, molibdênio, titânio, zircônio, misturas de pelo menos dois dos mesmos ou ligas dos mesmos, uns com os outros ou com outros metais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a 150 pm, o dito pó estando sob pressão; - prover um gás inerte sob pressão ao orifício de aspersão a fim de estabelecer uma pressão estática no orifício de aspersão e prover uma aspersão do dito material particulado e do gás sobre a superfície a ser revestida; e - localizar o orifício de aspersão em uma região de pressão ambiental baixa que seja menos do que 1 atmosfera e que seja substancialmente inferior à pressão estática no orifício de aspersão, a fim de prover uma aceleração substancial da aspersão do dito material particulado e do gás sobre a dita superfície a ser revestida.

[0023] Em outra versão preferida do processo, a aspersão é feita com uma pistola de aspersão a frio e o alvo a ser revestido e a pistola de aspersão a frio são localizados dentro da câmara a vácuo, em pressões abaixo de 80 JcPa, preferivelmente entre 0,1 e 50 kPa, e mais preferido entre 2 e 10 JcPa.

[0024] Em geral, o metal refratário tem uma pureza de 99% ou mais, tal como 99,5% ou 99,7% ou 99,9%.

[0025] De acordo com a invenção, o metal refratário vantajosamente tem uma pureza de pelo menos 99,95%, com base em impurezas metálicas, especialmente de pelo menos 99,995% ou de pelo menos 99,999%, em particular de pelo menos 99,9995%. Se uma liga for usada, em vez de um único metal refratário, então pelo menos o metal refratário, mas preferivelmente a liga como um todo, tem essa pureza, de modo que um revestimento altamente puro pode ser produzido.

[0026] Além disso, o pó de metal tem um teor de oxigênio de menos do que 1.000 ppm de oxigênio, ou menos do que 500, ou menos do que 300, em particular um teor de oxigênio de menos do que 100 ppm.

[0027] Os pós de metal refratário, particularmente apropriados, têm uma pureza de pelo menos 99,7%, vantajosamente de pelo menos 99,9%, em particular 99,95%, e um teor de menos de 1,000 ppm de oxigênio, ou menos de 500 ppm de oxigênio, ou menos de 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos do que 100 ppm.

[0028] Pós de metal refratário, particularmente apropriados, têm uma pureza de pelo menos 99,95%, em particular de pelo menos 99,995%, e um teor de menos de 1,000 ppm de oxigênio, ou menos do que 500 ppm de oxigênio, ou menos do que 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm. Pós de metal refratário, particularmente apropriados, têm uma pureza de pelo menos 99,999%, em particular de pelo menos 99,9995%, e um teor de menos de 1.000 ppm de oxigênio, ou menos do que 500 ppm de oxi- gênio, ou menos do que 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos do que 100 ppm.

[0029] Em todos os pós acima mencionados, o teor total de outras impurezas não metálicas, tais como carbono, nitrogênio ou hidrogênio, deverá vantajosamente ser menos do que 500 ppm, preferivelmente menos do que 150 ppm.

[0030] Em particular, o teor de oxigênio é vantajosamente 50 ppm ou menos, o teor de nitrogênio é 25 ppm ou menos e o teor de carno-no é 25 ppm ou menos.

[0031] O teor de impurezas metálicas é vantajosamente 500 ppm ou menos, preferivelmente 100 ppm ou menos, preferivelmente 50 ppm ou menos, em particular 10 ppm ou menos.

[0032] Pós de metal apropriados são, por exemplo, muitos dos pós de metal refratário que são também apropriados para a produção de capacitores.

[0033] Tais pós de metal podem ser preparados pela redução de um composto de metal refratário com um agente de redução, e preferivelmente subsequente desoxidação. O óxido de tungstênio ou o óxido de molibdênio, por exemplo, é reduzido em um fluxo de hidrogênio em temperatura elevada. A preparação é descrita, por exemplo, em Schu-bert, Lassner, "Tungstênio", Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, 1999 ou Brauer, "Handbuch der Praparativen Anorganischen Chemie", Ferdinand Enke Verlag Stuttgart, 1981, p. 1530.

[0034] No caso de tântalo e nióbio, a preparação é na maioria dos casos realizada pela redução de heptaflúor-tantalatos de álcali e hep-taflúor-tantalatos de metais alcalino-terrosos, ou os óxidos, tais como, por exemplo, heptafluorotantalato de sódio, heptafluorotantalato de potássio, heptafluoroniobato de sódio ou heptafluoroniobato de potássio com um metal de álcali ou alcalino-terroso. A redução pode ser realizada em um sal fundido com a adição de, por exemplo, sódio, ou na fase de gás, vapor de cálcio ou vapor de magnésio sendo vantajosamente usados. É também possível misturar o composto de metal refratário com o álcali ou o metal alcalino-terroso e aquecer a mistura. Uma atmosfera de hidrogênio pode ser vantajosa. Um grande número de processos apropriados é conhecido pela pessoa versada na técnica, assim como os parâmetros dos quais as condições de reação apropriadas podem ser selecionadas. Os processos apropriados são descritos, por exemplo, nos pedidos de patente US 4483819 e WO 98/37249.

[0035] Após a redução, a desoxidação é preferivelmente realizada. Isto pode ser efetuado, por exemplo, misturando o pó de metal refratário com Mg, Ca, Ba, La, Y ou Ce e depois aquecendo, ou por aquecimento do metal refratário na presença de um absorvente metálico em uma atmosfera que permita o oxigênio passar do pó de metal para o absorvente metálico. O pó de metal refratário é, na maioria dos casos, liberado dos sais do agente de desoxidação usando um ácido e água e é secado.

[0036] É vantajoso se, quando usar os metais para diminuir o teor de oxigênio, as impurezas metálicas puderem ser mantidas baixas.

[0037] Um processo adicional para preparar pós puros que têm um teor de oxigênio baixo, consiste em reduzir um hidreto de metal refratário usando um metal alcalino-terroso como agente de redução, como descrito por exemplo, nos pedidos de patente WO 01/12364 e EP-A-1200218.

[0038] A espessura do revestimento é geralmente mais do que 0,01 mm. Preferidas são as camadas com uma espessura entre 0,5 e 10 mm, mais preferidas entre 0,05 e 5 mm, ainda mais preferidas entre 0,05 e 1 mm, ainda mais preferidas entre 0,05 e 0.5 mm. A espessura pode ser maior também, por exemplo de 3 a 50 mm, ou de 5 a 45 mm, ou de 8 a 40 mm, ou de 10 a 30 mm ou de 10 a 20 mm ou 10 a 15 mm.

[0039] As purezas e os teores de oxigênio dos revestimentos resultantes devem se desviar não mais do que 50% e preferivelmente não mais de 20% daqueles do pó.

[0040] Vantajosamente, isso pode ser conseguido revestindo a superfície do substrato sob um gás inerte. O argônio é vantajosamente usado como o gás inerte, porque, devido a sua densidade maior que a do ar, ele tende a cobrir o objeto a ser revestido e permanecer presente, em particular quando a superfície a ser revestida está localizada em um vaso que evita que o argônio escape ou flua para fora e mais argônio continuamente seja adicionado.

[0041] Os revestimentos aplicados de acordo com a invenção têm uma pureza alta e um teor de oxigênio baixo. Vantajosamente, esses revestimentos têm um teor de oxigênio de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500, ou menos de 300, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm.

[0042] Os revestimentos usualmente apresentam tensão compressora σ. Usualmente, a tensão compressora é de cerca de -1000 MPa a 0 MPa, ou de -700 MPa a 0 MPa, ou de -500 MPa a 0 MPa, de -400 MPa a 0 MPa ou de -300 MPa a 0. Mais especificamente, a tensão compressora é de -200 MPa a -1000 MPa, ou de -300 MPa a -700 MPa, ou de -300 MPa a -500 MPa.

[0043] Em geral, um teor de oxigênio mais baixo do pó empregado resultará em camadas que exibem tensão compressora mais baixa, por exemplo uma camada pulverizada com pó que tem um teor de oxigênio de 1400 ppm usualmente resultará em uma camada que exibe uma tensão compressora de cerca de -970 ± 50 MPa MPa, e uma camada pulverizada com o pó que tem um teor de oxigênio de 270 ppm usualmente resultará em uma camada que apresenta uma tensão compressora de cerca de -460 MPa ± 50 MPa, mais preferivelmente - 400 MPa ± 50 MPa. Em contraste para esse fim, camadas produzidas pela aspersão de plasma resultam em camadas que não exibem nenhuma tensão compressora, porém tensão dúctil.

[0044] Em particular, esses revestimentos têm uma pureza de pelo menos 99,7%, vantajosamente de pelo menos 99,9%, em particular de pelo menos 99,95%, e um teor de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500 ppm de oxigênio, ou menos de 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm.

[0045] Em particular, esses revestimentos têm uma pureza de pelo menos 99,95%, vantajosamente de pelo menos 99,995%, e um teor de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500 ppm de oxigênio, ou menos de 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm.

[0046] Em particular, esses revestimentos têm uma pureza de pelo menos 99,999%, vantajosamente de pelo menos 99,9995%, e um teor de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500 ppm de oxigênio, ou menos de 300 ppm de oxigênio, em particular um teor de oxigênio de menos de 100 ppm.

[0047] Os revestimentos de acordo com a invenção têm um teor total de outras impurezas não-metálicas, tais como carbono, nitrogênio ou hidrogênio, que é vantajosamente abaixo de 500 ppm e mais preferivelmente abaixo de 150 ppm.

[0048] O revestimento aplicado tem um teor de impurezas gasosas que difere por não mais do que 50%, ou não mais do que 20%, ou não mais do que 10%, ou não mais do que 5%, ou não mais do que 1%, do teor do pó de partida com o qual esse revestimento foi produzido. O termo "difere" é para ser entendido como significando um aumento particular; os revestimentos resultantes devem, portanto, vantajosamente ter um teor de impurezas gasosas que não é mais do que 50% maior do que o teor do pó de partida.

[0049] O revestimento aplicado preferivelmente tem um teor de oxigênio que difere por não mais do que 5%, em particular não mais do que 1%, do teor de oxigênio do pó de partida.

[0050] Os revestimentos de acordo com a invenção preferivelmente têm um teor total de outras impurezas não-metálicas tais como carbono, nitrogênio ou hidrogênio, que é vantajosamente menor do que 500 ppm e mais preferivelmente menor do que 150 ppm. Com o processo desta invenção, camadas com teores de impureza mais altos podem também ser produzidas.

[0051] Em particular, o teor de oxigênio é vantajosamente 50 ppm ou menos, o teor de nitrogênio é 25 ppm ou menos e o teor de carbono é 25 ppm ou menos.

[0052] O teor de impurezas metálicas é vantajosamente 50 ppm ou menos, em particular 10 ppm ou menos.

[0053] Em uma modalidade vantajosa, os revestimentos adicionalmente têm uma densidade de pelo menos 97%, preferivelmente maior do que 98%, em particular maior do que 99% ou 99.5%. 97% de densidade de uma camada significa que a camada tem uma densidade de 97% do material grosso. A densidade do revestimento é aqui uma medida de natureza fechada e porosidade do revestimento. Um revestimento fechado, substancialmente livre de poros sempre tem uma densidade de mais de 99,5%. A densidade pode ser determinada tanto por análise de imagem de uma imagem de seção cruzada (seção esmerilada) de tal revestimento, ou alternativamente por picnometria por hélio. O último método é menos preferido, uma vez que no caso de revestimentos muito densos, os poros presentes nos revestimentos, que são mais remotos a partir da superfície, não são detectados, e é consequentemente medida uma porosidade inferior àquela que realmente existe. Por meio da análise de imagens, a densidade pode ser determinada, determinando primeiro a área total do revestimento a ser investigado na área de imagens do microscópio e relacionando essa área com as áreas dos poros. Nesse método, os poros que são localizados à distância da superfície e próximo da interface com o substrato são também detectados. Uma densidade alta de pelo menos 97%, preferivelmente maior do que 98%, em particular maior do que 99% ou 99,5%, é importante em muitos processos de revestimento.

[0054] Os revestimentos mostram alta resistência mecânica que é causada pela sua alta densidade e por alta deformação das partículas. No caso do tântalo, as resistências são, dessa maneira, de pelo menos 80 MPa, mais preferivelmente pelo menos 100 MPa, mais preferivelmente pelo menos 140 MPa, quando o nitrogênio for usado como gás com o qual o pó de metal forma uma mistura de gás/pó. Se for usado o hélio, a resistência usualmente será de pelo menos 150MPa, preferivelmente pelo menos 170 MPa, mais preferivelmente pelo menos 200 MPa e mais preferido maior do que 250 MPa.

[0055] Embora os revestimentos de acordo com a invenção apresentem densidades altas e porosidades baixas, os revestimentos têm uma morfologia que mostra claramente que foram criados a partir de partículas discretas. Exemplos podem ser vistos, por exemplo, nas Figuras 1 a 7. Dessa maneira, os revestimentos de acordo com a invenção, podem ser distinguidos inteiramente dos revestimentos obtidos por outros métodos, como os revestimentos obtidos por processos galvânicos. A aparência característica também permite distinguir os revestimentos de acordo com a invenção de revestimentos obtidos por aspersão de plasma.

[0056] Os artigos que podem ser revestidos com o processo desta invenção não são limitados. Geralmente todos os artigos que necessitam de um revestimento, preferivelmente um revestimento protetor contra corrosão, podem ser usados. Esses artigos podem ser feitos de metal e/ou de material de cerâmica e/ou de material plástico ou podem compreender componentes desses materiais. Preferivelmente, superfícies de materiais revestidas que são sujeitas à remoção de material, por exemplo por uso, corrosão, oxidação, cauterização, usinagem ou outras tensões.

[0057] Preferivelmente, as superfícies de materiais são revestidas com o processo desta invenção que são usados em ambientes de corrosão, por exemplo em processos químicos em dispositivos médicos ou em implantes. Exemplos de aparelhos ou componentes a serem revestidos são os componentes usados em fábricas químicas ou em laboratórios ou em dispositivos médicos ou como implantes, tais como vasos para reação e mistura, agitadores, flanges cegos, poços térmicos, discos de ruptura suportes para discos de ruptura, trocadores de calor (invólucro e tubos), tubulações, válvulas, corpos de válvulas e peças de bombas.

[0058] Preferivelmente, artigos são revestidos com o processo desta invenção que não são alvos de pulverização iônica ou anodos de raios X.

[0059] Os revestimentos preparados com o processo desta invenção preferivelmente são usados em proteção contra corrosão.

[0060] A presente invenção, portanto, se refere também aos artigos feitos de metal e/ou material de cerâmica e/ou material plástico contendo pelo menos um dos revestimentos compostos dos metais refratários nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio zircônio ou misturas de dois ou mais dos mesmos ou ligas de dois ou mais das mesmas ou ligas com outros metais, cujos revestimentos têm as propriedades acima mencionadas.

[0061] Tais revestimentos são em particular revestimentos de tântalo ou nióbio.

[0062] Preferivelmente, camadas de tungstênio, molibdênio, titânio zircônio ou misturas de dois ou mais dos mesmos, ou ligas de dois ou mais dos mesmos, ou ligas com outros metais, muito preferivelmente camadas de tântalo ou nióbio, são aplicadas por aspersão a frio à superfície de um substrato a ser revestido. Surpreendentemente foi descoberto que com os ditos pós ou misturas de pós, preferivelmente com pós de tântalo e nióbio, que possuem um teor de oxigênio reduzido, por exemplo um teor de oxigênio abaixo de 1000 ppm, podem ser produzidas camadas de aspersão a frio com taxas de deposição muito altas, de mais de 90%. Nas ditas camadas de aspersão a frio, o teor de oxigênio do metal é quase imutável em comparação ao teor de oxigênio dos pós. Essas camadas de aspersão a frio mostram densidades consideravelmente mais altas do que as camadas produzidas pela aspersão de plasma ou pela aspersão a vácuo. Além do mais, essas camadas de aspersão a frio podem ser produzidas sem nenhuma ou com pouca textura, dependendo das propriedades do pó e dos parâmetros de revestimento. Essas camadas de aspersão a frio também são objeto desta invenção.

[0063] Os pós de metal apropriados para uso nos métodos de acordo com a invenção são também pós de metal que consistem em ligas, pseudoligas e misturas de pós de metais refratários com metais não-refratários apropriados.

[0064] É, dessa maneira, possível revestir superfícies de substratos feitos da mesma liga ou pseudoliga.

[0065] Esses incluem especialmente ligas, pseudoligas ou misturas de pós de um metal refratário selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio ou misturas de dois ou mais dos mesmos, com um metal selecionado a partir do grupo de cobalto, níquel, ródio, paládio, platina, cobre, prata e ouro. Tais pós pertencem à técnica anterior e são, em princípio, conhecidos da pessoa versada na técnica e estão descritos, por exemplo, nos pedidos de patente EP-A-774315 e EP-A-1138420.

[0066] Eles podem ser preparados pelos processos convencionais; por exemplo, as misturas de pós são obtidas misturando homogenea-mente os pós de metal pré-preparados, sendo possível que a mixagem seja realizada por um lado antes do uso no método de acordo com a invenção ou, alternativamente, durante a produção da mistura de gás-pó. Os pós de liga são, na maior parte dos casos, obtidos pela fusão e mixagem dos pares de ligação. De acordo com a invenção podem ser usados como pós de liga os assim chamados pós pré-ligados, Esses são pós que são produzidos pela mixagem de compostos tais, por exemplo, saís, óxidos e/ou hid retos de pares de ligação e, depois, reduzindo-os de modo que misturas íntimas dos metais em questão sejam obtidas, É adicionalmente possível, de acordo com a invenção, usar pseudoligas. Pseudoligas são entendidas como sendo materiais que são obtidos não por metalurgia de fusão convencional mas, por exemplo, por trituração, sinterização ou infiltração.

[0067] Os materiais conhecidos são, por exemplo, ligas de tungs-tênío/cobre ou misturas de tungstênío/cobre, cujas propriedades são conhecidas e estão listadas aqui a título de exemplo: [0068] São também conhecidas as ligas de molibdênio-cobre ou misturas de molibdênio/cobre nas mesmas relações como indicado acima.

[0069] São também conhecidas as ligas de molibdênio/prata ou misturas de molibdênio/prata que contêm, por exemplo, 10, 40 ou 65% em peso de molibdênio.

[0070] São também conhecidas as ligas de tungstênio-prata ou misturas de tungstênio/prata que contêm, por exemplo, 10, 40 ou 65% em peso de tungstênío.

[0071] Essas podem ser usadas, por exemplo, em tubos de aquecimento, corpos de refrigeração ou, em geral, nos sistemas de gerenciamento de temperatura, [0072] É também possível usar ligas ou misturas de tungstênio-rènio, ou o pó de metal é uma liga que tem a composição a seguir: de 94 a 99% em peso, preferivelmente de 95 a 97% em peso de molibdênio, de 1 a 6% em peso, preferivelmente de 2 a 4% em peso de nióbio, de 0,05 a 1% em peso, preferivelmente de 0,05 a 0,02% em peso de zircônio.

[0073] Essas ligas, como pós de metal refratário puros que têm uma pureza de pelo menos 99,95%, podem ser usadas na reciclagem de alvos de pulverização iônica por meio de aspersão de gás a frio.

[0074] Os materiais apropriados para os métodos de acordo com a invenção são listados nas Tabelas 1 a 15. Os materiais individuais são designados com o número da tabela seguido pelo número da combinação de componentes e a quantidade do metal não refratário como na Tabela 1. Por exemplo, o material 22.005 é um material descrito na Tabela 22, a composição precisa sendo definida com o metal não-refratário e a quantidade do mesmo como listado na Tabela 1, posição no. 5.

[0075] As ligas de nióbio apropriadas são listadas na Tabela 1. Tabela 1 Tabela 1 continuação [0078] Tabela 2: A Tabela 2 consiste em 48 ligas, o metal refratá-rio sendo o tântalo, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em% em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0077] Tabela 3: A Tabela 3 consiste em 48 ligas, o metal refratá-rio sendo o tungstênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em% em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0078] Tabela 4: A Tabela 4 consiste em 48 ligas, o metal refratá- rio sendo o molibdênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0079] Tabela 5: A Tabela 5 consiste em 48 ligas, o metal refratá-rio sendo o titânio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0080] Tabela 6: A Tabela 6 consiste em 48 pseudoligas, o metal refratário sendo o tântalo, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0081] Tabela 7: A Tabela 7 consiste em 48 pseudoligas, o metal refratário sendo o tungstênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0082] Tabela 8: A Tabela 8 consiste em 48 pseudoligas, o metal refratário sendo o molibdênio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0083] Tabela 9: A Tabela 9 consiste em 48 pseudoligas, o metal refratário sendo o titânio, em vez do nióbio, e o metal não-refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0084] Tabela 10: A Tabela 10 consiste em 48 misturas de pós, o metal refratário sendo o tântalo, em vez do nióbio, e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0085] Tabela 11: A Tabela 11 consiste em 48 misturas de pós, o metal refratário sendo o tungstênio, em vez de nióbio, e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0086] Tabela 12: A Tabela 12 consiste em 48 misturas de pós, o metal refratário sendo o molibdênio, em vez de nióbio, e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0087] Tabela 13: A Tabela 13 consiste em 48 misturas de pós, o metal refratário sendo o titânio, em vez de nióbio, e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0088] Tabela 14: Tabela 14 consiste em 48 pseudoligas, o metal refratário sendo nióbio e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0089] Tabela 15: Tabela 15 consiste em 48 misturas de pós, o metal refratário sendo nióbio e o metal não refratário e a quantidade do mesmo em % em peso sendo como indicado na Tabela 1.

[0090] Apropriados também para uso nos métodos de acordo com a invenção são os pós de metal que consistem em ligas, pseudoligas e misturas de pós de metais refratários diferentes uns dos outros.

[0091] Por exemplo, ligas de molibdênio e titânio em uma relação de 50:50 de percentual atômico ou ligas de tungstênio e titânio em uma quantidade de cerca de 90:10% em peso são conhecidas e são apropriadas para uso nos métodos de acordo com a invenção. Em princípio, entretanto, todas as ligas dos metais refratários uns com os outros são apropriadas para uso nos métodos de acordo com a invenção.

[0092] Ligas binárias, pseudo- ligas e misturas de pós de metais refratários que são apropriadas para os processos de acordo com a invenção são listadas nas Tabelas 16 a 36. Materiais individuais são designados pelo número da tabela, seguido pelo número da combinação dos componentes, como na Tabela 16. Por exemplo, o material 22.005 é um material descrito na Tabela 22, em que a composição precisa é definida pelos metais refratários os quais são listados na Tabela 16, posição no. 5, e a quantidade como listada na Tabela 22.

[0093] Tabela 17: A Tabela 17 consiste em 20 ligas, pseudolígas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 2-5% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[0094] Tabela 18: A Tabela 18 consiste em 20 ligas, pseudolígas e misturas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 5-10% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os componentes individuais são como listados na Tabela 16.

[0095] Tabela 19: A Tabela 19 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 10-15% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listado na Tabela 16.

[0096] Tabela 20: A Tabela consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 15-20% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[0097] Tabela 21: A Tabela 21 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 20-25% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[0098] Tabela 22: A Tabela 22 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 25-30% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares da misturas individuais são como listado na Tabela 16.

[0099] Tabela 23: A Tabela 23 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 30-35% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00100] Tabela 24: A Tabela 24 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 35-40% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na misturas são como listado na Tabela 16.

[00101] Tabela 25: A Tabela 25 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 40-45% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00102] Tabela 26: A Tabela 26 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 45-50% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00103] Tabela 27: A Tabela 27 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 50-55% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00104] Tabela 28: A Tabela 28 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 55-60% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00105] Tabela 29: A Tabela 29 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 60-65% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00106] Tabela 30: A Tabela 30 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 65-70% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00107] Tabela 31: A Tabela 31 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 70-75% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00108] Tabela 32: A Tabela 32 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 75-80% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00109] Tabela 33: A Tabela 33 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 80-85% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00110] Tabela 34: A Tabela 34 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 85-90% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00111] Tabela 35: A Tabela 35 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 90-95% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

[00112] Tabela 36: A Tabela 36 consiste em 20 ligas, pseudoligas e misturas de pós de acordo com a Tabela 16, em que o componente 1 está presente em uma quantidade de 95-99% em peso, o componente 2 está presente em uma quantidade de 100% em peso e os pares individuais na mistura são como listados na Tabela 16.

Exemplos Preparação de um pó de tântalo [00113] Um pó de hídreto de tântalo foi misturado com 0,3% em peso de magnésio e colocado em um forno a vácuo. O forno foi evacuado e enchido com argônio, A pressão foi 114,66 kPa {860 Torr), um fluxo de argônio foi mantido. A temperatura do forno foi elevada para 65013 em etapas de SOO e, depois de uma temperatur a constante foi estabelecida e mantida por quatro horas. A temperatura depois foi elevada para 100013 em etapas de 5013 e, depois de uma temperatura constante ter sido estabelecida, foi mantida por seis horas. No fim deste período, o forno foi desligado e resfriado até a temperatura ambiente sob argônio. Magnésio e os compostos resultantes foram removidos na maneira convencional por lavagem com ácido. O pó de tântalo resultante tinha um tamanho de -100 mesh (< 150 pm}, um teor de oxigênio de 77 ppm e uma área de superfície BET específica de 255 cm2/g.

Preparação de um pó de titânio [00114] O procedimento foi quanto à preparação do pó de tântalo. Um pó de titânio tendo um teor de oxigênio de 93 ppm foi obtido. Preparação de um pó de titânio/tântalo pré-lieado [00115] Uma mistura de pó de hidreto de tântalo e pó de hidreto de titânio em uma relação molar de 1:1 foi preparada e misturada com 0,3% em peso de magnésio; o procedimento como na preparação do pó de tântalo foi então seguido. Um pó de titânio/tântalo tendo um teor de oxigênio de 89 ppm foi obtido.

Produção de revestimentos [00116] Revestimentos de tântalo e nióbio foram produzidos. O pó de tântalo usado foi AMPERIT® 150.090 e o pó de nióbio usado foi AMPERIT® 160.090, ambos os quais são materiais comercialmente disponíveis de H. C. Starck GmbH em Goslar. O bico comercialmente disponível do tipo MOC 29 de CGT GmbH em Ampfing foi usado.

[00117] Substratos: Os substratos foram colocados em sucessão sobre o suporte do espécime e revestidos sob as condições de teste indicadas. As descrições do substrato são feitas como a seguir: [00118] O número no início indica o número de substratos idênticos localizados próximos uns dos outros. A letra a seguir indica se um espécime plano (F) ou um espécime redondo (R, tubo) foi usado. As letras a seguir indicam o material, Ta significando tântalo, S significando um aço estrutural, e V significando um aço inoxidável (aço de cromo-níquel).

[00119] Revestimentos muito fortes e densos foram obtidos, que apresentam porosidade baixa e excelente adesão aos substratos em questão. As densidades da taxa de fluxo foram entre 11 e 21 g/seg*cm2.

[00120] As Figuras 1 a 10 mostram figuras de microscópio leves de seções cruzadas dos revestimentos de tântalo resultantes. Nenhuma inclusão de cobre ou tungstênio é detectável, como ocorre com as camadas correspondentes produzidas pela aspersão de plasma a vácuo. A determinação da porosidade foi realizada automaticamente pelo programa de análise de imagens ImageAccess.

[00121] Figura 1: Seção cruzada não corroída de um revestimento com tântalo, processo por gás hélio [00122] Figura 2: Seção cruzada não corroída de um revestimento com tântalo, processo por gás hélio, figura de visão geral com amplitude baixa.

[00123] Figura 3: Seção cruzada de um revestimento com tântalo, corroída com ácido fluorídrico, processo por gás hélio, figura de visão geral com amplitude baixa [00124] Figura 4: Seção cruzada de um revestimento com tântalo, corroída com ácido fluorídrico, processo por gás hélio [00125] Figura 5: Seção de imagem usada para determinação de porosidade, seção cruzada de um revestimento com tântalo, processo por gás hélio [00126] Figura 6: Seção cruzada de um revestimento com tântalo, corroída com ácido fluorídrico, interface com o substrato, processo por gás hélio [00127] Figura 7: Seção cruzada não corroída de um revestimento com tântalo, processo por gás nitrogênio, figura de visão geral com amplitude baixa [00128] Figura 8: Seção cruzada não corroída de um revestimento com tântalo, processo por gás nitrogênio [00129] Figura 9: Seção de imagem usada para determinação de porosidade, seção cruzada de um revestimento com tântalo, processo por gás nitrogênio [00130] Figura 10: Seção cruzada não corroída de um revestimento com tântalo, processo por gás nitrogênio, amplitude alta REIVINDICAÇÕES

Claims

1. Método de aplicar um revestimento a uma superfície, onde um fluxo de gás forma uma mistura de gás-pó com um pó de um material selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zírconío, misturas de pelo menos doís dos mesmos, ligas com pelo menos dois dos mesmos, e ligas dos mesmos com outros metais, o pó tendo um tamanho de partícula de 0,5 a 150 pm e um teor de oxigênio de menos do que 1000 ppm, sendo que uma velocidade supersônica é conferida ao fluxo de gás e o jato da velocidade supersônica é direcionado sobre a superfície de um objeto, o método caracterizado pelo fato de que compreende, - prover um orifício de aspersão adjacente à superfície a ser revestida por aspersão; - prover para o orifício de aspersão um pó, o dito pó estando sob pressão; - prover um gás inerte sob pressão para o orifício de aspersão a fim de estabelecer uma pressão estática no orifício de aspersão, e prover uma aspersão do dito material particulado e do gás na superfície a ser revestida; e - localizar o orifício de aspersão em uma região de pressão ambiental baixa que é menos do que 1 atmosfera, e que é substancialmente menos do que a pressão estática no orifício de aspersão, para prover uma aceleração substancial da aspersão do dito material particulado e do gás na dita superfície a ser revestida.

2. Método, de acordo com a reivindicado na reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o pó é adicionado ao gás em uma quantidade tal que uma densidade da taxa de fluxo das partículas de 0,01 a 200 g/s cm2, preferivelmente 0,01 a 100 g/s cm2, muito preferivelmente 0,01 g/s cm2 a 20 g/s cm2, ou mais preferido de 0,05 g/s cm2 a 17 g/s cm2, é assegurada.

3. Método, de acordo com a reivindicado na reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a aspersão é executada com uma pistola de aspersão a frio, e o alvo a ser revestido e a pistola de aspersão a frio são localizados dentro de uma câmara a vácuo a pressões abaixo de 80 kPa, preferivelmente entre 0,1 e 50 kPa, e mais preferido entre 2 e 10 kPa.

4. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que a velocidade do pó na mistura de gás- pó é de 300 a 2000 m/s, preferivelmente de 300 a 1200 m/s.

5. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que as partículas de pó, que tocam na superfície do objeto, formam um revestimento.

6. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um tamanho de partícula de 5 a 150 pm, preferivelmente de 10 a 50, ou de 10 a 32 pm, ou de 10 a 38 pm, ou de 10 a 25 pm, ou de 5 a 15 pm.

7. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que o pó do metal tem impurezas gasosas de 200 a 2500 ppm, com base no peso.

8. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que o pó do metal tem um teor de oxigênio de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500, ou menos de 300, em particular menos de 100 ppm.

9. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor de oxigênio de menos de 1000 ppm de oxigênio, ou menos de 500, ou menos de 300, em particular menos de 100 ppm.

10. Método, como reivindicado em uma ou mais das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor de impurezas gasosas que difere por não mais do que 50% do teor do pó de partida.

11. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor de impurezas gasosas que difere por não mais do que 20%, ou não mais do que 10%, ou não mais do que 5%, ou não mais do que 1% do teor do pó de partida.

12. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de que o revestimento aplicado tem um teor de oxigênio que difere por não mais de 5%, em particular por não mais do que 1% do teor de oxigênio do pó de partida.

13. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado pelo fato de que o teor de oxigênio do revestimento aplicado é não mais do que 100 ppm.

14. Método, de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que o revestimento de metal aplicado consiste em tântalo ou nióbio.

15. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que a espessura do revestimento é de 10 pm a 10 mm ou de 50 pm a 5 mm.

16. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 15, caracterizado pelo fato de que as camadas são aplicadas por aspersão a frio para a superfície de um objeto a ser revestido, preferivelmente camadas de tântalo ou nióbio.

17. Método, de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de que as camadas produzidas possuem um teor de oxigênio abaixo de 1000 ppm.

18. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o pó do metal é uma liga tendo a composição a seguir: de 94 a 99% em peso, preferivelmente de 95 a 97% em peso, molibdênio, de 1 a 6% em peso, preferivelmente de 2 a 4% em peso, nióbio, de 0,05 a 1% em peso, preferivelmente de 0,05 a 0,02% em peso, zircônio.

19. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o pó do metal é uma liga, pseudoliga ou mistura de pó de um metal refratário selecionado a partir do grupo que consiste em nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio e zircônio com um metal selecionado do grupo de cobalto, níquel, ródio, paládio, platina, cobre, prata e ouro.

20. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o pó do metal consiste em uma liga de tungstênio-rênio.

21. Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o pó do metal consiste em uma mistura de um pó de titânio com um pó de tungstênio ou um pó de molibdênio.

22. Camada de aspersão a frio, obtida pelo método como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 21, caracterizada pelo fato de que é composta de tungstênio, molibdênio, titânio zircônio ou misturas de dois ou mais dos mesmos, ligas de dois ou mais dos mesmos, e de ligas dos mesmos com outros metais possuindo um teor de oxigênio abaixo de 1000 ppm,.

23. Camada de aspersão a frio, de acordo com a reivindicação 22, caracterizada pelo fato de que a camada é feita de tântalo ou nióbio.

24. Objeto revestido, obtido pelo método como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 21, caracterizado pelo fato de que compreende pelo menos uma camada de metais refratários nióbio, tântalo, tungstênio, molibdênio, titânio, zircônio, misturas de dois ou mais dos mesmos, ligas de dois ou mais dos mesmos, e ligas dos mesmos com outros metais.

25. Objeto revestido, de acordo com a reivindicação 24, caracterizado pelo fato de que o objeto revestido é feito de metal e/ou material de cerâmica e/ou material plástico ou compreende componentes de pelo menos um desses materiais.

26. Objeto revestido, de acordo com a reivindicação 24 ou 25, caracterizado pelo fato de que o objeto revestido é um componente usado em fábricas ou laboratórios de química, ou em aparelhos médicos, ou como implantes, preferivelmente como um vaso de reação e/ou de mistura, um agitador, um flange cego, um poço térmico, um disco de ruptura, um suporte de disco de ruptura, um trocador de calor (invólucro e/ou tubo), uma tubulação, uma válvula, um corpo de válvula e uma peça de bomba.