SK10062003A3 - Renovovanie výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách - Google Patents
Renovovanie výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách Download PDFInfo
- Publication number
- SK10062003A3 SK10062003A3 SK1006-2003A SK10062003A SK10062003A3 SK 10062003 A3 SK10062003 A3 SK 10062003A3 SK 10062003 A SK10062003 A SK 10062003A SK 10062003 A3 SK10062003 A3 SK 10062003A3
- Authority
- SK
- Slovakia
- Prior art keywords
- consumed
- tantalum
- surface area
- metal
- target
- Prior art date
Links
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 title claims abstract description 6
- 230000003716 rejuvenation Effects 0.000 title abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 29
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 10
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 claims description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 3
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims 10
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 abstract description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009418 renovation Methods 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 5
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000009419 refurbishment Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3491—Manufacturing of targets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F7/00—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
- B22F7/06—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
- B22F7/062—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools involving the connection or repairing of preformed parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F7/00—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
- B22F7/06—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
- B22F7/062—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools involving the connection or repairing of preformed parts
- B22F2007/068—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools involving the connection or repairing of preformed parts repairing articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Arc-Extinguishing Devices That Are Switches (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
RENOVOVANIE VÝROBKOV Z KOVOV TAVITEĽNÝCH PRI VYSOKÝCH TEPLOTÁCH
Odkaz na súvisiace prihlášky
Na predloženú prihlášku vynálezu sa uplatňuje priorita z predbežnej, doteraz nerozhodnutej prihlášky vynálezu US č. 60/268 742 s názvom Renovovanie rozprašovacích terčov, podanej 14. februára 2001 a ktorá sa týmto začleňuje do odvolávok predloženého opisu.
Oblasť techniky
Predložený vynález sa týka znižovania nákladov na recykláciu výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách a obzvlášť renovovania rozprašovacích terčov so spojovacími štruktúrami pripevnenými k ich substrátu.
Doterajší stav techniky
Napríklad, rozprašovacie terče z materiálov taviteľných pri vysokých teplotách, takých ako je tantal (Ta) a ďalšie žiaruvzdorné kovy (niób (Nb), titán (Ti), molybdén (Mo), zirkón (Zr)), ich zliatiny, hydridy, nitridy a ďalšie zlúčeniny, ktoré sa používajú pri výrobe integrovaných obvodov a ďalších výrobkov na elektrotechnické, magnetické a optické účely, obvykle počas procesu rozprašovania nerovnomerne erodujú, čo vo svojom dôsledku vedie k vytváraniu žliabkových stôp vo forme vyhĺbenej drážky v povrchu pracovnej strany terča. Z dôvodu, aby sa predišlo akémukoľvek poškodeniu substrátu alebo kritickému prenikaniu chladiacej kvapaliny do terča z jeho zadnej strany sa obvykle rozprašovacie terče z funkčnej prevádzky sťahujú ešte podstatne
32166/T skôr pred tým, ako dôjde k úplnému odstráneniu rozprašovacieho kovu, ktorým je kov taviteľný pri vysokých teplotách, ak pripustíme skutočnosť, že nový terč je potrebný už vtedy, keď je spotrebovaný iba menší podiel rozprašovacieho kovu. Prevažnú časť takéhoto rozprašovacieho terča je možné znova predať iba za cenu odpadu alebo s veľkými ťažkosťami recyklovať, pričom sa navyše pri recyklovaní musí substrát z použitého terča odstrániť a tento je možné použiť na pripevnenie k novému rozprašovaciemu terču.
Základným cieľom predloženého vynálezu je nahradiť doterajšiu prax recyklácie renovovaním rozprašovacích terčov ďalej opísaným spôsobom.
Ďalším cieľom predloženého vynálezu je zlepšiť využitie nákladov a urýchliť navrátenie už použitých rozprašovacích terčov do funkčnej prevádzky.
Ešte ďalším cieľom predloženého vynálezu je zaistiť vo vyplnením vzniknutej zóne mikroštruktúru aspoň v podstate zhodnú s mikroštruktúrou zostávajúcej časti terča.
Podstata vynálezu
Podľa predloženého vynálezu sa navrhuje spôsob renovovania povrchov použitých výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách vyplňovaním spotrebovaných úsekov plochy povrchu hmotou viazaných častíc kovového prášku. Napríklad žliabková stopa vo forme vyhĺbenej drážky, alebo iná erózna zóna, sa na ploche povrchu rozprašovacieho terča vytvára po jeho početnom nerovnomernom bombardovaní atómami argónu. Spotrebovaný povrch sa renovuje ukladaním alebo nanášaním rozprašovacieho kovu a jeho viazaním slinovaním ohrevom laserovým alebo elektrónovým lúčom (EB) v prípade ukladania kovového prášku tryskami a slinovania, alebo plazmového výboja v spojení s nanášaním. Výsledkom použitia týchto postupov je úplne kompaktný nános. To umožňuje vyhnúť sa postupu, v ktorom je nevyhnutné oddeľovať
32166/T tantalovú anódu od medeného substrátu, vyplniť erózne zóny tantalovej anódy tantalovým práškom s následným viazaním prášku s použitím izostatického lisovania za tepla (HIP) a uvedené súčasti znovu spojiť. V prípade použitia slinovania so skenovaním s použitím laserového alebo elektrónového lúča (EB) alebo plazmového výboja v spojení s nanášaním je možné terč renovovať bez nutnosti oddeľovania substrátu od terča. Jednotlivé navrhované spôsoby renovovania zaisťujú vytvorenie vyplnenej eróznej zóny, ktorej mikroštruktúra sa v podstate zhoduje s mikroštruktúrou zostávajúcej časti terča.
Predložený vynález je možné aplikovať na výrobky z kovov taviteľných pri vysokých teplotách, ktoré sú všeobecne (bez ohľadu na to, či je alebo nie je tento výrobok upevnený na substráte z kovu tavíteľného pri nižších teplotách) náchylné k nerovnomernej erózii, odleptávaniu, odštiepavaniu alebo inému úbytku kovu. Výrobky z kovov taviteľných pri vysokých teplotách môžu. bez ohľadu na rozprašovací terč, vykazovať tvar dosky. tyče. valca, bloku alebo ďalšej tvarovej konfigurácie. Navrhovaný spôsob je možné aplikovať napríklad na rôntgenové dosky alebo terče (molybdénová anóda na uhlíkovom substráte).
Renovovanie výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách (napríklad tantalového terča) eliminuje nutnosť recyklovať výrobok ako celok už pri jeho spotrebovaní v menšom ako kritickom rozsahu. Takéto renovovanie môže byť z hľadiska nákladov hospodárnejšie ako recyklovanie celého terča. Oddeľovanie s nimi spojeného substrátu (napríklad medeného substrátu), ak je vôbec ich súčasťou, nie je nutné.
32166/T
Prehľad obrázkov na výkresoch
Ďalšie účely a ciele predloženého vynálezu, ako i jeho charakteristické znaky a výhody budú bližšie vysvetlené v nasledujúcom podrobnom opise jeho uprednostňovaných uskutočnení v spojení s pripojenými výkresmi, v ktorých predstavuje:
obr. 1 typický rozprašovací terč s anódou a substrátom, znázornený v priečnom reze;
obr. 2 plochu povrchu terča vykazujúcu obvyklú eróznu zónu;
obr. 3 bloková schéma procesu renovovania; a obr. 4 schematické znázornenie realizácie komory, vákuovej alebo s atmosférou inertného plynu, upravenej na uskutočňovanie vynálezu.
Príklady uskutočnenia vynálezu
Obr. 1 a 2 predstavujú tantalovú (Ta) rozprašovaciu anódu 12 spojenú s medeným (Cu) substrátom 14 a slúži na príkladnú ilustráciu spôsobu renovovania podľa predloženého vynálezu. Okrem substrátu môže rozprašovací terč zahŕňať ako súčasť ďalšie s ním spojené doplnkové štruktúry, napríklad systém vodného chladenia tvorený chladiacou špirálou 16, pričom rozprašovací terč môže tvoriť aj súčasť väčšieho rezervoára chladiacej kvapaliny, a/alebo môže byť opatrený sústavou prírub a štruktúr na pripevňovanie mechanických a elektrotechnických súčastí. Vzťahová značka 18 označuje typickú žliabkovú stopu predstavujúcu eróznu zónu alebo spotrebovanú oblasť, ktorá sa na cieľovom povrchu 20 rozprašovacej anódy 12 vytvára v dôsledku funkčného použitia terča na rozstrekovanie.
Na obr. 3 je znázornená bloková schéma, predstavujúca realizáciu uprednostňovaného uskutočnenia predloženého vynálezu. Zostava 26 s použitým Ta-Cu terčom sa umiestňuje do priestoru s vákuom 22 alebo do zóny
32166/T s atmosférou inertného plynu. Erózna zóna 18 alebo spotrebovaná oblasť, znázornená na obr. 2, sa vyplní práškom rozprašovacieho kovu. Tieto prášky sa s rozprašovacou anódou 12 viažu alebo slinujú 30 s použitím rastrovacieho skenovania laserovým alebo elektrónovým lúčom, pri ktorom sa natavuje povrch častíc prášku, pričom však nedochádza k úplnému roztaveniu častíc alebo úplne všetkých častíc, pretože tieto častice pôsobia ako jadrá pre rast zŕn. Uvedené natavovanie sa môže uskutočňovať buď počas nanášania prášku alebo až po tomto nanášaní, vykonávanom na princípe ukladania vrstvy na vrstvu. Je tak isto možné použiť vopred pripravený, z kovového prášku vytvorený plátok, ktorý sa uloží do vyhĺbenej stopy. Vo všetkých prípadoch sa výplň podrobuje slinovaniu za účelom docielenia vzájomného viazania a adhézneho priľnutia k povrchu terča s následným vyrovnávaním 31 povrchu s použitím technológie strojového obrábania, pieskovania alebo ďalej obrusovania odleptávaním a/alebo vypaľovacieho rozprašovania.
Následne je uvedená a opísaná jedna z niekoľkých možností uskutočnenia predloženého vynálezu.
Podľa znázornenia na obr. 4 sa môže rozprašovací terč 10 umiestniť do vákuovej komory 32, z ktorej sa pomocou bežne používanej vývevy 34 odčerpáva atmosférický vzduch a nahrádza, pomocou aparatúry 36 pre spätné plnenie plynom opatrenej ventilom 38, atmosférou prečisteného inertného plynu (argón). Podávač 40 prášku, zahŕňajúci množstvo dýz 42, je spôsobilý privádzať vysokou rýchlosťou a mnohými prúdmi do eróznej zóny 18 alebo spotrebovanej oblasti tantalový (Ta) prášok akosti -100 až 325 mesh. Okrem toho môže podávač 40 skenovať a kopírovať erózne zóny 18, alebo sa voči napevno usporiadanému podávaču prášku môže premiestňovať spracovávaný terč. Laserový lúč 44 s výkonom 15 až 20 kW (výhodne 20 až 25 kW) vytváraný pomocou laseru 45 a bežne používanej skenovacej optiky 46, 48, ktorá môže byť umiestnená buď celá vo vákuovej komore 32 alebo čiastočne mimo tejto komory 32 v spojení s okienkom na prechod lúča je v rastrovacom skenovacom móde schopný v celej eróznej zóne 18 zaisťovať privádzanie
32166/T prášku, natavovanie povrchu častíc prášku a umožňuje plynulé a opakujúce sa viazanie častíc prášku s ďalšími časticami a viazanie prášku k povrchu eróznej zóny 18 až do jej zodpovedajúceho vyplnenia. Na stanovenie ukončenia plnenia a prerušenie privádzania prášku je možné použiť výpočet množstva prášku a/alebo optické monitorovanie.
Jedno z možných usporiadaní zariadenia použiteľného na opisovaný postup spracovávania predstavuje zariadenie na priame nanášanie kovu obchodnej značky Lasform firmy AeroMet Corp., ktoré je opísané napríklad v stati Laser Forming Titanium Components (Spracovávanie titánových komponentov laserom), Abbott a kol., publikovanej v Advanced Metals & Processes (máj 1998) a v stati Producing Titanium Aerospace Components From Powder Using Laser Forming (Výroba titánových komponentov pre letecký a kozmický priemysel z práškov s použitím spracovávania laserom), Arcella a kol., publikovanej v Journal of Metals (máj 2000), str. 28-30.
Ohrievanie za účelom slinovania až po nanesení prášku je možné zaistiť pomocou lasera. Na predhriatie terča alebo zaistenie ďalšieho dodatočného ohrevu počas procesu renovovania môžu byť použité separátne ohrievacie prostriedky.
Jednotlivé spôsoby renovovania zaisťujú vytvorenie vyplnenej eróznej zóny alebo spotrebovanej oblasti, ktorej mikroštruktúra sa v podstate zhoduje s mikroštruktúrou zostávajúcej časti terča. Na tento účel boli vzorky vyplnenej eróznej zóny odobraté z renovovaného rozprašovacieho terča podrobené analýze s použitím metódy rastrovacieho skenovania elektrónovým lúčom. Zistená tvrdosť zodpovedala, s normálnymi odchýlkami, tvrdosti typickej pre valcovanú a vyžíhanú tantalovú anódu. Vyplnené erózne zóny boli v podstate bez pórovitosti a vtrúsenín. Docielená pevnosť a docielená maximálna pevnosť spĺňali požiadavky technických noriem ASTM.
32166/T
Podľa ďalšieho uskutočnenia predloženého vynálezu je na spôsob renovovania možné využiť pomerne neznámu a doteraz širšie nepoužívanú technológiu plazmatického nanášania, kombinujúcu krok nanášania prášku a krok natavovania jeho častíc.
Z vyššie uvedeného musí byť osobám oboznámeným so stavom techniky zrejmé, že je na základe podstatných skutočností uvedených v predchádzajúcom opise a nárokovaného rozsahu predloženého vynálezu, obmedzeného iba pripojenými patentovými nárokmi, zostavenými v súlade s príslušnými zákonnými predpismi, vrátane teórie ekvivalentov, možné realizovať jeho ďalšie uskutočnenia, zdokonalenia, prispôsobenia detailov a spôsoby využitia.
Claims (24)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Renovovaný tantalový rozprašovací terč, zahŕňajúci:použitý tantalový rozprašovací terč vykazujúci tantalovú rozprašovaciu anódu a substrát, kde cieľový povrch tantalovej rozprašovacej anódy obsahuje jeden alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu; a hmotu viazaných kovových častíc v každom z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu, kde hmota viazaných kovových častíc čiastočne alebo celkom vypĺňa každý z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu, pričom sa použitý tantalový rozprašovací terč renovuje bez oddelenia substrátu od tantalovej rozprašovacej anódy.
- 2. Renovovaný tantalový rozprašovací terč podľa nároku 1, vyznačujúci sa tým, že hmota viazaných kovových častíc vykazuje mikroštruktúru, ktorá sa v podstate zhoduje s mikroštruktúrou tantalovej rozprašovacej anódy.
- 3. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča, zahŕňajúci kroky:pripravenie použitého tantalového rozprašovacieho terča vykazujúceho tantalovú rozprašovaciu anódu a substrát, kde cieľový povrch tantalovej rozprašovacej anódy obsahuje jeden alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu;pripravenie prášku kovu taviteľného pri vysokých teplotách, ktorého mikroštruktúra sa v podstate zhoduje s mikroštruktúrou tantalovej rozprašovacej anódy;32166/T vyplnenie každého z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu práškom kovu taviteľného pri vysokých teplotách za vytvorenia vyplnených úsekov; a aplikovanie krátkodobo pôsobiaceho, s vysokým výkonom vyžarujúceho energetického lúča lokálne na vyplnené úseky za účelom viazania častíc prášku z kovu taviteľného pri vysokých teplotách navzájom a ku každému z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu za vytvorenia hmoty viazaných kovových častíc, pričom sa použitý tantalový rozprašovací terč renovuje bez oddelenia substrátu od tantalovej rozprašovacej anódy.
- 4. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že ďalej zahŕňa krok odstraňovania nadmerného množstva hmoty viazaných kovových častíc za účelom vyrovnania povrchu tantalovej rozprašovacej anódy.
- 5. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že energetickým lúčom je laserový lúč.
- 6. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že energetickým lúčom je elektrónový lúč.
- 7. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že krokom viazania je plazmatické nanášanie.32166/T
- 8. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že energetický lúč sa aplikuje vo vákuu.
- 9. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že sa energetický lúč aplikuje v atmosfére inertného plynu.
- 10. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 3, vyznačujúci sa tým, že prášok kovu taviteľného pri vysokých teplotách je vo forme z prášku vytvoreného plátku, pričom sa z prášku vytvorený plátok jednotlivo ukladá do každého z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu a viaže sa k rozprašovacej anóde a kroky vyplňovania a viazania sa opakujú až do tej doby, pokiaľ nie sú spotrebované úseky plochy povrchu čiastočne alebo celkom vyplnené.
- 11. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že krokom odstraňovania nadmerného množstva hmoty viazaných kovových častíc za účelom vyrovnania povrchu rozprašovacej anódy je strojové obrábanie.
- 12. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že krokom odstraňovania nadmerného množstva hmoty viazaných kovových častíc za účelom vyrovnania povrchu rozprašovacej anódy je pieskovanie.32166/T
- 13. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že krokom odstraňovania nadmerného množstva hmoty viazaných kovových častíc za účelom vyrovnania povrchu rozprašovacej anódy je obrusovanie odleptávaním.
- 14. Spôsob renovovania spotrebovaného tantalového rozprašovacieho terča podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že krokom odstraňovania nadmerného množstva hmoty viazaných kovových častíc za účelom vyrovnania povrchu rozprašovacej anódy je vypaľovacie rozprašovanie.
- 15. Renovovaný rozprašovací terč, vykazujúci hmotu viazaných kovových častíc vyplňujúcu každý z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu použitého rozprašovacieho terča s časticami viazanými navzájom a k úseku (úsekom) plochy povrchu, vytvorený spôsobom podľa nároku 3.
- 16. Spôsob renovovania rozprašovacieho terča zo žiaruvzdorného kovu vykazujúceho jeden alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu, zahŕňajúci kroky:vyplňovanie každého z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu kovovým práškom, ktorý vykazuje rovnaké chemické zloženie ako kov taviteľný pri vysokých teplotách, z ktorého je rozprašovací terč vytvorený, za vytvorenia vyplnených úsekov;aplikovanie krátkodobo pôsobiaceho, s vysokým výkonom vyžarujúceho energetického lúča vo vákuu alebo v atmosfére inertného plynu lokálne na vyplnené úseky za účelom viazania častíc prášku z kovu taviteľného pri vysokých teplotách navzájom a ku každému z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu; a32166/T vyrovnávanie povrchu rozprašovacieho terča za účelom odstránenia výčnelkov viazaných častíc prášku.
- 17. Spôsob podľa nároku 16, vyznačujúci sa tým, že rozprašovací terč je zvolený zo skupiny pozostávajúcej z tantalu, nióbu a ich zliatin.
- 18. Spôsob podľa nároku 16, vyznačujúci sa tým, že energetický lúč je zvolený zo skupiny pozostávajúcej z laserového lúča a elektrónového lúča.
- 19. Spôsob podľa nároku 16, vyznačujúci sa tým, že krok vyrovnávania povrchu je zvolený zo skupiny pozostávajúcej zo strojového obrábania, pieskovania, obrusovania odleptávaním a vypaľovacieho rozprašovania.
- 20. Renovovaný rozprašovací terč s úplne kompaktným nánosom vyplňujúcim každý z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu použitého rozprašovacieho terča, pričom tento úplne kompaktný nános je s úsekom (úsekmi) plochy povrchu viazaný spôsobom podľa nároku 16.
- 21. Spôsob renovovania výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách vykazujúcich lokálne jeden alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu, zahŕňajúci kroky:selektívne privádzanie prášku z kovu taviteľného pri vysokých teplotách za účelom čiastočného alebo úplného vyplnenia každého z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu žiaruvzdorného výrobku; a32166/T aplikovanie krátkodobo pôsobiaceho, s vysokým výkonom vyžarujúceho energetického lúča lokálne na vyplnené úseky za účelom viazania častíc prášku z kovu taviteľného pri vysokých teplotách navzájom a ku každému z uvedených jedného alebo viac spotrebovaných úsekov plochy povrchu.
- 22. Spôsob podľa nároku 21, vyznačujúci sa tým, že sa aplikuje na vrstvený materiál vytvorený z kovu taviteľného pri vysokých teplotách a z kovu taviteľného pri nižších teplotách.
- 23 Spôsob podľa nároku 21, vyznačujúci sa tým, že vyžarujúcim energetickým lúčom je laserový lúč.
- 24. Spôsob podľa nároku 21, vyznačujúci sa tým, že vyžarujúcim energetickým lúčom je elektrónový lúč.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US26874201P | 2001-02-14 | 2001-02-14 | |
| PCT/US2002/004306 WO2002064287A2 (en) | 2001-02-14 | 2002-02-14 | Rejuvenation of refractory metal products |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SK10062003A3 true SK10062003A3 (sk) | 2004-03-02 |
Family
ID=23024267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SK1006-2003A SK10062003A3 (sk) | 2001-02-14 | 2002-02-14 | Renovovanie výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020112955A1 (sk) |
| EP (1) | EP1362132B1 (sk) |
| JP (1) | JP2004523653A (sk) |
| CN (1) | CN1221684C (sk) |
| AT (1) | ATE325906T1 (sk) |
| AU (1) | AU2002250075B2 (sk) |
| BG (1) | BG64959B1 (sk) |
| BR (1) | BR0207202A (sk) |
| CA (1) | CA2437713A1 (sk) |
| CZ (1) | CZ20032186A3 (sk) |
| DE (1) | DE60211309T2 (sk) |
| DK (1) | DK1362132T3 (sk) |
| ES (1) | ES2261656T3 (sk) |
| HK (1) | HK1062902A1 (sk) |
| HU (1) | HUP0400730A2 (sk) |
| IS (1) | IS6911A (sk) |
| MX (1) | MXPA03007293A (sk) |
| NO (1) | NO20033567D0 (sk) |
| NZ (1) | NZ527503A (sk) |
| PL (1) | PL363521A1 (sk) |
| PT (1) | PT1362132E (sk) |
| RU (1) | RU2304633C2 (sk) |
| SK (1) | SK10062003A3 (sk) |
| WO (1) | WO2002064287A2 (sk) |
| ZA (1) | ZA200306259B (sk) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7175802B2 (en) * | 2001-09-17 | 2007-02-13 | Heraeus, Inc. | Refurbishing spent sputtering targets |
| EP2278045A1 (en) * | 2002-01-24 | 2011-01-26 | H.C. Starck Inc. | methods for rejuvenating tantalum sputtering targets and rejuvenated tantalum sputtering targets |
| US20040016635A1 (en) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Ford Robert B. | Monolithic sputtering target assembly |
| US20040065546A1 (en) * | 2002-10-04 | 2004-04-08 | Michaluk Christopher A. | Method to recover spent components of a sputter target |
| US7504008B2 (en) * | 2004-03-12 | 2009-03-17 | Applied Materials, Inc. | Refurbishment of sputtering targets |
| US20060021870A1 (en) * | 2004-07-27 | 2006-02-02 | Applied Materials, Inc. | Profile detection and refurbishment of deposition targets |
| US20060081459A1 (en) * | 2004-10-18 | 2006-04-20 | Applied Materials, Inc. | In-situ monitoring of target erosion |
| CN101368262B (zh) | 2005-05-05 | 2012-06-06 | H.C.施塔克有限公司 | 向表面施加涂层的方法 |
| EP1880035B1 (en) | 2005-05-05 | 2021-01-20 | Höganäs Germany GmbH | Method for coating a substrate surface and coated product |
| US9127362B2 (en) | 2005-10-31 | 2015-09-08 | Applied Materials, Inc. | Process kit and target for substrate processing chamber |
| KR101065427B1 (ko) * | 2005-11-07 | 2011-09-19 | 도시바 마테리알 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법 |
| DE102005055255A1 (de) * | 2005-11-19 | 2007-05-31 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Herstellen eines Targets |
| US8647484B2 (en) | 2005-11-25 | 2014-02-11 | Applied Materials, Inc. | Target for sputtering chamber |
| US20080078268A1 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-03 | H.C. Starck Inc. | Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof |
| US20080145688A1 (en) | 2006-12-13 | 2008-06-19 | H.C. Starck Inc. | Method of joining tantalum clade steel structures |
| US8197894B2 (en) | 2007-05-04 | 2012-06-12 | H.C. Starck Gmbh | Methods of forming sputtering targets |
| US8968536B2 (en) | 2007-06-18 | 2015-03-03 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target having increased life and sputtering uniformity |
| JP2010536134A (ja) * | 2007-08-08 | 2010-11-25 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 材料をｘ線源のアノードの表面に適用するための方法及び装置、並びに、アノード及びｘ線源 |
| US8699667B2 (en) * | 2007-10-02 | 2014-04-15 | General Electric Company | Apparatus for x-ray generation and method of making same |
| US7901552B2 (en) | 2007-10-05 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target with grooves and intersecting channels |
| US8246903B2 (en) | 2008-09-09 | 2012-08-21 | H.C. Starck Inc. | Dynamic dehydriding of refractory metal powders |
| US8043655B2 (en) * | 2008-10-06 | 2011-10-25 | H.C. Starck, Inc. | Low-energy method of manufacturing bulk metallic structures with submicron grain sizes |
| FR2953747B1 (fr) * | 2009-12-14 | 2012-03-23 | Snecma | Procede de reparation d'une aube en titane par rechargement laser et compression hip moderee |
| DE102010004241A1 (de) * | 2010-01-08 | 2011-07-14 | H.C. Starck GmbH, 38642 | Verfahren zur Herstellung von Funktionsschichten auf der Oberfläche von Werkstücken, eine so hergestellte Funktionsschicht und ein Werkstück |
| US9120183B2 (en) | 2011-09-29 | 2015-09-01 | H.C. Starck Inc. | Methods of manufacturing large-area sputtering targets |
| JP6532219B2 (ja) * | 2013-11-25 | 2019-06-19 | 株式会社フルヤ金属 | スパッタリングターゲットの再生方法及び再生スパッタリングターゲット |
| AT14301U1 (de) * | 2014-07-09 | 2015-07-15 | Plansee Se | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils |
| CN104439239B (zh) * | 2014-11-06 | 2017-05-03 | 金堆城钼业股份有限公司 | 一种重复利用中频感应烧结炉钨钼废发热体的方法 |
| DE102015008921A1 (de) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Evobeam GmbH | Verfahren zur additiven Herstellung von Bauteilen |
| US10844475B2 (en) * | 2015-12-28 | 2020-11-24 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method for manufacturing sputtering target |
| CN105618753A (zh) * | 2016-03-03 | 2016-06-01 | 中研智能装备有限公司 | 一种轧辊等离子3d打印再制造设备及再制造方法 |
| DE102016121951A1 (de) * | 2016-11-15 | 2018-05-17 | Cl Schutzrechtsverwaltungs Gmbh | Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte |
| JP6650141B1 (ja) * | 2019-01-10 | 2020-02-19 | 株式会社ティー・オール | 使用済み成膜用ターゲットの充填式再生方法 |
| JP2022523357A (ja) * | 2019-02-22 | 2022-04-22 | エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン | 物理的気相成長（ｐｖｄ）用ターゲットの製造方法 |
| CN110523987B (zh) * | 2019-09-27 | 2021-02-05 | 华中科技大学 | 一种用于致密材料制备的激光烧结同步压制增材制造系统 |
| CN111940745B (zh) * | 2019-12-30 | 2024-01-19 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 大松装冶金级钽粉的制造方法 |
| CN112522698B (zh) * | 2020-11-26 | 2023-04-25 | 江苏科技大学 | 一种超声振动辅助激光熔覆钨钽铌合金装置及方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3827725B2 (ja) * | 1995-05-18 | 2006-09-27 | 旭硝子セラミックス株式会社 | スパッタリング用ターゲットの製造方法 |
| DE19626732B4 (de) * | 1996-07-03 | 2009-01-29 | W.C. Heraeus Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen und Recyclen von Sputtertargets |
| US6348113B1 (en) * | 1998-11-25 | 2002-02-19 | Cabot Corporation | High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same |
| DE19925330A1 (de) * | 1999-06-02 | 2000-12-07 | Leybold Materials Gmbh | Verfahren zur Herstellung oder zum Recyceln von Sputtertargets |
-
2002
- 2002-02-14 CN CNB028048210A patent/CN1221684C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-14 US US10/075,709 patent/US20020112955A1/en not_active Abandoned
- 2002-02-14 EP EP02718966A patent/EP1362132B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-14 ES ES02718966T patent/ES2261656T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-14 JP JP2002564069A patent/JP2004523653A/ja active Pending
- 2002-02-14 CA CA002437713A patent/CA2437713A1/en not_active Abandoned
- 2002-02-14 MX MXPA03007293A patent/MXPA03007293A/es active IP Right Grant
- 2002-02-14 CZ CZ20032186A patent/CZ20032186A3/cs unknown
- 2002-02-14 AT AT02718966T patent/ATE325906T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-02-14 BR BR0207202-5A patent/BR0207202A/pt not_active IP Right Cessation
- 2002-02-14 SK SK1006-2003A patent/SK10062003A3/sk not_active Application Discontinuation
- 2002-02-14 HU HU0400730A patent/HUP0400730A2/hu unknown
- 2002-02-14 DK DK02718966T patent/DK1362132T3/da active
- 2002-02-14 AU AU2002250075A patent/AU2002250075B2/en not_active Ceased
- 2002-02-14 PL PL02363521A patent/PL363521A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2002-02-14 PT PT02718966T patent/PT1362132E/pt unknown
- 2002-02-14 RU RU2003127947/02A patent/RU2304633C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-02-14 WO PCT/US2002/004306 patent/WO2002064287A2/en active IP Right Grant
- 2002-02-14 NZ NZ527503A patent/NZ527503A/en unknown
- 2002-02-14 DE DE60211309T patent/DE60211309T2/de not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-08-04 BG BG108059A patent/BG64959B1/bg unknown
- 2003-08-12 NO NO20033567A patent/NO20033567D0/no not_active Application Discontinuation
- 2003-08-13 IS IS6911A patent/IS6911A/is unknown
- 2003-08-13 ZA ZA200306259A patent/ZA200306259B/en unknown
-
2004
- 2004-08-05 HK HK04105823A patent/HK1062902A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020112955A1 (en) | 2002-08-22 |
| BG108059A (en) | 2005-04-30 |
| IS6911A (is) | 2003-08-13 |
| NZ527503A (en) | 2004-07-30 |
| DE60211309T2 (de) | 2007-05-24 |
| EP1362132A2 (en) | 2003-11-19 |
| CZ20032186A3 (cs) | 2004-02-18 |
| BR0207202A (pt) | 2004-01-27 |
| CA2437713A1 (en) | 2002-08-22 |
| PL363521A1 (en) | 2004-11-29 |
| ATE325906T1 (de) | 2006-06-15 |
| HUP0400730A2 (en) | 2004-08-30 |
| CN1491294A (zh) | 2004-04-21 |
| MXPA03007293A (es) | 2005-09-08 |
| PT1362132E (pt) | 2006-09-29 |
| HK1062902A1 (en) | 2004-12-03 |
| ZA200306259B (en) | 2004-08-13 |
| BG64959B1 (bg) | 2006-10-31 |
| EP1362132B1 (en) | 2006-05-10 |
| WO2002064287A3 (en) | 2002-10-10 |
| WO2002064287A2 (en) | 2002-08-22 |
| NO20033567L (no) | 2003-08-12 |
| DE60211309D1 (de) | 2006-06-14 |
| RU2304633C2 (ru) | 2007-08-20 |
| NO20033567D0 (no) | 2003-08-12 |
| EP1362132A4 (en) | 2004-07-28 |
| CN1221684C (zh) | 2005-10-05 |
| DK1362132T3 (da) | 2006-09-11 |
| JP2004523653A (ja) | 2004-08-05 |
| AU2002250075B2 (en) | 2007-03-29 |
| ES2261656T3 (es) | 2006-11-16 |
| RU2003127947A (ru) | 2005-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SK10062003A3 (sk) | Renovovanie výrobkov z kovov taviteľných pri vysokých teplotách | |
| AU2002250075A1 (en) | Rejuvenation of refractory metal products | |
| US7794554B2 (en) | Rejuvenation of refractory metal products | |
| US7651658B2 (en) | Refractory metal and alloy refining by laser forming and melting | |
| US7910051B2 (en) | Low-energy method for fabrication of large-area sputtering targets | |
| CN1688740A (zh) | 整体式溅射靶组件 | |
| JP2002527618A (ja) | スパッターターゲット／背板組立体及びその製造方法 | |
| RU2415966C1 (ru) | Способ нанесения покрытия на изделия из твердых сплавов | |
| US5870663A (en) | Manufacture and use of ZrB2 /CU composite electrodes | |
| JP2000256843A (ja) | 薄膜蒸着での使用および再使用のためスパッタターゲットを作る方法とスパッタ蒸着ターゲット | |
| US20090134020A1 (en) | Sputtering target and process for producing the same | |
| KR20130079334A (ko) | 코팅 소스 및 그 제조 방법 | |
| GB2294227A (en) | The production of an article using a thermal spray technique | |
| RU2795775C1 (ru) | Способ получения защитного покрытия в вакууме на формообразующей поверхности металлической пресс-формы для литья магниевых сплавов | |
| DE10003827A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Stranggießkokille mit verschleißfester Schicht | |
| AU2003216081A1 (en) | Refractrory metal and alloy refining by laser forming and melting | |
| JP2023138104A (ja) | 被覆部材、この被覆部材の製造方法、およびこの被覆部材を用いた製造物 | |
| Belyuk et al. | Development and assimilation of an electron-beam deposition process for strengthening and restoration of metallurgical-equipment components | |
| MXPA99001159A (en) | MANUFACTURE AND USE OF ZrB2 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FC9A | Refused patent application |