RU2003127947A - Обновление изделий из тугоплавких металлов - Google Patents
Обновление изделий из тугоплавких металлов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2003127947A RU2003127947A RU2003127947/02A RU2003127947A RU2003127947A RU 2003127947 A RU2003127947 A RU 2003127947A RU 2003127947/02 A RU2003127947/02 A RU 2003127947/02A RU 2003127947 A RU2003127947 A RU 2003127947A RU 2003127947 A RU2003127947 A RU 2003127947A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- tantalum
- plate
- updating
- sputtering target
- refractory metal
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3491—Manufacturing of targets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F7/00—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
- B22F7/06—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
- B22F7/062—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools involving the connection or repairing of preformed parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F7/00—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
- B22F7/06—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
- B22F7/062—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools involving the connection or repairing of preformed parts
- B22F2007/068—Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools involving the connection or repairing of preformed parts repairing articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Claims (24)
1. Обновленная танталовая мишень для распыления, включающая
использованную танталовую мишень для распыления, содержащую танталовую пластину для распыления и пластину-подложку, в которой использовавшаяся для распыления поверхность указанной танталовой пластины для распыления содержит один или большее количество израсходованных участков поверхности, и
массу связанных частиц металла на каждом указанном одном или большем количестве израсходованных участков поверхности, где указанная масса связанных частиц металла частично или полностью заполняет каждый указанный один или большее количество израсходованных участков поверхности,
причем указанная использованная танталовая мишень для распыления обновляется без отделения указанной пластины-подложки от указанной танталовой пластины для распыления.
2. Обновленная танталовая мишень для распыления по п.1, в которой указанная масса связанных частиц металла обладает микроструктурой, в основном сходной с микроструктурой указанной танталовой пластины для распыления.
3. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления, включающий стадии
предоставления израсходованной танталовой мишени для распыления, содержащей танталовую пластину для распыления и пластину-подложку, в которой использовавшаяся для распыления поверхность указанной танталовой пластины для распыления содержит один или большее количество израсходованных участков поверхности,
предоставления порошка тугоплавкого металла, обладающего микроструктурой, в основном сходной с микроструктурой танталовой пластины для распыления,
заполнения одного или большего количества израсходованных участков поверхности указанным порошком тугоплавкого металла с образованием заполненных участков, и
кратковременного локального воздействия обладающего высокой мощностью пучка энергии излучения на указанные заполненные участки для связывания частиц указанного порошка тугоплавкого металла друг с другом и с указанными одним или большим количеством израсходованных участков поверхности с образованием массы связанных частиц металла,
в котором указанная использованная танталовая мишень для распыления обновляется без отделения указанной пластины-подложки от указанной танталовой пластины для распыления.
4. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, дополнительно включающий стадию удаления избытка указанной массы связанных частиц металла, предназначенную для выравнивания указанной танталовой пластины для распыления.
5. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, в котором указанный пучок энергии представляет собой лазерный пучок.
6. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, в котором указанный пучок энергии представляет собой электронный пучок.
7. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, в котором стадия связывания представляет собой плазменное осаждение.
8. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, в котором указанный пучок энергии воздействует в вакууме.
9. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, в котором указанный пучок энергии воздействует в среде инертного газа.
10. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.3, в котором указанный порошок тугоплавкого металла находится в виде полученной из порошка фольги, при котором указанная полученная из порошка фольга укладывается по отдельности на указанные один или большее количество израсходованных участков поверхности и связывается с пластиной для распыления, причем указанные стадии заполнения и связывания повторяются, пока указанные израсходованные участки поверхности частично или полностью не заполнятся.
11. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.4, в котором стадия удаления избытка указанной массы связанных частиц металла для выравнивания пластины для распыления представляет собой механическую обработку.
12. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.4, в котором стадия удаления избытка указанной массы связанных частиц металла для выравнивания пластины для распыления представляет собой шлифование наждачной бумагой.
13. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.4, в котором стадия удаления избытка указанной массы связанных частиц металла для выравнивания пластины для распыления представляет собой травление с абразивной обработкой.
14. Способ обновления израсходованной танталовой мишени для распыления по п.4, в котором стадия удаления избытка указанной массы связанных частиц металла для выравнивания пластины для распыления представляет собой термообработку с распылением.
15. Обновленная мишень для распыления, содержащая массу связанных частиц металла, заполняющих каждый один или большее количество израсходованных участков поверхности израсходованной мишени для распыления, в которой частицы связаны друг с другом и с участком (участками) поверхности, полученная в соответствии со способом по п.3.
16. Способ обновления изготовленной из тугоплавкого металла мишени для распыления, содержащей один или большее количество израсходованных участков поверхности, включающий стадии
заполнения одного или большего количества израсходованных участков поверхности порошком металла, причем порошок металла обладает таким же составом, как и изготовленная из тугоплавкого металла мишень для распыления, с образованием заполненных участков,
кратковременного локального воздействия обладающего высокой мощностью пучка энергии излучения в вакууме или атмосфере инертного газа на заполненные участки для связывания частиц порошка тугоплавкого металла друг с другом и с указанными одним или большим количеством израсходованных участков поверхности, и
выравнивания мишени для распыления для удаления выступающих участком связанных частиц порошка.
17. Способ по п.16, в котором мишень для распыления выбирают из группы, включающей тантал, ниобий и их сплавы.
18. Способ по п.16, в котором пучок энергии выбирают из группы, включающей лазерный пучок и электронный пучок.
19. Способ по п.16, в котором стадию выравнивания выбирают из группы, включающей механическую обработку, шлифование наждачной бумагой, травление с абразивной обработкой и термообработку с распылением.
20. Обновленная мишень для распыления, обладающая совершенно плотным покрытием, заполняющим каждый один или большее количество израсходованных участков поверхности израсходованной мишени для распыления, причем совершенно плотное покрытие связано с участком (участками) поверхности в соответствии со способом по п.16.
21. Способ обновления изготовленного из тугоплавкого металла изделия, содержащего один или большее количество локальных израсходованных участков поверхности, включающий стадии
избирательного нанесения порошка тугоплавкого металла для полного или частичного заполнения каждого указанного одного или большего количества израсходованных участков поверхности изготовленного из тугоплавкого металла изделия с образованием заполненных участков, и
кратковременного локального воздействия обладающего высокой мощностью пучка энергии излучения на указанные заполненные участки для связывания частиц порошка тугоплавкого металла друг с другом и с указанными одним или большим количеством израсходованных участков поверхности.
22. Способ по п.21, использующийся для слоистого материала, состоящего из тугоплавкого металла и нетугоплавкого металла.
23. Способ по п.21, в котором пучок энергии излучения представляет собой лазерный пучок.
24. Способ по п.21, в котором пучок энергии излучения представляет собой электронный пучок.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US26874201P | 2001-02-14 | 2001-02-14 | |
| US60/268,742 | 2001-02-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2003127947A true RU2003127947A (ru) | 2005-04-10 |
| RU2304633C2 RU2304633C2 (ru) | 2007-08-20 |
Family
ID=23024267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2003127947/02A RU2304633C2 (ru) | 2001-02-14 | 2002-02-14 | Обновление изделий из тугоплавких металлов |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020112955A1 (ru) |
| EP (1) | EP1362132B1 (ru) |
| JP (1) | JP2004523653A (ru) |
| CN (1) | CN1221684C (ru) |
| AT (1) | ATE325906T1 (ru) |
| AU (1) | AU2002250075B2 (ru) |
| BG (1) | BG64959B1 (ru) |
| BR (1) | BR0207202A (ru) |
| CA (1) | CA2437713A1 (ru) |
| CZ (1) | CZ20032186A3 (ru) |
| DE (1) | DE60211309T2 (ru) |
| DK (1) | DK1362132T3 (ru) |
| ES (1) | ES2261656T3 (ru) |
| HK (1) | HK1062902A1 (ru) |
| HU (1) | HUP0400730A2 (ru) |
| IS (1) | IS6911A (ru) |
| MX (1) | MXPA03007293A (ru) |
| NO (1) | NO20033567D0 (ru) |
| NZ (1) | NZ527503A (ru) |
| PL (1) | PL363521A1 (ru) |
| PT (1) | PT1362132E (ru) |
| RU (1) | RU2304633C2 (ru) |
| SK (1) | SK10062003A3 (ru) |
| WO (1) | WO2002064287A2 (ru) |
| ZA (1) | ZA200306259B (ru) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002333640A1 (en) * | 2001-09-17 | 2003-04-01 | Heraeus, Inc. | Refurbishing spent sputtering targets |
| WO2003062491A2 (en) * | 2002-01-24 | 2003-07-31 | H. C. Starck Inc. | Refractrory metal and alloy refining by laser forming and melting |
| US20040016635A1 (en) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Ford Robert B. | Monolithic sputtering target assembly |
| US20040065546A1 (en) * | 2002-10-04 | 2004-04-08 | Michaluk Christopher A. | Method to recover spent components of a sputter target |
| US7504008B2 (en) * | 2004-03-12 | 2009-03-17 | Applied Materials, Inc. | Refurbishment of sputtering targets |
| US20060021870A1 (en) * | 2004-07-27 | 2006-02-02 | Applied Materials, Inc. | Profile detection and refurbishment of deposition targets |
| US20060081459A1 (en) * | 2004-10-18 | 2006-04-20 | Applied Materials, Inc. | In-situ monitoring of target erosion |
| RU2418886C2 (ru) * | 2005-05-05 | 2011-05-20 | Х.К. Штарк Гмбх | Способ нанесения покрытий для изготовления или восстановления мишеней распыления и анодов рентгеновских трубок |
| RU2434073C9 (ru) | 2005-05-05 | 2012-12-27 | Х.К. Штарк Гмбх | Способ покрытия поверхности субстрата и продукт с нанесенным покрытием |
| US9127362B2 (en) | 2005-10-31 | 2015-09-08 | Applied Materials, Inc. | Process kit and target for substrate processing chamber |
| JPWO2007052743A1 (ja) * | 2005-11-07 | 2009-04-30 | 株式会社東芝 | スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
| DE102005055255A1 (de) * | 2005-11-19 | 2007-05-31 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Herstellen eines Targets |
| US8647484B2 (en) | 2005-11-25 | 2014-02-11 | Applied Materials, Inc. | Target for sputtering chamber |
| US20080078268A1 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-03 | H.C. Starck Inc. | Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof |
| US20080145688A1 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | H.C. Starck Inc. | Method of joining tantalum clade steel structures |
| US8197894B2 (en) * | 2007-05-04 | 2012-06-12 | H.C. Starck Gmbh | Methods of forming sputtering targets |
| US8968536B2 (en) | 2007-06-18 | 2015-03-03 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target having increased life and sputtering uniformity |
| US20110211676A1 (en) * | 2007-08-08 | 2011-09-01 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for applying material to a surface of an anode of an x-ray source, anode and x-ray source |
| US8699667B2 (en) * | 2007-10-02 | 2014-04-15 | General Electric Company | Apparatus for x-ray generation and method of making same |
| US7901552B2 (en) | 2007-10-05 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Sputtering target with grooves and intersecting channels |
| US8246903B2 (en) | 2008-09-09 | 2012-08-21 | H.C. Starck Inc. | Dynamic dehydriding of refractory metal powders |
| US8043655B2 (en) * | 2008-10-06 | 2011-10-25 | H.C. Starck, Inc. | Low-energy method of manufacturing bulk metallic structures with submicron grain sizes |
| FR2953747B1 (fr) * | 2009-12-14 | 2012-03-23 | Snecma | Procede de reparation d'une aube en titane par rechargement laser et compression hip moderee |
| DE102010004241A1 (de) * | 2010-01-08 | 2011-07-14 | H.C. Starck GmbH, 38642 | Verfahren zur Herstellung von Funktionsschichten auf der Oberfläche von Werkstücken, eine so hergestellte Funktionsschicht und ein Werkstück |
| WO2013049274A2 (en) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | H.C. Starck, Inc. | Large-area sputtering targets and methods of manufacturing large-area sputtering targets |
| JP6532219B2 (ja) * | 2013-11-25 | 2019-06-19 | 株式会社フルヤ金属 | スパッタリングターゲットの再生方法及び再生スパッタリングターゲット |
| AT14301U1 (de) * | 2014-07-09 | 2015-07-15 | Plansee Se | Verfahren zur Herstellung eines Bauteils |
| CN104439239B (zh) * | 2014-11-06 | 2017-05-03 | 金堆城钼业股份有限公司 | 一种重复利用中频感应烧结炉钨钼废发热体的方法 |
| DE102015008921A1 (de) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Evobeam GmbH | Verfahren zur additiven Herstellung von Bauteilen |
| US10844475B2 (en) * | 2015-12-28 | 2020-11-24 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method for manufacturing sputtering target |
| CN105618753A (zh) * | 2016-03-03 | 2016-06-01 | 中研智能装备有限公司 | 一种轧辊等离子3d打印再制造设备及再制造方法 |
| DE102016121951A1 (de) * | 2016-11-15 | 2018-05-17 | Cl Schutzrechtsverwaltungs Gmbh | Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte |
| JP6650141B1 (ja) * | 2019-01-10 | 2020-02-19 | 株式会社ティー・オール | 使用済み成膜用ターゲットの充填式再生方法 |
| JP2022523357A (ja) * | 2019-02-22 | 2022-04-22 | エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン | 物理的気相成長（ｐｖｄ）用ターゲットの製造方法 |
| CN110523987B (zh) * | 2019-09-27 | 2021-02-05 | 华中科技大学 | 一种用于致密材料制备的激光烧结同步压制增材制造系统 |
| CN111940745B (zh) * | 2019-12-30 | 2024-01-19 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 大松装冶金级钽粉的制造方法 |
| CN112522698B (zh) * | 2020-11-26 | 2023-04-25 | 江苏科技大学 | 一种超声振动辅助激光熔覆钨钽铌合金装置及方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0834594B1 (en) * | 1995-05-18 | 2004-11-10 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing sputtering target |
| DE19626732B4 (de) * | 1996-07-03 | 2009-01-29 | W.C. Heraeus Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen und Recyclen von Sputtertargets |
| US6348113B1 (en) * | 1998-11-25 | 2002-02-19 | Cabot Corporation | High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same |
| DE19925330A1 (de) * | 1999-06-02 | 2000-12-07 | Leybold Materials Gmbh | Verfahren zur Herstellung oder zum Recyceln von Sputtertargets |
-
2002
- 2002-02-14 AU AU2002250075A patent/AU2002250075B2/en not_active Ceased
- 2002-02-14 AT AT02718966T patent/ATE325906T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-02-14 CN CNB028048210A patent/CN1221684C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-14 PT PT02718966T patent/PT1362132E/pt unknown
- 2002-02-14 PL PL02363521A patent/PL363521A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2002-02-14 CA CA002437713A patent/CA2437713A1/en not_active Abandoned
- 2002-02-14 DK DK02718966T patent/DK1362132T3/da active
- 2002-02-14 NZ NZ527503A patent/NZ527503A/en unknown
- 2002-02-14 US US10/075,709 patent/US20020112955A1/en not_active Abandoned
- 2002-02-14 ES ES02718966T patent/ES2261656T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-14 RU RU2003127947/02A patent/RU2304633C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-02-14 EP EP02718966A patent/EP1362132B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-14 MX MXPA03007293A patent/MXPA03007293A/es active IP Right Grant
- 2002-02-14 JP JP2002564069A patent/JP2004523653A/ja active Pending
- 2002-02-14 HU HU0400730A patent/HUP0400730A2/hu unknown
- 2002-02-14 SK SK1006-2003A patent/SK10062003A3/sk not_active Application Discontinuation
- 2002-02-14 WO PCT/US2002/004306 patent/WO2002064287A2/en active IP Right Grant
- 2002-02-14 CZ CZ20032186A patent/CZ20032186A3/cs unknown
- 2002-02-14 DE DE60211309T patent/DE60211309T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-14 BR BR0207202-5A patent/BR0207202A/pt not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-08-04 BG BG108059A patent/BG64959B1/bg unknown
- 2003-08-12 NO NO20033567A patent/NO20033567D0/no not_active Application Discontinuation
- 2003-08-13 IS IS6911A patent/IS6911A/is unknown
- 2003-08-13 ZA ZA200306259A patent/ZA200306259B/en unknown
-
2004
- 2004-08-05 HK HK04105823A patent/HK1062902A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HUP0400730A2 (en) | 2004-08-30 |
| IS6911A (is) | 2003-08-13 |
| CN1221684C (zh) | 2005-10-05 |
| NO20033567L (no) | 2003-08-12 |
| ES2261656T3 (es) | 2006-11-16 |
| JP2004523653A (ja) | 2004-08-05 |
| ATE325906T1 (de) | 2006-06-15 |
| ZA200306259B (en) | 2004-08-13 |
| WO2002064287A3 (en) | 2002-10-10 |
| BG64959B1 (bg) | 2006-10-31 |
| CN1491294A (zh) | 2004-04-21 |
| AU2002250075B2 (en) | 2007-03-29 |
| PL363521A1 (en) | 2004-11-29 |
| WO2002064287A2 (en) | 2002-08-22 |
| DE60211309T2 (de) | 2007-05-24 |
| CZ20032186A3 (cs) | 2004-02-18 |
| CA2437713A1 (en) | 2002-08-22 |
| EP1362132A4 (en) | 2004-07-28 |
| EP1362132A2 (en) | 2003-11-19 |
| BG108059A (en) | 2005-04-30 |
| PT1362132E (pt) | 2006-09-29 |
| DE60211309D1 (de) | 2006-06-14 |
| SK10062003A3 (sk) | 2004-03-02 |
| NZ527503A (en) | 2004-07-30 |
| RU2304633C2 (ru) | 2007-08-20 |
| NO20033567D0 (no) | 2003-08-12 |
| DK1362132T3 (da) | 2006-09-11 |
| BR0207202A (pt) | 2004-01-27 |
| US20020112955A1 (en) | 2002-08-22 |
| EP1362132B1 (en) | 2006-05-10 |
| MXPA03007293A (es) | 2005-09-08 |
| HK1062902A1 (en) | 2004-12-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2003127947A (ru) | Обновление изделий из тугоплавких металлов | |
| AU2002250075A1 (en) | Rejuvenation of refractory metal products | |
| US7794554B2 (en) | Rejuvenation of refractory metal products | |
| JP4672834B2 (ja) | スパッタリングターゲットを受け板に接合する方法 | |
| JP7198211B2 (ja) | スパッタターゲット、及びスパッタターゲットの製造方法 | |
| KR101249153B1 (ko) | 소결체 타겟 및 소결체의 제조 방법 | |
| EP0623415A1 (en) | Method of making cathode targets comprising silicon | |
| CN103492608B (zh) | 经扩散结合的溅射靶组件及制造方法 | |
| US6428904B2 (en) | X-ray target | |
| US5013274A (en) | Process for restoring locally damaged parts, particularly anticathodes | |
| JPS6284976A (ja) | 研削砥石用回転式形直しもしくは目直し工具の製造方法 | |
| US20020053512A1 (en) | Ion beam deposition targets having an interlocking interface and a replaceable insert | |
| RU2167742C2 (ru) | Способ армирования металлических изделий твердосплавным слоем | |
| CN102758183A (zh) | 镀膜件及其制备方法 | |
| JP2003142000A (ja) | 陽極ターゲットの再生処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20080215 |