BR0115898B1 - processo para a deposição com processamento a frio de uma camada contra a reflexão. - Google Patents

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Description

"PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO"
A presente invenção refere-se a um processo para realizar um tratamento contra a reflexão em um substrato feito de um material orgânico, em particular uma lente oftálmica, ao se empregar uma técnica de deposição por evaporação a vácuo. Tais revestimentos são produzidos em geral por meio de óxidos de metais que têm índices de refração altos e baixos.
A eficácia de um tratamento contra a reflexão depende em grande parte do valor dos índices de refração das camadas depositadas. As limitações associadas com o tipo de deposição empregado e com a natureza dos substratos a serem tratados restringem os materiais que podem ser usados para estes tratamentos.
É necessário que os fabricantes desenvolvam tratamentos contra a reflexão com um desempenho cada vez maior. A título de informação, no campo oftálmico, a eficácia de tal tratamento é fornecida em termos de reflexão por face, a qual fica compreendida entre 1,6 e 2,5% para um tratamento pouco eficaz, fica compreendida entre 1,0 e 1,8% para um tratamento moderadamente eficaz, e atualmente deve ficar compreendida entre 0,3 e 0,8% para um tratamento altamente eficaz.
Estas limitações significam que é preciso buscar novos materiais, e estes às vezes são difíceis de desenvolver de um ponto de vista industrial. Uma outra abordagem pode consistir no emprego de materiais anteriormente reservados para os substratos feitos de material orgânico.
Para produzir um tratamento altamente eficaz contra a reflexão, é necessário que a última camada depositada tenha o índice de refração mais baixo possível. No caso de substratos orgânicos, o SiO2 é normalmente usado por causa do seu índice de refração de 1,48, suas boas propriedades de aderência, resistência a arranhões e resistência à corrosão, e sua facilidade de deposição. O MgF2 é usado com muita freqüência para os substratos feitos de um material orgânico por causa de seu índice de refração muito baixo, ou seja, 1,38. Um inconveniente deste material é a sua friabilidade e a sua falta de aderência quando ele é depositado a temperaturas abaixo de 200°C.
Em geral, o MgF2 não é usado para substratos orgânicos porque estes não podem ser aquecidos acima de 150°C, uma vez que apresentam amarelecimento e deterioração.
Portanto, é necessário encontrar um processo que permita a deposição de MgF2 em um substrato orgânico (deposição "a frio") e encontrar outros materiais que possam ser apropriados.
A patente JP 8-236635 apresenta a deposição de uma camada de MgF2 em um substrato orgânico por meio da tecnologia de bombardeamento iônico. No entanto, as camadas depositadas por meio de bombardeamento iônico têm características físico-químicas particulares. Em particular, as camadas depositadas são em geral mais densas, o que acarreta um problema de aderência. O documento indica que tal deposição efetuada por meio de evaporação a vácuo resulta em camadas com um baixo grau de cristalização, o que envolve uma resistência insuficiente contra a abrasão.
Um revestimento contra a reflexão de múltiplas camadas em um material orgânico no campo oftálmico, cuja camada final é feita de MgF2, também é indicado no documento EP-A-619 504. Esse documento indica que as camadas apresentadas são produzidas por processos intensificados por plasma e dentro de determinados limites não especificados por meio de bombardeamento iônico. O processo de deposição mais econômico e mais extensamente usado é no entanto a evaporação a vácuo intensificada por plasma. Além disso, as camadas obtidas pela evaporação intensificada por plasma têm uma densidade mais elevada do que aquelas obtidas sem intensificação, mas a densidade elevada significa que estas camadas são altamente tensionadas, o que pode resultar em uma aderência de qualidade inferior. O documento JP 61250601 também apresenta um revestimento contra a reflexão de múltiplas camadas depositado em um substrato orgânico. De acordo com esse documento, SiO2 é usado como camada exterior com um baixo índice de retração, e de preferência um revestimento de múltiplas camadas que consiste em três camadas do tipo de Y2O3/TiO2/SiO2 é usado. Durante a deposição do revestimento de múltiplas camadas, a interface de pelo menos uma das camadas é tratada pelo bombardeamento de íons. Este tratamento melhora a aderência das camadas. O uso de MgF2 como material que tem um baixo índice de refração não é descrito nem sugerido nesse documento.
O documento JP 7076048 apresenta um revestimento de múltiplas camadas contra a reflexão depositado em um substrato orgânico. Isto especifica que a camada exterior, feita de MgF2, é depositada a baixa temperatura com assistência de íons ao se empregar a técnica de IAD (Deposição Assistida por íons) e que a superfície na qual esta camada é depositada é submetida previamente a um tratamento de limpeza pelo bombardeamento de íons eZou por plasma. No entanto, acontece que o uso da técnica de IAD tem uma série de inconvenientes. Este tipo de assistência é usado em geral para adensar as camadas depositadas. Mas por outro lado as camadas mais densas têm uma aderência mais baixa. Além disso, a assistência de íons pode tornar as camadas de MgF2 mais absorventes, e este é um inconveniente incômodo no caso de aplicações oftálmicas. Por fim, este tipo de assistência torna o processo mais complicado e aumenta os custos de produção de maneira substancial.
A invenção consiste portanto na apresentação de um processo de fabricação de um revestimento contra a reflexão de múltiplas camadas por meio da evaporação a vácuo em um substrato orgânico a uma temperatura abaixo de 150°C, o qual compreende as seguintes etapas: deposição de pelo menos uma camada de material com um índice de refração diferente de MgF2; preparação da superfície do substrato revestido dessa maneira; e deposição de uma camada exterior de MgF2 sem a assistência de íons. De preferência, a evaporação a vácuo é levada a efeito a uma temperatura abaixo de 100°C. De preferência, a preparação de superfície é selecionada entre os seguintes tratamento: bombardeamento de íons, bombardeamento de elétrons e causticação realizada ex situ.
De acordo com uma realização preferida, a dita camada consiste em um material que tem um índice de refração elevado selecionado de um grupo de óxidos simples ou mistos ou misturas de óxidos de metais dos grupos IIIb, IVb, Vb, VIb, VIIb e lantanídeos. De preferência, os metais são selecionados do grupo de Pr, La, Ti, Zr, Ta e Hf. Também são preferidos os materiais que têm um índice de refração elevado selecionados do grupo que consistem em ZrO2, PrTiO3, misturas de Pr2O3 e de TiO2, misturas de Pr6O11 e de TiO2, La2O3 e de TiO2 e misturas de ZrO2 e de TiO2.
De acordo com uma realização, a dita camada de material que tem um índice de refração diferente de MgF2 é um revestimento duro. De acordo com outra realização, a dita camada de material que tem um índice de refração diferente de MgF2 é uma camada resistente a impactos. De acordo ainda com uma outra realização, a dita camada de material que tem um índice de refração diferente de MgF2 é uma camada contra o efeito franja.
De preferência, o processo compreende, antes que a camada de material com um índice de refração diferente de MgF2 seja depositada, a etapa prévia de deposição de uma camada que tem um baixo índice de refração.
De preferência, a camada com um baixo índice de refração tem uma espessura entre 40 e 200 nm, de preferência de 60nm.
De acordo com uma realização, a etapa de deposição do material que tem um índice de refração diferente de MgF2 compreende as seguintes etapas: deposição de uma primeira camada de material que tem um índice de refração diferente de MgF2; deposição de uma camada de material que tem um baixo índice de refração; e deposição de uma segunda camada de material que tem um índice de refração diferente de MgF2. De preferência, a camada que tem um baixo índice de refração é feita de SiO2. é preferível que a primeira camada de material com um índice de refração diferente de MgF2 tenha uma espessura de 10 a 40 nm. É preferível também que a camada com um baixo índice de refração tenha uma espessura de 10 a 100 nm, de preferência de 40 nm.
Vantajosamente, a segunda camada de material com um índice de refração diferente de MgF2 tem uma espessura de 50 a 150 nm, de preferência de 120 a 130 nm.
O substrato orgânico é composto de preferência por policarbonato.
De preferência, a camada exterior de MgF2 tem uma espessura de 50 a 100 nm, de preferência de 80 a 90 nm.
O processo de acordo com a invenção compreende de preferência a etapa subseqüente de deposição de uma camada que modifique a energia da superfície.
A invenção também se refere ao uso do processo de acordo com a invenção para aumentar a aderência de um revestimento de múltiplas camadas contra a reflexão que inclui MgF2 no substrato.
A invenção também se refere a um substrato orgânico revestido com um revestimento de múltiplas camadas contra reflexão, em particular uma lente oftálmica que possa ser obtida pelo processo de acordo com a invenção.
Outras características e vantagens da invenção tornar-se-ão aparentes mediante a leitura da seguinte descrição das realizações da invenção, sendo que estas são fornecidas como exemplos e com referencia ao desenho anexo, o qual mostra na única figura, um revestimento de múltiplas camadas contra a reflexão obtido de acordo com uma realização da invenção. Os estudos e as experimentações levados a efeito pela requerente no campo da deposição de MgF2 em substratos orgânicos por meio da evaporação a vácuo resultaram na observação que, ao contrário dos preceitos da literatura, é possível produzir tais camadas por meio da evaporação a vácuo sem recorrer à assistência de íons.
Uma vantagem do processo de acordo com a invenção reside no fato que ele permite que estas camadas sejam depositadas de forma mais econômica.
Uma outra vantagem do processo de acordo com a invenção é que ele torna possível obter substratos orgânicos que compreendem camadas que têm as mesmas características físico-químicas que aquelas depositadas em substratos inorgânicos.
A invenção também torna possível obter revestimentos contra a reflexão de múltiplas camadas em substratos orgânicos que têm as características requeridas, em especial em termos de aderência, mas também em termos de resistência a arranhões.
Um exemplo de um revestimento de múltiplas camadas que pode ser obtido pelo processo de acordo com a invenção é ilustrado na figura e descrito a seguir (os índices de refração são fornecidos para um comprimento de onda de 550 nm e as espessuras fornecidas são espessuras físicas).
Dentro do contexto da invenção, a expressão "substratos orgânicos" deve se referir a substratos feitos de materiais poliméricos, em contrasto com os substratos feitos de vidro. São indicados em particular os substratos feitos de policarbonato, metacrilato de polimetila, poliouretano e carbonato de poli(bisferol-A-bisalila), e em particular o poli(carbonato de dietileno glicol bisalila), comercialmente disponível sob o nome CR39.
De acordo com a realização ilustrada na figura, um substrato orgânico (1) é dotado de um revestimento duro (2), também chamado de cobertura dura. Este revestimento duro tem tipicamente uma espessura entre 300 e 10.000 nm. Em geral, ele é composto por sílica ou um verniz, por exemplo, um verniz de epóxido ou polisiloxano. Também é possível aplicar uma camada de polimerização de plasma, também composta de preferência por uma película de polisiloxano, e/ou de DLC (revestimento do tipo diamante). No entanto, este revestimento não é obrigatório.
O revestimento de múltiplas camadas contra a reflexão depositado de acordo com a invenção inclui uma camada (4) de um material que tem um índice de refração diferente daquele do MgF2. Este material pode, por exemplo, ser um verniz ou SiO2.
De acordo com uma realização preferida, esta camada é feita de um material que tem um alto índice de refração. Dentro do contexto da invenção, a expressão "material que tem um alto índice de refração" indica os materiais que têm um índice de refração superior a 1,6 e de preferência 2 a 2,6. na prática, os materiais com alto índice de refração, de 1,9 a 2,3, são empregados em geral para os revestimentos contra a reflexão de múltiplas camadas.
Tais materiais que têm um alto índice de refração apropriados para a execução do processo de acordo com a invenção são, por exemplo, óxidos simples ou mistos ou misturas de óxidos de metais dos grupos IIIb, IVb, Vb, Vlb, Vllb e lantanídeos. De preferência, são utilizados óxidos simples ou mistos ou misturas de óxidos de metais Pr, La, Ti, Zr, Ta, e Hf, dos quais o ZrO2, PrTiO3, misturas de Pr2O3 e de TiO2, misturas de Pr6On e de TiO2, misturas de La2O3 e de Ti02e misturas de ZrO2 e de TiO2 são particularmente preferidos.
A camada feita de material que tem um índice de refração elevado pode ela mesma, no entanto, consistir em um revestimento de múltiplas camadas que compreende outras camadas. Desse modo, no revestimento de múltiplas camadas de acordo com a realização ilustrada na figura, a camada (4) de um material que tem um índice de refração elevado é dividida em duas camadas (4) e (4') separadas por uma camada (3') feita de um material que tem um baixo índice de retração. Vantajosamente, as camadas (4) e (4') do material que tem um alto índice de refração. Podem consistir no mesmo material.
A camada (4) feita de um material que tem um alto índice de refração também pode ser dividida em um numero maior de camadas separadas por camadas de materiais que tem um índice de refração mais baixo.
As camadas (3) e (3') que têm um baixo índice de refração presentes no revestimento de múltiplas camadas obtido de acordo com a realização ilustrada podem ser de um material cujo índice de refração seja mais baixo do que aquele do substrato, em particular inferior a 1,5. Tais materiais são, por exemplo, o SiO2, ou fluoretos de metais, sendo preferido o SiO2. Vantajosamente, as camadas (3) e (3') consistem no mesmo material.
O revestimento de múltiplas camadas contra a reflexão obtido de acordo com a invenção compreende uma camada exterior (5) que tem um baixo índice de refração formada por MgF2. Os preceitos da literatura indicam que este material é difícil de depositar com características satisfatórias pelas técnicas compatíveis com materiais orgânicos, o que eqüivale dizer a baixa temperatura. No entanto, foi verificado que a deposição sem a assistência de íons em uma camada inferior que foi submetida a uma preparação resulta em substratos de qualidade marcante.
Esta etapa de preparação de acordo com a invenção pode, por exemplo, ser um tratamento por meio de bombardeamento de íons, bombardeamento de elétrons ou causticação efetuada ex situ.
No revestimento de múltiplas camadas obtido de acordo co uma realização da invenção, o MgF2 é depositado com uma espessura de 50 a 100 nm, de preferência de 80 a 90 nm.
É possível depositar, no topo de camada exterior de MgF2, uma ou mais camadas para modificar a energia da superfície de modo a facilitar a limpeza, e/ou uma camada para reduzir o efeito eletrostático, tal como, por exemplo, uma camada condutora. Foi verificado que o processo de acordo com a invenção, em especial por virtude da etapa de preparação do substrato possivelmente já revestido com outras camadas antes do MgF2 ser depositado, permite que sejam obtidos revestimentos contra a reflexão de múltiplas camadas que têm características muito satisfatórias do ponto de vista de aderência, resistência a arranhões, resistência ao ataque químico e facilidade de limpeza.
EXEMPLOS
Para caracterizar os revestimentos contra a reflexão de múltiplas camadas obtidos de acordo com o processo da invenção, os revestimentos contra a reflexão de múltiplas camadas foram fabricados em substratos orgânicos (CR39) com os vários materiais com um alto índice de refração.
Os substratos foram revestidos com um revestimento de múltiplas camadas que consiste em quatro camadas do tipo de SiO2/HI/SiO2/HI/MgF2 do tipo de revestimento de topo (onde HI denota um material que tem um alto índice de refração).
O processo de acordo com a invenção foi executado em um evaporador a vácuo do tipo de Balzers BAK 760.
Os vários materiais do HI utilizados são indicados na tabela abaixo. Os fornecedores respectivos são indicados entre parênteses. Para cada um dos materiais que têm um alto índice de refração, um substrato foi produzido ao se sujeitar a última camada de material do HI ao bombardeamento de íons sob uma voltagem de 100V, uma corrente de 1A por 1 minuto, e na presença de argônio como gás, mas uma segundo substrato não foi tratado pelo bombardeamento de íons. Em seguida, o MgF2 foi depositado por meio da evaporação a vácuo, sem a assistência de íons.
Nos exemplos fornecidos, os substratos foram revestidos com um verniz à base de hidrolisatos de silano, tal como descrito na patente francesa FR 2 702 486 pela requerente e descrito mais particularmente no exemplo 3.
A camada exterior, que torna a limpeza mais fácil, é um material do tipo de fluorooganosilano hidrofóbico. Como um exemplo, um material vendido pela Opton sob o nome OF 110 foi usado para produzir esta camada.
Os substratos obtidos dessa maneira foram então submetidos a uma serio de testes para avaliar o seu desempenho.
Os substratos foram submetidos ao teste chamado N χ 10 golpes e descrito no pedido de patente W099/49097. Este teste forçou a aderência das camadas finas depositadas em um substrato orgânico. Os resultados são fornecidos na Tabela 1, na qual as faces côncavas (CC) são distinguidas das faces convexas (CX) dos substratos. Pode-se observar que os substratos fabricados de acordo com o processo da invenção fornecem resultados pelo menos comparáveis, e em sua maior parte superiores, aos materiais que têm um alto índice de refração.
Os substratos também foram submetidos ao teste chamado de teste "lã de aço". Este teste foi executado ao se empregar lãs de aço extra fina STARWAX N.° 000. Cerca de 3 cm de lãs de aço foram dobrados sobre elas mesmas e aplicados ao substrato revestido com uma pressão constante. Depois de serem executados cinco movimentos para a frente e para trás, o estado do substrato foi avaliado visualmente e uma avaliação foi atribuída de acordo com ea seguinte classificação:
- 1: substrato intacto, nenhum arranhão ou riscos localizados finos presentes;
- 3: substrato com arranhões mais intensos e ligeira ruptura (arranhões brancos); - 5: substrato com arranhões brancos cobrindo quase toda a superfície testada (ruptura do verniz ou do substrato correspondente). O resultado obtido corresponde àquele do teste de lãs de aço aplicado a CR 39 sem verniz.
TABELA 1
<table>table see original document page 12</column></row><table>
Os substratos com uma avaliação até 3 foram aceitos, e aqueles até 5 foram rejeitados. O teste foi realizado para 5 a 10 substratos de cada vez, e a média dos resultados é fornecida na Tabela 1.
Podes-se observar que os resultados do teste de lãs de aço são muito satisfatórios no caso dos substratos que foram submetidos ao bombardeamento de íons, enquanto que todos os outros substratos forneceram resultados pobres. Os materiais de PrTiO3, mistura de Pr6O11 e TiO2, LaTiO3, mistura de La2O3 e de TiO2, ZrO2 e mistura de ZrO2 e de TiO2 forneceram resultados particularmente marcantes.
Para concluir, para todos os materiais testados indicados na tabela, os desempenhos obtidos nos testes de N χ 10 golpes e nos testes de lã de aço são bons e satisfazem a norma Essilor.
Fica aparente destas observações que foi identificado um processo de deposição a frio para depositar MgF2 em um substrato orgânico que não requer o uso de IAD. Este processo também torna possível a deposição de camadas de MgF2 que têm propriedades equivalentes àquelas das camadas depositadas a quente.
O substrato orgânico revestido com um revestimento contra a reflexão de múltiplas camadas de acordo com a invenção pode ser usado em vários campos, em especial na óptica. Ele é mais particularmente útil na fabricação de lentes oftálmicas.

Claims (20)

1. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO" para a fabricação de um revestimento contra a reflexão de múltiplas camadas por meio da evaporação a vácuo em um substrato orgânico (1) a uma temperatura abaixo de 150°C, caracterizado pelo fato de compreender as seguintes etapas: - deposição de pelo menos uma camada (4, 4') de material com um índice de refração diferente de MgF2 ; - preparação da superfície do substrato revestido dessa maneira; e - deposição de uma camada exterior (5) de MgF2 sem assistência iônica.
2. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a evaporação a vácuo é levada a efeito a uma temperatura abaixo de 100°C.
3. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que a preparação da superfície é selecionada entre os seguintes tratamentos: bombardeamento de íons, bombardeamento de elétrons, e causticação efetuada "ex situ".
4. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 e 3, caracterizado pelo fato de que a dita camada é feita de um material que tem um índice de refração elevado selecionado de um grupo de óxidos simples ou mistos ou misturas de metais dos grupos lllb, IVb, Vb, Vlb, Vllb e lantanídeos.
5. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 2 a 4, caracterizado pelo fato de que os metais são escolhidos do grupo de Pr, La, Ti, Zr, Ta e Hf.
6. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 2 a 5, caracterizado pelo fato de que os materiais que têm um elevado índice de refração são selecionados do grupo que consiste em ZrO2, PrTiO3, misturas de Pr2O3 e de TiO2, misturas de Pr6O3 e de TiO2, misturas de La2O3 e de TiO2 e misturas de ZrO2 e de TiO2.
7. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a dita camada de material com um índice de refração diferente de MgF2 é um revestimento duro.
8. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que a dita camada de material com um índice de refração diferente de MgF2 é uma camada resistente a impactos.
9. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que a dita camada de material com um índice de refração diferente de MgF2 é uma camada contra o efeito de franja.
10. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de compreender, antes da camada (4,4') de material com um índice de refração diferente de MgF2 ser depositada, a etapa anterior de deposição de uma camada (3) com um baixo índice de refração.
11. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a camada (3) com um baixo índice de refração tem uma espessura entre 40 e 200 nm, de preferência de 60 nm.
12. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de que a etapa de deposição do material com um índice de refração diferente de MgF2 compreende as seguintes etapas: - deposição de uma primeira camada (4) de material com um índice de refração diferente de MgF2; - deposição de uma camada (3') de material que tem um baixo índice de refração; e - deposição de uma segunda camada (4') de material com um índice de refração diferente de MgF2.
13. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que a camada que tem um baixo índice de refração é feita de SiO2.
14. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com qualquer uma das reivindicações 12 e 13, caracterizado pelo fato de que a primeira camada (4) de material com um índice de refração diferente de MgF2 tem uma espessura de 10 a 40 nm.
15. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 12 a 14, caracterizado pelo fato de que a camada (3') de material que tem um índice de refração baixo tem uma espessura de 10 a 100 nm, de preferência de 40 nm.
16. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 12 a 15, caracterizado pelo fato de que a segunda camada (4') de material com um índice de refração diferente de MgF2 tem uma espessura de 50 a 150 nm, de preferência de 120 a 130 nm.
17. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 16, caracterizado pelo fato de que o substrato orgânico (1) é composto por policarbonato.
18. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 17, caracterizado pelo fato de que a camada exterior (5) de MgF2 tem uma espessura de 50 a 100 nm, de preferência de 80 a 90 nm.
19. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 18, caracterizado pelo fato de compreender a etapa subseqüente de deposição de uma camada (6) que modifica a energia da superfície.
20. "PROCESSO PARA A DEPOSIÇÃO COM PROCESSAMENTO A FRIO DE UMA CAMADA CONTRA A REFLEXÃO", de acordo com uma das reivindicações 1 a 19, caracterizado pelo fato de que o substrato orgânico revestido com um revestimento contra a reflexão de múltiplas camadas é uma lente oftálmica.
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3555844B2 (ja) 1999-04-09 2004-08-18 三宅 正二郎 摺動部材およびその製造方法
US6969198B2 (en) 2002-11-06 2005-11-29 Nissan Motor Co., Ltd. Low-friction sliding mechanism
JP4863152B2 (ja) 2003-07-31 2012-01-25 日産自動車株式会社 歯車
US7771821B2 (en) 2003-08-21 2010-08-10 Nissan Motor Co., Ltd. Low-friction sliding member and low-friction sliding mechanism using same
FR2861182B1 (fr) * 2003-10-16 2006-02-03 Essilor Int Substrat organique transparent comprenant un empilement antireflet multicouches resistant a la temperature
JP5135753B2 (ja) * 2006-02-01 2013-02-06 セイコーエプソン株式会社 光学物品
FR2903197B1 (fr) * 2006-06-28 2009-01-16 Essilor Int Article d'optique revetu d'une sous-couche et d'un revetement anti-reflets multicouches resistant a la temperature, et procede de fabrication
FR2913116B1 (fr) * 2007-02-23 2009-08-28 Essilor Int Procede de fabrication d'un article optique revetu d'un revetement anti-reflets ou reflechissant ayant des proprietes d'adhesion et de resistance a l'abrasion ameliorees
US8318245B2 (en) 2007-02-23 2012-11-27 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Method for producing an optical article coated with an antireflection or a reflective coating having improved adhesion and abrasion resistance properties
JP5308640B2 (ja) * 2007-08-06 2013-10-09 Ｈｏｙａ株式会社 反射防止膜及びそれを用いた光学部材
JP4693836B2 (ja) * 2007-12-17 2011-06-01 日本電波工業株式会社 赤外線カットフィルタ及びその製造方法
US8691331B2 (en) * 2009-02-09 2014-04-08 Prashant D. Santan Surface modification of hydrophobic and/or oleophobic coatings
WO2012078197A1 (en) * 2010-01-22 2012-06-14 Oakley, Inc. Eyewear with three-dimensional viewing capability
EP2526456A4 (en) * 2010-01-22 2014-01-29 Oakley Inc GLASSES FOR 3D GLASSES
US8883935B2 (en) 2010-04-29 2014-11-11 Battelle Memorial Institute High refractive index composition
JP5589581B2 (ja) * 2010-06-11 2014-09-17 コニカミノルタ株式会社 光学素子とその製造方法
FR2975507B1 (fr) * 2011-05-16 2014-01-10 Essilor Int Lentille ophtalmique anti-reflets et son procede de fabrication
JP5699364B2 (ja) * 2012-12-21 2015-04-08 株式会社麗光 高硬度ハードコートフイルム
CN103059617B (zh) * 2013-01-05 2015-07-22 江西安源光伏玻璃有限责任公司 一种纳米增透自洁镀膜液的制备方法
EP3346023A1 (en) * 2017-01-05 2018-07-11 Essilor International Method for layer by layer optimization of a thin film
CN112198565A (zh) * 2020-11-05 2021-01-08 中山联合光电研究院有限公司 一种超低反射率的光学增透膜

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3330681A (en) * 1963-07-15 1967-07-11 Eastman Kodak Co Low reflection coatings for plastics
JPS58167124A (ja) * 1982-03-29 1983-10-03 Nippon Oil & Fats Co Ltd プラスチツクレンズの製造法
JPS6022101A (ja) * 1983-07-18 1985-02-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラスチツク製光学部品の反射防止膜
JPS60129702A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラスチツクレンズの反射防止膜
JPS61250601A (ja) 1985-04-30 1986-11-07 Toray Ind Inc 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法
US5783299A (en) * 1986-01-21 1998-07-21 Seiko Epson Corporation Polarizer plate with anti-stain layer
JPS62186203A (ja) * 1986-02-12 1987-08-14 Seiko Epson Corp プラスチツク製光学部品の反射防止膜
JPS63228101A (ja) * 1987-03-17 1988-09-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd 防汚性を有する帯電防止無反射板
US5764416A (en) * 1988-04-19 1998-06-09 Litton Systems, Inc. Fault tolerant antireflective coatings
US5316791A (en) * 1993-01-21 1994-05-31 Sdc Coatings Inc. Process for improving impact resistance of coated plastic substrates
FR2702486B1 (fr) 1993-03-08 1995-04-21 Essilor Int Compositions de revêtement antiabrasion à base d'hydrolysats de silanes et de composés de l'aluminium, et articles revêtus correspondants résistants à l'abrasion et aux chocs.
EP0619504A1 (de) 1993-04-08 1994-10-12 Optische Werke G. Rodenstock Antireflex-Belag
JPH0727902A (ja) * 1993-07-13 1995-01-31 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム及びその製造方法
JPH0776048A (ja) 1993-09-08 1995-03-20 Toray Ind Inc 成形体の製造方法
JP3433845B2 (ja) * 1994-08-02 2003-08-04 尾池工業株式会社 耐擦傷性と耐久性に優れた反射防止フィルム
JP3359178B2 (ja) 1995-02-22 2002-12-24 沖電気工業株式会社 半導体集積回路の配置配線方式
US5939189A (en) * 1995-05-09 1999-08-17 Flex Products, Inc. Flexible plastic substrate with anti-reflection coating having low reflective color and method
US5920431A (en) * 1996-06-27 1999-07-06 Konica Corporation Optical member having antireflection film thereon
JPH10123303A (ja) * 1996-10-18 1998-05-15 Victor Co Of Japan Ltd 反射防止光学部品
EP0947601A1 (en) 1998-03-26 1999-10-06 ESSILOR INTERNATIONAL Compagnie Générale d'Optique Organic substrate having optical layers deposited by magnetron sputtering and method for preparing it
JP3601580B2 (ja) * 1999-05-20 2004-12-15 信越化学工業株式会社 パーフルオロポリエーテル変性アミノシラン及び表面処理剤並びに該アミノシランの被膜が形成された物品
US6505935B2 (en) * 2000-07-21 2003-01-14 Abby Ayoub Optical lens coating and method

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