JPS60129702A - プラスチツクレンズの反射防止膜 - Google Patents
プラスチツクレンズの反射防止膜Info
- Publication number
- JPS60129702A JPS60129702A JP58238117A JP23811783A JPS60129702A JP S60129702 A JPS60129702 A JP S60129702A JP 58238117 A JP58238117 A JP 58238117A JP 23811783 A JP23811783 A JP 23811783A JP S60129702 A JPS60129702 A JP S60129702A
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- Japan
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- plastic lens
- thin film
- film layer
- antireflection film
- antireflection
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はプロジェクションテレビ、ビデオカメラ、スチ
ルカメラなどの光学系に使用されるプラスチックレンズ
の反射防止膜に関するものである。
ルカメラなどの光学系に使用されるプラスチックレンズ
の反射防止膜に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来、レンズの素材には無機ガラスが多く使用されてき
たが、近年、軽ｈ″ｉ、で加工が容易であり、かつ、量
産に適している点ですぐれているプラスチックがレンズ
の素材として用いられるようになってきた。ところが、
プラスチックレンズは無機ガラスレンズと同様に表面で
の光の反射が太きいという欠点があった。かかる欠点を
解消するためにプラスチックレンズ表面に、無機ガラス
レンズ表面に形成される反射防止膜と同様な反射防止膜
を形成することによって表面反射を防止することは、−
膜技術としてよく知ら浄−いる。しかしながらプラスチ
ックレンズの反射防止膜に（ｌ−１種々の問題がある。
たが、近年、軽ｈ″ｉ、で加工が容易であり、かつ、量
産に適している点ですぐれているプラスチックがレンズ
の素材として用いられるようになってきた。ところが、
プラスチックレンズは無機ガラスレンズと同様に表面で
の光の反射が太きいという欠点があった。かかる欠点を
解消するためにプラスチックレンズ表面に、無機ガラス
レンズ表面に形成される反射防止膜と同様な反射防止膜
を形成することによって表面反射を防止することは、−
膜技術としてよく知ら浄−いる。しかしながらプラスチ
ックレンズの反射防止膜に（ｌ−１種々の問題がある。
以下図面を参照しながら従来のプラスチックレンズの反
射防止膜について説明する。第１図はプラスチックレン
ズの表面に無機ガラスレンズの表面に形成される反射防
止膜と同様な反射防ｔＪ１膜を形成した構造を示す図で
あり、同図において、１はプラスチックレンズ、２は誘
電体からなる反射防止膜である。前記反射防止膜２は一
般には真空蒸着法によって形成されるが、プラスチック
は流動温度、熱変形温度が低く、また、プラスチック内
部からの水分等の放出ガスの影響もあるため、無機ガラ
スレンズに反射防止膜を形成するときのようなレンズの
加熱（通常２００″Ｃ〜４○０″Ｃ）ができない。前記
のレンズの加熱はレンズ表面に刺着している水分等の吸
着ガスを取り除くととももに、レンズ表面に形成された
反射防止膜を強固なものとする／ζめに無機ガラスレン
ズに反射防止膜を真空蒸着法によって形成するときには
多くの場合性なわれるものである。そのために従来は６
層°Ｃ〜６０°Ｃ以下の低温で第１図に示すようにプラ
スチックレンズ１の表面に、たとえば弗化マグネシウム
からなる反射防止膜２を形成していたが、この低温で形
成された反射防止膜は非常に耐久性が低いものであった
。そこで耐久性を向上さぜるために、プラスチックレン
ズを６０°Ｃ〜８０″Ｃに加熱したり、ＲＦイオンブレ
ーティング法等を用いて反射防止膜を形成する方法が行
なわれているが、これらの方法による反射防止膜にはク
ラ・ツクが発生することがあり耐久性の向上には好まし
い方法ではない。また、これらの方法は反射防止膜の形
成条件を一定にし、かつ、プラスチックレンズ゛表面の
状態を一定に保持するのは困難であり量産に適した方法
ではなかった。
射防止膜について説明する。第１図はプラスチックレン
ズの表面に無機ガラスレンズの表面に形成される反射防
止膜と同様な反射防ｔＪ１膜を形成した構造を示す図で
あり、同図において、１はプラスチックレンズ、２は誘
電体からなる反射防止膜である。前記反射防止膜２は一
般には真空蒸着法によって形成されるが、プラスチック
は流動温度、熱変形温度が低く、また、プラスチック内
部からの水分等の放出ガスの影響もあるため、無機ガラ
スレンズに反射防止膜を形成するときのようなレンズの
加熱（通常２００″Ｃ〜４○０″Ｃ）ができない。前記
のレンズの加熱はレンズ表面に刺着している水分等の吸
着ガスを取り除くととももに、レンズ表面に形成された
反射防止膜を強固なものとする／ζめに無機ガラスレン
ズに反射防止膜を真空蒸着法によって形成するときには
多くの場合性なわれるものである。そのために従来は６
層°Ｃ〜６０°Ｃ以下の低温で第１図に示すようにプラ
スチックレンズ１の表面に、たとえば弗化マグネシウム
からなる反射防止膜２を形成していたが、この低温で形
成された反射防止膜は非常に耐久性が低いものであった
。そこで耐久性を向上さぜるために、プラスチックレン
ズを６０°Ｃ〜８０″Ｃに加熱したり、ＲＦイオンブレ
ーティング法等を用いて反射防止膜を形成する方法が行
なわれているが、これらの方法による反射防止膜にはク
ラ・ツクが発生することがあり耐久性の向上には好まし
い方法ではない。また、これらの方法は反射防止膜の形
成条件を一定にし、かつ、プラスチックレンズ゛表面の
状態を一定に保持するのは困難であり量産に適した方法
ではなかった。
以上のように従来のプラスチックレンズの反射防止膜に
は、耐久性に劣り、量産にも適していないという問題点
を有していた。
は、耐久性に劣り、量産にも適していないという問題点
を有していた。
発明の目的
本発明の目的は、耐久性にすぐれ、かつ、量産に適した
プラスチックレンズの反射防止膜を提供することである
。
プラスチックレンズの反射防止膜を提供することである
。
発明の構成
本発明のプラスチックレンズの反射防止膜は、プラスチ
ックレンズの表面に少なくとも１層の誘電体薄膜層を形
成し、前記誘電体薄膜層の上に金属薄膜層を形成し７て
反射防止膜を構成したものであり、前記金属薄膜層は、
ニッケルも、ｔ、＜Ｈクロｌ、の単体、または両者の合
金から成るものであって、これにより、耐久性にすぐれ
、量産に適したプラスチックレンズの反射防止膜を掛供
するものである１゜ 実施例の説明 以上本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
ックレンズの表面に少なくとも１層の誘電体薄膜層を形
成し、前記誘電体薄膜層の上に金属薄膜層を形成し７て
反射防止膜を構成したものであり、前記金属薄膜層は、
ニッケルも、ｔ、＜Ｈクロｌ、の単体、または両者の合
金から成るものであって、これにより、耐久性にすぐれ
、量産に適したプラスチックレンズの反射防止膜を掛供
するものである１゜ 実施例の説明 以上本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
第２図は本発明の一実施例におけるプラスチックレンズ
の反射防止膜の構成を示す図であり、第２図において、
３は弗化マグネシラノ、からなる誘電体薄膜層、４はニ
ッケルからなる金属薄膜層であり、それぞれの層はグラ
２チツクレンズを６゜°（シ以下に保持した状態の下で
真空蒸着法により形成した。またその具体的内容は下記
の第１表に示すとおりで卆る。
の反射防止膜の構成を示す図であり、第２図において、
３は弗化マグネシラノ、からなる誘電体薄膜層、４はニ
ッケルからなる金属薄膜層であり、それぞれの層はグラ
２チツクレンズを６゜°（シ以下に保持した状態の下で
真空蒸着法により形成した。またその具体的内容は下記
の第１表に示すとおりで卆る。
（〕、−ノ、扁Ｆ−’４ご （：））
第１表
上記本発明の実施例の反射防止膜と従来の反射防止膜と
のｉ＝１久性を比較するために行なった試験は、（１）
耐湿試験（温度６５°Ｃ３相対湿度９６％の高温・高湿
雰囲気中に６００時間放置）、（２）耐熱試験（温度８
５°Ｃの高温雰囲気中に５００時間放置）、（３）熱衝
撃試験（温度−３０″Ｃ，７０’Ｃの低温および高温の
雰囲気中に交互に３０分間ずつの放置を約５０時間）で
、比較のための従来の反射防止膜は、前記従来例の１つ
であるプラスチックレンズの表面に弗化マグネシウムか
らなる反射防止膜をＲＦイオンブレーティング法によっ
て約１００○入の厚さに形成したものであり、反射防止
としての効果は両者はぼ同程度のものである。
のｉ＝１久性を比較するために行なった試験は、（１）
耐湿試験（温度６５°Ｃ３相対湿度９６％の高温・高湿
雰囲気中に６００時間放置）、（２）耐熱試験（温度８
５°Ｃの高温雰囲気中に５００時間放置）、（３）熱衝
撃試験（温度−３０″Ｃ，７０’Ｃの低温および高温の
雰囲気中に交互に３０分間ずつの放置を約５０時間）で
、比較のための従来の反射防止膜は、前記従来例の１つ
であるプラスチックレンズの表面に弗化マグネシウムか
らなる反射防止膜をＲＦイオンブレーティング法によっ
て約１００○入の厚さに形成したものであり、反射防止
としての効果は両者はぼ同程度のものである。
１）１１記１制久１７１試験の結果は第２表に示すとお
りである。。
りである。。
第２表
上記第２表かられかるように本発明の反射防止膜１’、
Ｊ：従来の反射防止膜よ知ｆｉｉＩ久件の点でずぐれて
いる。寸だ、従来例は、反射防止膜形成時にクラックが
発生ずることがあったが本発明の実施例においては反射
防止膜は常時安定していた。
Ｊ：従来の反射防止膜よ知ｆｉｉＩ久件の点でずぐれて
いる。寸だ、従来例は、反射防止膜形成時にクラックが
発生ずることがあったが本発明の実施例においては反射
防止膜は常時安定していた。
なお、」−の実施例では、各膜厚を第１表に示すような
ものにしたが、膜厚ば１カに」−記の値に限定されるも
のではなく、設割波長に応じて変化させれ（はよく、ま
た誘電体薄膜層が多層膜構造であってもその」−に金属
薄膜層を形成することによりほぼ同様の効果をイ（↑る
ことができる。
ものにしたが、膜厚ば１カに」−記の値に限定されるも
のではなく、設割波長に応じて変化させれ（はよく、ま
た誘電体薄膜層が多層膜構造であってもその」−に金属
薄膜層を形成することによりほぼ同様の効果をイ（↑る
ことができる。
さらに、前記実施例では金属薄膜層はニッケルの単物質
から形成されていたが、他にクロノ・の憤体もしくは両
者の合金でも耐久ゼ１の向−４−に関して同様の効果が
得られる。
から形成されていたが、他にクロノ・の憤体もしくは両
者の合金でも耐久ゼ１の向−４−に関して同様の効果が
得られる。
発明の効果
以」二の説明から明らかなように、本発明のプラスチッ
クレンズの反射防止膜は、誘電体薄膜層の上に金枳薄膜
層を形成することにより、反射防止膜の耐久性を向上す
るので従来例のもつ欠点を解消する効果を治する。また
、本発明のプラスチックレンズの反射防止１摸は甲産に
も適しているためその実用十の価値は犬なるものがある
。
クレンズの反射防止膜は、誘電体薄膜層の上に金枳薄膜
層を形成することにより、反射防止膜の耐久性を向上す
るので従来例のもつ欠点を解消する効果を治する。また
、本発明のプラスチックレンズの反射防止１摸は甲産に
も適しているためその実用十の価値は犬なるものがある
。
第１図は、従来のプラスチックレンズの反射防止膜の構
成を示す図、第２図は、本発明の実施例におけるプラス
チックレンズの反射防止膜の構成を示す図である。 １゛・プラスチックレンズ、２ ・ 誘電体からなる反
射防止膜、３・・・・・弗化マグイ・シウムからなる誘
電体薄膜層、４・・・・・・ニッケルからなる金属薄膜
層。 第１図 斗 ｍ″″″ 置丁２ 〜−−４ −−３
成を示す図、第２図は、本発明の実施例におけるプラス
チックレンズの反射防止膜の構成を示す図である。 １゛・プラスチックレンズ、２ ・ 誘電体からなる反
射防止膜、３・・・・・弗化マグイ・シウムからなる誘
電体薄膜層、４・・・・・・ニッケルからなる金属薄膜
層。 第１図 斗 ｍ″″″ 置丁２ 〜−−４ −−３
Claims (3)
- （１） プラスチックレンズの表面に少なくとも１層の
誘電体薄膜層を形成し、前記誘電体薄膜層の上に金属薄
膜層を形成したことを酷徴とするプラスチックレンズの
反射防止膜。 - （２）金属薄膜層は、ニッケル（Ｎｉ ）もしくはクロ
ー ム（Ｃｒ ）の単体、または両者の合金から成るこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプラスチッ
クレンズの反射防止膜。 - （３）誘電体薄膜層および金属薄膜層はプラスチックレ
ンズを６ｏ″Ｃ以下に保持した状態で形成されたもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプラ
スチックレンズの反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238117A JPS60129702A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | プラスチツクレンズの反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238117A JPS60129702A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | プラスチツクレンズの反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60129702A true JPS60129702A (ja) | 1985-07-11 |
Family
ID=17025428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58238117A Pending JPS60129702A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | プラスチツクレンズの反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60129702A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01207701A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Nippon Shinku Kogaku Kk | 中性濃度フィルター |
| US7175878B2 (en) * | 2000-11-28 | 2007-02-13 | Essilor International | Cold antireflection layer deposition process |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4738189U (ja) * | 1971-05-14 | 1972-12-27 | ||
| JPS547796U (ja) * | 1977-06-16 | 1979-01-19 |
-
1983
- 1983-12-16 JP JP58238117A patent/JPS60129702A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4738189U (ja) * | 1971-05-14 | 1972-12-27 | ||
| JPS547796U (ja) * | 1977-06-16 | 1979-01-19 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01207701A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Nippon Shinku Kogaku Kk | 中性濃度フィルター |
| US7175878B2 (en) * | 2000-11-28 | 2007-02-13 | Essilor International | Cold antireflection layer deposition process |
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