BR112021006664A2 - artigo óptico tendo um revestimento interferencial com uma elevada resistência à abrasão - Google Patents

Abstract

ARTIGO ÓPTICO TENDO UM REVESTIMENTO INTERFERENCIAL COM UMA ELEVADA RESISTÊNCIA À ABRASÃO. A invenção refere-se a um artigo óptico tendo um valor Bayer determinado de acordo com a norma ASTM F735-81 igual ou superior a 7, compreendendo um substrato tendo pelo menos uma face principal revestida sucessivamente com uma subcamada monocamada tendo uma espessura igual ou superior a 250 nm e um revestimento interferencial multicamada compreendendo uma pilha de pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo um índice refrativo de 1,55 ou menos. A proporção: é igual ou superior a 1,5, e/ou a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato foi realizada sob assistência iônica.

Description

“ARTIGO ÓPTICO TENDO UM REVESTIMENTO INTERFERENCIAL COM UMA ELEVADA RESISTÊNCIA À ABRASÃO”

[0001] A invenção se relaciona com um artigo óptico compreendendo um substrato revestido com um revestimento interferencial transparente multicamada, tipicamente um revestimento antirreflexo, tendo uma melhor resistência à abrasão e uma boa resistência térmica, em particular uma lente oftálmica, e um método de fabricação desse artigo óptico.

[0002] É uma prática comum na técnica revestir pelo menos uma superfície principal de um substrato óptico com diversos revestimentos para conferir propriedades ópticas ou mecânicas adicionais ou melhoradas ao artigo acabado. Esses revestimentos são projetados em geral como revestimentos funcionais.

[0003] Os vários revestimentos que podem ser usados para conferir uma pluralidade de propriedades mecânicas e/ou ópticas podem ser camadas de revestimento resistente ao impacto, camadas de revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos, camadas de revestimento antirreflexo e/ou refletivo, e/ou camadas antissujidade e/ou camadas antiembaçantes.

[0004] Na literatura podem ser encontradas diferentes formas de melhorar a resistência à abrasão de um artigo óptico, que é sensível a riscos do ambiente. Por exemplo, foi proposto aumentar a espessura total do revestimento antirreflexo, tal como em JP 2003-195003 e JP 2003-294906, onde é descrita uma lente revestida com um revestimento primário (primer), um revestimento duro e um revestimento antirreflexo de 7 camadas compreendendo camadas alternadas de SiO 2 e TiO2, o último sendo depositado com assistência por íons e conhecido por ser sensível a fotodegradação.

[0005] O documento US 8982466 se relaciona com uma lente óptica tendo um revestimento duro e um revestimento antirreflexo multicamada no qual as camadas de elevado índice refrativo, feitas de TiO2, juntas têm uma espessura de menos de 40 nm.

[0006] O documento EP 2775341 revela uma lente de óculos tendo uma camada de revestimento duro, uma subcamada de SiO2 com uma espessura de 360 a 390 nm e um revestimento interferencial de 4 camadas feito de SiO2, ZrO2 e/ou Ta2O5, no qual as camadas têm uma dureza de nanoindentação e tensão de compressão específicas e foram geralmente depositadas por deposição de vapor assistida por íons. Essa técnica de deposição aumenta a tensão de compressão e, como resultado, pode originar delaminação.

[0007] O documento JP 2002-122820 descreve um substrato de revestimento duro revestido com uma subcamada de SiO2 tendo uma espessura física de 89 a 178 nm (espessura óptica: 0,25 a 0,5 λ em 520 nm) e um revestimento antirreflexo de 4 camadas (ZrO2/SiO2/ZrO2/SiO2). De acordo com esse documento, podem ser atingidas temperaturas críticas elevadas ao ser possível equilibrar a espessura e a tensão do revestimento entre as camadas dos vários materiais. Todavia, o único parâmetro que foi estudado foi a espessura da subcamada. Sua espessura deve ser de modo que a proporção (soma das espessuras físicas das camadas de SiO2, incluindo a subcamada) / (soma das espessuras físicas das camadas de ZrO 2) varie de 2 a 3. Proporções mais elevadas são referidas como sendo indesejáveis, uma vez que a durabilidade do revestimento antirreflexo é diminuída.

[0008] O documento US 7692855 revela um artigo óptico tendo propriedades antirreflexo e elevada resistência térmica, compreendendo um substrato tendo pelo menos uma face principal revestida com um revestimento antirreflexo multicamada no qual a proporção de espessura física de camadas de baixo índice refrativo/camadas de elevado índice refrativo é geralmente maior que 2,1.

[0009] O documento US 2008/206470 se relaciona com um processo para fabricação de um artigo óptico tendo propriedades antirreflexo ou refletivas, compreendendo uma subcamada uma subcamada e uma pilha multicamada. Para aumentar a resistência à abrasão do artigo óptico, a subcamada tem de ser depositada em uma câmara de vácuo com um abastecimento de gás adicional durante a etapa de deposição, e a superfície exposta da subcamada tem de ser submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da pilha multicamada.

[0010] O pedido de patente europeia EP3392680 sugere o controle das espessuras das camadas em um revestimento interferencial de modo a aumentar a resistência à abrasão de um artigo óptico, ou seja, o uso de uma proporção de espessura física de camada(s) externa(s) de baixo índice refrativo/camada(s) externa(s) de elevado índice refrativo igual ou superior a 2.

[0011] Um objetivo do atual invento é fornecer um artigo óptico transparente compreendendo um substrato de vidro orgânico ou mineral portando um revestimento interferencial, preferencialmente uma lente, e mais preferencialmente uma lente oftálmica para óculos, tendo uma melhor resistência à abrasão, uma boa aderência ao substrato e uma boa resistência a variações de calor e temperatura, ou seja, uma temperatura crítica elevada, que seria uma alternativa a artigos ópticos revestidos refletivos ou antirrefletivos já conhecidos. Essas propriedades devem ser obtidas sem diminuir os desempenhos ópticos e outros desempenhos mecânicos do referido artigo, tais como, desempenhos antirreflexo ou de reflexão.

[0012] Outra finalidade desse invento é fornecer um processo de fabricação do artigo definido acima, que possa ser facilmente integrado na cadeia de fabricação clássica e evitar o aquecimento do substrato.

[0013] Os inventores identificaram diversas alavancas que permitem em particular intensificar a resistência à abrasão do artigo óptico, e descobriram que os objetivos acima podem ser alcançados combinando essas alavancas: o uso de uma subcamada espessa, a seleção de uma proporção específica de (espessura física de camada(s) mais extrema(s) de baixo índice refrativo do revestimento interferencial)/(espessura física de camada(s) mais extrema(s) de elevado índice refrativo do revestimento interferencial) e/ou a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato sob assistência iônica, e opcionalmente a deposição da subcamada em uma câmara de vácuo em uma baixa pressão (uma pressão preferencialmente menor que 0,016 Pa (1,6x10-4 mBar)), mais preferencialmente sem abastecimento de qualquer gás suplementar durante a referida deposição. A combinação do número mais elevado de intensificadores de resistência à abrasão origina o maior melhoramento de resistência à abrasão, geralmente de uma maneira sinérgica.

[0014] Em comparação com revestimentos interferenciais clássicos, os revestimentos interferenciais inventivos têm uma temperatura crítica mais elevada, uma melhor aderência e uma maior resistência à abrasão.

[0015] Desse modo, o presente invento se relaciona com um artigo óptico tendo um valor Bayer determinado de acordo com a norma ASTM F735-81 (Bayer da areia) igual ou superior a 7, compreendendo um substrato tendo pelo menos uma face principal sucessivamente revestida com: - uma subcamada monocamada tendo uma espessura igual ou superior a 250 nm, - um revestimento interferencial multicamada compreendendo uma pilha de pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo um índice refrativo de 1,55 ou menos, em que: a) a proporção: é igual ou superior a 1,5, e/ou b) o revestimento interferencial compreende pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm, e a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato foi realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada. Descrição detalhada da invenção

[0016] Os termos “compreender” (e qualquer sua variação gramatical, tal como “compreende” e “compreendendo”), “ter” (e qualquer sua variação gramatical, tal como “tem” e “tendo”), “conter” (e qualquer sua variação gramatical, tal como “contém” e “contendo”) e “incluir” (e qualquer sua variação gramatical, tal como “inclui” e “incluindo”) são verbos de ligação indeterminados. Os mesmos são usados para especificar a presença de particularidades, números inteiros, etapas ou componentes estabelecidos ou grupos dos mesmos, mas não excluem a presença ou adição de uma ou mais de outras particularidades, números inteiros, etapas ou componentes ou grupos dos mesmos. Como resultado, um método, ou uma etapa em um método, que “compreende”, “tem”, “contém” ou “inclui” uma ou mais etapas ou elementos possui esse(s)/essa(s) um(a) ou mais etapas ou elementos, mas não está limitado a possuir somente esse(s)/essa(s) um(a) ou mais etapas ou elementos.

[0017] Salvo indicação em contrário, todos os números ou expressões se referindo a quantidades de ingredientes, gamas, condições de reação, etc., aqui usados devem ser entendidos como modificados em todas as instâncias pelo termo “cerca de”.

[0018] Quando um artigo óptico compreende um ou mais revestimentos de superfície, a expressão “depositar um revestimento ou uma camada no artigo óptico” significa que um revestimento ou uma camada é depositado/a no revestimento mais extremo do artigo óptico, ou seja, o revestimento que se encontra mais próximo do ar.

[0019] Um revestimento que se encontra “em” um lado de uma lente é definido como um revestimento que (a) se encontra posicionado sobre esse lado, (b) não necessita de estar em contato com esse lado, ou seja, um ou mais revestimentos intervenientes podem ser dispostos entre esse lado e o revestimento em questão (embora o mesmo se encontre preferencialmente em contato com esse lado) e (c) não necessita de cobrir esse lado completamente.

[0020] O termo “revestimento” é entendido como significando qualquer camada, pilha de camadas ou película que possa se encontrar em contato com o substrato e/ou com outro revestimento, por exemplo, um revestimento sol-gel ou um revestimento feito de uma resina orgânica. Um revestimento pode ser depositado ou formado através de vários métodos, incluindo processamento úmido, processamento gasoso e transferência de películas.

[0021] O artigo óptico preparado de acordo com o presente invento é um artigo óptico transparente, preferencialmente uma peça em bruto de lente ou lente óptica, e mais preferencialmente uma peça em bruto de lente ou lente oftálmica. O artigo óptico pode ser revestido em sua face principal convexa (lado frontal), face principal côncava

(lado posterior/traseiro), ou ambas as faces com o revestimento interferencial multicamada de acordo com o invento, preferencialmente na face principal convexa (frontal). Como aqui usado, a face traseira do substrato pretende significar a face que, quando se está usando o artigo, se encontra mais próxima do olho do portador, nos casos das lentes. Geralmente, é uma face côncava. Pelo contrário, a face frontal do substrato é a face que, quando se está usando o artigo, se encontra mais distante do olho do portador. Geralmente, é uma face convexa. O artigo óptico pode igualmente ser um artigo plano.

[0022] Nesse caso, o termo “lente” significa uma lente de vidro orgânico ou inorgânico, compreendendo um substrato de lente, que pode ser revestido com um ou mais revestimentos de várias naturezas.

[0023] O termo "lente oftálmica" é usado para significar uma lente adaptada a uma armação de óculos, por exemplo, para proteger o olho e/ou corrigir a visão. A referida lente pode ser escolhida desde lentes afocais, unifocais, bifocais, trifocais e progressivas. Embora a óptica oftálmica seja um campo preferido do invento, será entendido que esse invento pode ser aplicado a artigos ópticos de outros tipos, tais como, por exemplo, lentes para instrumentos ópticos, em fotografia ou astronomia, lentes de visão óptica, visores oculares, óptica de sistemas de iluminação, etc.

[0024] Na presente descrição, salvo especificação em contrário, um artigo/material óptico é entendido como sendo transparente quando a observação de uma imagem através do referido artigo óptico é percebida sem nenhuma perda significativa de contraste, ou seja, quando a formação de uma imagem através do referido artigo óptico é obtida sem afetar adversamente a qualidade da imagem. Essa definição do termo “transparente” pode ser aplicada a todos os objetos qualificados como tal na descrição, salvo especificação em contrário.

[0025] Um substrato, no sentido do presente invento, deve ser entendido como significando um substrato não revestido, e geralmente tem duas faces principais. O substrato pode, em particular, ser um material opticamente transparente tendo o formato de um artigo óptico, por exemplo, uma lente oftálmica destinada a ser montada em óculos. Nesse contexto, o termo “substrato” é entendido como significando o material constituinte de base da lente óptica e mais particularmente da lente oftálmica. Esse material atua como apoio para uma pilha de um ou mais revestimentos ou camadas.

[0026] O substrato pode ser feito de vidro mineral ou vidro orgânico, preferencialmente vidro orgânico. Os vidros orgânicos podem ser materiais termoplásticos, tais como policarbonatos e poliuretanos termoplásticos, ou materiais termoendurecidos (reticulados), tais como polímeros e copolímeros de bis(alilcarbonato) de dietilenoglicol (em particular CR-39® de PPG Industries), poliuretanos termoendurecidos, politiouretanos, preferencialmente resinas de politiouretano tendo um índice refrativo de 1,60 ou 1,67, poliepóxidos, poliepissulfetos, tais como aqueles tendo um índice refrativo de 1,74, poli(met)acrilatos e substratos à base de copolímeros, tais como substratos compreendendo polímeros e copolímeros (met)acrílicos derivados de bisfenol-A, politio(met)acrilatos, bem como copolímeros dos mesmos e mesclas dos mesmos. Os materiais preferidos para o substrato de lente são policarbonatos (PC) e polímeros de bis(alilcarbonato) de dietilenoglicol, em particular substratos feitos de policarbonato.

[0027] Exemplos específicos de substratos adequados para o presente invento são aqueles obtidos desde resinas de politiouretano termoendurecidas, que são comercializadas pela empresa Mitsui Toatsu Chemicals como série MR, em particular resinas MR6®, MR7® e MR8®. Esses substratos, bem como os monômeros usados para sua preparação, são especialmente descritos nas patentes US 4,689,387, US 4,775,733, US 5,059,673, US 5,087,758 e US 5,191,055.

[0028] Antes da deposição da subcamada, do revestimento interferencial ou de outros revestimentos funcionais, a superfície do artigo é usualmente submetida a um pré-tratamento físico ou químico de ativação e limpeza de superfície, de modo a melhorar a aderência da camada a ser depositada, como revelado em WO 2013/013929. Esse pré-tratamento é geralmente efetuado na superfície de um revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos (revestimento duro).

[0029] Esse pré-tratamento é geralmente realizado sob vácuo. O mesmo pode ser um bombardeamento com espécies energéticas, por exemplo, um método de feixe de íons (“Pré-Limpeza de Íons” ou “IPC”) ou um método de feixe de elétrons, um tratamento por corona, um tratamento de espalhamento de íons, um tratamento ultravioleta ou um tratamento por plasma sob vácuo, usando tipicamente um plasma de oxigênio ou um de argônio. Igualmente, pode ser um tratamento de superfície com ácido ou uma base e/ou um tratamento de superfície com solvente (usando água ou um solvente orgânico) com ou sem tratamento ultrassônico. Podem ser combinados muitos tratamentos. Graças a esses tratamentos de limpeza, a limpeza da superfície do substrato é otimizada.

[0030] Espécies energéticas significam espécies com uma energia variando de 1 a 300 eV, preferencialmente de 10 a 150 eV, e mais preferencialmente de 10 a 150 eV e o mais preferencialmente de 40 a 150 eV. As espécies energéticas podem ser espécies químicas, tais como íons, radicais, ou espécies, tais como fótons ou elétrons.

[0031] O revestimento de interferência pode ser virtualmente qualquer revestimento de interferência convencionalmente usado no campo da óptica, em particular óptica oftálmica. O revestimento de interferência pode ser, de uma maneira não limitativa, um revestimento antirreflexo, um revestimento refletivo (espelho), um filtro infravermelho ou um filtro ultravioleta, mas é preferencialmente um revestimento antirreflexo.

[0032] Um revestimento antirreflexo é um revestimento, depositado na superfície de um artigo, que melhora as propriedades antirreflexo do artigo final. O mesmo reduz a reflexão de luz na interface artigo/ar sobre uma porção relativamente larga do espectro visível.

[0033] O revestimento interferencial multicamada do invento compreende uma pilha de pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo um índice refrativo de 1,55 ou menos.

[0034] Mais preferencialmente, o mesmo compreende pelo menos duas camadas com um baixo índice (BI) refrativo e pelo menos duas camadas com um elevado índice (EI) refrativo. O número total de camadas no revestimento interferencial é preferencialmente igual ou superior a 3, mais preferencialmente igual ou superior a 4,

e preferencialmente igual ou inferior a qualquer um dos seguintes valores: 8, 7, mais preferencialmente igual ou inferior a 6, ainda mais preferencialmente igual ou inferior a 5, e o mais preferencialmente igual a 5, camadas.

[0035] Como aqui usado, uma camada do revestimento interferencial é definida com tendo uma espessura igual ou superior a 1 nm. Desse modo, qualquer camada tendo uma espessura menor que 1 nm não será considerada na contagem do número de camadas no revestimento interferencial. A subcamada e as camadas de impedância opcionais não são consideradas na contagem do número de camadas do revestimento interferencial ou na indicação de sua espessura.

[0036] As camadas EI e as camadas BI não alternam necessariamente entre si na pilha, embora também o possam fazer, de acordo com uma modalidade do invento. Duas camadas EI (ou mais) podem ser depositadas umas nas outras, bem como duas camadas BI (ou mais) podem ser depositadas umas nas outras.

[0037] No presente pedido, uma camada do revestimento interferencial é referida como sendo uma camada com um elevado índice (EI) refrativo quando seu índice refrativo é maior que 1,55, preferencialmente igual ou superior a 1,6, ainda mais preferencialmente igual ou superior a 1,8 ou 1,9, e o mais preferencialmente igual ou superior a 2. As referidas camadas EI preferencialmente têm um índice refrativo igual ou inferior a 2,2 ou 2,1. Uma camada de um revestimento interferencial é referida como sendo uma camada de baixo índice (BI) refrativo quando seu índice refrativo é igual ou inferior a 1,55, preferencialmente igual ou inferior a 1,52, mais preferencialmente igual ou inferior a 1,48 ou 1,47. A referida camada BI preferencialmente tem um índice refrativo igual ou superior a 1,1.

[0038] A camada EI geralmente compreende um ou mais óxidos de metal, tais como, sem limitação, zircônio (ZrO2), dióxido de titânio (TiO2), alumina (Al2O3), pentóxido de tântalo (Ta2O5), óxido de neodímio (Nd2O5), óxido de praseodímio (Pr2O3), titanato de praseodímio (PrTiO3), La2O3, Nb2O5, Y2O3, desde que TiO2 não se encontre presente na(s) camada(s) mais extrema(s) de elevado índice refrativo do revestimento interferencial. Em alguns aspectos do invento, a(s) camada(s) mais extrema(s) de elevado índice refrativo do revestimento interferencial não compreende(m) óxido de titânio. Em uma modalidade preferida, o revestimento interferencial não compreende qualquer camada compreendendo TiO 2 ou, mais geralmente, óxido de titânio. Como aqui usado, óxido de titânio pretende significar dióxido de titânio ou um óxido de titânio subestequiométrico (TiOx, onde x < 2). As camadas contendo óxido de titânio são, na verdade, sensíveis a fotodegradação.

[0039] Opcionalmente, as camadas EI podem ainda conter sílica ou outros materiais com um baixo índice refrativo, desde que tenham um índice refrativo maior que 1,55 como indicado acima. Os materiais preferidos incluem ZrO2, PrTiO3, Nb2O5, Ta2O5, Y2O3 e misturas dos mesmos.

[0040] A camada BI é igualmente bem conhecida e pode compreender, sem limitação, SiO2, MgF2, ou uma mistura de sílica e alumina, especialmente sílica dopada com alumina, a última contribuindo para aumentar a resistência térmica do revestimento interferencial. A camada BI é preferencialmente uma camada compreendendo pelo menos 80% em peso de sílica, mais preferencialmente pelo menos 90% em peso de sílica, em relação ao peso total da camada, e ainda mais preferencialmente consiste em uma camada de sílica.

[0041] Opcionalmente, as camadas BI podem ainda conter materiais com um elevado índice refrativo, desde que o índice refrativo da camada resultante seja igual ou inferior a 1,55.

[0042] Quando é usada uma camada BI compreendendo uma mistura de SiO 2 e Al2O3, a mesma preferencialmente compreende 1 a 10%, mais preferencialmente 1 a 8% e ainda mais preferencialmente 1 a 5% em peso de Al2O3 em relação ao peso total de SiO2 + Al2O3 nessa camada.

[0043] Por exemplo, pode ser empregue SiO2 dopado com 4% de Al2O3 em peso, ou menos, ou SiO2 dopado com 8% de Al2O3. As misturas de SiO2/Al2O3, que se encontram disponíveis no mercado, podem ser usadas, tal como LIMA® comercializada pela empresa Umicore Materials AG (índice refrativo n = 1,48-1,50 em 550 nm), ou L5® comercializada pela empresa Merck KGaA (índice refrativo n = 1,48 em 500 nm).

[0044] A camada externa do revestimento interferencial, ou seja, sua camada mais afastada do substrato, é geralmente uma camada à base de sílica, compreendendo preferencialmente pelo menos 80% em peso de sílica, mais preferencialmente pelo menos 90% em peso de sílica (por exemplo, uma camada de sílica dopada com alumina), em relação ao peso total da camada, e ainda mais preferencialmente consiste em uma camada de sílica.

[0045] Geralmente, as camadas EI e BI têm uma espessura física variando de 10 a 120 nm, preferencialmente de 20 a 110 nm.

[0046] Geralmente, a espessura total do revestimento interferencial mais a espessura da subcamada mais a espessura das camadas de impedância (definidas mais à frente nesse pedido), se presentes, é menor que 1 micrômetro, preferencialmente igual ou inferior a 800 nm, mais preferencialmente igual ou inferior a qualquer um dos seguintes valores: 700 nm, 650 nm, 600 nm. A espessura total do revestimento interferencial é geralmente maior que 100 nm, preferencialmente maior que 200 nm.

[0047] Em uma modalidade do invento, a proporção RD do presente revestimento interferencial é igual ou superior a 1,5, e preferencialmente igual ou superior a qualquer um dos seguintes valores: 1,6, 1,7, 1,8, 1,9, 2, 2,05, 2,1, 2,15, 2,2, 2,25, 2,3, 2,35, 2,4, 2,5, 2,6, 2,7, 2,8, 3, 3,25 e 3,5. RD é definido como:

[0048] Camada(s) mais extrema(s) de elevado ou baixo índice refrativo do revestimento interferencial significa(m) a(s) camada(s) do revestimento interferencial que se encontra(m) mais afastada(s) do substrato. Geralmente, existe somente uma camada mais extrema de elevado (ou baixo) índice refrativo no revestimento interferencial, ou seja, quando camadas de elevado índice refrativo e camadas de baixo índice refrativo alternam entre si na pilha. Todavia, em algumas modalidades, podem existir duas ou mais camadas adjacentes de elevado (ou baixo) índice refrativo na posição mais extrema no revestimento interferencial. Nesse caso, é considerado que existe uma pluralidade de camadas mais extremas de elevado (ou baixo) índice refrativo no revestimento interferencial, e isso é levado em conta adicionando suas respectivas espessuras para o cálculo da proporção RD.

[0049] Quando uma camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial é uma camada eletricamente condutiva, especialmente uma camada de óxido condutiva (tal como uma camada de ITO, SnO 2), e é posicionada como a camada mais extrema de elevado índice refrativo, mas não é adjacente a uma ou mais camadas não condutivas de elevado índice refrativo (tal como uma camada de ZrO 2, Ta2O5), essa camada condutiva de elevado índice refrativo não é levada em conta para o cálculo de RD e não é considerada como sendo parte do revestimento interferencial.

[0050] Como um exemplo, para um revestimento interferencial compreendendo as seguintes camadas: Ar/revestimento hidrofóbico/SiO2 (espessura a)/ITO (espessura b)/SiO2 (espessura c)/ZrO2 (espessura d)/SiO2…, RD= (a +c)/d.

[0051] As espessuras das duas camadas de SiO2 são adicionadas, uma vez que a camada condutiva não é considerada como sendo parte do revestimento. Consequentemente, são aplicadas as regras gerais definidas acima para o cálculo.

[0052] Todavia, se a camada condutiva identificada como a camada mais extrema de elevado índice refrativo for adjacente a uma ou mais camadas não condutivas de elevado índice refrativo (pluralidade de camadas adjacentes de elevado índice refrativo), as espessuras dessa pluralidade de camadas de elevado índice refrativo são adicionadas para o cálculo da proporção RD.

[0053] Como um exemplo, para um revestimento interferencial compreendendo as seguintes camadas Ar/revestimento hidrofóbico/SiO2(espessura a')/ITO(espessura b')/ZrO2(espessura c')/SiO2… RD=a'/(b'+c')

[0054] Deve ser notado que essa camada condutiva de elevado índice refrativo (tal como ITO ou SnO2) é geralmente fina ou muito fina (tipicamente menos que qualquer um dos seguintes valores de espessura: 20 nm, 15 nm, 10 nm).

[0055] Em uma modalidade preferida do presente invento, o revestimento interferencial é projetado com uma proporção RD igual ou superior a 2, e preferencialmente, a mais elevada possível, de modo a aumentar a resistência à abrasão do artigo óptico. Esse é o primeiro meio alternativo de acordo com o invento para obter um artigo tendo uma melhor resistência à abrasão.

[0056] Na verdade, foi estabelecida uma relação entre resistência à abrasão e a proporção RD mencionada acima. Os inventores descobriram que a limitação da espessura da(s) camada(s) mais extrema(s) de materiais de elevado índice refrativo e/ou o aumento da espessura da(s) camada(s) mais extrema(s) de materiais de baixo índice refrativo foram benéficos para a resistência à abrasão do artigo óptico. Para determinar a resistência à abrasão do artigo óptico, pode ser usado um teste de abrasão Bayer padrão.

[0057] Além do mais, o artigo óptico tem uma boa resistência a variações de calor e temperatura, ou seja, uma temperatura crítica elevada, como definido na secção experimental. A temperatura crítica de um artigo revestido de acordo com o invento é preferencialmente de  50 °C, mais preferencialmente de  60 °C, 65 °C ou 70 °C.

[0058] É igualmente possível definir uma proporção RT, que seja idêntica à proporção RT definida em US 7692855:

[0059] desde que as camadas do revestimento antirreflexo levadas em conta para o cálculo da referida proporção RT sejam somente as camadas situadas acima da camada de baixo índice refrativo (n ≤ 1,55) tendo uma espessura física de  100 nm e não correspondendo à camada mais extrema do revestimento antirreflexo que é a mais afastada do substrato, quando o revestimento antirreflexo compreende pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo uma espessura física de  100 nm que não corresponde à camada do revestimento antirreflexo que é a mais afastada do substrato.

[0060] A proporção RT é calculada em todo o revestimento antirreflexo a menos que pelo menos uma camada BI interior (ou seja, não a camada BI que é a mais afastada do substrato) tendo uma espessura de 100 nm ou mais se encontre presente na pilha antirreflexo. Na realidade, se uma camada BI de elevada espessura (superior a 100 nm) estiver presente dentro do revestimento antirreflexo, a mesma pode bloquear a propagação de fendas. Nesse caso, a proporção R T tem de ser calculada na parte superior da pilha, ou seja, sem levar em conta a referida camada BI de elevada espessura e as camadas situadas por baixo. Se estiverem presentes diversas camadas BI de elevada espessura, RT é calculado na parte da pilha situada por cima da camada espessa de baixo índice refrativo tendo uma espessura física de  100 nm e não sendo a camada mais extrema do revestimento antirreflexo que é a mais afastada do substrato.

[0061] Em uma modalidade, RT é igual ou superior a 0,8, preferencialmente igual ou superior a 1, 1,5, 1,9, 2, 2,2, 2,5, 3 ou 3,4. Em uma modalidade, RT é menor que 5, preferencialmente menor que pelo menos um dos seguintes valores 4,5, 4,0, 3,5. Em outra modalidade, RT varia de 0,8 a 3,5. É preferível ter uma elevada proporção R T, de modo a ter um artigo mostrando uma temperatura crítica mais elevada, exibindo ao mesmo tempo elevada resistência à abrasão.

[0062] É igualmente possível definir uma relação R1: R1=espessura da(s) camada(s) interna(s) mais extrema(s) de baixo índice refrativo do revestimento interferencial/espessura da(s) camada(s) interna(s) mais extrema(s) de elevado índice refrativo do revestimento interferencial

[0063] Camada(s) interna(s) mais extrema(s) de elevado ou baixo índice refrativo do revestimento interferencial significa(m) a(s) camada(s) do revestimento interferencial mais afastada(s) do substrato, mas posicionada(s) mesmo antes da(s) camada(s) mais extrema(s) de baixo e elevado índice refrativo do revestimento interferencial como definido anteriormente. Geralmente, existe somente uma camada interna mais extrema de elevado (ou baixo) índice refrativo no revestimento interferencial, ou seja, quando camadas de elevado índice refrativo e camadas de baixo índice refrativo alternam entre si na pilha. Todavia, em algumas modalidades, podem existir duas ou mais camadas adjacentes de elevado (ou baixo) índice refrativo na posição interna mais extrema no revestimento interferencial. Nesse caso, é considerado que existe uma pluralidade de camadas mais extremas de elevado (ou baixo) índice refrativo no revestimento interferencial, e isso é levado em conta adicionando suas respectivas espessuras para o cálculo da proporção R1.

[0064] Quando uma camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial é uma camada eletricamente condutiva, especialmente uma camada de óxido condutiva (tal como uma camada de ITO, SnO2), e é posicionada como a camada interna mais extrema de elevado índice refrativo, mas não é adjacente a uma ou mais camadas não condutivas de elevado índice refrativo (tal como uma camada de ZrO2, Ta2O5), essa camada condutiva não é levada em conta para o cálculo de R1 e não é considerada como sendo parte do revestimento interferencial.

[0065] Como um exemplo, para um revestimento interferencial compreendendo as seguintes camadas: Ar/revestimento hidrofóbico/…./SiO 2 (espessura a'')/ITO (espessura b'')/SiO2 (espessura c'')/ZrO2(espessura d")/SiO2…, R1= (a" +c")/d".

[0066] As espessuras das duas camadas internas de SiO2 são adicionadas, uma vez que a camada condutiva não é considerada como sendo parte do revestimento. Consequentemente, são aplicadas as regras definidas acima para o cálculo.

[0067] Todavia, se a camada condutiva de elevado índice refrativo identificada como a camada interna mais extrema for adjacente a uma ou mais camadas não condutivas de elevado índice refrativo (pluralidade de camadas adjacentes de elevado índice refrativo), as espessuras dessa pluralidade de camadas são adicionadas para o cálculo da proporção R1.

[0068] Como um exemplo, para um revestimento interferencial compreendendo as seguintes camadas Ar/…../SiO2(espessura a''')/ITO(espessura b''')/ZrO2(espessura c'''/SiO2)… R1=a'''/(b'''+c''').

[0069] Deve ser notado que essa camada condutiva de elevado índice refrativo (tal como ITO ou SnO2) é geralmente fina ou muito fina (tipicamente menos que um dos seguintes valores de espessura: 20 nm, 15 nm, 10 nm).

[0070] Em uma modalidade, R1 é igual ou superior a 1, preferencialmente igual ou superior a 1,25, 1,4, 1,5, 1,75, 1,9, 2, 2,5 ou 3. Em uma modalidade, R1 é menor que 5, preferencialmente menor que pelo menos um dos seguintes valores 4,5, 4,0, 3,5. Esses valores fornecem um bom compromisso de propriedades. Em outra modalidade, R1 varia de 1 a 3,5.

[0071] No presente invento, o revestimento interferencial multicamada é depositado em uma subcamada monocamada tendo uma espessura igual ou superior a 250 nm. Deve ser notado que essa subcamada não pertence ao revestimento interferencial. A referida subcamada se encontra preferencialmente em contato direto com o revestimento interferencial.

[0072] Como aqui usado, uma subcamada de revestimento interferencial ou camada de aderência pretende significar um revestimento relativamente espesso, usado para melhorar propriedades mecânicas, tais como resistência à abrasão e/ou resistência a riscos, do revestimento interferencial e/ou de modo a reforçar sua aderência ao substrato ou ao revestimento subjacente.

[0073] Devido à sua espessura relativamente elevada, a subcamada geralmente não faz parte da atividade óptica refletiva ou antirrefletiva do revestimento interferencial, especialmente quando tem um índice refrativo próximo daquele do revestimento subjacente (que é geralmente uma camada de impedância ou um revestimento antiabrasão e/ou antirriscos).

[0074] A subcamada tem uma espessura que é geralmente igual ou inferior a qualquer um dos seguintes valores: 600 nm, 500 nm, 450 nm, 400 nm e é preferencialmente menor que 375 nm, e é geralmente igual ou superior a 275 nm, mais preferencialmente igual ou superior a 300, 325 ou 350 nm. O aumento da espessura da subcamada origina um melhoramento da resistência à abrasão.

[0075] A subcamada é preferencialmente uma camada à base de SiO2, essa camada compreendendo preferencialmente pelo menos 80% em peso de sílica, mais preferencialmente pelo menos 90% em peso de sílica, em relação ao peso total da camada, e ainda mais preferencialmente consiste em uma camada de sílica. Em outra modalidade, essa camada à base de SiO2 é uma camada de sílica dopada com alumina, em quantidades como definido acima, e preferencialmente consiste em uma camada de sílica dopada com alumina.

[0076] Ao projetar uma pilha de interferência de acordo com o invento, as tensões mecânicas são propriedades a serem levadas em conta. A tensão na subcamada é preferencialmente negativa, ou seja, a subcamada se encontra sob compressão. Essa tensão de compressão é preferencialmente menor que -250 MPa, mais preferencialmente menor que qualquer um dos seguintes valores: -275 MPa, -290 MPa, -300 MPa, -350 MPa, -400 MPa, -450 MPa. Preferencialmente, é maior que - 500 MPa. É medida em uma temperatura de 20 °C e sob uma umidade relativa de 50% da maneira descrita em WO 2014/199103. As condições de deposição, em particular a pressão durante a deposição da subcamada, permitem alcançar esses valores de tensão. A tensão é medida para uma espessura da subcamada de pelo menos 150 nm, preferencialmente em uma espessura da subcamada de cerca de 150 nm.

[0077] Em algumas modalidades do invento, especialmente quando a subcamada e o revestimento subjacente (ou o substrato, se não existir nenhum revestimento funcional entre o substrato e a subcamada) têm índices refrativos substancialmente diferentes, uma ou mais das chamadas “camadas de impedância” (ou camadas tampão ópticas ou camadas de ajuste ópticas) podem ser intercaladas entre o revestimento subjacente (ou o substrato) e a subcamada, formando assim um revestimento de impedância que limita bordas de interferência devido a diferenças de índices refrativos entre a subcamada e o substrato ou revestimento subjacente. Essa modalidade é preferida quando o revestimento subjacente, que é geralmente um revestimento antiabrasão e/ou antirriscos, ou o substrato, tem um elevado índice refrativo, ou seja, um índice refrativo maior que 1,55, preferencialmente igual ou superior a 1,57.

[0078] Nesse caso, o artigo óptico pode compreender preferencialmente, no máximo, três camadas adicionais, mais preferencialmente, no máximo, duas camadas adicionais, intercaladas entre o substrato opcionalmente revestido e a subcamada. Essas camadas adicionais/intermédias são preferencialmente camadas finas, cuja função é limitar as reflexões na interface subcamada/revestimento subjacente ou interface subcamada/substrato, consoante o caso, pelo efeito interferencial.

[0079] Em uma modalidade, o revestimento de impedância compreende, preferencialmente consiste em, uma camada com um elevado índice refrativo com uma espessura igual ou inferior a 80 nm, mais preferencialmente igual ou inferior a 50 nm e o mais preferencialmente igual ou inferior a 30, 20 ou 10 nm. Essa camada com um elevado índice refrativo se encontra preferencialmente em contato direto com o substrato com um elevado índice refrativo ou o revestimento subjacente com um elevado índice refrativo, como apropriado. Obviamente, essa modalidade pode ser usada mesmo que o substrato (ou o revestimento subjacente) tenha um índice refrativo igual ou inferior a 1,55.

[0080] Como uma alternativa, o revestimento de impedância compreende, além da camada anteriormente mencionada com um elevado índice refrativo, uma camada à base de SiO2 feita de um material (ou seja, compreendendo preferencialmente pelo menos 80% em peso de sílica) com um índice refrativo igual ou inferior a 1,55, preferencialmente igual ou inferior a 1,52, mais preferencialmente igual ou inferior a 1,50, e com uma espessura igual ou inferior a 80 nm, mais preferencialmente igual ou inferior a 50 nm e ainda mais preferencialmente igual ou inferior a 45 nm, no qual é depositada a referida camada com um elevado índice refrativo. Tipicamente, nessa instância, o revestimento de impedância compreende, depositadas nessa ordem no substrato opcionalmente revestido, uma camada de SiO 2 com uma espessura de 4 a 50 nm (preferencialmente uma camada com uma espessura de 20 a 40 nm) e uma camada de ZrO2 ou Ta2O5 com uma espessura de 3 a 12 nm, que se encontra em contato com a subcamada.

[0081] Pelo menos uma camada de aderência fina (1 nm a diversos nm de espessura) pode ser aplicada no substrato antes da aplicação das camadas de impedância ou da subcamada, tal como uma camada à base de crômio ou uma à base de nióbio ou qualquer outra camada conhecida do perito na técnica para melhorar a aderência.

[0082] Uma subcamada de um revestimento interferencial é uma categoria de camada que é bem identificável e bem conhecida dos peritos na técnica e não pode ser confundida com um revestimento resistente à abrasão e/ou resistente a riscos (revestimento duro), descrito mais à frente no presente pedido.

[0083] Opcionalmente, a superfície exposta da subcamada pode ser submetida, antes da deposição da primeira camada do revestimento interferencial, a um tratamento de ativação física ou química que pode ser selecionado desde os pré- tratamentos pelos quais o substrato pode passar antes da deposição da subcamada e que já foram mencionados acima. O pré-tratamento preferido é um bombardeamento de íons, por exemplo, usando um feixe de íons de argônio gerado por canhão de íons. Esses tratamentos de ativação física ou química (preferencialmente um tratamento por bombardeamento iônico) podem igualmente ser efetuados na superfície exposta de uma ou mais camadas do revestimento de interferência multicamada, antes da deposição da camada subsequente do referido revestimento interferencial multicamada.

[0084] O artigo óptico do invento pode ser tornado antiestático, ou seja, para não reter e/ou desenvolver uma carga estática substancial, ao incorporar pelo menos uma camada eletricamente condutiva na pilha presente na superfície do artigo, preferencialmente no revestimento interferencial.

[0085] A capacidade de uma lente para evacuar uma carga estática obtida após ser esfregada com um pedaço de tecido ou usando qualquer outro procedimento para gerar uma carga estática (carga aplicada por corona, etc.) pode ser quantificada medindo o tempo que a referida carga demora a se dissipar. Desse modo, as lentes antiestáticas têm um tempo de descarga de cerca de algumas centenas de milissegundos, preferencialmente de 500 ms ou menos, ao passo que o mesmo é de cerca de diversas dezenas de segundos para uma lente estática. No presente pedido, os tempos de descarga são medidos de acordo com o método exposto no pedido da França FR 2943798.

[0086] Como aqui usado, uma “camada eletricamente condutiva” ou uma “camada antiestática” pretende significar uma camada que, devido à sua presença na superfície de um substrato, diminui a capacidade de o artigo óptico atrair poeira/partículas devido a acumulação de carga. Preferencialmente, quando aplicada em um substrato não antiestático (ou seja, tendo um tempo de descarga maior que 500 ms), a camada antiestática permite que o artigo óptico não retenha e/ou desenvolva uma carga estática substancial, por exemplo, para ter um tempo de descarga de 500 ms ou menos após a aplicação de uma carga estática na superfície do mesmo, de modo a impedir a aderência de pequenas poeiras ao artigo óptico devido à prevenção de efeitos estáticos.

[0087] A camada eletricamente condutiva pode se situar em vários locais na pilha, geralmente no, ou em contato com o, revestimento interferencial, desde que as propriedades refletivas ou antirrefletivas do mesmo não sejam afetadas. Preferencialmente, se situa entre duas camadas do revestimento interferencial, e/ou é preferencialmente adjacente a uma camada com um elevado índice refrativo desse revestimento interferencial. Em uma modalidade, a camada eletricamente condutiva se situa imediatamente sob uma camada com um baixo índice refrativo do revestimento interferencial, o mais preferencialmente corresponde à penúltima camada do revestimento interferencial ao se situar imediatamente sob a camada externa BI do revestimento interferencial.

[0088] A camada eletricamente condutiva deve ser suficientemente fina para não alterar a transparência do revestimento interferencial. A camada eletricamente condutiva é preferencialmente feita de um material eletricamente condutivo e altamente transparente, geralmente um óxido de metal opcionalmente dopado. Nesse caso, a espessura da mesma varia preferencialmente de 1 a 15 nm, mais preferencialmente de 1 a 10 nm, idealmente de 2 a 8 nm. Preferencialmente, a camada eletricamente condutiva compreende um óxido de metal opcionalmente dopado, selecionado desde óxidos de índio, estanho, zinco e misturas dos mesmos. São preferidos óxido de estanho-índio (In2O3:Sn, óxido de índio dopado com estanho), óxido de zinco dopado com alumínio (ZnO:Al), óxido de índio (In2O3) e óxido de estanho (SnO2). Em uma modalidade mais preferida, a camada eletricamente condutiva e oticamente transparente é uma camada de óxido de estanho-índio, notada como camada de ITO (Indium-Tin Oxide) ou uma camada de óxido de estanho.

[0089] Geralmente, a camada eletricamente condutiva contribui, dentro da pilha, mas de uma maneira limitada por causa de sua baixa espessura, para a obtenção de propriedades interferenciais e tipicamente representa uma camada com um elevado índice refrativo no referido revestimento. Esse é o caso para as camadas feitas de um material eletricamente condutivo e altamente transparente, tal como camadas de ITO ou SnO2. Conformemente, quando se encontra presente, a camada eletricamente condutiva é preferencialmente a camada mais extrema de elevado índice refrativo do revestimento interferencial, ou uma das camadas mais extremas de elevado índice refrativo do revestimento interferencial quando a mesma é adjacente a uma ou mais camadas de elevado índice refrativo.

[0090] A camada eletricamente condutiva pode ser depositada de acordo com qualquer método adequado, por exemplo, mediante deposição por evaporação a vácuo, preferencialmente assistida por feixe de íons (IAD - Ion-Beam-Assisted, descrita abaixo) para aumentar sua transparência, ou por meio de pulverização (aspersão) catódica.

[0091] A camada eletricamente condutiva pode igualmente ser uma camada muito fina de um metal nobre (Ag, Au, Pt, etc.) tipicamente menor que 1 nm em espessura e preferencialmente menor que 0,5 nm em espessura.

[0092] As várias camadas do revestimento interferencial, a subcamada e as camadas de impedância opcionais são preferencialmente depositadas mediante deposição por fase de vapor, sob vácuo, de acordo com qualquer um dos seguintes métodos: i) mediante evaporação, opcionalmente sob assistência por feixe de íons; ii) mediante pulverização por feixe de íons; iii) mediante pulverização (aspersão) catódica; iv) mediante deposição química de vapor assistida por plasma. Esses vários métodos são descritos nas seguintes referências “Thin Film Processes” e “Thin Film Processes II”, Vossen & Kern, Ed., Academic Press, 1978 e 1991, respectivamente. Um método particularmente recomendado é evaporação sob vácuo. Preferencialmente, a deposição de cada uma das camadas acima mencionadas é realizada mediante evaporação sob vácuo. Esse processo evita vantajosamente o aquecimento do substrato, o que é particularmente interessante para o revestimento de substratos termossensíveis, tais como vidros orgânicos.

[0093] Uma etapa de tratamento com espécies energéticas, tal como anteriormente definido, pode igualmente ser realizada, enquanto são depositadas simultaneamente uma ou mais das várias camadas do revestimento de interferência, subcamada ou camadas de impedância opcionais. Em particular, trabalhar sob assistência por íons permite acondicionar as referidas camadas enquanto estão sendo formadas e aumenta sua compressão e índice refrativo. O uso de assistência por íons durante a deposição de uma camada produz uma camada que é estruturalmente diferente de uma camada depositada sem assistência por íons.

[0094] O método de deposição assistida por íons ou IAD é notavelmente descrito no pedido de patente US 2006/017011 e na patente US 5,268,781. A deposição por fase de vapor sob assistência por íons compreende a deposição em um substrato de uma camada de material bombardeando simultaneamente por meio de um feixe de íons a referida camada enquanto a mesma está sendo formada, e preferencialmente sob bombardeamento de íons realizado por meio de um canhão de íons. O bombardeamento de íons origina um rearranjo atômico no revestimento que está sendo formado, o que aumenta sua densidade. A IAD não só permite um melhoramento da aderência da camada depositada, como também um aumento em seu índice refrativo. A operação IAD pode ser efetuada por meio de um canhão de íons, onde íons são partículas compostas por átomos de gás dos quais um ou mais elétrons são extraídos. Preferencialmente, consiste no bombardeamento da superfície a ser tratada com íons de oxigênio. Outros gases ionizados podem ser usados, quer combinados com oxigênio, quer não, por exemplo, argônio, nitrogênio, em particular uma mistura de O2 e argônio de acordo com uma proporção de volume variando de 2:1 a 1:2.

[0095] Em uma modalidade preferida do presente invento, a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm (preferencialmente igual ou superior a 20 nm, mais preferencialmente igual ou superior a 25 nm) que é a mais afastada do substrato foi realizada sob assistência iônica, ou seja, bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada, e preferencialmente sob bombardeamento de íons realizado por meio de um canhão de íons. Esse é o segundo meio alternativo de acordo com o invento que foi descoberto pelos presentes inventores para obter um artigo tendo uma melhor resistência à abrasão.

[0096] De acordo com essa modalidade, o revestimento antirreflexo compreende pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm, e aquela que é a mais afastada do substrato é depositada sob assistência iônica. Em outras palavras, de acordo com essa modalidade, a camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial que é a mais afastada do substrato, quando tem uma espessura igual ou superior a 15 nm, é depositada sob assistência iônica. De acordo com essa modalidade, quando a camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial que é a mais afastada do substrato tem uma espessura menor que 15 nm, por exemplo, quando a camada de elevado índice refrativo que é a mais afastada do substrato é uma camada fina eletricamente condutiva, a camada que é depositada sob assistência iônica é a primeira (mais próxima) camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo uma espessura igual ou superior a 15 nm que se encontra presente sob a referida camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo uma espessura menor que 15 nm que é a mais afastada do substrato.

[0097] Em uma modalidade do presente invento, a camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 que é a mais afastada do substrato é uma camada eletricamente condutiva tendo uma espessura menor que 15 nm. Em outra modalidade, a camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato é uma camada de ZrO2 ou Ta2O5, preferencialmente uma camada de ZrO2, e essa camada é preferencialmente depositada sob assistência iônica.

[0098] Em uma modalidade preferida, o primeiro e o segundo meios alternativos de acordo com o invento para obter um artigo tendo uma resistência à abrasão melhorada são combinados para obter um melhoramento de resistência à abrasão ótimo. Nessa modalidade, o artigo óptico tem a) uma proporção RD igual ou superior a 1,5, e b) a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm (preferencialmente ≥ 20 nm, mais preferencialmente ≤ 25 nm) que é a mais afastada do substrato é realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.

[0099] De acordo com uma modalidade do presente invento, a deposição de todas as camadas de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 foi realizada sob assistência iônica, ou seja, essas camadas foram depositadas sob a assistência de uma fonte de íons durante a formação dessas camadas.

[0100] A(s) camada(s) mais extrema(s) de baixo índice refrativo do revestimento interferencial é(são) preferencialmente depositada(s) sem assistência iônica, preferencialmente sem tratamento concomitante com espécies energéticas. Em outra modalidade, as camadas de baixo índice refrativo do revestimento interferencial e/ou a subcamada são depositadas sem assistência iônica, preferencialmente sem tratamento concomitante com espécies energéticas.

[0101] Em uma modalidade, nenhuma camada do revestimento interferencial é depositada sob assistência por íons (preferencialmente nenhuma camada do revestimento interferencial é depositada sob tratamento concomitante com espécies energéticas), exceto a(s) camada(s) eletricamente condutiva(s), se presente(s) no revestimento interferencial.

[0102] Em uma outra modalidade, nenhuma camada do revestimento interferencial é depositada sob assistência por íons (preferencialmente nenhuma camada do revestimento interferencial é depositada sob tratamento concomitante com espécies energéticas), exceto a(s) camada(s) eletricamente condutiva(s), se presente(s) no revestimento interferencial, e uma camada mais extrema de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato.

[0103] Opcionalmente, a deposição de uma ou mais das referidas camadas é efetuada fornecendo um gás (suplementar) durante a etapa de deposição da camada em uma câmara de vácuo, tal como revelado em US 2008/206470. Concretamente,

um gás adicional, tal como um gás raro, por exemplo, argônio, criptônio, xenônio, neônio; um gás, tal como oxigênio, nitrogênio ou misturas de dois gases ou mais entre esses, é ou são introduzido(s) na câmara de deposição a vácuo enquanto a camada está sendo depositada. O gás empregue durante essa etapa de deposição não é um gás ionizado, mais preferencialmente não um gás ativado.

[0104] Esse abastecimento de gás torna possível regular a pressão e difere de um tratamento por bombardeamento iônico, tal como assistência por íons. Geralmente, permite a limitação de tensão no revestimento interferencial e o reforço da aderência das camadas. Quando é usado esse método de deposição, que é denominado deposição sob regulação de pressão de gás, é preferível trabalhar sob uma atmosfera de oxigênio (denominada “oxigênio passivo”). O uso de um abastecimento de gás adicional durante a deposição de uma camada produz uma camada que é estruturalmente diferente de uma camada depositada sem abastecimento de gás adicional.

[0105] Em uma modalidade do invento, a deposição da subcamada é efetuada em uma câmara de vácuo sob uma pressão menor que qualquer um dos seguintes valores: 0,016 Pa (1,6x10-4 mBar), 0,015 Pa (1,5x10-4 mBar), 0,014 Pa (1,4x10-4 mBar), 0,013 Pa (1,3x10-4 mBar), 0,012 Pa (1,2x10-4 mBar), 0,011 Pa (1,1x10-4 mBar), preferencialmente menor que 0,01 Pa (10-4 mBar), mais preferencialmente menor que 8,10-5 mBar e ainda melhor menor que qualquer um dos seguintes valores 7,10 -5 mBar, 6,10-5 mBar, 5,10-5 mBar, 4,10-5 mBar, 3,10-5 mBar. Tipicamente, nessa modalidade preferida, a pressão é de cerca de 0,0016 Pa (1,6x10-5 mBar).

[0106] Em uma modalidade preferida do invento, a deposição da subcamada é efetuada em uma câmara de vácuo na qual nenhum gás suplementar é fornecido durante a referida deposição. Foi descoberto que a deposição da subcamada sob uma baixa pressão, e idealmente sem abastecimento de gás para obter uma pressão ainda menor, origina uma subcamada com uma menor porosidade, uma compressão e densidades maiores e um aumento da resistência à abrasão do artigo óptico.

[0107] Em outra modalidade, a(s) camada(s) mais extrema(s) de elevado índice refrativo do revestimento interferencial, exceto as camadas eletricamente condutivas,

se presente(s) na posição mais extrema, é(são) depositada(s) em uma câmara de vácuo na qual pelo menos um gás suplementar é fornecido durante a referida deposição. Em outra modalidade, a(s) camada(s) de elevado índice refrativo do revestimento interferencial, exceto a(s) camada(s) eletricamente condutiva(s), se presente(s) na posição mais extrema, é(são) depositada(s) em uma câmara de vácuo na qual pelo menos um gás suplementar é fornecido durante a referida deposição.

[0108] De acordo com uma modalidade particularmente preferida, o artigo óptico compreende, começando desde a superfície do substrato opcionalmente revestido com um ou mais revestimentos funcionais, tais como um revestimento primário e/ou um revestimento duro, preferencialmente um revestimento de impedância de baixo índice refrativo tendo uma espessura variando de 4 a 50 nm, preferencialmente de 20 a 40 nm, preferencialmente de sílica, preferencialmente um revestimento de impedância de elevado índice refrativo tendo uma espessura variando de 3 a 12 nm, mais preferencialmente de 4 a 10 nm, preferencialmente de zircônio, uma subcamada tendo uma espessura de 250 a 450 nm, mais preferencialmente de 275 a 425 nm, ainda mais preferencialmente de 300 a 400 nm, preferencialmente uma subcamada à base de sílica, e um revestimento interferencial, preferencialmente um revestimento antirrefletivo, contendo, na seguinte ordem, uma camada de elevado índice refrativo com uma espessura de 8 a 35 nm, preferencialmente de 10 a 30 nm, preferencialmente de zircônio, uma camada com um baixo índice refrativo com uma espessura de 8 a 50 nm, preferencialmente de 10 a 45 nm, preferencialmente de sílica, uma camada com um elevado índice refrativo com uma espessura de 20 a 110 nm, preferencialmente de 25 a 100 nm, preferencialmente de zircônio, opcionalmente uma camada eletricamente condutiva com uma espessura de 3 a 15 nm, preferencialmente de 4 a 8 nm, preferencialmente feita de óxido de estanho, e uma camada com um baixo índice refrativo de 70 a 150 nm, preferencialmente de 75 a 140 nm, preferencialmente de sílica.

[0109] O sistema de revestimento interferencial/subcamada/camada(s) de impedância opcional(ais) pode ser depositado diretamente em um substrato descoberto. Em algumas aplicações, é preferível que a superfície principal do substrato seja revestida com um ou mais revestimentos funcionais melhorando suas propriedades ópticas e/ou mecânicas, antes da deposição do revestimento interferencial do invento. Esses revestimentos funcionais tradicionalmente usados na óptica podem ser, sem limitação, uma camada primária resistente ao impacto, um revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos (revestimento duro), um revestimento polarizado, um revestimento antiestático, um revestimento fotocrômico, um revestimento tingido ou uma pilha feita de dois ou mais desses revestimentos.

[0110] O revestimento primário resistente ao impacto que pode ser usado no presente invento pode ser qualquer revestimento tipicamente usado para melhorar a resistência ao impacto de um artigo óptico acabado. Por definição, um revestimento primário resistente ao impacto é um revestimento que melhora a resistência ao impacto do artigo óptico acabado em comparação com o mesmo artigo óptico, mas sem o revestimento primário resistente ao impacto.

[0111] Os revestimentos primários resistentes ao impacto típicos são revestimentos à base de (met)acrílico e revestimentos à base de poliuretano. Em particular, o revestimento primário resistente ao impacto de acordo com o invento pode ser feito de uma composição de látex, tal como um látex poli(met)acrílico, um látex de poliuretano ou um látex de poliéster.

[0112] As composições primárias preferidas incluem composições à base de poliuretanos termoplásticos, tais como as descritas nas patentes JP 63-141001 e JP 63-87223, composições primárias poli(met)acrílicas, tais como as descritas nas patentes US 5,015,523 e US 6,503,631, composições à base de poliuretanos termoendurecidos, tais como as descritas na patente EP 0404111 e composições à base de látex poli(meti)acrílico ou látex de poliuretano, tais como as descritas nas patentes US 5,316,791 e EP 0680492. As composições primárias preferidas são composições à base de poliuretanos e composições à base de látex, em particular, látex de poliuretano, látex poli(met)acrílico e látex de poliéster, bem como suas combinações. Em uma modalidade, o primário resistente ao impacto compreende enchimentos coloidais.

[0113] Látex poli(met)acrílico é látex à base de copolímeros essencialmente feitos de um (met)acrilato, tal como, por exemplo, (met)acrilato de etila, (met)acrilato de butila, (met)acrilato de metoxietila ou (met)acrilato de etoxietila, com pelo menos um outro comonômero em uma quantidade tipicamente menor, tal como, por exemplo, estireno.

[0114] As composições primárias comercialmente disponíveis adequadas para o uso no invento incluem as composições Witcobond ® 232, Witcobond® 234, Witcobond® 240, Witcobond® 242 (comercializadas por BAXENDEN CHEMICALS), Neorez® R-962, Neorez® R-972, Neorez® R-986 e Neorez® R-9603 (comercializadas por ZENECA RESINS) e Neocryl® A-639 (comercializada por DSM Coating Resins).

[0115] A espessura do revestimento primário resistente ao impacto, após a cura, tipicamente varia de 0,05 a 30 µm, preferencialmente de 0,2 a 20 µm e mais particularmente de 0,5 a 10 µm, e ainda melhor de 0,6 a 5 µm ou de 0,6 a 3 µm, e o mais preferencialmente de 0,8 a 1,5 mícrons.

[0116] O revestimento primário resistente ao impacto se encontra preferencialmente em contato direto com um revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos.

[0117] O revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos pode ser qualquer camada tradicionalmente usada como um revestimento antiabrasão e/ou antirriscos no campo das lentes ópticas.

[0118] Os revestimentos resistentes à abrasão e/ou a riscos são preferencialmente revestimentos duros à base de poli(met)acrilatos ou silanos, geralmente compreendendo um ou mais enchimentos minerais destinados a aumentar a dureza e/ou o índice refrativo do revestimento depois de curado.

[0119] Os revestimentos resistentes à abrasão e/ou a riscos são preferencialmente preparados desde composições compreendendo pelo menos um alcoxissilano e/ou um hidrolisado do mesmo obtidos, por exemplo, por hidrólise com uma solução de ácido clorídrico e opcionalmente condensação e/ou catalisadores de cura.

[0120] Os revestimentos adequados que são recomendados para o presente invento incluem revestimentos à base de hidrolisados de epoxissilano, tais como os descritos nas patentes EP 0 614 0614957, US 4 211 4211823 e US 5 015 5015523.

[0121] Uma composição preferida do revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos é a revelada na patente EP 0614957, em nome do depositante. A mesma compreende um hidrolisado de epoxitrialcoxissilano e dialquildialcoxissilano, sílica coloidal e uma quantidade catalítica de um catalisador de cura à base de alumínio, tal como acetilacetonato de alumínio, o resto sendo essencialmente composto por solventes tradicionalmente usados para a formulação dessas composições. Preferencialmente, o hidrolisado usado é um hidrolisado de γ- glicidoxipropiltrimetoxissilano (GLYMO) e dimetildietoxissilano (DMDES).

[0122] A composição do revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos pode ser depositada por métodos conhecidos e depois curada, preferencialmente usando radiação térmica ou ultravioleta. A espessura do revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos (curado) geralmente varia de 2 a 10 μm, preferencialmente de 3 a 5 μm.

[0123] O artigo óptico de acordo com o invento pode igualmente compreender revestimentos formados no revestimento interferencial e com capacidade para modificar as propriedades de superfície do mesmo, tal como um revestimento hidrofóbico e/ou oleofóbico (revestimento superior antissujidade). Esses revestimentos são preferencialmente depositados na camada exterior do revestimento interferencial. Geralmente, sua espessura é igual ou inferior a 10 nm, preferencialmente varia de 1 a 10 nm, mais preferencialmente de 1 a 5 nm. Os revestimentos superiores antissujidade são geralmente revestimentos do tipo fluorossilano ou fluorossilazano, preferencialmente compreendendo metades de fluoropoliéter e mais preferencialmente metades de perfluoropoliéter. Em WO 2012076714, são reveladas informações mais detalhadas sobre esses revestimentos.

[0124] Em vez de um revestimento hidrofóbico, pode ser usado um revestimento hidrofílico que fornece propriedades antiembaçantes (revestimento antiembaçante), ou um precursor de um revestimento antiembaçante que fornece propriedades antiembaçantes quando associado a um surfactante. Os exemplos desses revestimentos precursores antiembaçantes são descritos no pedido de patente WO 2011/080472.

[0125] Os revestimentos adicionais, tais como primários, revestimentos duros e revestimentos superiores antissujidade, podem ser depositados em uma superfície principal do substrato usando métodos conhecidos na técnica, incluindo revestimento por rotação, revestimento por imersão, revestimento por pulverização, evaporação, aspersão, deposição química de vapor e laminação.

[0126] Tipicamente, um artigo óptico de acordo com o invento compreende um substrato que é sucessivamente revestido com uma camada primária resistente ao impacto, uma camada antiabrasão e/ou resistente a riscos, 1, 2 ou 3 camadas de impedância, uma subcamada e um revestimento interferencial de acordo com o invento, e um revestimento hidrofóbico e/ou oleofóbico, ou um revestimento hidrofílico que fornece propriedades antiembaçantes, ou um revestimento precursor antiembaçante.

[0127] Devido à presença da subcamada e do revestimento interferencial de acordo com o invento (como um exemplo, um revestimento antirrefletivo), os artigos ópticos do invento exibem um elevado valor de resistência à abrasão medida de acordo com o protocolo operacional Bayer ASTM (Bayer da areia) descrito em seguida, ou seja, de acordo com a norma ASTM F735-81.

[0128] De acordo com o presente invento, o artigo óptico, cuja face principal, preferencialmente a face frontal, é coberta pela pilha interferencial do invento, exibe um valor Bayer medido de acordo com a norma ASTM F735-81 (valor Bayer da areia) maior que 7, preferencialmente maior que qualquer um dos seguintes valores: 7,5, 8, 8,5, 9, 9,5, 10, 11. Desse modo, o presente invento fornece artigos ópticos com uma elevada resistência à abrasão, uma vez que os valores Bayer da areia típicos para artigos ópticos são de cerca de 5. Esses valores podem ser obtidos controlando a espessura da subcamada, a proporção RD, e/ou os parâmetros de deposição, em particular, a pressão durante a deposição da subcamada e/ou a assistência por íons durante a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato.

[0129] Em uma modalidade, o artigo óptico é uma lente e o revestimento interferencial e a subcamada são aplicados na face principal frontal da lente.

[0130] Em uma modalidade preferida, a face principal frontal da lente oftálmica de acordo com o invento como definido anteriormente exibe um valor Bayer V1 e a face principal posterior (côncava) da referida lente é revestida por um revestimento interferencial, preferencialmente um revestimento antirrefletivo, diferente do da face principal frontal e que exibe um valor Bayer V2, V1 e V2 satisfazendo a seguinte relação:

[0131] V1-V2 é superior a 0,5, preferencialmente superior a 1, mais preferencialmente superior a 1,5, ainda melhor superior a pelo menos um dos seguintes valores: 2; 2,5; 3; 3,5; 4, e V1 é igual ou superior a 7, mais preferencialmente igual ou superior a 8. V1 e V2 são medidos de acordo com a norma ASTM F735-81.

[0132] Os valores Bayer sendo mensuráveis somente em uma superfície convexa, o revestimento interferencial na face principal posterior tem de ser reproduzido em uma superfície convexa em uma lente separada, e seu valor Bayer medido de acordo com o mesmo protocolo da face frontal de modo a obter o valor V2. A face principal posterior pode igualmente compreender uma subcamada e/ou camadas de impedância, como definido anteriormente.

[0133] Em outra modalidade, V1-V2 é superior a 0,5, preferencialmente superior a 1, mais preferencialmente superior a 1,5, ainda melhor superior a pelo menos um dos seguintes valores: 2; 2,5; 3; 3,5; 4, e a face principal frontal exibe um valor Ruv em um ângulo de incidência de 15° maior que 5% e a face principal posterior exibe um valor Ruv em um ângulo de incidência de 35° menor que 5%, preferencialmente igual ou inferior a 4,5%, mais preferencialmente igual ou inferior a 4% e ainda melhor igual ou inferior a 3,5%, desde que a reflexão na face principal frontal em um ângulo de incidência de 15°, notado como R(15°), e/ou Rm(15°) (definidos abaixo), e/ou a refletância média da face principal frontal revestida com o revestimento interferencial do invento, entre 350 nm e um comprimento de onda compreendido entre 380 nm e 400 nm, preferencialmente entre 350 nm e 380 nm, ponderado pela função W(λ), não excedam os valores definidos mais à frente nesse pedido.

[0134] Ruv é o fator de reflexão médio de uma face de um artigo óptico entre 280 nm e 380 nm, ponderado pela função W(λ) definida na norma ISO 13666:1998, medido no presente pedido em um ângulo de incidência de 35° para a face principal posterior e em um ângulo de incidência de 15° para a face principal frontal. A definição de W(λ) e os exemplos de cálculo para ângulos de incidência a 30° e 45° são especificados em WO 2012/076714. O perito na técnica pode facilmente implementar o cálculo com base em valores de reflexão medidos nas respectivas faces no ângulo de incidência desejado (15°, 35°).

[0135] Em uma modalidade, o artigo óptico de acordo com o invento não absorve no espectro visível ou não muito, o que significa, no contexto do presente pedido, que seu fator de transmissão de luz relativo no espectro visível Tv é igual ou superior a qualquer um dos seguintes valores: 87%, 88%, 89%, 90%, 92%, 95%, 96%, 97%, 98%. O referido fator Tv preferencialmente varia de 87% a 98,5%, mais preferencialmente de 87% a 97%, melhor de 87% a 96%. Em outra modalidade, Tv varia de 89% a 98%, preferencialmente de 90% a 98%, melhor de 95% a 97%.

[0136] O fator Tv, igualmente denominado “transmissão luminosa” do sistema, é como definido na norma ISO 13666:1998 e é medido conformemente com a norma ISO 8980-3. É definido como a média na gama de comprimentos de onda de 380 a 780 nm que é ponderada de acordo com a sensibilidade do olho em cada comprimento de onda da gama e medido sob condições de iluminação D65 (luz diurna).

[0137] O “fator de reflexão de luz médio”, notado como Rv, igualmente denominado “reflexão luminosa”, é como definido na Norma ISO 13666:1998, e medido de acordo com a Norma ISO 8980-4 (para um ângulo de incidência menor que 17°, tipicamente de 15°), ou seja, essa é a média de reflexão espectral em todo o espectro visível entre 380 e 780 nm.

[0138] O fator de reflexão de luz médio Rv da face da lente revestida por um revestimento antirreflexo de acordo com o invento é preferencialmente menor que 2,5% (por face), preferencialmente menor que 2%, mais preferencialmente menor que 1%, ainda mais preferencialmente ≤ 0,85%, por face do artigo.

[0139] De acordo com uma modalidade do invento, a reflexão R(15°) (medida em um ângulo de incidência de 15°) da face principal do artigo óptico revestida de acordo com o invento é menor que 50% para pelo menos um comprimento de onda na gama de comprimentos de onda de 300 a 350 nm.

[0140] De acordo com outra modalidade do invento, a reflexão R(15°) da face principal do artigo óptico revestida de acordo com o invento é menor que 50% no comprimento de onda de 320 nm.

[0141] De acordo com uma modalidade do invento, o coeficiente de reflexão médio Rm(15°) (reflexão média não ponderada) na gama de comprimentos de onda de 300 a 350 nm da face principal do artigo óptico revestida de acordo com o invento é menor que 50%, preferencialmente igual ou inferior a 45%.

[0142] A refletância média da face principal frontal revestida do revestimento interferencial do invento, entre 350 nm e um comprimento de onda compreendido entre 380 nm e 400 nm, preferencialmente entre 350 nm e 380 nm, ponderada pela função W(λ), é geralmente menor que 35%, preferencialmente igual ou inferior a 32%, mais preferencialmente igual ou inferior a 30% e ainda melhor em certos casos igual ou inferior a 25% ou 20%, para pelo menos um ângulo de incidência compreendido entre 0° e 17°.

[0143] Em cada uma dessas modalidades, o número total de camadas no revestimento interferencial, preferencialmente um revestimento antirreflexo, é preferencialmente igual ou superior a 3, preferencialmente igual ou inferior a 5, e/ou a espessura total do revestimento interferencial (preferencialmente um revestimento antirrefletivo) mais a espessura da subcamada mais a espessura da(s) camada(s) de impedância se presente(s) é preferencialmente menor que 1 micrômetro, mais preferencialmente igual ou inferior a 800 nm ou 500 nm.

[0144] A definição da refletância média e da função W(λ) é descrita em WO 2016/102857. W(λ ) é igualmente descrito em WO 2012/076714.

[0145] Os coeficientes colorimétricos C* e h do artigo óptico do invento no L*a*b* CIE colorimétrico internacional são calculados entre 380 nm e 780 nm, levando em conta o iluminante D65 padrão e o observador (ângulo de incidência: 15°). O observador é um “observador padrão” (10°) como definido no L*a*b* CIE do sistema colorimétrico internacional.

[0146] Os coeficientes colorimétricos das lentes do invento têm uma boa robustez. A robustez σh do artigo óptico, definida em WO 2015/000534, é satisfatória e preferencialmente igual ou inferior a 8°, mais preferencialmente igual ou inferior a 7,5°, para um ângulo de matiz h correspondendo a verde.

[0147] É possível preparar revestimentos interferenciais sem limitação com respeito ao seu ângulo de matiz (h), que se relaciona com a cor residual apresentada pelo referido revestimento interferencial, e preferencialmente varia de 40° a 300°, mais preferencialmente de 50° a 290°. Em algumas modalidades, o artigo óptico tem um ângulo de matiz (h) variando de 240° a 300°, preferencialmente de 250° a 290°, mais preferencialmente de 260° a 280°, resultando assim em uma cor refletida residual percebida azul para violeta, preferencialmente próxima de violeta. Em outra modalidade, o artigo óptico tem um ângulo de matiz (h) igual ou superior a 135º, mais preferencialmente igual ou superior a 140º e melhor variando de 140º a 160º, resultando assim em um revestimento interferencial tendo uma reflexão verde. Em outra modalidade, o artigo óptico tem um ângulo de matiz (h) variando de 40º a 90º, preferencialmente de 50º a 90º, melhor de 50º a 70º, resultando assim em um revestimento interferencial tendo uma boa reflexão.

[0148] Em alguns aspectos do invento, o revestimento interferencial tem uma cromaticidade (C*) que é menor que 15 (para um ângulo de incidência de 15°), mais preferencialmente menor que 13. A obtenção de artigos de baixa intensidade de cor residual (cromaticidade) é preferível com respeito ao ponto de vista do conforto do portador, nos casos das lentes.

[0149] O invento se relaciona ainda com um método de fabricação de um artigo óptico como descrito acima, compreendendo: - o fornecimento de um artigo óptico compreendendo um substrato tendo pelo menos uma face principal, - a deposição em uma superfície principal do substrato de uma subcamada monocamada tendo uma superfície exposta e uma espessura igual ou superior a 250 nm, - a deposição na referida superfície exposta da subcamada de um revestimento interferencial multicamada compreendendo pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo um índice refrativo de 1,55 ou menos, obtendo assim um artigo óptico revestido, tendo um valor Bayer determinado de acordo com a norma ASTM F735-81 igual ou superior a 7, e a) a proporção: é igual ou superior a 1,5, e/ou b) a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato é realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.

[0150] Nas modalidades preferidas, a superfície exposta da subcamada foi submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição do referido revestimento interferencial multicamada, e/ou a deposição da subcamada é realizada em uma câmara de vácuo na qual nenhum gás suplementar é fornecido durante a referida deposição.

[0151] Em outra modalidade, a superfície exposta de pelo menos uma camada do revestimento interferencial multicamada foi submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da camada subsequente do referido revestimento interferencial multicamada.

[0152] Em outra modalidade, a superfície exposta de cada camada do revestimento interferencial multicamada, exceto a camada do referido revestimento que é a mais afastada do substrato, foi submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da camada subsequente do referido revestimento interferencial multicamada. Essa modalidade envolvendo múltiplos bombardeamentos entre camadas é preferencialmente implementada quando a subcamada é depositada em uma baixa pressão (< 0,016 Pa (1,6x10-4 mBar) ou ainda melhor em uma câmara de vácuo sem fornecer qualquer gás adicional durante a deposição) para obter uma melhor aderência das camadas dentro da pilha interferencial.

[0153] Quando se encontram presentes camadas de impedância, a superfície exposta da camada de impedância mais extrema é preferencialmente submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da camada subsequente, que é geralmente a subcamada.

[0154] Em outra modalidade, a superfície exposta das seguintes camadas é submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da camada subsequente nas referidas camadas: a camada de impedância mais extrema (quando presente), a subcamada e cada camada do revestimento interferencial multicamada, exceto a camada mais extrema do referido revestimento.

[0155] Em uma modalidade, o presente artigo óptico é preparado formando no substrato um revestimento primário e/ou um revestimento resistente à abrasão e/ou a riscos em um primeiro sítio de fabricação, enquanto os outros revestimentos são formados em um segundo sítio de fabricação.

[0156] Os seguintes exemplos ilustram o presente invento de uma maneira mais detalhada, mas não limitativa. Salvo afirmação em contrário, todas as espessuras reveladas no presente pedido se relacionam com espessuras físicas. As porcentagens fornecidas nas tabelas são porcentagens em peso. Salvo especificação em contrário, os índices refrativos referidos no presente invento são expressos a 20 a 25 °C em um comprimento de onda de 550 nm.

EXEMPLOS

1. Procedimentos gerais

[0157] Os artigos empregues nos exemplos compreendem um substrato de lente MR8® de politiouretano com um diâmetro de 65 mm (de Mitsui Toatsu Chemicals Inc., índice refrativo = 1,59), com uma potência de -2,00 dioptrias e uma espessura de 1,2 mm, revestido em sua face convexa com o revestimento primário resistente ao impacto à base de um material de poliuretano W234™ revelado na parte experimental de WO 2010/109154 modificado para ter um índice refrativo de 1,6 por adição de coloides de elevado índice refrativo e o revestimento resistente à abrasão e a riscos (revestimento duro) revelado no exemplo 3 de EP 0614957 (modificado para ter um índice refrativo de 1,6 em vez de 1,5 adicionando coloides de elevado índice refrativo), opcionalmente camadas de impedância, uma subcamada, um revestimento antirreflexo tendo uma proporção RD específica, e o revestimento antissujidade revelado na seção experimental do pedido de patente WO 2010/109154, ou seja, por evaporação sob vácuo do composto Optool DSX® comercializado por Daikin Industries (espessura: de 2 a 5 nm).

[0158] As várias camadas, tais como as subcamadas, camadas de impedância ópticas e as camadas do revestimento antirreflexo, foram depositadas sem aquecimento dos substratos, por evaporação de vácuo, opcionalmente assistida (IAD) durante a deposição por um feixe de oxigênio e possivelmente íons de argônio, quando especificado (fonte de evaporação: canhão de elétrons), e opcionalmente sob regulação de pressão fornecendo gás O2 (passivo) à câmara, onde indicado.

[0159] O dispositivo de evaporação de vácuo que tornou possível a deposição das várias camadas antirrefletivas foi um revestidor a vácuo BAK de Physimeca tendo dois sistemas para evaporação de materiais, um sistema de evaporação de canhão de elétrons e um evaporador térmico (sistema de evaporação de efeito Joule), e um canhão de íons Mark 2+ de VEECO para uso na fase preliminar de preparação da superfície do substrato por bombardeamento de íons de argônio (IPC) e na deposição assistida por íons (IAD - Ion-Assisted Deposition) das camadas.

2. Preparação dos artigos ópticos

[0160] As lentes foram colocadas em um carrossel munido de aberturas circulares destinadas a acomodar as lentes a serem tratadas, o lado côncavo voltado para as fontes de evaporação e para o canhão de íons.

[0161] O método para produção de artigos ópticos compreende a introdução do substrato de lente munido dos revestimentos primário e resistente à abrasão em uma câmara de deposição a vácuo, a realização de uma etapa de bombeamento até ser criado um elevado vácuo, se seguindo uma etapa de condicionamento de canhão de íons (IGC - Ion Gun Conditioning, tal como revelado em FR 2957454, 0,0035 Pa (3,5x10-5 mBar) como pressão inicial, 140 V, 3,5 A, argônio, 60 segundos), uma etapa de ativação de superfície de substrato usando um bombardeamento com um feixe de íons de argônio (IPC) com uma pressão inicial de 5,10-4 mBar (o canhão de íons foi definido para 1 A, 100 V, 60 segundos), a paragem da irradiação iônica e, em seguida, a evaporação de modo sucessivo do número requerido de camadas (camadas de impedância ópticas intermédias opcionais, subcamada, camadas de revestimento antirreflexo e revestimento antissujidade) em uma taxa variando de 0,4 a 3 nm/s, e por último uma etapa de ventilação.

[0162] A formação de uma pilha antirreflexo de acordo com o presente invento compreende uma etapa de deposição de uma camada fina (de impedância) óptica de SiO2 em uma taxa de 2 nm/s sob uma pressão O2 de 8,10-5 mBar, uma etapa de deposição de uma camada fina (de impedância) óptica de ZrO 2 em uma taxa de 1 nm/s sob uma pressão O2 de 7,10-5 mBar, uma etapa de ativação de superfície dessa camada de ZrO2 usando um feixe de íons de argônio por 30 segundos (o mesmo tratamento de IPC já realizado diretamente no substrato), uma etapa de deposição de uma subcamada de SiO2 em uma taxa de 3 nm/s opcionalmente em uma atmosfera de O2 (a uma pressão de 0,021 Pa (2,1x10-4 mBar) nos exemplos comparativos 3, 4 e 5 onde foi fornecido gás O2, ou 0,0015 Pa (1,5x10-5 mBar) nos outros exemplos onde não foi efetuado nenhum abastecimento de gás suplementar), uma etapa de ativação de superfície da subcamada usando um feixe de íons de argônio por 30 segundos (o mesmo tratamento de IPC já realizado diretamente no substrato), uma etapa de deposição de uma camada EI (ZrO2) em uma taxa de 2 nm/s sob uma pressão O2 de 7,10-5 mBar, uma etapa de deposição de uma camada EI (SiO 2) em uma taxa de 2 nm/s, uma etapa de deposição de uma camada EI (ZrO2) em uma taxa de 2 nm/s sob uma pressão O2 de 7,10-5 mBar (com uma assistência por íons de oxigênio nos exemplos 1, 2, 4 e no exemplo comparativo 4; canhão de íons: 3 A, 300 V), uma etapa de deposição de uma camada de SnO2 (EI, eletricamente condutiva) em uma taxa de 1 nm/s com uma assistência por íons de oxigênio (canhão de íons: 1,2 A, 100 V), uma etapa de deposição de uma camada BI (SiO2) em uma taxa de 3 nm/s, e por último uma etapa de deposição de uma camada Optool DSX® em uma taxa de 0,4 nm/s.

[0163] Nos exemplos 1 a 5 e nos exemplos comparativos 1 e 2, foi efetuada uma etapa de ativação de superfície usando um feixe de íons de argônio por 30 segundos (o mesmo tratamento de IPC já realizado diretamente no substrato) em cada camada do revestimento antirreflexo exceto a camada de SiO2 externa.

[0164] Nos exemplos comparativos 1 e 2, foram omitidas as características (a) e (b), ou seja, a proporção RD era menor que 2 e a deposição da camada de ZrO2 mais extrema foi realizada sem assistência iônica.

[0165] No exemplo comparativo 3, foi omitida a característica (b), ou seja, a deposição da camada de ZrO2 mais extrema foi realizada sem assistência iônica, e a subcamada tinha uma espessura menor que 250 nm.

[0166] No exemplo comparativo 4, foi omitida a característica (a), ou seja, a proporção RD era menor que 2, e a subcamada tinha uma espessura menor que 250 nm.

[0167] No exemplo comparativo 5, foram omitidas as características (a) e (b), ou seja, a proporção RD era menor que 2 e a deposição da camada de ZrO2 mais extrema foi realizada sem assistência iônica e a subcamada tinha uma espessura menor que 250 nm.

3. Métodos de teste

[0168] Os seguintes procedimentos de teste foram usados para avaliar os artigos ópticos preparados de acordo com o presente invento. Diversas amostras para cada sistema foram preparadas para medições e os dados reportados foram calculados com a média das diferentes amostras.

[0169] As medições colorimétricas (em reflexão) da face revestida com a pilha do invento: fator de reflexão Rv, ângulo de matiz h e cromaticidade C* no espaço (L*, a*, b*) CIE colorimétrico internacional foram realizadas com um espectrofotômetro Zeiss, levando em conta o iluminante D65 padrão, e o observador padrão 10° (para h e C*). As mesmas são fornecidas para um ângulo de incidência de 15°.

[0170] A temperatura crítica do artigo foi medida da maneira indicada no pedido de patente WO 2008/001011. A mesma foi medida uma semana após a produção do artigo, em um substrato de lente ORMA® (polímero obtido por polimerização de bis (alil carbonato) de dietilenoglicol de Essilor com base no monômero CR-39®, índice refrativo = 1,5), em vez de um substrato de lente MR8® e com o mesmo revestimento duro/primário como nos exemplos.

[0171] A espessura das camadas foi controlada por meio de uma microbalança de cristal de quartzo.

[0172] A resistência à abrasão foi determinada como revelado em WO 2012/173596. Especificamente, a resistência à abrasão foi medida por meio do teste de Bayer da areia, de acordo com a norma ASTM F735-81, 1 semana após a produção do artigo.

[0173] Os inventores notaram que o valor Bayer do artigo está diminuindo após o mesmo ter sido fabricado. É preferível medir o valor após a estabilização, p. ex., pelo menos 1 semana após a fabricação. Nesse pedido, os valores Bayer para os exemplos foram medidos 1 semana após os artigos terem sido fabricados.

[0174] As propriedades de aderência da totalidade do revestimento de interferência ao substrato foram verificadas na face convexa da lente por meio do teste comumente referido em francês como o teste de “nx10 coups” (ou seja, o teste de “n×10 sopros”) descrito nos pedidos de patente internacionais WO 2010/109154 e WO 99/49097. O teste é efetuado de acordo com ISTM 02-011. Resumidamente, uma amostra para ser testada é colocada em um grampo e coberta com um tecido Selvyt impregnado com álcool isopropílico. Um apagador posicionado em um suporte se movendo em translação é colocado em contato com o tecido. O apagador é pressionado (força = 60 Newtons) no tecido Selvyt colocado em contato com a lente. O teste consiste na determinação, para cada amostra, do número de ciclos requeridos para causar o aparecimento de um defeito no revestimento antirreflexo. Por consequência, quanto maior o valor obtido no teste de n×10 sopros (média em 10 ou 20 amostras), melhor a aderência do revestimento de interferência ao substrato. Se não existir nenhum defeito após 9 ciclos, um artigo passa no teste com êxito.

4. Resultados

[0175] As características estruturais e os desempenhos ópticos, mecânicos e termomecânicos das lentes oftálmicas obtidas nos exemplos são detalhados abaixo.

A subcamada é de cor cinza.

A espessura total mencionada é a espessura da pilha compreendendo o revestimento antirreflexo e as seguintes camadas adicionais: subcamada, camadas de impedância ópticas.

Exemplo 1 Exemplo 2 Exemplo 3

Substrato + Substrato + Substrato + primário/revestimento primário/revestimento primário/revestimento duro duro duro SiO2 (b) 29 nm SiO2 (b) 29 nm SiO2 (b) 29 nm ZrO2 (a, b) 5 nm ZrO2 (a, b) 5 nm ZrO2 (a, b) 5 nm SiO2 (a) 350 nm SiO2 (a) 350 nm SiO2 (a) 350 nm ZrO2 (a, b) 20 nm ZrO2 (a, b) 11 nm ZrO2 (a, b) 11 nm SiO2 (a) 21 nm SiO2 (a) 34 nm SiO2 (a) 34 nm ZrO2 (a, l, c) 88 nm ZrO2 (a, l, c) 30 nm ZrO2 (a, b) 30 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SiO2 78 nm SiO2 132 nm SiO2 132 nm Revestimento superior Revestimento superior Revestimento superior

RD 0,83 RD 3,62 RD 3,62 RT 0,86 RT 3,49 RT 3,49 Bayer da Bayer da Bayer da 9,5 9,9 8,2 Areia Areia Areia Tc 75°C Tc 70°C Tc 70°C Teste de 10/10 Teste de 9/10 Teste de 10/10 nx10 sopros Passam nx10 sopros Passam nx10 sopros Passam 1,1-2,9 2,2-2,7 Rv Rv Rv 2,7-2,8% % % Espessura Espessura Espessura 597,5 nm 597,5 nm 597,5 nm total total total

Exemplo 4 Exemplo 5 Exemplo comparativo 1

Substrato + Substrato + Substrato + primário/revestimento primário/revestimento primário/revestimento duro duro duro SiO2 (b) 29 nm SiO2 (b) 37 nm SiO2 (b) 35 nm ZrO2 (a, b) 5 nm ZrO2 (a, b) 6,5 nm ZrO2 (a, b) 5 nm SiO2 (a) 350 nm SiO2 (a) 351 nm SiO2 (a) 370 nm ZrO2 (a, b) 16 nm ZrO2 (a, b) 25 nm ZrO2 (a, b) 26 nm SiO2 (a) 31 nm SiO2 (a) 39 nm SiO2 (a) 12,5 nm

ZrO2 (a, b) 43 nm ZrO2 (a, b) 40 nm ZrO2 (a, b) 98,5 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SiO2 118 nm SiO2 98 nm SiO2 81 nm Revestimento superior Revestimento superior Revestimento superior

RD 2,38 RD 2,11 RD 0,77 RT 2,27 RT 1,92 RT 0,71 Bayer da Bayer da Bayer da 8,3 8,1 6,3 Areia Areia Areia Tc 70°C Tc 67°C Tc 66°C Teste de 10/10 Teste de 10/10 Teste de 10/10 nx10 sopros Passam nx10 sopros Passam nx10 sopros Passam C* C* 12 C* 12 h (°) h (°) 144 h (°) 144 σh σh 6,7 σh 6,6 1,9-2,1 Rv Rv 0,83 % Rv 0,79 % % Espessura Espessura Espessura 598,5 nm 603 nm 634,5 nm total total total

Exemplo comparativo 2 Exemplo comparativo 3 Exemplo comparativo 4

Substrato + Substrato + Substrato + primário/revestimento duro primário/revestimento duro primário/revestimento duro SiO2 (b) 29 nm SiO2 (b) 29 nm SiO2 (b) 29 nm ZrO2 (a, b) 5 nm ZrO2 (a, b) 5 nm ZrO2 (a, b) 5 nm SiO2 (a) 350 nm SiO2 (a, b) 150 nm SiO2 (a, b) 150 nm ZrO2 (a, b) 20 nm ZrO2 (b) 16 nm ZrO2 (b) 20 nm SiO2 (a) 21 nm SiO2 31 nm SiO2 21 nm ZrO2 (a, b) 88 nm ZrO2 (b) 43 nm ZrO2 (l, c) 88 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SnO2 (c) 6,5 nm SnO2 (c) 6,5 nm SiO2 78 nm SiO2 118 nm SiO2 78 nm Revestimento superior Revestimento superior Revestimento superior

RD 0,83 RD 2,38 RD 0,83 RT 0,86 RT 2,27 RT 0,86 Bayer da Areia 6,8 Bayer da Areia 6,2 Bayer da Areia 6,3 Tc 65°C Tc 60°C Tc 65°C Teste de nx10 10/10 Teste de nx10 10/10 Teste de nx10 9/10 sopros Passam sopros Passam sopros Passam Rv 0,7 % Rv 1,8-2,1 % Rv 0,7-1,8 % Espessura total 597,5 nm Espessura total 398,5 nm Espessura total 397,5 nm

Exemplo comparativo 5 Exemplo 6 Substrato + primário/revestimento Substrato + primário/revestimento duro duro SiO2 (b) 29 nm SiO2 (b) 35 nm ZrO2 (a, b) 5 nm ZrO2 (a, b) 5 nm SiO2 (a, b) 150 nm SiO2 (a) 370 nm ZrO2 (b) 20 nm ZrO2 (a, b) 26 nm SiO2 21 nm SiO2 (a) 12,5 nm ZrO2 (b) 88 nm ZrO2 (a, l, c) 98,5 nm SnO2 (c) 6,5 nm SnO2 (a, c) 6,5 nm SiO2 78 nm SiO2 81 nm Revestimento superior Revestimento superior RD 0,83 RD 0,77 RT 0,86 RT 0,71 Bayer da Areia 5,2 Bayer da Areia 10,3 Tc 57°C Tc 70°C Teste de nx10 10/10 Teste de nx10 20/20 sopros Passam sopros Passam Rv 0,85 % Rv 0,79 % Espessura total 397,5 nmEspessura total 634,5 nm C* 12 h (°) 144 (a) Tratamento por bombardeamento iônico da superfície da camada antes da deposição da camada seguinte. (b) Abastecimento de oxigênio durante a deposição. (c) Deposição assistida por íons (IAD).

[0176] Em todos os exemplos, existem duas camadas adjacentes de elevado índice refrativo na posição mais extrema no revestimento interferencial. Isso significa que as espessuras dessas duas camadas adjacentes são levadas em conta para o cálculo do denominador da proporção RD.

[0177] Os artigos ópticos de acordo com o invento, tendo uma subcamada espessa (> 250 nm) e uma proporção RD elevada (exemplos 3 a 5), ou uma camada mais extrema de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo uma espessura ≥ 15 nm depositada sob assistência iônica (exemplo 1), ou ambas (exemplo 2), exibem melhor resistência à abrasão e melhor resistência à temperatura que os artigos comparativos (comparar exemplo 1 com os exemplos comparativos 2, 4 ou 5 ou exemplo 4 com o exemplo comparativo 3), mantendo ao mesmo tempo um nível similar de aderência e desempenho antirreflexo. Os valores Bayer obtidos são maiores que 8, o que indica um nível muito elevado de resistência à abrasão. Uma comparação do exemplo 1 com o exemplo comparativo 4 mostra o efeito benéfico na resistência à abrasão de ter uma subcamada espessa. Uma diferença de mais de 3 pontos é obtida nos valores Bayer, o que é altamente significativo. Uma comparação do exemplo 4 com o exemplo comparativo 2 (ou do exemplo comparativo 3 com o exemplo comparativo 5) mostra o efeito benéfico na resistência à abrasão de ter uma proporção RD elevada. Uma diferença de 1 a 2 pontos é obtida nos valores Bayer, o que é altamente significativo. Ademais, uma comparação do exemplo 1 com o exemplo comparativo 2 (ou do exemplo 2 com o exemplo 3) mostra o efeito benéfico na resistência à abrasão de ter uma camada mais extrema de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo uma espessura ≥ 15 nm depositada sob assistência iônica. Uma diferença de quase 3 pontos é obtida nos valores Bayer, o que é altamente significativo.

[0178] Nos exemplos 1 a 4, as propriedades antirreflexo dos revestimentos não foram otimizadas, mas o exemplo 5 mostra que é possível obter simultaneamente boas propriedades mecânicas, termomecânicas e ópticas (baixa reflexão e elevada robustez óptica).

Claims (18)

REIVINDICAÇÕES

1. Artigo óptico caracterizado pelo fato de que compreende um substrato tendo pelo menos uma face principal sucessivamente revestida com: - uma subcamada monocamada tendo uma espessura igual ou superior a 250 nm, - um revestimento interferencial multicamada compreendendo uma pilha de pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo um índice refrativo de 1,55 ou menos, em que: o artigo óptico tem um valor Bayer determinado de acordo com a norma ASTM F735-81 igual ou superior a 7, e a) a proporção: é igual ou superior a 1,5, e/ou b) o revestimento interferencial compreende pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm, e a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato foi realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.

2. Artigo óptico, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a subcamada tem uma espessura igual ou superior a 300 nm.

3. Artigo óptico, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que a subcamada é uma camada à base de SiO2.

4. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que a subcamada se encontra em contato direto com o revestimento interferencial.

5. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4,

caracterizado pelo fato de que a deposição da subcamada é realizada em uma câmara de vácuo sob uma pressão menor que 0,016 Pa (1,6x10-4 mBar).

6. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que a deposição da subcamada é realizada em uma câmara de vácuo na qual nenhum gás suplementar é fornecido durante a referida deposição.

7. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que a proporção RD é igual ou superior a 2.

8. Artigo óptico, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que a proporção RD é igual ou superior a 2,7.

9. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que o artigo óptico tem um valor Bayer determinado de acordo com a norma ASTM F735-81 igual ou superior a 8.

10. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de que o revestimento interferencial compreende pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm, e a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato foi realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.

11. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que: a) a proporção RD é igual ou superior a 1,5, e b) a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato é realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.

12. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de que o revestimento interferencial é um revestimento antirreflexo.

13. Artigo óptico, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado pelo fato de que o artigo óptico é uma lente oftálmica.

14. Método de fabricação de um artigo óptico, como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 13, caracterizado pelo fato de que compreende: - o fornecimento de um artigo óptico compreendendo um substrato tendo pelo menos uma face principal, - a deposição em uma superfície principal do substrato de uma subcamada monocamada tendo uma superfície exposta e uma espessura igual ou superior a 250 nm, - a deposição na referida superfície exposta da subcamada de um revestimento interferencial multicamada compreendendo pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e pelo menos uma camada de baixo índice refrativo tendo um índice refrativo de 1,55 ou menos, obtendo assim um artigo óptico revestido, tendo um valor Bayer determinado de acordo com a norma ASTM F735-81 igual ou superior a 7, e a) a proporção: é igual ou superior a 1,5, e/ou b) o revestimento interferencial compreende pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm, e a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato é realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.

15. Método, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que a superfície exposta da subcamada é submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição do referido revestimento interferencial multicamada, e em que a deposição da subcamada é realizada em uma câmara de vácuo na qual nenhum gás suplementar é fornecido durante a referida deposição.

16. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 14 ou 15, caracterizado pelo fato de que a superfície exposta de pelo menos uma camada do revestimento interferencial multicamada é submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da camada subsequente do referido revestimento interferencial multicamada.

17. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 14 a 16, caracterizado pelo fato de que a superfície exposta de cada camada do revestimento interferencial multicamada exceto a mais afastada do substrato é submetida a um tratamento por bombardeamento iônico antes da deposição da camada subsequente do referido revestimento interferencial multicamada.

18. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 14 a 17, caracterizado pelo fato de que o revestimento interferencial compreende pelo menos uma camada de elevado índice refrativo tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm, e a deposição da camada de elevado índice refrativo do revestimento interferencial tendo um índice refrativo maior que 1,55 e uma espessura igual ou superior a 15 nm que é a mais afastada do substrato é realizada sob assistência iônica bombardeando por meio de um feixe de íons a referida camada de elevado índice refrativo enquanto a mesma está sendo formada.