JPS62186203A - プラスチツク製光学部品の反射防止膜 - Google Patents
プラスチツク製光学部品の反射防止膜Info
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- JPS62186203A JPS62186203A JP61028547A JP2854786A JPS62186203A JP S62186203 A JPS62186203 A JP S62186203A JP 61028547 A JP61028547 A JP 61028547A JP 2854786 A JP2854786 A JP 2854786A JP S62186203 A JPS62186203 A JP S62186203A
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- Pending
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビデオカメラ、スチルカメラ、光ピツクアップ
用レンズ、ブロジェクシ冒ンテレビ、複写機等に使われ
る光学部品の反射防止膜に関する〔従来技術とその問題
点〕 最近の超精密加工機の発達と射出成形技術の向上により
光学部品としてプラスチックレンズが使われるようにな
って来た。そして有機系合成樹脂としての長所は生され
、加工性、軽ｔａ、ｍ産性など有利だが、一方、無機ガ
ラスと比較して、熱変形温度が低い、流動加工温度が低
い、真空蒸着法による成膜時、放出ガスが発生するとい
う問題も生じてくる。無機ガラスに蒸着膜を形成する時
、一般に基板加熱温度は２００℃〜３００℃として行な
う。基板加熱による活性化は、クリーンな表面となると
みられ、より強固な密着力が実現できる。しかしプラス
チック製光学部品では、６０℃〜１００℃までしか温度
が上げられず、充分な密着力は期待できない。一方、こ
の対策として、Ｒ１イオンブレーティング法や部分スパ
ッタ法などを真空蒸着時に併用することで密着力を向上
させる提案が数多く見られる。これは初期密着性は充分
その効果は確認されるが、長期耐久性において、極端に
劣化が見られる。
用レンズ、ブロジェクシ冒ンテレビ、複写機等に使われ
る光学部品の反射防止膜に関する〔従来技術とその問題
点〕 最近の超精密加工機の発達と射出成形技術の向上により
光学部品としてプラスチックレンズが使われるようにな
って来た。そして有機系合成樹脂としての長所は生され
、加工性、軽ｔａ、ｍ産性など有利だが、一方、無機ガ
ラスと比較して、熱変形温度が低い、流動加工温度が低
い、真空蒸着法による成膜時、放出ガスが発生するとい
う問題も生じてくる。無機ガラスに蒸着膜を形成する時
、一般に基板加熱温度は２００℃〜３００℃として行な
う。基板加熱による活性化は、クリーンな表面となると
みられ、より強固な密着力が実現できる。しかしプラス
チック製光学部品では、６０℃〜１００℃までしか温度
が上げられず、充分な密着力は期待できない。一方、こ
の対策として、Ｒ１イオンブレーティング法や部分スパ
ッタ法などを真空蒸着時に併用することで密着力を向上
させる提案が数多く見られる。これは初期密着性は充分
その効果は確認されるが、長期耐久性において、極端に
劣化が見られる。
本発明はプラスチック光学部品に反射防止膜を成形する
に際しｆｆｉ産安定があり密着性の向上した反射防止膜
を提案することである。
に際しｆｆｉ産安定があり密着性の向上した反射防止膜
を提案することである。
本発明の反射防止膜は、プラスチック光学部品の表面に
第１ Ｗｌとして二酸化ケイ素（ＳＳＯ，）の蒸着膜を
成形し、第２層として弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）の
蒸着膜を形成したことによる。そして、屈折率をそれぞ
れＮ１５Ｎ２、幾何学的膜厚をｄ１＊ｄ２、設計基準波
長をλ。とするとき、各層の光学的膜厚が設計基準波長
に対し、０．００１λ。≦Ｎｌ ｄｌ≦ｏ、 ｏ ｓ
ｏλ。
第１ Ｗｌとして二酸化ケイ素（ＳＳＯ，）の蒸着膜を
成形し、第２層として弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）の
蒸着膜を形成したことによる。そして、屈折率をそれぞ
れＮ１５Ｎ２、幾何学的膜厚をｄ１＊ｄ２、設計基準波
長をλ。とするとき、各層の光学的膜厚が設計基準波長
に対し、０．００１λ。≦Ｎｌ ｄｌ≦ｏ、 ｏ ｓ
ｏλ。
０、１２５λ。（Ｎ、 ｄ、 （（Ｌ３７５λ。
の範囲内にあることを特徴とするものである。
更に前記反射防止膜を６０”Ｃ〜１００ ’Ｃの基板加
熱下で蒸着膜を成形したことを特徴とするものであるこ
と。更に第２ ）ｇＩとして酸化スズを成膜したもので
ある。
熱下で蒸着膜を成形したことを特徴とするものであるこ
と。更に第２ ）ｇＩとして酸化スズを成膜したもので
ある。
本発明により、プラスチック表面との密着性が著しく向
上したすぐれた反射防止膜を得ることが出来る。
上したすぐれた反射防止膜を得ることが出来る。
以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は本発明のプラスチック製光学部品の反射防止膜
の構成図を示すものである。
の構成図を示すものである。
具体的内容は第１図に示したものである。製造方法はプ
ラスチック光学部品の加熱温度７０℃にした真空蒸着法
により形成した。
ラスチック光学部品の加熱温度７０℃にした真空蒸着法
により形成した。
本発明の実施例の反射防止膜と従来の反射防止膜との耐
久性を比較するために行なった試験は、（１）耐湿試験
（温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下に１０００Ｈ
放置）。（２）耐熱試験（温度８０℃の雰囲気下で１０
００”放置）。（８）熱衝撃試験（−２０℃。７０℃の
雰囲気下を交互に１時間づつくり返し、４０時間ンであ
る。従来例は膜構成は、実施例膜厚相当の約１１００Ｘ
の厚さを形成したものを使用した。
久性を比較するために行なった試験は、（１）耐湿試験
（温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気下に１０００Ｈ
放置）。（２）耐熱試験（温度８０℃の雰囲気下で１０
００”放置）。（８）熱衝撃試験（−２０℃。７０℃の
雰囲気下を交互に１時間づつくり返し、４０時間ンであ
る。従来例は膜構成は、実施例膜厚相当の約１１００Ｘ
の厚さを形成したものを使用した。
一方実施例１は特許請求の範囲（１）の第１Ｎに二酸化
ケイ素を、第２層に弗化マグネシウムを蒸着する。実施
例２、特許請求の範囲（２）の光学部品の加熱（６０℃
〜１００℃）を実行した例。実施例３は特許請求の範囲
（３）の第１層に二酸化ケイ素を、第２層に弗化マグネ
シウムを蒸着した例である第２表から明らかに本発明の
効果は従来例より優れている。
ケイ素を、第２層に弗化マグネシウムを蒸着する。実施
例２、特許請求の範囲（２）の光学部品の加熱（６０℃
〜１００℃）を実行した例。実施例３は特許請求の範囲
（３）の第１層に二酸化ケイ素を、第２層に弗化マグネ
シウムを蒸着した例である第２表から明らかに本発明の
効果は従来例より優れている。
このように本発明のプラスチック製光学部品の反射防止
膜は、従来がら問題となっている欠点を解消し、量産安
定した密着性向上の見られる反射防止膜であり、きわめ
て実用性が高いものである第１表 第 ２ 表
膜は、従来がら問題となっている欠点を解消し、量産安
定した密着性向上の見られる反射防止膜であり、きわめ
て実用性が高いものである第１表 第 ２ 表
第１図は本発明の実施例に基づく構成図である以 上
出願人 セイコーエプソン株式会社
１− ！ｔＪ労９；Ｐ品
Claims (3)
- （１）プラスチック製光学部品の表面に二酸化ケイ素よ
りなる第１層が形成され、該第１層の上に弗化マグネシ
ウムよりなる第２層が形成されて反射防止膜を構成する
構造において、前記第１層および第２層は、その屈折率
をＮ＿１、Ｎ＿２、幾何学的膜厚をｄ＿１、ｄ＿２、設
計基準波長をλ＿０とするとき、各層の光学的膜厚Ｎ＿
１ｄ＿１およびＮ＿２ｄ＿２が設計基準波長λ＿０に対
し ０．００１λ＿０≦Ｎ＿１ｄ＿１≦０．０５０λ＿００
．１２５λ＿０＜Ｎ＿２ｄ＿２＜０．３λ＿０の範囲内
にあることを特徴とするプラスチック製光学部品の反射
防止膜。 - （２）前記第１層および第２層はプラスチック製光学部
品を６０℃〜１００℃に保持した状態で形成されたもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプ
ラスチック製光学部品の反射防止膜。 - （３）前記第２層の弗化マグネシウムのかわりに、酸化
スズを形成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載のプラスチック製光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61028547A JPS62186203A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61028547A JPS62186203A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62186203A true JPS62186203A (ja) | 1987-08-14 |
Family
ID=12251684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61028547A Pending JPS62186203A (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62186203A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7175878B2 (en) * | 2000-11-28 | 2007-02-13 | Essilor International | Cold antireflection layer deposition process |
| JP2008276112A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Canon Electronics Inc | Ｎｄフィルタ |
| JP2010054999A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Canon Electronics Inc | 光学フィルタ及び光学フィルタの製造方法 |
-
1986
- 1986-02-12 JP JP61028547A patent/JPS62186203A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7175878B2 (en) * | 2000-11-28 | 2007-02-13 | Essilor International | Cold antireflection layer deposition process |
| JP2008276112A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Canon Electronics Inc | Ｎｄフィルタ |
| JP2010054999A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Canon Electronics Inc | 光学フィルタ及び光学フィルタの製造方法 |
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