JPH10123301A - 反射防止層を有する光学物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用目的、使用環境、基材の種類等の各種条
件の変化によっても、反射防止性、耐候性、耐摩耗性、
耐衝撃性等の性能が低下しない高性能光学物品を提供す
る。 【解決手段】 合成樹脂からなる基材、この基材上に形
成される有機ケイ素化合物からなるハードコート層と、
その上に形成される多層の反射防止膜を有し、反射防止
膜は、第１層が酸化チタンまたは酸化ジルコニウムを主
成分とする層、第２層が酸化ケイ素を主成分とする層、
第３層が酸化チタンまたは酸化ジルコニウムを主成分と
する層、第４層が酸化ケイ素を主成分とする層により構
成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、メガネレンズや
カメラレンズ、もしくは光学フィルター等に有用な反射
防止層を有する光学物品に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、プラスチックは、ガラスに比
べて軽量で、かつ加工性、耐衝撃性に優れ、染色しやす
い等の有用な利点を備えていることから、ガラスに代わ
る光学部材として注目されている。たとえば、プラスチ
ックレンズは、従来のガラスレンズに比べて軽量である
ため、ガラスレンズに代わるものとして、使用目的に応
じて改良したプラスチックレンズが次々に提案されてい
る。最近では、レンズの薄型化のために、高屈折率、低
色収差のプラスチックレンズが数多く提案されている。

【０００３】ただ、一般にプラスチックには、前記のよ
うな数多くの有用な利点を有しているが、その反面、硬
度が不十分で傷がつきやすく、溶媒に侵されやすく、帯
電して埃を吸着し、耐熱性が不十分である等の欠点もま
た有している。実際に、たとえば、メガネレンズやカメ
ラレンズなどの光学部材として使用するには、これらの
欠点によって、ガラスに比べ実用上不満足である。そこ
で、通常は、光学部材に用いられているプラスチック基
材の表面には、プラスチック基材の前記のような欠点を
カバーするためのコーティングが目的に応じて施されて
いる。

【０００４】そしてまた、このような表面コーティング
の機能の一つとして、プラスチック基材表面の反射防止
が考慮されてきてもいる。この反射防止についてはこれ
までにも様々な改良がなされ、数多くの提案が行われて
きている。たとえばその一例として、プラスチックの薄
型化による高屈折率化や非球面化に伴うレンズの曲率の
拡大から、反射像が目立つようになってきたことから、
この表面反射を抑止するために、従来のプラスチック基
板に対する反射防止膜よりもさらに表面反射を少なくす
るというような多層反射防止膜も提案されている。

【０００５】特開昭５６−１１３１０１、特開昭５９−
４８７０２、特開昭５９−７８３０１、特開昭５９−７
８３０４、特開平４−２１７２０３、特開平４−３２８
５０１、特開平４−３５５４０２、特開平５−３３０８
４９、特開平５−５３００２、特公平６−８５００２、
特開平６−１１６０２などに開示されている諸提案であ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】一方、最近の眼鏡レン
ズ等の光学物品に対しては、より反射防止性能、耐擦傷
性、密着性、耐温水性、耐薬品性、耐候性、耐衝撃性の
高いものが要求されている。特に眼鏡レンズは、その使
用目的、使用環境、デザイン等の多用化により、上記の
性能をさらに向上させる必要性が生じている。

【０００７】しかしながら、これまでに提案されている
反射防止手段については、いずれもが反射防止性能、耐
擦傷性、密着性、耐熱性、耐温水性、耐薬品性、耐候
性、耐衝撃性の全てに優れているようなものはなかっ
た。また、レンズの薄型化に伴って、基材となる材料の
種類を変化させた場合、基材上に形成するハードコート
膜や反射防止膜等の薄膜の性能が変化してしまい、上記
の各性能が低下することがあるという問題点も生じてい
た。

【０００８】そこでこの発明は、以上のとおりの従来の
問題を解消し、使用目的、使用環境、デザイン、基材の
種類等の各種条件が変化しても、反射防止のために必要
とされる表面特性を有し、しかもその性能が低下しな
い、より高性能な光学物品を提供することを目的として
いる。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成すべ
く、この出願の発明者は、従来の樹脂基材上に有機ケイ
素化合物からなるハードコート膜を浸漬法により形成
し、さらにその上に無機化合物からなる多層の反射防止
膜を真空蒸着法により形成し、耐擦傷性、密着性、耐温
水性、耐薬品性、耐候性、耐衝撃性に関する試験を行っ
た。

【００１０】そして、その性能試験の結果と試験後の光
学物品の観察結果からハードコート膜や反射防止膜の材
料や膜厚、製造方法や製造条件についてさらに検討し
た。その結果、発明者は、基材とハードコート膜、ハー
ドコート膜と反射防止層との構成を特有のものとし、こ
れらの各界面に着目し、特に基材とハードコート膜の界
面の性能を改善すれば、上記性能を向上させることがで
きることを見い出した。

【００１１】また、前記界面の改善に加えて、反射防止
膜の製造方法を改善すれば、さらに性能を向上させるこ
とが可能であることも判明した。加えて、この出願の発
明者は、特定のハードコート層の組成における、好まし
い製造条件を見い出すことに成功した。そこで、この出
願の発明は、第１には、合成樹脂からなる基材、前記基
材上に形成され有機ケイ素化合物からなるハードコート
層と前記ハードコート層上に形成される多層の反射防止
膜を有する光学物品であって、前記反射防止膜が前記ハ
ードコート層側から空気側に向かって、第１層が酸化チ
タンまたは酸化ジルコニウムを主成分とする層、第２層
が酸化ケイ素を主成分とする層、第３層が酸化チタンま
たは酸化ジルコニウムを主成分とする層、第４層が酸化
ケイ素を主成分とする層である光学物品を提供する。

【００１２】また、第２には、設計波長をλ₀ としたと
き、前記反射防止膜の光学的膜厚が 第１層：ｎ₁ ｄ₁ ＝０．０３〜０．０８λ₀ 第２層：ｎ₂ ｄ₂ ＝０．０６〜０．１４λ₀ 第３層：ｎ₃ ｄ₃ ＝０．４０〜０．６０λ₀ 第４層：ｎ₄ ｄ₄ ＝０．２２〜０．２７λ₀ で表されるｎ₁ ｄ₁ 、ｎ₂ ｄ₂ 、ｎ₃ ｄ₃ およびｎ₄ ｄ
₄ の値を有することを特徴とする光学物品を提供する。
ただし、ここで、ｎ₁ 、ｎ₂ 、ｎ₃ 、ｎ₄ は設計波長λ
₀ に対する第１層、第２層、第３層、第４層の屈折率で
あり、ｄ₁ 、ｄ₂、ｄ₃ 、ｄ₄ は第１層、第２層、第３
層、第４層の物理的膜厚である。

【００１３】そして、第３には、前記ハードコート層
が、下記一般式 Ｒ¹ _a Ｒ² _b Ｓｉ（ＯＲ³ ）_4-(a+b) （なお、ここで、Ｒ¹ およびＲ² は、アルキル基と、ア
ルケニル基と、アリール基と、ハロゲン基、エポキシ
基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタク
リルオキシ基またはシアノ基を有する炭化水素基とから
独立して選ばれる有機基であり、Ｒ³ は、炭素数１〜８
のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、また
はアリール基であり、ａは０または１、ｂは０または１
である。）で表される有機ケイ素化合物／およびまたは
その加水分解生成物であることや、前記ハードコート層
が、酸化スズのコロイド粒子を核にその周辺を酸化スズ
−酸化タングステンの複合体のコロイド粒子が取り囲ん
だ二重構造を有する平均粒子径が１〜３００μｍである
変成ゾルを５〜８０重量％含む有機ケイ素化合物、また
は平均粒子径が１〜３００μｍの二酸化ケイ素微粒子を
５〜８０重量％含む有機ケイ素化合物であることを特徴
とする光学物品を提供する。

【００１４】第４には、前記合成樹脂がポリウレタン系
樹脂またはジエチレングリコールビスアリルカーボネー
トの重合体であることや、前記ポリウレタン系樹脂がｍ
−キシリレンジイソシアネートと、ペンタエリスリトー
ルテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）とを重
合して得られる樹脂、またはｍ−キシリレンジイソシア
ネートと、１，２−ビス｛（２−メルカプトエチル）チ
オ｝メルカプトプロパンとを重合して得られる樹脂、ま
たは４−メルカプトメチル−３，６−ジチア−１，８−
オクタンジチオールおよびその重合度５以下の脱水素縮
合物の混合物であり、４−メルカプトメチル−３，６−
ジチア−１，８−オクタンジチオールを７５〜９０重量
％を含む混合物と、ジシクロヘキシルメタン−４，４′
−ジイソアネートとを重合させて得られる樹脂である光
学物品を提供する。

【００１５】さらに、この出願の発明は、第５には、前
記ハードコート膜と前記反射防止膜との界面の前記ハー
ドコート膜側の表面付近に水素原子が６×１０²¹（ａｔ
ｏｍｓ／ｃｍ³ ）以下、存在していることや、前記ハー
ドコート膜と前記反射防止膜との界面の前記ハードコー
ト膜側の表面付近に不活性元素が存在していることを特
徴とする光学物品を提供する。

【００１６】また、第６には、合成樹脂性の基材を用意
する工程、浸漬法により有機ケイ素化合物または無機微
粒子を含有する有機ケイ素化合物を塗布することにより
ハードコート層を形成する工程、前記ハードコート層の
表面をイオンビームクリーニングによる処理を行う工
程、前記処理後多層の反射防止膜を真空蒸着法またはス
パッタリング法またはイオンプレーティング法により形
成する工程を有する光学物品の製造方法を提供する。

【００１７】そして、この方法において、少なくとも前
記第３層と第４層の反射防止膜の形成時にイオンビーム
アシストを行う工程を含むことや、前記ハードコート層
表面をイオンビームクリーニングを行い、かつ少なくと
も前記第３層と第４層の反射防止膜の形成時にイオンビ
ームアシストすること、前記イオンビームクリーニング
の処理条件をアルゴンまたは酸素またはアルゴンと酸素
の混合ガスを使用し、真空槽内の圧力を１×１０^-4Ｔｏ
ｒｒ以下に設定し、イオン電流密度を０．３〜３０μＡ
／ｃｍ² に設定すること、前記イオンビームクリーニン
グの処理において、ビームの照射時間を１５〜１２０秒
に設定することも新たな手段として提供する。

【００１８】

【発明の実施の形態】この発明では、上記のとおりの反
射防止膜の構成については、第１層の酸化チタンまたは
酸化ジルコニウムを主成分とする層は、下のハードコー
ト層と上の二酸化ケイ素を主成分とする層の双方に対
し、密着性を向上させ、第２層の二酸化ケイ素を主成分
とする層は、第１層と第３層の酸化チタンまたは酸化ジ
ルコニウムを主成分とする層に対して密着性を向上させ
ると共に、第１層の酸化チタンまたは酸化ジルコニウム
を主成分とする層と組み合わせて第３層、第４層と比べ
て中間屈折率とするためのものであり、この第１層と第
２層とで全体として中間屈折率の層となる。さらに、第
３層に酸化チタンまたは酸化ジルコニウムを主成分とす
る高屈折率の層と、第４層に二酸化ケイ素を主成分とす
る低屈折率の層を設けることにより、全体として反射防
止機能を優れたものとする。

【００１９】この場合、より好ましい光学膜厚として
は、上記のように、設計波長λ₀ が４５０〜６００ｎｍ
の範囲において 第１層：ｎ₁ ｄ₁ ＝０．０３〜０．０８λ₀ 第２層：ｎ₂ ｄ₂ ＝０．０６〜０．１４λ₀ 第３層：ｎ₃ ｄ₃ ＝０．４０〜０．６０λ₀ 第４層：ｎ₄ ｄ₄ ＝０．２２〜０．２７λ₀ である。

【００２０】そして、この発明では、前記のとおりの、
特定のハードコート層の組成において、反射防止膜との
界面を特徴のあるものとし、かつ、そのための好ましい
製造条件を提案している。実際、この発明に従って、樹
脂基材上にハードコート層を形成した後に、イオンビー
ムクリーニングを行い、その上に反射防止膜を形成する
と、イオンビームクリーニングを行うことにより、ハー
ドコート膜と反射防止膜の界面における、ハードコート
膜側の表面付近に水素原子が６×１０²¹（ａｔｏｍｓ／
ｃｍ³ ）の割合で存在する領域が形成される。また、不
活性ガスでイオンビームクリーニングを行うと、例えば
アルゴンガスを用いた場合、ハードコート膜側の表面付
近にはアルゴン元素が存在する領域が形成される。

【００２１】このように、イオンビームクリーニングに
より、ハードコート膜と反射防止膜との界面におけるハ
ードコート膜側の表面付近の水素原子の含有量を減少さ
せることができる。そのため、ハードコート膜表面の内
部応力が減少する。たとえば、アルゴンガスを用いた場
合、アルゴンイオンがハードコート膜の結晶格子間に入
り込み、吸蔵される状態になる。これにより、内部圧縮
応力が形成され、例えば基材が熱等により延びようと働
いた場合に、その延長方向に抑止効果が働くことにな
る。水素原子の含有量が、例えばアザーフォドバックス
キャッタリング法またはＳＩＭＳ法と呼ばれる質量分析
分光法で定量することができる。

【００２２】また、特に有機ケイ素化合物に酸化スズの
コロイド粒子を核として、その周囲を酸化スズと酸化タ
ングステンの複合体のコロイド粒子が取り囲んだ二重構
造の分散した変成ゾルを添加したハードコート膜をイオ
ンビームクリーニングする場合は、１×１０^-4Ｔｏｒｒ
以下に減圧した雰囲気中で、アルゴンイオンの電流密度
を０．３〜３０μＡ／ｃｍ² とすることが好ましい。そ
して、さらに上記性能を向上させるために、反射防止膜
を形成するときにイオンビームアシストを行うことによ
り、さらに性能を向上させることができる。

【００２３】この発明のハードコート膜となる有機ケイ
素化合物には、上記のように、主に酸化スズのコロイド
粒子を核に、この核の周辺を酸化スズと酸化タングステ
ン複合体のコロイド粒子が取り囲んだ二重構造の微粒子
を添加するか、または酸化ケイ素微粒子を添加すること
が好ましいが、この他に酸化アンチモン、酸化チタン、
酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化スズと酸化インジウム
の混合物などの無機微粒子を添加することも可能であ
る。特に酸化スズと酸化インジウムの混合物は帯電防止
効果が高い。これらの微粒子を添加することにより、よ
り高硬度な帯電防止性に優れほこりの付きにくく、かつ
前記耐久性を兼ね備えたハードコート膜を有する光学物
品が得られる。さらに、基材の屈折率に合わせて選択さ
れた前記無機微粒子をハードコート膜に添加することに
より、反射防止膜と基材の屈折率の差を調整することも
でき、干渉縞の発生を防止することも可能である。

【００２４】これらの微粒子の平均粒径は１〜３００ｍ
μであり、添加量は５〜８０重量％が好ましい。また、
この発明では、基材としての合成樹脂についても前記の
とおりの特有のものを提案している。これらにより、プ
ラスチックレンズとしての諸性能は良好となり、この発
明の効果をより優れたものとする。

【００２５】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明の実施の形態について説明する。もちろん、この発明
は以下の例によって限定されるものではない。

【００２６】

【実施例】

〔実施例１〕図に示した構成として、ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネイト（ＣＲ３９）からなる合成
樹脂基板の上に、シリコン樹脂とシリカ微粒子を加熱硬
化したハードコートを施し、以下に示すように真空蒸着
法により成膜した。レンズを真空層内に設けられた回転
するドームにセットし、真空層内の温度を７０度に加熱
し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気し、
加速電圧５００Ｖ、加速電流３０ｍＡ、イオン電流密度
５μＡ／ｃｍ² の条件でＡｒイオンビームクリーニング
６０秒間を施した後、基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００２７】なお、λは、設計の中心波長で、５３０ｎ
ｍとした。このようにして得られた光学物品の性能試験
結果を表１に示した。また、反射防止膜の分光反射率特
性を図２に示した。 〔比較例１〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、シリコ
ン樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００２８】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
同様に表１に示した。 〔比較例２〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、シリコ
ン樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０７λ、 第２層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第４層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００２９】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
同様に表１に示した。

【００３０】

【表１】

【００３１】（表１の試験方法） （１）クラック発生温度 成膜後、６０℃の温風オーブンの中に入れ、温度を１０
℃上昇させる毎に目視により確認した。 （２）耐擦傷性１ スチールウール（＃００００番）を用い、回塗膜表面を
摩擦し、傷のつきにくさを調べた。

【００３２】判定は次のように行った。 Ａ：傷がつかない Ｂ：少し傷がつく Ｃ：かなり傷がつく （３）耐擦傷性２ 砂消しゴムを用い、塗膜表面を摩擦し、傷のつきにくさ
を調べた。

【００３３】判定は次のように行った。 Ａ：全く傷がつかない Ｂ：ほとんど傷がつかない Ｃ：傷がつく （４）密着性 １ｃｍ² 内に碁盤目を１０×１０個作りセロファン粘着
テープにより、剥離試験を１０回繰り返し行った。

【００３４】 Ａ：全く剥がれない。 Ｂ：２回以上８回以下で剥がれた。 Ｃ：１回で剥がれた。 〔比較例３〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、シリコ
ン樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０６λ、 第２層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
１３λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０５λ、 第４層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
２５λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００３５】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた反射防止膜の分光反射率特
性を図３に示した。 〔実施例２〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、シリコ
ン樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速
電流３０ｍＡ、イオン電流密度５μＡ／ｃｍ² の条件で
Ａｒイオンビームクリーニング６０秒間を施した後、同
じ条件でイオンビームアシストを行いながら、基材側か
ら順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００３６】なお、λは、設計の中心波長で、５３０ｎ
ｍとした。このようにして得られた光学物品の性能試験
結果を表１に示した。試験方法は表１の場合と同じであ
る。また、反射防止膜の分光反射率特性を図４に示す。 〔実施例３〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、一般
式：Ｒ¹ _a Ｒ² _b Ｓｉ（ＯＲ³ ）_4-(a+b) で表される有
機ケイ素化合物中に、酸化スズのコロイド粒子を核にそ
の周辺を酸化スズ−酸化タングステン複合体のコロイド
粒子が取り囲んだ二重構造の変性ゾルを含むハードコー
トを施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜し
た。レンズを真空層内に設けられた回転するドームにセ
ットし、真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．
０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気し、加速電圧５００
Ｖ、加速電流３０ｍＡ、イオン電流密度５μＡ／ｃｍ²
の条件でＡｒイオンビームクリーニング６０秒間を施し
た後、基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０９λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００３７】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表２に示した。また、反射防止膜の分光反射率特性を図
５に示す。 〔比較例４〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、実施例
３と同様の有機ケイ素化合物中に、酸化スズのコロイド
粒子を核にその周辺を酸化スズ−酸化タングステン複合
体のコロイド粒子が取り囲んだ二重構造の変性ゾルを含
むハードコートを施し、以下に示すように真空蒸着法に
より成膜した。レンズを真空層内に設けられた回転する
ドームにセットし、真空層内の温度を７０度に加熱し、
圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、
基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０９λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００３８】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた反射防止膜の分光反射率特
性を表２に示した。 〔比較例５〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、実施例
３と同様の有機ケイ素化合物中に、酸化スズのコロイド
粒子を核にその周辺を酸化スズ−酸化タングステン複合
体のコロイド粒子が取り囲んだ二重構造の変性ゾルを含
むハードコートを施し、以下に示すように真空蒸着法に
より成膜した。レンズを真空層内に設けられた回転する
ドームにセットし、真空層内の温度を７０度に加熱し、
圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、
基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０７λ、 第２層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０７λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第４層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００３９】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表２に示した。

【００４０】

【表２】

【００４１】〔比較例６〕ジエチレングリコールビスア
リルカーボネイト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の
上に、実施例３と同様の有機ケイ素化合物中に、酸化ス
ズのコロイド粒子を核にその周辺を酸化スズ−酸化タン
グステン複合体のコロイド粒子が取り囲んだ二重構造の
変性ゾルを含むハードコートを施し、以下に示すように
真空蒸着法により成膜した。レンズを真空層内に設けら
れた回転するドームにセットし、真空層内の温度を７０
度に加熱し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで
排気した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０６λ、 第２層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
１４λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０５λ、 第４層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
２２λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４２】λは、設計の中心波長で、５８０ｎｍとし
た。このようにして得られた反射防止膜の分光反射率特
性を図６に示した。 〔実施例４〕ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
イト（ＣＲ３９）からなる合成樹脂基板の上に、一般
式：Ｒ¹ _a Ｒ² _b Ｓｉ（ＯＲ³ ）_4-(a+b) で表される有
機ケイ素化合物中に、酸化スズのコロイド粒子を核にそ
の周辺を酸化スズ−酸化タングステン複合体のコロイド
粒子が取り囲んだ二重構造の変性ゾルを含むハードコー
トを施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜し
た。レンズを真空層内に設けられた回転するドームにセ
ットし、真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．
０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気し、加速電圧５００
Ｖ、加速電流３０ｍＡ、イオン電流密度５μＡ／ｃｍ²
の条件でＡｒイオンビームクリーニング６０秒間を施し
た後、同じ条件でイオンビームアシストを行いながら、
基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０９λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４３】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表２に示した。また、反射防止膜の分光反射率特性を図
７に示した。 〔実施例５〕ｍ−キシリレンジイソシアネートとペンタ
エリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）の化合物からなる合成樹脂基板の上に、シリコン
樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速
電流３０ｍＡ、イオン電流密度５μＡ／ｃｍ² の条件で
Ａｒイオンビームクリーニング６０秒間を施した後、同
じ条件でイオンビームアシストを行いながら、基材側か
ら順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４４】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表３に示した。試験方法は、表１の場合と同様とした。
また、反射防止膜の分光反射率特性を図８に示した。 〔実施例６〕ｍ−キシリレンジイソシアネートとペンタ
エリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）の化合物からなる合成樹脂基板の上に、シリコン
樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速
電流３０ｍＡ、イオン電流密度５μＡ／ｃｍ² の条件で
Ａｒイオンビームクリーニング６０秒間を施した後、基
材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４５】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表３に示した。 〔比較例７〕ｍ−キシリレンジイソシアネートとペンタ
エリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）の化合物からなる合成樹脂基板の上に、シリコン
樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４６】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表３に示した。 〔比較例８〕ｍ−キシリレンジイソシアネートとペンタ
エリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）の化合物からなる合成樹脂基板の上に、シリコン
樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０７λ、 第２層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第４層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４７】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表３に示した。 〔比較例９〕ｍ−キシリレンジイソシアネートとペンタ
エリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネ
ート）の化合物からなる合成樹脂基板の上に、シリコン
樹脂とシリカ微粒子を加熱硬化したハードコートを施
し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。レン
ズを真空層内に設けられた回転するドームにセットし、
真空層内の温度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０
^-5ｔｏｒｒになるまで排気した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０６λ、 第２層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
１３λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０５λ、 第４層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
２５λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００４８】λは、設計の中心波長で、５８０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表３に示した。また、反射防止膜の分光反射率特性を図
９に示した。

【００４９】

【表３】

【００５０】〔実施例７〕ジシクロヘキシルメタン−
４，４′−ジイソシアネートと、４−メルカプトメチル
−３，６−ジチア−１，８−オクタンジチオール（７５
〜９０％）とその脱水素縮合物（重合度５以下）との化
合物からなる合成樹脂基板の上に、シリコン樹脂とシリ
カ微粒子を加熱硬化したハードコートを施し、以下に示
すように真空蒸着法により成膜した。レンズを真空層内
に設けられた回転するドームにセットし、真空層内の温
度を７０度に加熱し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒに
なるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流３０ｍ
Ａ、イオン電流密度６μＡ／ｃｍ ² の条件でＡｒイオン
ビームクリーニング６０秒間を施した後、基材側から順
次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００５１】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表４に示した。試験方法は、表１の場合と同様とした。
また、反射防止膜の分光反射率特性を図１０に示した。 〔比較例１０〕ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジ
イソシアネートと、４−メルカプトメチル−３，６−ジ
チア−１，８−オクタンジチオール（７５〜９０％）と
その脱水素縮合物（重合度５以下）との化合物からなる
合成樹脂基板の上に、シリコン樹脂とシリカ微粒子を加
熱硬化したハードコートを施し、以下に示すように真空
蒸着法により成膜した。レンズを真空層内に設けられた
回転するドームにセットし、真空層内の温度を７０度に
加熱し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気
した後、基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００５２】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表４に示した。 〔比較例１１〕ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジ
イソシアネートと、４−メルカプトメチル−３，６−ジ
チア−１，８−オクタンジチオール（７５〜９０％）と
その脱水素縮合物（重合度５以下）との化合物からなる
合成樹脂基板の上に、シリコン樹脂とシリカ微粒子を加
熱硬化したハードコートを施し、以下に示すように真空
蒸着法により成膜した。レンズを真空層内に設けられた
回転するドームにセットし、真空層内の温度を７０度に
加熱し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気
した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０７λ、 第２層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第４層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００５３】λは、設計の中心波長で、５８０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表４に示した。 〔比較例１２〕ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジ
イソシアネートと、４−メルカプトメチル−３，６−ジ
チア−１，８−オクタンジチオール（７５〜９０％）と
その脱水素縮合物（重合度５以下）との化合物からなる
合成樹脂基板の上に、シリコン樹脂とシリカ微粒子を加
熱硬化したハードコートを施し、以下に示すように真空
蒸着法により成膜した。レンズを真空層内に設けられた
回転するドームにセットし、真空層内の温度を７０度に
加熱し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気
した後、基材側から順次、 第１層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０６λ、 第２層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
１３λ、 第３層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
０５λ、 第４層 ＺｒＯ₂ （屈折率２．００）を光学的膜厚０．
２５λ、 第５層 ＳｉＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００５４】λは、設計の中心波長で、５８０ｎｍとし
た。このようにして得られた反射防止膜の分光反射率特
性を図１１に示した。 〔実施例８〕ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジイ
ソシアネートと、４−メルカプトメチル−３，６−ジチ
ア−１，８−オクタンジチオール（７５〜９０％）とそ
の脱水素縮合物（重合度５以下）との化合物からなる合
成樹脂基板の上に、シリコン樹脂とシリカ微粒子を加熱
硬化したハードコートを施し、以下に示すように真空蒸
着法により成膜した。レンズを真空層内に設けられた回
転するドームにセットし、真空層内の温度を７０度に加
熱し、圧力が１．０×１０^-5ｔｏｒｒになるまで排気
し、加速電圧５００Ｖ、加速電流３０ｍＡ、イオン電流
密度５μＡ／ｃｍ ² の条件でＡｒイオンビームクリーニ
ング６０秒間を施した後、同じ条件でイオンビームアシ
ストを行いながら、基材側から順次、 第１層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
０５λ、 第２層 ＳｒＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
１０λ、 第３層 ＴｉＯ₂ （屈折率２．３０）を光学的膜厚０．
５０λ、 第４層 ＳｒＯ₂ （屈折率１．４７）を光学的膜厚０．
２４λ、 で積層した。

【００５５】λは、設計の中心波長で、５３０ｎｍとし
た。このようにして得られた光学物品の性能試験結果を
表４に示した。また、反射防止膜の分光反射率特性を図
１２に示した。

【００５６】

【表４】

【００５７】

【発明の効果】以上のように、この発明の光学物品の場
合には、耐擦傷性、密着性、耐熱性、耐温水性、耐薬品
性、耐候性、耐衝撃性に優れた性能が得られ、かつ、分
光特性が安定で、反射防止性能に優れたものとなる。ま
た、さらに具体的には、この発明では、樹脂基材上に形
成したハードコート膜の表面をイオンビームクリーニグ
により処理した後に反射防止膜を形成することから、耐
擦傷性、密着性、耐熱性、耐温水性、耐薬品性、耐候
性、耐衝撃性に優れ、様々な使用条件、使用環境に適用
できる光学物品が得られる。また、反射防止膜を形成す
る時に、イオンビームアシストを行うことにより、更に
耐熱性の面が向上した光学物品が得られる。さらに、ハ
ードコート膜となる有機ケイ素化合物に無機微粒子を添
加することにより、より高硬度で帯電防止効果をあわせ
もつ、光学物品が得られる。

【００５８】さらに、眼鏡レンズの場合、高屈折率の材
料で基材を形成すれば、より薄型で、かつ上記耐久性の
優れた眼鏡レンズが得られる。また、基材の屈折率と反
射防止膜との屈折率の差異が生じる場合は、ハードコー
ト膜となる有機ケイ素化合物に無機微粒子を添加するこ
とにより、屈折率の差に起因する干渉縞の発生を防止す
ることもでき、イオンビームクリーニングによる高耐久
性に加えて、干渉縞の発生しない、かつより薄型の光学
物品が得られる。

【００５９】加えて、眼鏡レンズの場合、レンズ自体の
耐久性や薄型が実現できるので、そのデザインに対する
制約が少なくなり、より自由な設計が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１における光学物品の構成を例示した概
要図である。

【図２】実施例１の分光反射率特性を示した図である。

【図３】比較例３の分光反射率特性を示した図である。

【図４】実施例２の分光反射率特性を示した図である。

【図５】実施例３の分光反射率特性を示した図である。

【図６】比較例６の分光反射率特性を示した図である。

【図７】実施例４の分光反射率特性を示した図である。

【図８】実施例５の分光反射率特性を示した図である。

【図９】比較例９の分光反射率特性を示した図である。

【図１０】実施例７の分光反射率特性を示した図であ
る。

【図１１】比較例１２の分光反射率特性を示した図であ
る。

【図１２】実施例８の分光反射率特性を示した図であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｃ０８Ｌ 75/00 // Ｃ０８Ｌ 75/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 合成樹脂からなる基材と、前記基材上に
   形成され有機ケイ素化合物からなるハードコート層と前
   記ハードコート層上に形成される多層の反射防止膜を有
   する光学物品であって、前記反射防止膜が前記ハードコ
   ート層側から空気側に向かって、第１層が酸化チタンま
   たは酸化ジルコニウムを主成分とする層、第２層が酸化
   ケイ素を主成分とする層、第３層が酸化チタンまたは酸
   化ジルコニウムを主成分とする層、第４層が酸化ケイ素
   を主成分とする層である光学物品。
2. 【請求項２】 設計波長をλ₀ としたとき、前記反射防
   止膜の光学的膜厚が 第１層：ｎ₁ ｄ₁ ＝０．０３〜０．０８λ₀ 第２層：ｎ₂ ｄ₂ ＝０．０６〜０．１４λ₀ 第３層：ｎ₃ ｄ₃ ＝０．４０〜０．６０λ₀ 第４層：ｎ₄ ｄ₄ ＝０．２２〜０．２７λ₀ （ｎ₁ 、ｎ₂ 、ｎ₃ 、ｎ₄ は設計波長λ₀ に対する第１
   層、第２層、第３層、第４層の屈折率であり、ｄ₁ 、ｄ
   ₂ 、ｄ₃ 、ｄ₄ は第１層、第２層、第３層、第４層の物
   理的膜厚である）で表されるｎ₁ ｄ₁ 、ｎ₂ ｄ₂ 、ｎ₃
   ｄ₃ 、およびｎ₄ｄ₄ の値を有することを特徴とする請
   求項１の光学物品。
3. 【請求項３】 前記ハードコート層は、下記一般式 Ｒ¹ _a Ｒ² _b Ｓｉ（ＯＲ³ ）_4-(a+b) （なお、ここで、Ｒ¹ およびＲ² は、アルキル基と、ア
   ルケニル基と、アリール基と、ハロゲン基、エポキシ
   基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタク
   リルオキシ基、またはシアノ基を有する炭化水素基とか
   ら独立して選ばれる有機基であり、Ｒ³ は、炭素数１〜
   ８のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、ま
   たはアリール基であり、ａは０または１、ｂは０または
   １である。）で表される有機ケイ素化合物／およびまた
   はその加水分解生成物であることを特徴とする請求項１
   または２の光学物品。
4. 【請求項４】 前記ハードコート層が、酸化スズのコロ
   イド粒子を核にその周辺を酸化スズ−酸化タングステン
   の複合体のコロイド粒子が取り囲んだ二重構造を有する
   平均粒子径が１〜３００μｍである変成ゾルを５〜８０
   重量％含む有機ケイ素化合物であることを特徴とする請
   求項１ないし３のいずれかの光学物品。
5. 【請求項５】 前記ハードコート層が平均粒子径が１〜
   ３００μｍの二酸化ケイ素微粒子を５〜８０重量％含む
   有機ケイ素化合物であることを特徴とする請求項１ない
   し３のいずれかの光学物品。
6. 【請求項６】 前記合成樹脂がポリウレタン系樹脂また
   はジエチレングリコールビスアリルカーボネートの重合
   体であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか
   の光学物品。
7. 【請求項７】 前記ポリウレタン系樹脂がｍ−キシリレ
   ンジイソシアネートと、ペンタエリスリトールテトラキ
   ス（３−メルカプロプトピオネート）とを重合して得ら
   れる樹脂、ｍ−キシリレンジイソシアネートと、１，２
   −ビス｛（２−メルカプトエチル）チオ｝メルカプトプ
   ロパンとを重合して得られる樹脂、または４−メルカプ
   トメチル−３，６−ジチア−１，８−オクタンジチオー
   ルおよびその重合度５以下の脱水素縮合物の混合物であ
   り、４−メルカプトメチル−３，６−ジチア−１，８−
   オクタンジチオールを７５〜９０重量％を含む混合物
   と、ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジイソシアネ
   ートとを重合させて得られる樹脂である請求項６の光学
   物品。
8. 【請求項８】 前記ハードコート膜と前記反射防止膜と
   の界面の前記ハードコート膜側の表面付近に水素原子が
   ６×１０²¹（ａｔｏｍｓ／ｃｍ³ ）以下、存在している
   ことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかの光学物
   品。
9. 【請求項９】 前記ハードコート膜と前記反射防止膜と
   の界面の前記ハードコート膜側の表面付近に不活性元素
   が存在していることを特徴とする請求項１ないし７のい
   ずれかの光学物品。
10. 【請求項１０】 前記不活性がアルゴンであることを特
    徴とする請求項９の光学物品。
11. 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれかの光学
    物品を製造する方法であって、合成樹脂性の基材を用意
    する工程、浸漬法により有機ケイ素化合物または無機微
    粒子を含有する有機ケイ素化合物を塗布することにより
    ハードコート層を形成する工程、前記ハードコート層の
    表面をイオンビームクリーニングによる処理を行う工
    程、前記処理後多層の反射防止膜を真空蒸着法、スパッ
    タリング法またはイオンプレーティング法により形成す
    る工程を有する光学物品の製造方法。
12. 【請求項１２】 少なくとも前記第３層と第４層の反射
    防止膜の形成時にイオンビームアシストを行う工程を含
    むことを特徴とする請求項１１の光学物品の製造方法。
13. 【請求項１３】 前記ハードコート層表面をイオンビー
    ムクリーニングを行ない、かつ少なくとも前記第３層と
    第４層の反射防止膜の形成時にイオンビームアシストす
    ることを特徴とする請求項１１の光学物品の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記イオンビームクリーニングの処理
    条件をアルゴンまたは酸素またはアルゴンと酸素の混合
    ガスを使用し、真空槽内の圧力を１×１０^-4Ｔｏｒｒ以
    下に設定し、イオン電流密度を０．３〜３０μＡ／ｃｍ
    ² に設定することを特徴とする請求項１１ないし１３の
    いずれかの光学物品の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記イオンビームクリーニングの処理
    において、ビームの照射時間を１５〜１２０秒に設定す
    ることを特徴とする請求項１１ないし１４の光学物品の
    製造方法。