WO2021060154A1 - 離型フィルム及び離型フィルムの製造方法 - Google Patents

離型フィルム及び離型フィルムの製造方法 Download PDF

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WO2021060154A1
WO2021060154A1 PCT/JP2020/035315 JP2020035315W WO2021060154A1 WO 2021060154 A1 WO2021060154 A1 WO 2021060154A1 JP 2020035315 W JP2020035315 W JP 2020035315W WO 2021060154 A1 WO2021060154 A1 WO 2021060154A1
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release
release layer
film
release film
layer
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PCT/JP2020/035315
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Inventor
良介 川原
宏明 小屋原
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積水化学工業株式会社
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    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D7/00—Producing flat articles, e.g. films or sheets
    • B29D7/01—Films or sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
    • B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
    • B29C48/07—Flat, e.g. panels
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers

Definitions

  • the present invention relates to a release film and a method for producing a release film.
  • Release films are used in the manufacturing process of printed wiring boards, flexible circuit boards, multilayer printed wiring boards, and the like.
  • a coverlay film is hot-press-bonded to a flexible circuit board body on which a copper circuit is formed via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet.
  • a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet is formed via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet.
  • the release film is required to have a releasability that can be easily peeled off after hot press bonding.
  • the crystallinity of the release film is adjusted in order to improve the releasability.
  • Patent Document 1 describes a release film having a release layer containing a polyester resin on at least one surface and having a crystallinity of 10% or more and 50% or less of the release layer.
  • the release film is required to have further improvement in releasability.
  • the manufacture of flexible circuit boards has been automated by a roll-to-roll (RtoR) method or the like.
  • RtoR roll-to-roll
  • the flexible circuit board body, the release film, etc., which are unwound from the roll are conveyed between the hot press plates, bonded by the hot press, and then wound on the roll again.
  • the peeling angle tends to be low.
  • the release film when a conventional release film is used, it may be necessary to apply a larger force at the time of peeling, which may lead to the occurrence of defects or the like. Therefore, the release film is required to have further improvement in releasability. In addition, the release film may cause wrinkles due to entrainment of air bubbles at the interface during press working, which may lead to the generation of defective products. Conventionally, it has been difficult to realize a release film capable of suppressing the occurrence of wrinkles (having wrinkle resistance) while having the above-mentioned excellent releasability.
  • An object of the present invention is to provide a release film having excellent releasability and wrinkle resistance as compared with the conventional one, and a method for producing the releasable film.
  • the release film according to one aspect of the present invention is a release film having at least one release layer, and the release layer is subjected to oblique incident wide-angle X-ray diffraction method with an incident angle of 0.06 °.
  • the present inventors select only the crystallinity of an extremely thin region (extreme surface) on the surface of the release layer, not the crystallinity of the entire release layer. It was found that the releasability can be dramatically improved without impairing the followability to unevenness by increasing the temperature. We also found that by selectively increasing only the crystallinity of the polar surface of the release layer and then embossing it, it is possible to achieve both wrinkle resistance while exhibiting and maintaining excellent release properties. The present invention has been completed.
  • the release film of the present invention has at least one release layer.
  • the release layer has a crystallinity of 50% or more determined by an obliquely incident wide-angle X-ray diffraction method (In-Plane method) having an incident angle of 0.06 °.
  • In-Plane method obliquely incident wide-angle X-ray diffraction method
  • the polar surface means an extremely thin region of the surface, and more specifically, a region from the surface to a thickness of about 4 nm.
  • the crystallinity of the polar surface of the release layer is 50% or more, it is possible to sufficiently suppress the adhesive formed on the coverlay film from permeating into the release layer during hot press bonding. That is, the depth at which the adhesive penetrates into the release layer can be made shallow, and the anchor effect of the adhesive can be suppressed, so that the releasability of the release film is greatly improved. It is sufficient that at least one surface of the release layer has such a crystallinity of the polar surface.
  • the crystallinity of the polar surface of the release layer is preferably 60% or more, more preferably 65% or more.
  • the upper limit of the crystallinity of the polar surface of the release layer is not particularly limited, but the upper limit is preferably 90%.
  • the crystallinity of the polar surface of the release layer is 90% or less, the crystalline phase of the polar surface of the release layer is less likely to crack during hot press bonding, and deterioration of the release property can be suppressed.
  • a more preferable upper limit of the crystallinity of the polar surface of the release layer is 80%.
  • the degree of crystallization of the polar surface of the release layer is based on the diffraction measurement plot obtained by analyzing the surface of the release layer by the oblique incident wide-angle X-ray diffraction method in which the incident angle of X-ray is 0.06 °.
  • a baseline is drawn, fitting is performed on the crystalline phase and the amorphous phase, respectively, and the total peak area of the obtained crystalline phase and the total peak area of the amorphous phase can be calculated by the following formula (1). it can.
  • X-ray diffractometer for determining the crystallinity of the polar surface of the release layer
  • a multifunctional X-ray diffractometer for surface structure evaluation (ATX-G type) manufactured by Rigaku Co., Ltd. set under the following conditions.
  • ATX-G type a multifunctional X-ray diffractometer for surface structure evaluation
  • X-ray source CuK ⁇ tube voltage-tube current 50kV-300mA Incident optical system Concentration method Incident angle ( ⁇ ) 0.06 ° Measuring range 5-70 ° Measurement interval 0.02 ° Scanning speed 1.0 ° / min Scanning method In-Plane method
  • the method for adjusting the degree of crystallization of the polar surface of the release layer to the above range is not particularly limited, but the arithmetic mean roughness Ra before the surface treatment of the release layer is small and / or the release layer of the release layer. It is preferable to perform surface treatment on the surface of the release layer after greatly adjusting the glossiness before surface treatment. By reducing the arithmetic mean roughness Ra before the surface treatment of the release layer and / or greatly adjusting the glossiness of the release layer before the surface treatment, the surface of the release layer is surface-treated. The effect of increasing the crystallinity is greatly improved, and the crystallinity of the polar surface of the release layer can be adjusted within the above range.
  • the present inventors have adjusted the surface of the original film of the release layer before the friction treatment to be sufficiently smooth, and then rubbed the surface in order to surely increase the crystallinity of the polar surface. Found to be effective.
  • the method for adjusting the arithmetic mean roughness Ra of the release layer before the surface treatment to be small and / or the glossiness of the release layer before the surface treatment to be large is not particularly limited, but constitutes the release layer.
  • the molten resin is melt-extruded and the molten resin is cooled, it is preferable to adopt, for example, the following method. That is, a method of transferring the roll surface shape to the film using a cooling roll having a smoother surface, a method of adjusting the elongation stress applied to the molten resin during cooling, and the like are preferable.
  • the crystallinity of the polar surface of the release layer can be adjusted within the above range.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer before surface treatment can be, for example, 0.50 ⁇ m or less.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the release layer before the surface treatment may be small at the time of the surface treatment, and after the surface treatment, the surface of the release layer is embossed as described later. Even if the arithmetic mean roughness Ra increases, it does not significantly affect the degree of crystallization of the polar surface itself.
  • the crystallinity of the polar surface of the release layer can be adjusted within the above range.
  • the glossiness of the release layer before surface treatment can be, for example, 100% or more.
  • the glossiness of the release layer before the surface treatment may be large at the time of the surface treatment, and after the surface treatment, the glossiness is obtained as a result of embossing the surface of the release layer as described later. Even if it becomes smaller, it does not significantly affect the crystallinity of the polar surface itself.
  • the effect of increasing the crystallinity by the surface treatment is improved by adjusting the arithmetic average roughness Ra before the surface treatment and the glossiness before the surface treatment, it can be estimated as follows. If the arithmetic mean roughness Ra is relatively large, the effect of the surface treatment on the polar surface may vary, but if the arithmetic average roughness Ra is relatively small, the effect of the surface treatment on the polar surface may vary. Is considered to be uniform, and the probability and amount of carbonyl groups on the polar surface sneaking into the plane will increase.
  • the crystal grains before the surface treatment are relatively large, the plurality of crystal grains interfere with each other in three dimensions, and the growth of the crystals by the surface treatment is hindered.
  • the crystal grains before the surface treatment are relatively small, the crystal growth is promoted by the surface treatment without suffering the above-mentioned three-dimensional obstacles, and as a result, the crystallinity of the polar surface is increased. It is thought that the effect will improve. Further, it can be considered that the size of the crystal grains is influenced by the cooling and elongation stress at the time of melt extrusion.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer is 2.0 ⁇ m or more.
  • the lower limit of the arithmetic mean roughness Ra on the surface of the release layer is preferably 3.0 ⁇ m, more preferably 3.5 ⁇ m, and particularly preferably 5.0 ⁇ m.
  • the upper limit of the arithmetic mean roughness Ra on the surface of the release layer is not particularly limited, but is preferably 10 ⁇ m, more preferably 8 ⁇ m.
  • the arithmetic mean roughness Ra on the surface of the release layer is an arithmetic mean roughness Ra based on JIS B 0601: 2013, and can be measured using, for example, a surf test SJ-301 manufactured by Mitutoyo.
  • the arithmetic mean roughness Ra on the surface of the release layer may be affected by the conditions at the time of film formation, but if it is desired to be positively changed, it is necessary to separately perform an embossing treatment or a smoothing treatment. When a treatment such as a heating press (press annealing) is applied, the unevenness of the surface is crushed, so that the value of the arithmetic mean roughness Ra generally tends to be small.
  • the glossiness of the surface of the release layer is not particularly limited, but a preferable upper limit is 100%, a more preferable upper limit is 50%, a further preferable upper limit is 25%, and a particularly preferable upper limit is 10%.
  • the lower limit of the glossiness of the surface of the release layer is not particularly limited, but is substantially 5% or more.
  • the glossiness of the surface of the release layer is the glossiness measured with an incident angle of 60 ° in accordance with JIS Z8741, and is measured using, for example, a glossiness meter VG-1D manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. be able to.
  • the glossiness of the surface of the release layer may be affected by the conditions at the time of film formation, but if it is desired to change it positively, it is necessary to separately perform an embossing treatment or a smoothing treatment.
  • a treatment such as heat pressing (press annealing) is applied, the unevenness of the surface is crushed, so that the value of glossiness generally tends to be large.
  • the surface treatment is not particularly limited, and examples thereof include friction treatment, heat treatment, uniaxial stretching, and biaxial stretching treatment. These surface treatments may be used alone or in combination of two or more.
  • the method of the friction treatment is not particularly limited, but the friction treatment is performed using a friction treatment device (for example, a polishing treatment device manufactured by Yamagata Machinery Co., Ltd., model YCM-150M) and using a woven fabric as the surface material of the friction treatment material.
  • the method is preferred.
  • the method of the heat treatment is not particularly limited, but a method of passing the film between rolls heated to a constant temperature, a method of heating the film with a heater, and the like are preferable.
  • the method of the uniaxial or biaxial stretching treatment is not particularly limited, but a method of stretching the film after film formation at a constant temperature or the like is preferable.
  • the crystallinity of the entire release layer is not particularly limited, but it is preferably smaller than the crystallinity of the polar surface of the release layer.
  • the preferable lower limit of the crystallinity of the entire release layer is 25%, and the preferable upper limit is 50%. If the crystallinity of the entire release layer is increased more than necessary, the flexibility of the release film as a whole is reduced, the ability to follow irregularities is reduced, voids are generated during hot press bonding, and an adhesive is used. The exudation width of the film may increase.
  • the release layer has a high crystallinity of 50% or more on the polar surface, and the release layer as a whole has an appropriate degree in the above range.
  • the release film is further excellent in releasability and followability to unevenness.
  • the crystallinity of the entire release layer is 25% or more, the heat resistance of the release film is improved.
  • the crystallinity of the entire release layer is 50% or less, the ability of the release film to follow the unevenness is improved.
  • the lower limit of the crystallinity of the entire release layer is more preferably 30%, still more preferably 35%.
  • the upper limit of the crystallinity of the entire release layer is more preferably 45%, further preferably 40%, and particularly preferably 35%.
  • the degree of crystallization of the entire release layer is determined by drawing a baseline on the diffraction measurement plot obtained by analyzing the entire release layer by the wide-angle X-ray diffraction method, and for the crystalline phase and the amorphous phase, respectively. It can be obtained by the following formula (2) from the total peak area of the obtained crystalline phase and the total peak area of the amorphous phase after fitting.
  • each layer of the release film is peeled off, and the sample consisting of only the release layer is analyzed to evaluate the crystallinity of the entire release layer. be able to.
  • X-ray diffractometer for determining the crystallinity of the entire release layer
  • a sample horizontal X-ray diffractometer Smart Lab
  • X-ray source CuK ⁇ tube voltage-tube current 45kV-200mA Incident optical system Concentrated measurement range 5-80 ° Measurement interval 0.02 ° Scanning speed 5.0 ° / min Scanning method Out-of-Plane method
  • the method for adjusting the crystallinity of the entire release layer to the above range is not particularly limited, but when the resin constituting the release layer is melt-extruded and the molten resin is cooled, for example, the following method is used. It is preferable to adopt it. That is, a method of adjusting the contact time between the molten resin and the cooling roll, a method of adjusting the cooling roll temperature, and the like are preferable.
  • a method of adjusting the contact time between the molten resin and the cooling roll, a method of adjusting the cooling roll temperature, and the like are preferable.
  • the resin constituting the release layer is not particularly limited, but polyester, polyolefin or polystyrene is preferable because the release property of the release film is improved.
  • the polyester preferably contains an aromatic polyester resin.
  • the polyolefin preferably contains poly (4-methyl-1-pentene) or an alicyclic olefin resin.
  • the polystyrene preferably contains a polystyrene-based resin having a syndiotactic structure. Above all, it is more preferable that the release layer contains an aromatic polyester resin because it has excellent followability to unevenness and excellent exudation prevention property of the adhesive formed on the coverlay film.
  • the aromatic polyester resin is not particularly limited, but a crystalline aromatic polyester resin is preferable. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyhexamethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene naphthalate resin, butanediol terephthalate polytetramethylene glycol copolymer and the like. These aromatic polyester resins may be used alone or in combination of two or more. Of these, polybutylene terephthalate resin is preferable from the viewpoint of balance of heat resistance, releasability, followability to unevenness, and the like.
  • a mixed resin of polybutylene terephthalate resin and a block copolymer of polybutylene terephthalate and an aliphatic polyether is also preferable.
  • the above-mentioned aliphatic polyether is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene glycol, polydiethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol.
  • a melt volume flow rate is less than 30 cm 3 / 10min, more preferably not more than 20 cm 3 / 10min.
  • the melt volume flow rate can be measured at a measurement temperature of 250 ° C. and a load of 2.16 kg according to ISO1133.
  • aromatic polyester resins commercially available ones include, for example, “Perprene (registered trademark)” (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), “Hytrel (registered trademark)” (manufactured by Toray DuPont), and “Juranex (registered). "Trademark)” (manufactured by Polyplastics), “Nova DuPont (registered trademark)” (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics), etc.
  • the poly (4-methyl-1-pentene) -containing polyolefin preferably contains 90% by weight or more of the poly (4-methyl-1-pentene) resin.
  • the poly (4-methyl-1-pentene) resin for example, a commercially available product such as TPX® (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. can be used.
  • the alicyclic olefin resin is an olefin resin having a cyclic aliphatic hydrocarbon in the main chain or side chain, and a thermoplastic saturated norbornene resin is preferable from the viewpoint of heat resistance, strength and the like.
  • a thermoplastic saturated norbornene-based resin for example, a ring-opening polymer or a ring-opening copolymer of a norbornene-based monomer is hydrogenated (after modification such as addition of maleic acid or addition of cyclopentadiene as necessary). Resin is mentioned.
  • a resin obtained by addition-polymerizing a norbornene-based monomer a resin obtained by addition-polymerizing a norbornene-based monomer and an olefin-based monomer such as ethylene or ⁇ -olefin, a norbornene-based monomer and cyclopentene, cyclooctene, 5,6-dihydrodicyclo.
  • a resin obtained by addition polymerization with a cyclic olefin monomer such as pentadiene can also be mentioned.
  • the polystyrene containing the polystyrene resin having a syndiotactic structure preferably contains 70% by weight or more and 90% by weight or less of the polystyrene resin having a syndiotactic structure.
  • the polystyrene resin having a syndiotactic structure has a syndiotactic structure, that is, phenyl groups and substituted phenyl groups which are side chains of the main chain formed from carbon-carbon sigma bonds are alternately in opposite directions. It is a resin having a three-dimensional ordered structure located in.
  • the polystyrene resin having the syndiotactic structure is not particularly limited.
  • polystyrene poly (alkylstyrene), poly (arylstyrene), poly (halogenated styrene), poly (halogen) having syndiotacticity of 75% or more with racemidiad or 30% or more with racemipentad.
  • Alkyl styrene poly (alkoxystyrene), poly (vinyl benzoic acid ester) and the like.
  • examples thereof include hydrogenated polymers thereof, mixtures thereof, and copolymers containing these as main components.
  • polystyrene resin having the syndiotactic structure for example, a commercially available product such as the trade name ZAREC (registered trademark) (XAREC (registered trademark)) manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd. can be used.
  • ZAREC registered trademark
  • XAREC registered trademark
  • the release layer may contain a mixed resin containing a polybutylene terephthalate resin and an elastomer.
  • the elastomer is not particularly limited, and examples thereof include a block copolymer of polybutylene terephthalate and an aliphatic polyether.
  • the above-mentioned aliphatic polyether is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene glycol, polydiethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol.
  • the ratio of the polybutylene terephthalate resin to the resin constituting the release layer is not particularly limited, but is preferably 75% by weight or more.
  • the proportion of the polybutylene terephthalate resin is 75% by weight or more, the releasability of the release film is improved.
  • a more preferable lower limit of the ratio of the polybutylene terephthalate resin to the resin constituting the release layer is 80% by weight.
  • the release layer may contain a rubber component.
  • the rubber component is not particularly limited, and for example, natural rubber, styrene-butadiene copolymer, polybutadiene, polyisoprene, acrylic nitrile-butadiene copolymer, ethylene-propylene copolymer (EPM, EPDM), polychloroprene, butyl rubber. , Acrylic rubber, silicon rubber, urethane rubber and the like.
  • the rubber component examples include olefin-based thermoplastic elastomers, styrene-based thermoplastic elastomers, vinyl chloride-based thermoplastic elastomers, ester-based thermoplastic elastomers, and amide-based thermoplastic elastomers.
  • the release layer may contain a stabilizer.
  • the stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include a hindered phenolic antioxidant, a heat stabilizer, and the like.
  • the above hindered phenolic antioxidant is not particularly limited, and for example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3 , 9-bis ⁇ 2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl ⁇ -2,4,8,10-tetraoxa Spiro [5,5] Undecan and the like can be mentioned.
  • the above heat stabilizer is not particularly limited, and for example, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, trilaurylphosphite, 2-t-butyl- ⁇ - (3-t-butyl-4-). Hydroxyphenyl) -p-cumenylbis (p-nonylphenyl) phosphite, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, disstearyl 3,3'-thiodipropionate, pentaerythtyryl tetrakis (3-laurylthiopropio) Nate), ditridecyl 3,3'-thiodipropionate and the like.
  • the release layer may further contain conventionally known additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, and higher fatty acid salts.
  • the thickness of the release layer is not particularly limited, but the preferable lower limit is 10 ⁇ m and the preferable upper limit is 40 ⁇ m. When the thickness of the release layer is 10 ⁇ m or more, the heat resistance of the release film is improved. When the thickness of the release layer is 40 ⁇ m or less, the ability of the release film to follow the unevenness is improved. The more preferable lower limit of the thickness of the release layer is 15 ⁇ m, and the more preferable upper limit is 30 ⁇ m. The thickness of the release layer may be 1 ⁇ m or less. By making the thickness of the release layer ultra-thin to 1 ⁇ m or less, the flexibility of the release film can be increased and the followability can be improved.
  • the release layer can exhibit high releasability by setting the crystallinity required by the oblique incident wide-angle X-ray diffraction method with an incident angle of 0.06 ° to 50% or more.
  • the thickness of the release layer may be 1 ⁇ m or less regardless of the crystallinity of the release layer.
  • the release film of the present invention may have a single-layer structure composed of only the release layer, or may have a multilayer structure having a layer other than the release layer.
  • the release film of the present invention preferably further has a cushion layer.
  • the cushion layer By having the cushion layer, the ability to follow the unevenness of the release film is improved.
  • the release film of the present invention may have at least one release layer and a cushion layer, and may have a two-layer structure or a three-layer or more structure. You may. Above all, it is preferable to have a structure having release layers on both sides of the cushion layer. In this case, the release layers on both sides may have the crystallinity of the polar surface as described above, or only the release layer on one side has the crystallinity of the polar surface as described above. May be good. Further, the release layers on both sides may have the same resin composition or different resin compositions.
  • the release layers on both sides may have the same thickness or may have different thicknesses.
  • the release film of the present invention may have a structure in which the release layer and the cushion layer are directly contacted and integrated, or the release layer and the cushion layer are integrated via an adhesive layer. It may be a structure.
  • the resin constituting the cushion layer is not particularly limited, but it is preferable that the cushion layer contains the resin constituting the release layer.
  • the cushion layer contains the resin constituting the release layer, the adhesion between the release layer and the cushion layer is improved.
  • the cushion layer more preferably contains the main component resin of the release layer, and further preferably contains the main component resin and the polyolefin resin of the release layer.
  • the main component resin of the release layer means the resin having the highest content among the resins contained in the release layer.
  • the content of the resin constituting the release layer in the cushion layer is not particularly limited, but the preferable lower limit is 10% by weight and the preferable upper limit is 50% by weight.
  • the content of the resin constituting the release layer is 10% by weight or more, the adhesion between the release layer and the cushion layer is improved.
  • the content of the resin constituting the release layer is 50% by weight or less, the flexibility of the cushion layer is sufficient, and the ability of the release film to follow the unevenness is improved.
  • a more preferable lower limit of the content of the resin constituting the release layer is 20% by weight, and a further preferable lower limit is 25% by weight.
  • a more preferable upper limit of the content of the resin constituting the release layer is 40% by weight, and a more preferable upper limit is 35% by weight.
  • the polyolefin resin is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene resins (for example, high-density polyethylene, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene), polypropylene resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and the like. Further, ethylene-acrylic monomer copolymers such as ethylene-methylmethacrylate copolymers, ethylene-ethylacrylate copolymers and ethylene-acrylic acid copolymers can also be mentioned. These polyolefin resins may be used alone or in combination of two or more. Of these, polypropylene resin is preferable because it is easy to achieve both unevenness tracking and heat resistance.
  • the content of the polyolefin resin in the cushion layer is not particularly limited, but the preferable lower limit is 50% by weight and the preferable upper limit is 90% by weight.
  • the content of the polyolefin resin is 50% by weight or more, the flexibility of the cushion layer is sufficient, and the ability of the release film to follow the unevenness is improved.
  • the content of the polyolefin resin is 90% by weight or less, the adhesion between the release layer and the cushion layer is improved.
  • a more preferable lower limit of the content of the polyolefin resin is 60% by weight, and a more preferable lower limit is 65% by weight.
  • a more preferable upper limit of the content of the polyolefin resin is 80% by weight, and a more preferable upper limit is 75% by weight.
  • the cushion layer may further contain a resin such as polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, or polyester.
  • the cushion layer may further contain additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, and higher fatty acid salts.
  • the cushion layer may have a single-layer structure composed of a single layer, or may have a multi-layer structure composed of a laminated body of a plurality of layers.
  • a plurality of layers may be laminated and integrated via an adhesive layer.
  • the thickness of the cushion layer is not particularly limited, but a preferable lower limit is 15 ⁇ m and a preferable upper limit is 200 ⁇ m. When the thickness of the cushion layer is 15 ⁇ m or more, the ability of the release film to follow the unevenness is improved. When the thickness of the cushion layer is 200 ⁇ m or less, it is possible to suppress the exudation of the resin from the cushion layer that occurs at the edge of the film during hot press bonding.
  • the more preferable lower limit of the thickness of the cushion layer is 30 ⁇ m, and the more preferable upper limit is 150 ⁇ m.
  • the interface between the cushion layer and the release layer has irregularities.
  • the releasability and the adhesion to the cushion layer can be enhanced, and the delamination between the releasable layer and the cushion layer can be prevented. That is, it is easy to handle when peeling from the flexible circuit board, and the load applied to the flexible circuit board can be suppressed.
  • the properties of the interface between the cushion layer and the release layer can be adjusted, for example, by controlling the embossing conditions while reducing the thickness of the release layer.
  • the arithmetic average roughness Ra of the interface is preferably 3 ⁇ m or more. The properties of the interface between the cushion layer and the release layer and the arithmetic mean roughness Ra of the interface can be confirmed by observing the cross section of the release film and measuring the roughness curve.
  • the method for producing the raw film of the release film of the present invention is not particularly limited, and for example, a water-cooled or air-cooled coextrusion inflation method, a coextrusion T-die method, a solvent casting method, or a hot press molding method. Law etc. can be mentioned.
  • a film to be one of the release layers is prepared, and then the cushion layer is laminated on this film by an extrusion laminating method, and then the other is released.
  • a method of dry lamination the mold layer can be mentioned.
  • a method of dry laminating a film serving as one release layer, a film serving as a cushion layer, and a film serving as the other release layer can be mentioned.
  • the method of forming a film by the coextrusion T-die method is preferable because it is excellent in controlling the thickness of each layer.
  • the present inventors determined the crystallinity of the polar surface of the release layer by subjecting the release layer to a sufficiently smooth (or glossy) surface by friction treatment. We found that it could be adjusted to a range.
  • a smooth surface means that the arithmetic mean roughness Ra is small. Having gloss means that the glossiness is high. More specifically, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the raw film immediately before the friction step is 0.50 ⁇ m or less, or the glossiness of the surface of the raw film immediately before the friction step is 100% or more. , It is possible to produce a release film having better releasability than before.
  • a method for producing a release film having at least one release layer which comprises a friction step of rubbing the surface of the original film of the release layer, and is an arithmetic average of the surface of the original film immediately before the friction step.
  • a method for producing a release film having a roughness Ra of 0.50 ⁇ m or less is also one of the present inventions.
  • a method for producing a release film having at least one release layer which comprises a friction step of rubbing the surface of the original film of the release layer, and has a glossiness of the surface of the original film immediately before the friction step.
  • a method for producing a release film having a value of 100% or more is also one of the present inventions.
  • a more preferable upper limit of the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the raw film of the release layer immediately before the friction step is 0.30 ⁇ m, a further preferable upper limit is 0.20 ⁇ m, and a particularly preferable upper limit is 0.10 ⁇ m.
  • the lower limit of the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the raw film of the release layer is not particularly limited, but a substantially preferable lower limit is 0.01 ⁇ m.
  • the arithmetic mean roughness Ra is an arithmetic mean roughness Ra based on JIS B 0601: 2013, and can be measured using, for example, the surf test SJ-301 manufactured by Mitutoyo.
  • a more preferable lower limit of the glossiness of the surface of the raw film of the release layer immediately before the friction step is 120%.
  • the upper limit of the glossiness of the surface of the raw film of the release layer is not particularly limited, but a substantially preferable upper limit is 200%.
  • the glossiness is a glossiness measured with an incident angle of 60 ° in accordance with JIS Z8741, and can be measured using, for example, a glossiness meter VG-1D manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. it can.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the surface is 0.
  • a method using a cooling roll having a thickness of .50 ⁇ m or less can be mentioned.
  • a method for producing a release film having at least one release layer which has a friction step of rubbing the surface of the original fabric film of the release layer and melts at the time of forming the original fabric film of the release layer.
  • a method for producing a release film using a cooling roll having an arithmetic average roughness Ra of the surface of 0.50 ⁇ m or less when cooling the resulting resin film is also one of the present inventions.
  • the method of the friction treatment is not particularly limited, but the friction treatment is performed using a friction treatment device (for example, a polishing treatment device manufactured by Yamagata Machinery Co., Ltd., model YCM-150M) and using a woven fabric as the surface material of the friction treatment material.
  • a friction treatment device for example, a polishing treatment device manufactured by Yamagata Machinery Co., Ltd., model YCM-150M
  • a woven fabric as the surface material of the friction treatment material. The method is preferred.
  • the fiber of the woven fabric used as the surface material of the friction treatment material has a preferable lower limit of 1.0 g / d and a preferable upper limit of 5.0 g / d in tensile strength. If the tensile strength of the fiber is less than 1.0 g / d, the fiber may be completely stretched in the friction treatment, and the fiber may adhere to the obtained release film. If the tensile strength of the fibers exceeds 5.0 g / d, the obtained release film will be damaged such as wrinkles and scratches, the followability to the substrate surface will be reduced, and the adhesive will flow out during hot press molding. May not be sufficiently suppressed.
  • a more preferable upper limit of the tensile strength of the fiber is 3.0 g / d.
  • the tensile strength of a fiber means the tensile strength of one fiber obtained by the method conforming to JIS-L-1095.
  • the fiber has a preferable lower limit of elongation of 1% and a preferred upper limit of 30%. If the elongation of the fiber is less than 1%, the fiber may be completely stretched in the friction treatment, and the fiber may adhere to the obtained release film. If the elongation of the fiber exceeds 30%, the obtained release film is damaged such as wrinkles and scratches, the followability to the substrate surface is lowered, and the adhesive flows out sufficiently during hot press molding. It may not be suppressed. A more preferable upper limit of the elongation of the fiber is 29%.
  • the elongation of a fiber means the tensile elongation of one fiber obtained by the method conforming to JIS-L-1095.
  • the fiber include PET, rayon, cotton, wool, acetate and the like.
  • Rayon and wool are preferable because the amount of adhered fibers can be reduced.
  • the preferable lower limit of the friction coefficient is 0.1 and the preferable upper limit is 0.8. If the friction coefficient of the woven fabric is less than 0.1, the releasability of the obtained release film may decrease. If the friction coefficient of the woven fabric exceeds 0.8, the obtained release film will be damaged such as wrinkles and scratches, the followability to the substrate surface will be reduced, and the adhesive will flow out sufficiently during hot press molding. May not be suppressed.
  • the more preferable lower limit of the friction coefficient of the woven fabric is 0.3, and the more preferable upper limit is 0.7.
  • the coefficient of friction of the woven fabric means the coefficient of friction of the woven fabric with respect to the 2 mm polycarbonate plate obtained by the method according to JIS-K-7125.
  • the woven fabric has a preferable lower limit of elastic modulus of 0.1 MPa and a preferable upper limit of 4.0 MPa. If the elastic modulus of the woven fabric is less than 0.1 MPa, the releasability of the obtained release film may decrease. If the elastic modulus of the woven fabric exceeds 4.0 MPa, the obtained release film will be damaged such as wrinkles and scratches, the followability to the substrate surface will be reduced, and the adhesive will flow out sufficiently during hot press molding. May not be suppressed.
  • the more preferable lower limit of the elastic modulus of the woven fabric is 0.7 MPa, and the more preferable upper limit is 3.9 MPa.
  • the elastic modulus of the woven fabric means the hardness of the woven fabric obtained by a method conforming to JIS-K-7127.
  • the woven fabric has a preferable lower limit of tensile strength of 1.5 N / 10 mm and a preferable upper limit of 2.5 N / 10 mm. If the tensile strength of the woven fabric is less than 1.5 N / 10 mm, the fibers may be completely stretched in the friction treatment, and the fibers may adhere to the obtained release film. If the tensile strength of the woven fabric exceeds 2.5 N / 10 mm, the obtained release film will be damaged such as wrinkles and scratches, the followability to the substrate surface will be reduced, and the adhesive will flow out during hot press molding. May not be sufficiently suppressed.
  • the more preferable lower limit of the tensile strength of the woven fabric is 1.6 N / 10 mm, the more preferable upper limit is 2.3 N / 10 mm, and the more preferable upper limit is 1.8 N / 10 mm.
  • the tensile strength of the woven fabric means the tensile strength of the woven fabric obtained by a method conforming to JIS-K-7127.
  • the method for producing a release film preferably includes an embossing step of embossing the surface of the release layer. Further, in the method for producing a release film, it is preferable to perform the embossing step after the friction step. After the friction treatment, even if the surface of the release layer is embossed, the releasability is not adversely affected and wrinkle resistance can be imparted. As described above, the present inventors have found that the releasability is remarkably improved by sufficiently smoothing the surface of the raw film of the release layer and then performing the friction treatment.
  • the embossing treatment is effective for wrinkle resistance, but even if the embossed film is subjected to the friction treatment, it may not have a remarkable releasability. It was.
  • the present inventors sufficiently smooth the surface of the release layer during the friction treatment, improve the releasability by the friction treatment, and then perform the embossing treatment again to obtain excellent releasability. It has been found that a release film having wrinkle resistance can be produced. In the past, since embossing was usually performed during extrusion molding, the film was not formed into a smooth film once, and then friction treatment and further embossing treatment were not performed. In addition, since the process becomes complicated, it is usually difficult to assume that such a process will be performed.
  • the embossing method is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known methods such as an embossing roll method.
  • the embossing treatment on the surface of the release film can improve the visibility and handleability of the film (discrimination between the front and back and the slipperiness), and can also suppress blocking between the films. Further, the embossing treatment may be applied to both sides of the release film. Since both sides of the release film are embossed, the visibility, handleability, and blocking resistance of the film can be further improved.
  • the embossing treatment may be performed by heating.
  • the heating method is not particularly limited, and examples thereof include a method of preheating the film and a method of heating the embossed roll.
  • an embossing roll used for the embossing treatment for example, an embossing roll having an arithmetic average roughness Ra of the surface of 2.0 ⁇ m or more can be used.
  • an embossed roll having an arithmetic average roughness Ra of the surface of 2.0 ⁇ m or more By using an embossed roll having an arithmetic average roughness Ra of the surface of 2.0 ⁇ m or more, a release film with less wrinkles can be produced.
  • the embossing roll one having an arithmetic average roughness Ra of the surface of 5.0 ⁇ m or more may be used.
  • the application of the release film of the present invention is not particularly limited, but it can be suitably used in the manufacturing process of a printed wiring board, a flexible circuit board, a multilayer printed wiring board, and the like.
  • a coverlay film is hot-press-bonded to a flexible circuit board body on which a copper circuit is formed via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet.
  • the release film of the present invention can be used. Since the release film of the present invention is extremely excellent in releasability, it can be suitably used for manufacturing a flexible circuit board by the RtoR method, which requires high releasability.
  • Example 1 (1) Production of Release Film Polybutylene terephthalate resin (PBT) was used as the resin constituting the release layer (release layer a and release layer b).
  • the resin constituting the cushion layer 75 parts by weight of polypropylene resin (PP) and 25 parts by weight of polybutylene terephthalate resin (PBT) (main component resin of the release layer) were used.
  • the resin that constitutes the release layer and the resin that constitutes the cushion layer are extruded using an extruder (GM Engineering Co., Ltd., GM30-28 (screw diameter 30 mm, L / D28)) with a T-die width of 400 mm for all three layers.
  • GM Engineering Co., Ltd. GM30-28 (screw diameter 30 mm, L / D28)
  • the extruded molten resin was cooled by a cooling roll (temperature 90 ° C.). As a result, a film having a three-layer structure having a release layer a (thickness 20 ⁇ m) and a release layer b (thickness 30 ⁇ m) on both sides of the cushion layer (thickness 50 ⁇ m) was obtained.
  • the contact time between the molten resin and the cooling roll was set to 2.0 seconds, and the elongation stress when the molten resin was cooled by the cooling roll was set to 400 kPa.
  • the cooling roll a cooling roll having an arithmetic average roughness Ra of the surface of 0.1 ⁇ m was used.
  • the elongation stress is represented by the following formula (3).
  • strain rate and the extensional viscosity of the molten resin are represented by the following equations (4) and (5), respectively.
  • V is the roll speed (m / s)
  • V0 is the flow velocity of the molten resin at the mold outlet (m / s)
  • L is the distance from the mold outlet to the roll contact point of the molten resin (m). Is.
  • the surface of the release layer a is subjected to a friction treatment device (polishing device manufactured by Yamagata Machinery Co., Ltd., model YCM-150M), and a woven fabric is used as the surface material of the friction treatment material.
  • a friction treatment device polishing device manufactured by Yamagata Machinery Co., Ltd., model YCM-150M
  • a woven fabric is used as the surface material of the friction treatment material.
  • a friction treatment device manufactured by Yamagata Machinery Co., Ltd., model YCM-150M
  • a woven fabric is used as the surface material of the friction treatment material.
  • X-ray source CuK ⁇ tube voltage-tube current 50kV-300mA Incident optical system Concentration method Incident angle ( ⁇ ) 0.06 ° Measuring range 5-70 ° Measurement interval 0.02 ° Scanning speed 1.0 ° / min Operation method In-Plane method
  • X-ray source CuK ⁇ tube voltage 45kV-200mA Incident optical system Concentrated measurement range 5-80 ° Measurement interval 0.02 ° Scanning speed 5.0 ° / min Scanning method Out-of-Plane method
  • Example 2 As the resin constituting the release layer (release layer a and release layer b), polybutylene terephthalate resin (PBT) and PBT-polytetramethylene glycol copolymer were used at a weight ratio of 80:20 to form a molten resin.
  • a release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the contact time with the cooling roll, the cooling roll temperature and the elongation stress, and the tension during the surface treatment were changed as shown in Table 1. The physical characteristics of the obtained release film were determined in the same manner as in Example 1.
  • Examples 3 to 6 A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the contact time between the molten resin and the cooling roll, the cooling roll temperature and elongation stress, and the tension during surface treatment were changed as shown in Table 1. .. The physical characteristics of the obtained release film were determined in the same manner as in Example 1.
  • the release film having a good release test at a release angle of 30 ° has excellent release properties as compared with the conventional release film.
  • a flexible circuit board (FPC) evaluation sample composed of CCL and coverlay was prepared by pressing at 50 kg / cm2 for 2 minutes under vacuum conditions. Then, the FPC evaluation sample and the release film were taken out, the release film was peeled off, and then the number of wrinkles transferred on the coverlay surface was measured. When the number of wrinkles was 0, it was " ⁇ ", when it was 1 to 10, it was “ ⁇ ”, and when it was 11 to 20, it was " ⁇ ", which was 21 or more. The case was evaluated as "x”. When the number of wrinkles is 20 or less, it can be said that the film has sufficient wrinkle resistance as a release film when manufacturing a flexible circuit board. When the number of wrinkles is 10 or less, it can be said that the product has excellent wrinkle resistance.
  • 12.5 cm ⁇ 12.5 cm, polyimide thickness 25 ⁇ m, epoxy adhesive layer thickness 35 ⁇ m) were laminated so that the epoxy adhesive layer was in contact with each other.
  • the release film was laminated so that the release layer a was in contact with the coverlay film. This laminate was heat pressed for 2 minutes at 180 ° C. and 30 kgf / cm 2. Then, the release film was peeled off, and the epoxy adhesive flowing out on the copper-clad laminate (CCL) was observed with an optical microscope.
  • the exudation width of the epoxy adhesive was measured at 12 points and the average value was calculated. Based on the measurement results, the followability of the release film was evaluated as " ⁇ " when the average value of the see-out width of the epoxy adhesive was less than 55 ⁇ m, and as " ⁇ " when it was 55 ⁇ m or more. ..
  • the present invention it is possible to provide a release film having excellent mold release property and also excellent wrinkle resistance as compared with the conventional one, and a method for producing the release film.

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Abstract

本発明は、従来よりも優れた離型性を有し、耐シワ性にも優れる離型フィルム、及び、該離型フィルムを製造する方法を提供することを目的とする。 本発明は、少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムであって、前記離型層は、入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により求められる結晶化度が５０％以上であり、前記離型層の表面の算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上である離型フィルムである。

Description

離型フィルム及び離型フィルムの製造方法
本発明は、離型フィルム及び離型フィルムの製造方法に関する。
プリント配線基板、フレキシブル回路基板、多層プリント配線板等の製造工程において離型フィルムが使用されている。
フレキシブル回路基板の製造工程においては、銅回路を形成したフレキシブル回路基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化型接着シートを介してカバーレイフィルムが熱プレス接着される。このとき、カバーレイフィルムと熱プレス板との間に離型フィルムを配置することで、カバーレイフィルムと熱プレス板とが接着するのを防止することができ、また、接着剤が染み出して電極部のめっき処理の障害となる等の不具合を防止することができる。
離型フィルムには、熱プレス接着後に容易に剥離する離型性が求められる。離型性の向上のために、例えば、離型フィルムの結晶化度を調整することが行われている。特許文献１には、少なくとも一方の面に、ポリエステル樹脂を含む離型層を有し、離型層の結晶化度が１０％以上５０％以下である離型フィルムが記載されている。
特開２０１６－２７３０号公報
近年、フレキシブル回路基板の薄膜化に伴い、離型フィルムには離型性の更なる向上が求められている。また、近年、フレキシブル回路基板の製造は、ロールトゥーロール（ＲｔｏＲ）方式等による自動化も進んでいる。ＲｔｏＲ方式では、ロールから繰り出したフレキシブル回路基板本体や離型フィルム等をそれぞれ熱プレス板の間に搬送し、熱プレス接着した後、再びロールに巻き取ることが行われる。このようなＲｔｏＲ方式においては、熱プレス接着後にフレキシブル回路基板から離型フィルムを剥離する際に、剥離角度が低角度となる傾向にある。そのため、従来の離型フィルムを用いた場合は、剥離の際により大きな力をかけなければならないことがあり、不良の発生等につながるおそれがある。従って、離型フィルムには離型性の更なる向上が求められる。
また、離型フィルムは、プレス加工時に界面に気泡を巻き込んでシワが発生し、不良品の発生につながることがある。従来、上記のような優れた離型性を備えつつ、シワの発生を抑制できる（耐シワ性を有する）離型フィルムを実現することは困難であった。
本発明は、従来よりも優れた離型性を有し、耐シワ性にも優れる離型フィルム、及び、該離型フィルムを製造する方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様である離型フィルムは、少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムであって、前記離型層は、入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により求められる結晶化度が５０％以上であり、前記離型層の表面の算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上である離型フィルムである。
以下、本発明にかかる離型フィルムについて詳述する。
本発明者らは、少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムにおいて、離型層全体の結晶化度ではなく、離型層の表面の極めて薄い領域（極表面）の結晶化度のみを選択的に高めることで、凹凸への追従性を損なうことなく、離型性を劇的に向上できることを見出した。また、離型層の極表面の結晶化度のみを選択的に高めた後でエンボス処理を行うことで、優れた離型性を発現かつ維持させたままで、耐シワ性を両立できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明の離型フィルムは、少なくとも１つの離型層を有する。
上記離型層は、入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ法）により求められる結晶化度が５０％以上である。
斜入射広角Ｘ線回折法において入射角を０．０６°とすることにより、上記離型層全体の結晶化度ではなく、上記離型層の極表面のみの結晶化度を測定することができる。極表面とは、表面の極めて薄い領域をいい、より具体的には、表面から厚み約４ｎｍ程度までの領域をいう。上記離型層の極表面の結晶化度が５０％以上であることにより、熱プレス接着時にカバーレイフィルムに形成された接着剤が上記離型層に浸透することを充分に抑制できる。即ち、接着剤が上記離型層に浸み込む深さを浅くすることができ、接着剤によるアンカー効果を抑制できるため、離型フィルムの離型性が大きく向上する。なお、上記離型層の少なくとも一方の表面がこのような極表面の結晶化度を有していればよい。上記離型層の極表面の結晶化度は６０％以上が好ましく、６５％以上がより好ましい。
上記離型層の極表面の結晶化度の上限は特に限定されないが、好ましい上限は９０％である。上記離型層の極表面の結晶化度が９０％以下であれば、熱プレス接着時に上記離型層の極表面の結晶質相に割れが生じにくく、離型性の悪化を抑制できる。上記離型層の極表面の結晶化度のより好ましい上限は８０％である。
上記離型層の極表面の結晶化度は、Ｘ線の入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により上記離型層の表面を分析して得られた回折測定プロットにベースラインを引き、結晶質相及び非晶質相に対してそれぞれフィッティングを行い、得られた結晶質相のピーク総面積及び非晶質相のピーク総面積から下記式（１）により求めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
上記離型層の極表面の結晶化度を求めるためのＸ線回折装置としては、例えば、下記の条件に設定したリガク社製の表面構造評価用多機能Ｘ線回折装置（ＡＴＸ－Ｇ型）を用いることができる。
Ｘ線源　ＣｕＫα線
管電圧－管電流　５０ｋＶ－３００ｍＡ
入射光学系　集中法
入射角（ω）　０．０６°
測定範囲　５－７０°
測定間隔　０．０２°
走査速度　１．０°／ｍｉｎ
走査方法　Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ法
上記離型層の極表面の結晶化度を上記範囲に調整する方法は特に限定されないが、上記離型層の表面処理前の算術平均粗さＲａを小さく、かつ／又は、上記離型層の表面処理前の光沢度を大きく調整したうえで、上記離型層の表面に対して表面処理を行うことが好ましい。上記離型層の表面処理前の算術平均粗さＲａを小さく、かつ／又は、上記離型層の表面処理前の光沢度を大きく調整することで、上記離型層の表面に対して表面処理を行って結晶化度を高める効果が大きく向上し、上記離型層の極表面の結晶化度を上記範囲に調整することができる。特に、本発明者らは、摩擦処理前の離型層の原反フィルム表面を十分に平滑に調整したうえで、該表面を摩擦することが、極表面の結晶化度を確実に高める上で効果的であることを見出した。
上記離型層の表面処理前の算術平均粗さＲａを小さく、かつ／又は、上記離型層の表面処理前の光沢度を大きく調整する方法は特に限定されないが、上記離型層を構成する樹脂を溶融押出して、溶融樹脂を冷却する際に、例えば次のような方法を採用することが好ましい。即ち、より平滑な表面を有する冷却ロールを用いて、そのロール表面形状をフィルムに転写させる方法や、冷却の際に、溶融樹脂にかかる伸長応力が大きくなるように調整する方法等が好ましい。
上記離型層の表面処理前の算術平均粗さＲａを小さくすることにより、上記離型層の極表面の結晶化度を上記範囲に調整することができる。上記離型層の表面処理前の表面の算術平均粗さＲａは、例えば、０．５０μｍ以下とすることができる。
なお、上記離型層の表面処理前の算術平均粗さＲａは、表面処理時において小さければよく、表面処理後であれば、後述するように離型層の表面にエンボス加工を施した結果、算術平均粗さＲａが大きくなっても、極表面の結晶化度自体には大きく影響しない。
上記離型層の表面処理前の光沢度を大きくすることにより、上記離型層の極表面の結晶化度を上記範囲に調整することができる。上記離型層の表面処理前の光沢度は、例えば、１００％以上とすることができる。
なお、上記離型層の表面処理前の光沢度は、表面処理時において大きければよく、表面処理後であれば、後述するように離型層の表面にエンボス加工を施した結果、光沢度が小さくなっても、極表面の結晶化度自体には大きく影響しない。
なお、表面処理前の算術平均粗さＲａや表面処理前の光沢度を調整することで、表面処理による結晶化度を高める効果が向上する理由は定かではないが、次のように推定できる。算術平均粗さＲａが比較的大きい場合は、表面処理による極表面への影響がばらついてしまう可能性があるが、算術平均粗さＲａが比較的小さい場合は、表面処理による極表面への影響が均等になり、極表面のカルボニル基が面内にもぐりこむ確率や量が向上すると考えられる。例えば摩擦処理による表面処理を行う場合、算術平均粗さＲａが比較的大きい場合は、離型層表面の凹凸によって何らかの物性変化や均一な処理が阻害されている可能性がある。これに対して、算術平均粗さＲａが十分に小さい場合には、離型層表面の凹凸による物性変化や均一な処理の阻害が小さく、摩擦処理によって表面が十分に変化できると考えられる。
また、光沢度は、対象の表面粗さや内部の結晶粒の大きさに影響を受けるため、光沢度が大きいということは、表面粗さが小さく、結晶粒が小さい（一定のサイズ以下である）ことを意味する。表面処理前の結晶粒が比較的大きい場合は、複数の結晶粒が互いに立体的な障害となり、表面処理による結晶の成長が妨げられてしまう。一方、表面処理前の結晶粒が比較的小さい場合は、上述のような立体的な障害を受けることなく、表面処理によって結晶の成長が促進されるため、結果として極表面の結晶化度を高める効果が向上すると考えられる。また、結晶粒の大きさは、溶融押出時の冷却や伸長応力の影響を受けていると考えることができる。
上記離型層の表面の算術平均粗さＲａは、２．０μｍ以上である。上記離型層の表面の算術平均粗さＲａの下限は、好ましくは３．０μｍ、より好ましくは３．５μｍ、特に好ましくは５．０μｍである。上記離型層の表面の算術平均粗さＲａが上記範囲であることにより、耐シワ性に優れた離型フィルムとすることができる。上記離型層の表面の算術平均粗さＲａの上限は、特に限定されないが、好ましくは１０μｍ、より好ましくは８μｍである。
上記離型層の表面の算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：２０１３に準拠した算術平均粗さＲａであり、例えば、Ｍｉｔｕｔｏｙｏ社製のサーフテストＳＪ－３０１を用いて測定することができる。上記離型層の表面の算術平均粗さＲａは、製膜時の条件にも影響され得るが、積極的に変化させたい場合は、別途エンボス処理や平滑化処理を施す必要がある。なお、加熱プレス（プレスアニール）等の処理を加えた場合は、表面の凹凸がつぶれるため、一般に算術平均粗さＲａの値は小さくなる傾向にある。
上記離型層の表面の光沢度は特に限定されないが、好ましい上限は１００％、より好ましい上限は５０％、更に好ましい上限は２５％、特に好ましい上限は１０％である。上記離型層の表面の光沢度が上記範囲であることにより、離型フィルムの耐シワ性が向上しやすくなる。上記離型層の表面の光沢度の下限は特に限定されないが、実質的には５％以上である。
上記離型層の表面の光沢度は、ＪＩＳ　Ｚ８７４１に準拠し、入射角を６０°として測定した光沢度であり、例えば、日本電色工業社製の光沢度計ＶＧ－１Ｄを用いて測定することができる。上記離型層の表面の光沢度は、製膜時の条件にも影響され得るが、積極的に変化させたい場合は、別途エンボス処理や平滑化処理を施す必要がある。なお、加熱プレス（プレスアニール）等の処理を加えた場合は、表面の凹凸がつぶれるため、一般に光沢度の値は大きくなる傾向にある。
上記表面処理は特に限定されず、例えば、摩擦処理、熱処理、一軸延伸又は二軸延伸処理等が挙げられる。これらの表面処理は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
上記摩擦処理の方法は特に限定されないが、摩擦処理装置（例えば、山縣機械社製の研磨処理装置、型式ＹＣＭ－１５０Ｍ）を用い、摩擦処理材の表面の素材として織物を用いて摩擦処理を行う方法が好ましい。
上記熱処理の方法は特に限定されないが、一定の温度に加熱したロールの間にフィルムを通す方法、ヒーターによりフィルムを加熱する方法等が好ましい。
上記一軸又は二軸延伸処理の方法は特に限定されないが、製膜後のフィルムを一定の温度下にて、延伸する方法等が好ましい。
上記離型層全体の結晶化度は特に限定されないが、上記離型層の極表面の結晶化度よりも小さいことが好ましい。上記離型層全体の結晶化度の好ましい下限は２５％、好ましい上限は５０％である。
上記離型層全体の結晶化度を必要以上に高めると、離型フィルム全体としての柔軟性が低下し、凹凸への追従性が低下して、熱プレス接着時にボイドが発生したり、接着剤の染み出し幅が増大したりすることがある。上記離型層の極表面以外の結晶化度を調整することで、上記離型層が極表面では５０％以上という高い結晶化度を有しつつ、上記離型層全体としては上記範囲の適度な結晶化度を有するようにすることができる。このような構成とすることで、上記離型フィルムは、離型性にも凹凸への追従性にも更に優れたものとなる。上記離型層全体の結晶化度が２５％以上であれば、離型フィルムの耐熱性が向上する。上記離型層全体の結晶化度が５０％以下であれば、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記離型層全体の結晶化度の下限は、より好ましくは３０％、更に好ましくは３５％である。上記離型層全体の結晶化度の上限は、より好ましくは４５％、更に好ましくは４０％、特に好ましくは３５％である。
上記離型層全体の結晶化度は、広角Ｘ線回折法により上記離型層全体を分析して得られた回折測定プロットにベースラインを引き、結晶質相及び非晶質相に対してそれぞれフィッティングを行い、得られた結晶質相のピーク総面積及び非晶質相のピーク総面積から下記式（２）により求めることができる。なお、離型フィルムが多層からなる場合には、離型フィルムの各層を剥がし、上記離型層のみからなるサンプルに対して分析を行うことで、上記離型層全体の結晶化度を評価することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
上記離型層全体の結晶化度を求めるためのＸ線回折装置としては、例えば、下記の条件に設定したリガク社製の薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置（Ｓｍａｒｔ　Ｌａｂ）を用いることができる。
Ｘ線源　ＣｕＫα線
管電圧－管電流　４５ｋＶ－２００ｍＡ
入射光学系　集中法
測定範囲　５－８０°
測定間隔　０．０２°
走査速度　５．０°／ｍｉｎ
走査方法　Ｏｕｔ－ｏｆ－Ｐｌａｎｅ法
上記離型層全体の結晶化度を上記範囲に調整する方法は特に限定されないが、上記離型層を構成する樹脂を溶融押出して、溶融樹脂を冷却する際に、例えば次のような方法を採用することが好ましい。即ち、溶融樹脂と冷却ロールとの接触時間を調整する方法、冷却ロール温度を調整する方法等が好ましい。このようにして離型層表面と離型層内部との温度勾配を調整することで、離型層表面と離型層内部での結晶化の速度を調整し、上記離型層全体としての結晶化度を調整することができる。なお、離型層全体の結晶化度は、離型層の極表面の結晶化度よりも高い値に調整することもできる。
上記離型層を構成する樹脂は特に限定されないが、離型フィルムの離型性が向上することから、ポリエステル、ポリオレフィン又はポリスチレンが好ましい。
上記ポリエステルは、芳香族ポリエステル樹脂を含有することが好ましい。上記ポリオレフィンは、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）又は脂環式オレフィン系樹脂を含有することが好ましい。上記ポリスチレンは、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂を含有することが好ましい。なかでも、凹凸への追従性に優れ、カバーレイフィルムに形成された接着剤の染み出し防止性に優れることから、上記離型層は、芳香族ポリエステル樹脂を含有することがより好ましい。
上記芳香族ポリエステル樹脂は特に限定されないが、結晶性芳香族ポリエステル樹脂が好ましい。具体的には例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体等が挙げられる。これらの芳香族ポリエステル樹脂は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。なかでも、耐熱性、離型性、凹凸への追従性等のバランスの観点から、ポリブチレンテレフタレート樹脂が好ましい。
また、ポリブチレンテレフタレート樹脂と、ポリブチレンテレフタレートと脂肪族ポリエーテルとのブロック共重合体との混合樹脂も好ましい。上記脂肪族ポリエーテルは特に限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、ポリジエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
上記芳香族ポリエステル樹脂は、フィルム製膜性の観点から、メルトボリュームフローレートが３０ｃｍ３／１０ｍｉｎ以下であることが好ましく、２０ｃｍ３／１０ｍｉｎ以下であることがより好ましい。なお、メルトボリュームフローレートは、ＩＳＯ１１３３に従って、測定温度２５０℃、荷重２．１６ｋｇで測定することができる。
上記芳香族ポリエステル樹脂のうち、市販されているものとして、例えば、「ペルプレン（登録商標）」（東洋紡社製）、「ハイトレル（登録商標）」（東レ・デュポン社製）、「ジュラネックス（登録商標）」（ポリプラスチックス社製）、「ノバデュラン（登録商標）」（三菱エンジニアリングプラスチックス社製）等が挙げられる。
上記ポリ（４－メチル－１－ペンテン）を含有するポリオレフィンには、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）樹脂が９０重量％以上含有されていることが好ましい。
上記ポリ（４－メチル－１－ペンテン）樹脂は、例えば、三井化学社製の商品名ＴＰＸ（登録商標）等の市販品を用いることができる。
上記脂環式オレフィン系樹脂とは、主鎖又は側鎖に環状脂肪族炭化水素を有するオレフィン系樹脂であり、耐熱性、強度等の点から、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂が好ましい。
上記熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂として、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体又は開環共重合体を、（必要に応じてマレイン酸付加やシクロペンタジエン付加のような変性を行った後に）水素添加した樹脂が挙げられる。また、ノルボルネン系モノマーを付加重合させた樹脂、ノルボルネン系モノマーとエチレン又はα－オレフィン等のオレフィン系モノマーとを付加重合させた樹脂、ノルボルネン系モノマーとシクロペンテン、シクロオクテン、５，６－ジヒドロジシクロペンタジエン等の環状オレフィン系モノマーとを付加重合させた樹脂が挙げられる。更に、これらの樹脂の変性物等も挙げられる。
上記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂を含有するポリスチレンには、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂が７０重量％以上、９０重量％以下含有されていることが好ましい。
なお、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂とは、シンジオタクチック構造、即ち、炭素－炭素シグマ結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位置する立体規則構造を有する樹脂である。
上記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂は、特に限定されない。例えば、ラセミダイアッドで７５％以上、又は、ラセミペンタッドで３０％以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（アリールスチレン）、ポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（ビニル安息香酸エステル）等が挙げられる。また、これらの水素化重合体及びこれらの混合物、これらを主成分とする共重合体等が挙げられる。上記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系樹脂は、例えば、出光興産社製の商品名ザレック（登録商標）（ＸＡＲＥＣ（登録商標））等の市販を用いることができる。
上記離型層は、ポリブチレンテレフタレート樹脂とエラストマーを含む混合樹脂を含有するものであってもよい。上記エラストマーは特に限定されず、例えば、ポリブチレンテレフタレートと脂肪族ポリエーテルとのブロック共重合体等が挙げられる。上記脂肪族ポリエーテルは特に限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、ポリジエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
上記離型層を構成する樹脂に占める上記ポリブチレンテレフタレート樹脂の割合は特に限定されないが、７５重量％以上であることが好ましい。上記ポリブチレンテレフタレート樹脂の割合が７５重量％以上であれば、離型フィルムの離型性が向上する。上記離型層を構成する樹脂に占める上記ポリブチレンテレフタレート樹脂の割合のより好ましい下限は８０重量％である。
上記離型層は、ゴム成分を含有してもよい。上記離型層がゴム成分を含有することにより、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。
上記ゴム成分は特に限定されず、例えば、天然ゴム、スチレン－ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル－ブタジエン共重合体、エチレン－プロピレン共重合体（ＥＰＭ、ＥＰＤＭ）、ポリクロロプレン、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム等が挙げられる。また、上記ゴム成分として、例えば、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
上記離型層は、安定剤を含有してもよい。
上記安定剤は特に限定されず、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、熱安定剤等が挙げられる。
上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は特に限定されず、例えば、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，９－ビス｛２－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）－プロピオニロキシ〕－１，１－ジメチルエチル｝－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン等が挙げられる。上記熱安定剤は特に限定されず、例えば、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、２－ｔ－ブチル－α－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－ｐ－クメニルビス（ｐ－ノニルフェニル）ホスファイト、ジミリスチル３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’－チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）、ジトリデシル３，３’－チオジプロピオネート等が挙げられる。
上記離型層は、更に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の従来公知の添加剤を含有してもよい。
上記離型層の厚みは特に限定されないが、好ましい下限は１０μｍ、好ましい上限は４０μｍである。上記離型層の厚みが１０μｍ以上であれば、離型フィルムの耐熱性が向上する。上記離型層の厚みが４０μｍ以下であれば、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記離型層の厚みのより好ましい下限は１５μｍ、より好ましい上限は３０μｍである。
なお、上記離型層の厚みは、１μｍ以下であってもよい。離型層の厚みを１μｍ以下の極薄とすることで、離型フィルムの柔軟性を高め、追従性を向上させることができる。上述の通り、上記離型層は、入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により求められる結晶化度を５０％以上とすることで、高い離型性を発揮することができるが、離型層の結晶化度にかかわらず、離型層の厚みを１μｍ以下としてもよい。
本発明の離型フィルムは、上記離型層のみから構成される単層構造であってもよく、上記離型層以外の層を有する多層構造であってもよい。
本発明の離型フィルムは、更にクッション層を有することが好ましい。上記クッション層を有することにより、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。
上記クッション層を有する場合、本発明の離型フィルムは、少なくとも１つの離型層とクッション層とを有してればよく、２層構造であってもよいし、３層以上の構造であってもよい。なかでも、クッション層の両側に離型層を有する構造を有することが好ましい。この場合、両側の離型層が上述したような極表面の結晶化度を有していてもよいし、片側の離型層のみが上述したような極表面の結晶化度を有していてもよい。また、両側の離型層は同じ樹脂組成であってもよいし、異なる樹脂組成であってもよい。また、両側の離型層は同じ厚みであってもよいし、異なる厚みであってもよい。
また、本発明の離型フィルムは、離型層とクッション層とが直接接して一体化している構造であってもよいし、離型層とクッション層とが接着層を介して一体化している構造であってもよい。
上記クッション層を構成する樹脂は特に限定されないが、上記クッション層が上記離型層を構成する樹脂を含有することが好ましい。
上記クッション層が上記離型層を構成する樹脂を含有することにより、上記離型層と上記クッション層との密着性が向上する。上記クッション層は、上記離型層の主成分樹脂を含有することがより好ましく、上記離型層の主成分樹脂及びポリオレフィン樹脂を含有することが更に好ましい。ここで、上記離型層の主成分樹脂とは、上記離型層に含まれる樹脂の中で含有量が最も多い樹脂のことを意味する。
上記クッション層における上記離型層を構成する樹脂の含有量は特に限定されないが、好ましい下限が１０重量％、好ましい上限が５０重量％である。上記離型層を構成する樹脂の含有量が１０重量％以上であれば、上記離型層と上記クッション層との密着性が向上する。上記離型層を構成する樹脂の含有量が５０重量％以下であれば、上記クッション層の柔軟性が充分となり、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記離型層を構成する樹脂の含有量のより好ましい下限は２０重量％、更に好ましい下限は２５重量％である。上記離型層を構成する樹脂の含有量のより好ましい上限は４０重量％、更に好ましい上限は３５重量％である。
上記ポリオレフィン樹脂は特に限定されず、例えば、ポリエチレン樹脂（例えば、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン）、ポリプロピレン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、エチレン－メチルメタクリレート共重合体、エチレン－エチルアクリレート共重合体、エチレン－アクリル酸共重合体等のエチレン－アクリル系モノマー共重合体等も挙げられる。これらのポリオレフィン樹脂は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。なかでも、凹凸への追従性と耐熱性を両立させやすいことから、ポリプロピレン樹脂が好ましい。
上記クッション層における上記ポリオレフィン樹脂の含有量は特に限定されないが、好ましい下限が５０重量％、好ましい上限が９０重量％である。上記ポリオレフィン樹脂の含有量が５０重量％以上であれば、上記クッション層の柔軟性が充分となり、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記ポリオレフィン樹脂の含有量が９０重量％以下であれば、上記離型層と上記クッション層との密着性が向上する。上記ポリオレフィン樹脂の含有量のより好ましい下限は６０重量％、更に好ましい下限は６５重量％である。上記ポリオレフィン樹脂の含有量のより好ましい上限は８０重量％、更に好ましい上限は７５重量％である。
上記クッション層は、更に、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等の樹脂を含有してもよい。
上記クッション層は、更に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。
上記クッション層は、単独の層からなる単層構造であってもよいし、複数の層の積層体からなる多層構造であってもよい。クッション層が多層構造である場合は、複数の層が接着層を介して積層一体化していてもよい。
上記クッション層の厚みは特に限定されないが、好ましい下限は１５μｍ、好ましい上限は２００μｍである。上記クッション層の厚みが１５μｍ以上であれば、離型フィルムの凹凸への追従性が向上する。上記クッション層の厚みが２００μｍ以下であれば、熱プレス接着時におけるフィルム端部で生じる上記クッション層からの樹脂の染み出しを抑制できる。上記クッション層の厚みのより好ましい下限は３０μｍ、より好ましい上限は１５０μｍである。
上記クッション層が上記離型層と直接接している場合、クッション層と離型層との界面に凹凸を有することが好ましい。凹凸を有することにより離型性とクッション層との密着性を高めることができ、離型層とクッション層との層間剥離を防ぐことができる。即ち、フレキシブル回路基板からの剥離の際に取り扱いやすく、フレキシブル回路基板にかかる負荷を抑えることができる。クッション層と離型層との界面の性状は、例えば、離型層の厚みを小さくしつつ、エンボス加工の条件を制御することで調整することができる。
上記クッション層と離型層との界面に凹凸を有する場合、界面の算術平均粗さＲａは３μｍ以上であることが好ましい。
なお、クッション層と離型層との界面の性状や界面の算術平均粗さＲａは、離型フィルムの断面を観察し、その粗さ曲線を計測することで確認することができる。
本発明の離型フィルムの原反フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Ｔダイ法で製膜する方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。
上記クッション層の両側に上記離型層を有する構造を有する場合には、一方の離型層となるフィルムを作製した後、このフィルムにクッション層を押出ラミネート法にて積層し、次いで他方の離型層をドライラミネーションする方法が挙げられる。また、一方の離型層となるフィルム、クッション層となるフィルム及び他方の離型層となるフィルムをドライラミネーションする方法が挙げられる。
なかでも、各層の厚み制御に優れる点から、共押出Ｔダイ法で製膜する方法が好適である。
上述のように本発明者らは、上記離型層について、十分に平滑な（又は光沢を有する）表面に対して摩擦処理をすることにより、上記離型層の極表面の結晶化度を上記範囲に調整することができることを見出した。平滑な表面とは、算術平均粗さＲａが小さいことを意味する。光沢を有するとは、光沢度が大きいことを意味する。より具体的には、摩擦工程直前における原反フィルム表面の算術平均粗さＲａが０．５０μｍ以下であるか、又は、摩擦工程直前における原反フィルム表面の光沢度が１００％以上であることにより、従来よりも優れた離型性を有する離型フィルムを製造することができる。摩擦処理前にエンボス処理が施されていること等により、算術平均粗さＲａが大きく、又は、光沢度が小さくなっている場合には、得られる離型フィルムが、顕著な離型性を有しない場合がある。
少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムの製造方法であって、前記離型層の原反フィルムの表面を摩擦する摩擦工程を有し、前記摩擦工程直前における前記原反フィルム表面の算術平均粗さＲａが０．５０μｍ以下である離型フィルムの製造方法もまた、本発明の１つである。
少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムの製造方法であって、前記離型層の原反フィルムの表面を摩擦する摩擦工程を有し、前記摩擦工程直前における前記原反フィルム表面の光沢度が１００％以上である離型フィルムの製造方法もまた、本発明の１つである。
上記摩擦工程直前における上記離型層の原反フィルム表面の算術平均粗さＲａのより好ましい上限は０．３０μｍ、更に好ましい上限は０．２０μｍ、特に好ましい上限は０．１０μｍである。上記離型層の原反フィルム表面の算術平均粗さＲａの下限は特に限定されないが、実質的に好ましい下限は０．０１μｍである。
なお、本明細書において算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：２０１３に準拠した算術平均粗さＲａであり、例えば、Ｍｉｔｕｔｏｙｏ社製のサーフテストＳＪ－３０１を用いて測定することができる。
上記摩擦工程直前における上記離型層の原反フィルム表面の光沢度のより好ましい下限は１２０％である。上記離型層の原反フィルム表面の光沢度の上限は特に限定されないが、実質的に好ましい上限は２００％である。
なお本明細書において光沢度は、ＪＩＳ　Ｚ８７４１に準拠し、入射角を６０°として測定した光沢度であり、例えば、日本電色工業社製の光沢度計ＶＧ－１Ｄを用いて測定することができる。
原反フィルム表面を十分に平滑に（又は光沢を有するように）する方法としては、例えば、原反フィルムの製膜時に溶融した樹脂フィルムを冷却する際に、表面の算術平均粗さＲａが０．５０μｍ以下である冷却ロールを用いる方法が挙げられる。
少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムの製造方法であって、前記離型層の原反フィルムの表面を摩擦する摩擦工程を有し、前記離型層の原反フィルムの製膜時に溶融した樹脂フィルムを冷却するときに、表面の算術平均粗さＲａが０．５０μｍ以下である冷却ロールを用いる離型フィルムの製造方法もまた、本発明の１つである。
上記摩擦処理の方法は特に限定されないが、摩擦処理装置（例えば、山縣機械社製の研磨処理装置、型式ＹＣＭ－１５０Ｍ）を用い、摩擦処理材の表面の素材として織物を用いて摩擦処理を行う方法が好ましい。
上記摩擦処理において、摩擦処理材の表面の素材に用いられる織物の繊維は、引張強度の好ましい下限が１．０ｇ／ｄ、好ましい上限が５．０ｇ／ｄである。上記繊維の引張強度が１．０ｇ／ｄ未満であると、上記摩擦処理において繊維が伸び切れ、得られる離型フィルムに繊維が付着することがある。上記繊維の引張強度が５．０ｇ／ｄを超えると、得られる離型フィルムにシワ、傷等の損傷が生じ、基板表面への追従性が低下して、熱プレス成形時の接着剤の流れ出しを充分に抑制できないことがある。上記繊維の引張強度のより好ましい上限は３．０ｇ／ｄである。
なお、本明細書中、繊維の引張強度とは、ＪＩＳ－Ｌ－１０９５に準拠する方法により求められる繊維一本の引張強度を意味する。
上記繊維は、伸度の好ましい下限が１％、好ましい上限が３０％である。上記繊維の伸度が１％未満であると、上記摩擦処理において繊維が伸び切れ、得られる離型フィルムに繊維が付着することがある。上記繊維の伸度が３０％を超えると、得られる離型フィルムにシワ、傷等の損傷が生じ、基板表面への追従性が低下して、熱プレス成形時の接着剤の流れ出しを充分に抑制できないことがある。上記繊維の伸度のより好ましい上限は２９％である。
なお、本明細書中、繊維の伸度とは、ＪＩＳ－Ｌ－１０９５に準拠する方法により求められる繊維一本の引張伸度を意味する。
上記繊維として、具体的には、例えば、ＰＥＴ、レイヨン、綿、ウール、アセテート等が挙げられる。なかでも、摩擦処理を行うことによって離型フィルムに生じるシワ、傷等の損傷をより抑制して、基板表面への追従性に優れた離型フィルムを得ることができ、また、離型フィルムに付着する繊維を低減できることから、レイヨン、ウールが好ましい。
また、上記摩擦処理材の表面の素材に用いられる織物は、摩擦係数の好ましい下限が０．１、好ましい上限が０．８である。上記織物の摩擦係数が０．１未満であると、得られる離型フィルムの離型性が低下することがある。上記織物の摩擦係数が０．８を超えると、得られる離型フィルムにシワ、傷等の損傷が生じ、基板表面への追従性が低下して、熱プレス成形時の接着剤の流れ出しを充分に抑制できないことがある。上記織物の摩擦係数のより好ましい下限は０．３、より好ましい上限は０．７である。
なお、本明細書中、織物の摩擦係数とは、ＪＩＳ－Ｋ－７１２５に準拠する方法により求められる２ｍｍのポリカーボネート板に対しての織物の摩擦係数を意味する。
上記織物は、弾性率の好ましい下限が０．１ＭＰａ、好ましい上限が４．０ＭＰａである。上記織物の弾性率が０．１ＭＰａ未満であると、得られる離型フィルムの離型性が低下することがある。上記織物の弾性率が４．０ＭＰａを超えると、得られる離型フィルムにシワ、傷等の損傷が生じ、基板表面への追従性が低下して、熱プレス成形時の接着剤の流れ出しを充分に抑制できないことがある。上記織物の弾性率のより好ましい下限は０．７ＭＰａ、より好ましい上限は３．９ＭＰａである。
なお、本明細書中、織物の弾性率とは、ＪＩＳ－Ｋ－７１２７に準拠する方法により求められる織物の硬さを意味する。
上記織物は、引張強度の好ましい下限が１．５Ｎ／１０ｍｍ、好ましい上限が２．５Ｎ／１０ｍｍである。上記織物の引張強度が１．５Ｎ／１０ｍｍ未満であると、上記摩擦処理において繊維が伸び切れ、得られる離型フィルムに繊維が付着することがある。上記織物の引張強度が２．５Ｎ／１０ｍｍを超えると、得られる離型フィルムにシワ、傷等の損傷が生じ、基板表面への追従性が低下して、熱プレス成形時の接着剤の流れ出しを充分に抑制できないことがある。上記織物の引張強度のより好ましい下限は１．６Ｎ／１０ｍｍ、より好ましい上限は２．３Ｎ／１０ｍｍ、更に好ましい上限は１．８Ｎ／１０ｍｍである。
なお、本明細書中、織物の引張強度とは、ＪＩＳ－Ｋ－７１２７に準拠する方法により求められる織物の引張強度を意味する。
上記離型フィルムの製造方法は、離型層の表面にエンボス処理を施すエンボス工程を有することが好ましい。また、上記離型フィルムの製造方法は、上記摩擦工程の後に、上記エンボス工程を行うことが好ましい。摩擦処理後であれば、離型層の表面にエンボス処理を施しても離型性には悪影響せず、耐シワ性を付与できる。
上記のように、本発明者らは、離型層の原反フィルムの表面を十分に平滑とした上で摩擦処理することにより、離型性が顕著に向上することを見出した。しかしながら、離型フィルムの離型層の表面を平滑化すると、プレス加工時にカバーレイフィルムと熱プレス板との間に離型フィルムを配置した際に界面に気泡を巻き込んでしまうことがあり、耐シワ性の低下が懸念された。即ち、優れた離型性と耐シワ性とはトレードオフの関係にあり、従来は両立が困難であった。
ここで、本発明者らは耐シワ性にはエンボス処理が有効であることを見出したが、エンボス処理を施したフィルムに摩擦処理を行っても、顕著な離型性を有しない場合があった。本発明者らは、摩擦処理時において離型層の表面を十分に平滑として、摩擦処理による離型性の向上を行った後で、改めてエンボス処理を実施することで、優れた離型性と耐シワ性を有する離型フィルムを製造できることを見出した。なお従来は、押出成形時にエンボス処理を施すことが通常であったため、フィルムを一旦は平滑に製膜し、その後に摩擦処理、さらにエンボス処理を施すことは行われていなかった。また、工程が煩雑となるため、敢えてそのような工程を経ることは通常想定し難かった。
上記エンボス処理の方法は特に限定されず、例えば、エンボスロール法等の従来公知の方法が挙げられる。離型フィルム表面へのエンボス処理は、フィルムの視認性やハンドリング性（裏表の判別や滑り性）を向上させたり、フィルム同士のブロッキングを抑制したりすることもできる。また、エンボス処理は離型フィルムの両面に施してもよい。離型フィルムの両面がエンボス処理されていることにより、フィルムの視認性やハンドリング性、耐ブロッキング性を更に向上させることができる。
上記エンボス処理は、加熱して行ってもよい。加熱の方法としては特に限定されず、例えば、フィルムの予備加熱する方法や、エンボスロールを加熱する方法等が挙げられる。
上記エンボス処理に用いるエンボスロールとしては、例えば、表面の算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上であるエンボスロールを用いることができる。表面の算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上であるエンボスロールを用いることにより、シワの生じにくい離型フィルムを製造することができる。エンボスロールとしては、表面の算術平均粗さＲａが５．０μｍ以上のものを用いてもよい。
本発明の離型フィルムの用途は特に限定されないが、プリント配線基板、フレキシブル回路基板、多層プリント配線板等の製造工程において好適に用いることができる。
具体的には例えば、フレキシブル回路基板の製造工程において、銅回路を形成したフレキシブル回路基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化型接着シートを介してカバーレイフィルムを熱プレス接着する際に本発明の離型フィルムを用いることができる。
本発明の離型フィルムは離型性に極めて優れることから、高い離型性が求められるＲｔｏＲ方式によるフレキシブル回路基板の製造にも好適に用いることができる。
本発明によれば、従来よりも優れた離型性を有し、耐シワ性にも優れる離型フィルムを提供することができる。
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
（実施例１）
（１）離型フィルムの製造
離型層（離型層ａ及び離型層ｂ）を構成する樹脂として、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）を用いた。クッション層を構成する樹脂として、ポリプロピレン樹脂（ＰＰ）７５重量部と、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）（離型層の主成分樹脂）２５重量部とを用いた。
離型層を構成する樹脂、及び、クッション層を構成する樹脂を押出機（ジーエムエンジニアリング社製、ＧＭ３０－２８（スクリュー径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ２８））を用いてＴダイ幅４００ｍｍにて三層共押出し、押出された溶融樹脂を冷却ロール（温度９０℃）により冷却した。これにより、クッション層（厚み５０μｍ）の両側に離型層ａ（厚み２０μｍ）及び離型層ｂ（厚み３０μｍ）をそれぞれ有する３層構造のフィルムを得た。なお、冷却時には、溶融樹脂と冷却ロールとの接触時間を２．０秒、冷却ロールによって溶融樹脂を冷却する際の伸長応力を４００ｋＰａとした。冷却ロールとしては、表面の算術平均粗さＲａが０．１μｍの冷却ロールを用いた。
なお、伸長応力は、下記式（３）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 また、ひずみ速度及び溶融樹脂の伸長粘度は、それぞれ下記式（４）、（５）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
式（４）中、Ｖはロール速度（ｍ／ｓ）、Ｖ０は金型出口の溶融樹脂の流速（ｍ／ｓ）、Ｌは金型出口から溶融樹脂のロール接触点までの距離（ｍ）である。
得られたフィルムをロールで送りつつ、離型層ａの表面を、摩擦処理装置（山縣機械社製の研磨処理装置、型式ＹＣＭ－１５０Ｍ）を用い、摩擦処理材の表面の素材として織物を用いて摩擦処理した。摩擦処理の際には、送り側ロールと、巻き取り側ロールとの間に表面処理部ロールを設け、表面処理部ロールをフィルムに押し当てることでフィルムに荷重をかけた。巻き取り側のロール回転速度と、送り側のロールの回転速度との比を調整し、フィルムの繰り出し方向へ張力４００Ｎ／ｍを生じさせた。なお、摩擦処理の際に加えた仕事エネルギー量は３００ｋＪであった。また、摩擦処理前の算術平均粗さＲａは０．０４μｍ、光沢度は１８５％であった。
摩擦処理後のフィルムをロールで送りつつ、エンボスロール（表面粗さＲａ８μｍ、温度１６０℃、線圧５０ｋｇ／ｃｍ）で押圧して離型層ａ側の表面にエンボス加工を施し、離型フィルムを得た。
（２）算術平均粗さＲａの測定
ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：２０１３に準拠し、Ｍｉｔｕｔｏｙｏ社製のサーフテストＳＪ－３０１を用いて摩擦処理後の離型層ａの表面の算術平均粗さＲａを測定した。結果を表１に示した。
（３）光沢度の測定
ＪＩＳ　Ｚ８７４１に準拠し、入射角を６０°として、日本電色工業社製の光沢度計ＶＧ－１Ｄを用いて摩擦処理後の離型層ａの表面の光沢度を測定した。結果を表１に示した。
（４）極表面の結晶化度（入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により求められる結晶化度）の測定
Ｘ線の入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により離型層ａの表面を分析した。得られた回折測定プロットに、２θ＝９．５～３５°の範囲で直線状のベースラインを引いた。結晶質相及び非晶質相に対してそれぞれガウス関数としてフィッティングを行い、得られた結晶質相のピーク総面積及び非晶質相のピーク総面積から上記式（１）により離型層の極表面の結晶化度を求めた。結果を表１に示した。
斜入射広角Ｘ線回折装置としては、下記の条件に設定したリガク社製の表面構造評価用多機能Ｘ線回折装置（ＡＴＸ－Ｇ型）を用いた。
Ｘ線源　ＣｕＫα線
管電圧－管電流　５０ｋＶ－３００ｍＡ
入射光学系　集中法
入射角（ω）　０．０６°
測定範囲　５－７０°
測定間隔　０．０２°
走査速度　１．０°／ｍｉｎ
操作方法　Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ法
（５）離型層全体の結晶化度の測定
離型フィルムの各層を剥がし、離型層ａのみからなるサンプルを得た。広角Ｘ線回折法により離型層ａを分析した。得られた回折測定プロットに、２θ＝１２．０～２８．１８°の範囲で直線状のベースラインを引いた。結晶質相及び非晶質相に対してそれぞれガウス関数としてフィッティングを行い、得られた結晶質相のピーク総面積及び非晶質相のピーク総面積から上記式（２）により離型層全体の結晶化度を求めた。結果を表１に示した。
広角Ｘ線回折装置としては、下記の条件に設定したリガク社製の薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置（Ｓｍａｒｔ　Ｌａｂ）を用いた。
Ｘ線源　ＣｕＫα線
管電圧　４５ｋＶ－２００ｍＡ
入射光学系　集中法
測定範囲　５－８０°
測定間隔　０．０２°
走査速度　５．０°／ｍｉｎ
走査方法　Ｏｕｔ－ｏｆ－Ｐｌａｎｅ法
（実施例２）
離型層（離型層ａ及び離型層ｂ）を構成する樹脂として、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）とＰＢＴ－ポリテトラメチレングリコール共重合体とを重量比８０：２０で用い、溶融樹脂と冷却ロールとの接触時間、冷却ロール温度及び伸長応力、並びに、表面処理時の張力を表１に示したように変更した以外は実施例１と同様にして、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムについて、実施例１と同様にして各物性を求めた。
（実施例３～６）
溶融樹脂と冷却ロールとの接触時間、冷却ロール温度及び伸長応力、並びに、表面処理時の張力を表１に示したように変更した以外は実施例１と同様にして、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムについて、実施例１と同様にして各物性を求めた。
（比較例１～６）
エンボス処理を行わなかったこと以外はそれぞれ実施例１～６と同様にして、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムについて、実施例１と同様にして各物性を求めた。
（比較例７～１２）
エンボス処理を摩擦処理前に行ったこと以外はそれぞれ実施例１～６と同様にして、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムについて、実施例１と同様にして各物性を求めた。
＜評価＞
実施例及び比較例で得られた離型フィルムについて、以下の評価を行った。
（１）離型性の評価
エポキシ接着シートとしてＣＶＬ１（ニッカン工業社製、ＣＩＳＶ２５３５）を用い、離型フィルムを、離型層ａがエポキシ接着シートに接するようにしてエポキシ接着シートに重ね、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ２の条件で５分間熱プレスした。その後、一部のサンプルでは離型フィルムが自然剥離した。熱プレスから１０分間が経過しても離型フィルムが自然剥離しなかったサンプルについては、幅３０ｍｍにカットし、試験速度５００ｍｍ／分、剥離角度３０°で剥離試験を行い、３０°剥離強度（３０°ピール値）を求めた。
また、通常求められる条件よりも厳しい条件下での離型性を比較するために、エポキシ接着シートＣＶＬ１を、より接着力が強いエポキシ接着シートであるＣＶＬ２（デュポン社製、ＨＸＣ２５２５）に代えて同様の測定を行った。
これらの測定結果をもとに、離型フィルムの離型性について以下のように評価した。
◎：ＣＶＬ１を用いた試験において離型フィルムが自然剥離し、かつ、ＣＶＬ２を用いた試験において３０°剥離強度が１００ｇｆ／ｃｍ以下であった場合
○：ＣＶＬ１を用いた試験において離型フィルムが自然剥離し、かつ、ＣＶＬ２を用いた試験において３０°剥離強度が１００ｇｆ／ｃｍより大きかった場合
×：ＣＶＬ１を用いた試験において離型フィルムが自然剥離しなかった場合
なお、剥離角度３０°で行う剥離試験は、剥離角度１８０°で行う試験に比べて剥離角度が低角度であるため一般に剥離が非常に困難である。すなわち、剥離角度３０°での剥離試験が良好である離型フィルムは、従来の離型フィルムに比べて優れた離型性を有しているといえる。
（２）耐シワ性の評価
ＣＣＬ（２０ｃｍ×２０ｃｍ、ポリイミド厚２５μｍ、銅箔３５μｍ）、カバーレイ（２０ｃｍ×２０ｃｍ、ポリイミド厚１５μｍ、エポキシ系樹脂接着剤層２５μｍ、ニッカン工業社製、ＣＩＳＶ２５３５）、及び、離型フィルムを下からこの順番に積み上げた。スライド式真空ヒータプレス（ＭＫＰ－３０００Ｖ－ＷＨ－ＳＴ、ミカドテクノス社製）を用いて予め１８０℃で加熱したプレス金型間に置いて位置合わせをした後、プレスを開始した（設置から実際に圧力がかかるまでに約１０秒）。真空条件下、５０ｋｇ／ｃｍ２で２分間プレスすることにより、ＣＣＬとカバーレイとからなるフレキシブル回路基板（ＦＰＣ）評価サンプルを作製した。
その後、ＦＰＣ評価サンプル及び離型フィルムを取り出し、離型フィルムを剥がした後、カバーレイ表面上に転写されたシワの個数を測定した。シワの個数が０個であった場合を「◎」と、１～１０個であった場合を「○」と、１１～２０個であった場合を「△」と、２１個以上であった場合を「×」と評価した。なお、シワの個数が２０個以下の場合には、フレキシブル回路基板を製造する際の離型フィルムとして充分な耐シワ性を有するといえる。シワの個数が１０個以下の場合には、優れた耐シワ性を有するといえる。
（３）追従性の評価
銅張積層板（ＣＣＬ）（１２．５ｃｍ×１２．５ｃｍ、ポリイミド厚み２５μｍ、銅箔厚み３５μｍ）の銅箔面に、φ＝１ｍｍの穴を空けたカバーレイフィルム（１２．５ｃｍ×１２．５ｃｍ、ポリイミド厚み２５μｍ、エポキシ接着剤層厚み３５μｍ）をエポキシ接着剤層が接するようにして積層させた。更に離型フィルムを、離型層ａがカバーレイフィルムに接するようにして積層した。この積層体を、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ２の条件で２分間熱プレスした。その後、離型フィルムを剥離し、銅張積層板（ＣＣＬ）上に流れ出したエポキシ接着剤を光学顕微鏡にて観察した。エポキシ接着剤の染み出し幅を１２点測定してその平均値を算出した。測定結果をもとに、離型フィルムの追従性を、エポキシ接着剤の染み出し幅の平均値が５５μｍ未満であった場合を「○」、５５μｍ以上であった場合を「×」と評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
本発明によれば、従来よりも優れた離型性を有し、耐シワ性にも優れる離型フィルム、及び、該離型フィルムを製造する方法を提供することができる。

Claims (14)

  1. 少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムであって、
    前記離型層は、入射角を０．０６°とした斜入射広角Ｘ線回折法により求められる結晶化度が５０％以上であり、
    前記離型層の表面の算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上である
    ことを特徴とする離型フィルム。
  2. 離型層全体の結晶化度が、離型層の極表面の結晶化度よりも小さいことを特徴とする請求項１記載の離型フィルム。
  3. 離型層全体の結晶化度が２５～５０％であることを特徴とする請求項１又は２記載の離型フィルム。
  4. 離型層は、表面の光沢度が５０％以下であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の離型フィルム。
  5. 更にクッション層を有し、前記クッション層の両側に離型層を有することを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の離型フィルム。
  6. 離型層は、芳香族ポリエステル樹脂を含有することを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の離型フィルム。
  7. 芳香族ポリエステル樹脂は、ポリブチレンテレフタレート樹脂を含有することを特徴とする請求項６記載の離型フィルム。
  8. 離型層を構成する樹脂に占めるポリブチレンテレフタレート樹脂の割合が７５重量％以上であることを特徴とする請求項７記載の離型フィルム。
  9. ＲｔｏＲ方式によるフレキシブル回路基板の製造に用いられることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の離型フィルム。
  10. 少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムの製造方法であって、
    前記離型層の原反フィルムの表面を摩擦する摩擦工程を有し、前記摩擦工程直前における前記原反フィルム表面の算術平均粗さＲａが０．５０μｍ以下であることを特徴とする離型フィルムの製造方法。
  11. 少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムの製造方法であって、
    前記離型層の原反フィルムの表面を摩擦する摩擦工程を有し、前記摩擦工程直前における前記原反フィルム表面の光沢度が１００％以上であることを特徴とする離型フィルムの製造方法。
  12. 少なくとも１つの離型層を有する離型フィルムの製造方法であって、
    前記離型層の原反フィルムの表面を摩擦する摩擦工程を有し、前記離型層の原反フィルムの製膜時に溶融した樹脂フィルムを冷却するときに、表面の算術平均粗さＲａが０．５０μｍ以下である冷却ロールを用いることを特徴とする離型フィルムの製造方法。
  13. 離型層の表面にエンボス処理を施すエンボス工程を有し、前記摩擦工程の後に、前記エンボス工程を行うことを特徴とする請求項１０、１１又は１２記載の離型フィルムの製造方法。
  14. エンボス工程において、表面の算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上であるエンボスロールを用いることを特徴とする請求項１３記載の離型フィルムの製造方法。
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