WO2018079547A1 - 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 - Google Patents

電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 Download PDF

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metal
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広宣 待永
暁雷 陳
俊浩 ▲鶴▼澤
愛美 黒瀬
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日東電工株式会社
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    • Y10T428/24917—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer

Definitions

  • the present invention relates to an electromagnetic wave transmissive metallic luster member, an article using the same, and a metal thin film.
  • a metallic luster member having both glitter and electromagnetic wave transmission is required.
  • Millimeter wave radar transmits millimeter wave electromagnetic waves (frequency: about 77 GHz, wavelength: about 4 mm) in front of the car, receives reflected waves from the target, and measures and analyzes the reflected waves. The distance, target direction, and size can be measured. The measurement result can be used for inter-vehicle measurement, automatic speed adjustment, automatic brake adjustment, and the like. Since the front part of the automobile in which such a millimeter wave radar is arranged is a so-called automobile face and is a part that gives a large impact to the user, it is preferable to produce a high-class feeling with a metallic glossy front decoration.
  • This kind of metallic luster member is not only used for millimeter-wave radar but also for various devices that require communication, such as automobile door handles with smart keys, in-vehicle communication devices, mobile phones, personal computers, and other electronic devices.
  • the application of is expected.
  • IoT technology application in a wide range of fields such as household appliances such as refrigerators, daily life equipment, etc., which has not been conventionally performed, is expected.
  • Patent Document 1 JP 2007-144988 A discloses a resin product including a metal coating made of chromium (Cr) or indium (In).
  • This resin product includes a resin base material, an inorganic base film containing an inorganic compound formed on the resin base material, and glitter and discontinuity formed on the inorganic base film by physical vapor deposition.
  • a metal film made of chromium (Cr) or indium (In) having a structure is included.
  • Patent Document 1 As an inorganic base film, in Patent Document 1, (a) a thin film of a metal compound, for example, a titanium compound such as titanium oxide (TiO, TiO 2 , Ti 3 O 5 etc.); silicon oxide (SiO, SiO 2 etc.), nitriding Silicon compounds such as silicon (Si 3 N 4 etc.); aluminum compounds such as aluminum oxide (Al 2 O 3 ); iron compounds such as iron oxide (Fe 2 O 3 ); selenium compounds such as selenium oxide (CeO); oxidation zircon compounds such as zircon (ZrO); zinc compounds such as zinc sulfide (ZnS), etc., and composed mainly of (b) a coating film of the inorganic coating, for example, silicon, amorphous TiO 2, etc.
  • a metal compound for example, a titanium compound such as titanium oxide (TiO, TiO 2 , Ti 3 O 5 etc.); silicon oxide (SiO, SiO 2 etc.), nitriding Silicon compounds such
  • an inorganic coating film is used.
  • this resin product uses only chromium (Cr) or indium (In) as the metal film, and is superior in price and brightness compared to these, for example, aluminum (Al) is used as the metal film. It is not possible.
  • JP 2009-298006 forms not only chromium (Cr) or indium (In) but also aluminum (Al), silver (Ag), and nickel (Ni) as a metal film.
  • An electromagnetic wave transmissive bright resin product that can be used is disclosed.
  • These metal films are formed by providing a base film having a discontinuous structure. In order to use the base film as a discontinuous layer, the substrate inclination angle of sputtering is set to 0 ° or 70 °. There is a problem that manufacturing is complicated due to restrictions such as necessity. Further, depending on Patent Document 2, for example, zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), or an alloy thereof cannot be formed as a metal film.
  • the present invention was made to solve these problems in the prior art, and not only chromium (Cr) or indium (In) but also other metals such as aluminum (Al) were used as the metal layer. Even in such a case, an object is to provide an electromagnetic wave transmissive metallic luster member that can be easily manufactured.
  • an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member capable of forming a metal layer of zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), or an alloy thereof is provided. The purpose is to do.
  • the present inventors have used not only chromium (Cr) or indium (In) but also usually a discontinuous structure by using an indium oxide-containing layer as an underlayer.
  • Cr chromium
  • In indium
  • a metal layer made of other metals such as aluminum (Al) can have a discontinuous structure, and the present invention has been completed.
  • an electromagnetic wave transmitting glossy member includes an indium oxide-containing layer provided along a surface of a base, and a metal layer laminated on the indium oxide-containing layer.
  • the metal layer includes a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part.
  • a metal layer made of other metals such as aluminum (Al) is also provided.
  • the sheet resistance can be increased and the electromagnetic wave transmission can be improved, so that not only chromium (Cr) or indium (In), but also aluminum (Al), etc.
  • an electromagnetically transparent metallic luster member that can be easily manufactured using the above metal as a metal layer is provided. Further, there is provided an electromagnetic wave transmissive metallic luster member using silver (Ag), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), or an alloy thereof in addition to aluminum (Al) as a metal layer.
  • the indium oxide-containing layer may be in a continuous state. By making it a continuous state, smoothness and corrosion resistance can be improved, and it becomes easy to form an indium oxide-containing layer without in-plane variation.
  • substrate may be either a base film, a resin molding base material, a glass base material, or the articles
  • the indium oxide-containing layer may be indium oxide (In 2 O 3), indium tin oxide (ITO), or indium zinc oxide (IZO).
  • the thickness of the indium oxide-containing layer is preferably 1 nm to 1000 nm. In the electromagnetic wave transmissive metallic luster member of the above aspect, the thickness of the metal layer is preferably 20 nm to 100 nm. Furthermore, in the electromagnetic wave transmissive metallic luster member of the above aspect, the ratio of the thickness of the metal layer to the thickness of the indium oxide-containing layer (the thickness of the metal layer / the thickness of the indium oxide-containing layer) is 0. It is preferably from 02 to 100.
  • the sheet resistance as a laminate of the metal layer and the indium oxide-containing layer may be 100 to 100,000 ⁇ / ⁇ .
  • the portion may be formed in an island shape.
  • the metal layer may be aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), silver (Ag), or an alloy thereof. May be.
  • the article may be a base film, a resin molding base material, or a glass base material, or an electromagnetic wave transmissive metal may be applied to an article to be given a metallic luster.
  • An article provided with a glossy member may be used.
  • a metal thin film provided along the surface of the substrate, wherein the metal thin film has a thickness of 20 nm to 100 nm and is discontinuous with each other at least partially.
  • a metal thin film including a plurality of island-shaped portions is provided.
  • the present invention not only chromium (Cr) or indium (In) but also an electromagnetic wave transmissive metal that can be easily manufactured even when other metal such as aluminum (Al) is used as a metal layer.
  • a glossy member can be provided.
  • the present invention provides an electromagnetic wave transmissive metallic luster member that can use silver (Ag), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), or an alloy thereof in addition to aluminum (Al) as a metal layer. be able to.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electromagnetic wave transmissive metallic glossy member according to an embodiment of the present invention and an electromagnetic wave transmissive metallic film using the metallic glossy member, and (b) of FIG. It is an electron micrograph of the surface of the electromagnetic wave transmission metallic luster member by one Embodiment of this invention. It is an image of the section in the partial field of Drawing 1 (b).
  • FIG. 1A shows an electromagnetic wave transmissive metallic glossy member (hereinafter referred to as “metallic glossy member”) 1 according to an embodiment of the present invention and an electromagnetic wave transmissive metal film (hereinafter referred to as “metallic glossy member 1”). , Referred to as “metal film”).
  • FIG. 1B is a schematic cross-sectional view, and FIG. 1B shows an electron micrograph (SEM image) of the surface of the metallic glossy member 1 according to an embodiment of the present invention. The image size in the electron micrograph is 1.16 ⁇ m ⁇ 0.85 ⁇ m.
  • the metallic luster member 1 includes an indium oxide-containing layer 11 as an underlayer containing at least indium oxide, and a metal layer 12 laminated on the indium oxide-containing layer 11.
  • the metal film 3 includes the metallic gloss member 1 and the base film 10.
  • the indium oxide-containing layer 11 is provided on the surface of the base film 10 to be given a metallic luster.
  • the indium oxide-containing layer 11 may be provided directly on the surface of the base film 10 or indirectly through a protective film provided on the surface of the base film 10.
  • the indium oxide-containing layer 11 is preferably provided in a continuous state on the surface of the base film 10 to be provided with a metallic luster, in other words, without a gap. By providing in a continuous state, it is possible to improve the smoothness and corrosion resistance of the indium oxide-containing layer 11, and thus the metallic luster member 1 and the metal film 3, and the indium oxide-containing layer 11 is formed without in-plane variation. It becomes easy.
  • the metal layer 12 is laminated on the indium oxide-containing layer 11.
  • the metal layer 12 includes a plurality of portions 12a. By being stacked on the indium oxide-containing layer 11, these portions 12a are at least partially discontinuous from each other, in other words, at least partially separated by the gap 12b. Since they are separated by the gap 12b, the sheet resistance of these portions 12a is increased and the interaction with radio waves is reduced, so that radio waves can be transmitted.
  • Each of these portions 12a is an aggregate of sputtered particles formed by evaporating or sputtering metal. When sputtered particles form a thin film on a substrate such as the substrate film 10, the surface diffusibility of the particles on the substrate affects the shape of the thin film.
  • the present inventors have succeeded in growing a metal layer in a discontinuous state by providing an indium oxide-containing layer on a substrate and promoting the surface diffusibility of the metal film.
  • the “discontinuous state” in the present specification means a state in which they are separated from each other by the gap 12b and as a result, are electrically insulated from each other. By being electrically insulated, the sheet resistance increases, and the desired electromagnetic wave permeability can be obtained.
  • the discontinuous form is not particularly limited, and includes, for example, islands and cracks.
  • “island shape” means that as shown in FIG. 1 (b), particles that are aggregates of sputtered particles are independent from each other, and these particles are slightly separated from each other or It means a structure that is laid down in a partially touched state.
  • Base Film For the base film 10, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate (PC), cycloolefin polymer (COP), polystyrene, polypropylene (PP), polyethylene
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PC polycarbonate
  • COP cycloolefin polymer
  • PP polystyrene
  • PP polypropylene
  • a transparent film made of a homopolymer or copolymer such as polycycloolefin, polyurethane, acrylic (PMMA) or ABS can be used. According to these members, the glitter and electromagnetic wave permeability are not affected.
  • the indium oxide-containing layer 11 and the metal layer 12 it is preferable to be able to withstand high temperatures such as vapor deposition and sputtering. Therefore, among the above materials, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, Acrylic, polycarbonate, cycloolefin polymer, ABS, polypropylene and polyurethane are preferred. Of these, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polycarbonate, and acrylic are preferable because of a good balance between heat resistance and cost.
  • the base film 10 may be a single layer film or a laminated film. From the viewpoint of ease of processing, the thickness is preferably about 6 ⁇ m to 250 ⁇ m, for example. In order to strengthen the adhesion with the indium oxide-containing layer 11, plasma treatment, easy adhesion treatment, or the like may be performed.
  • the base film 10 is only an example of an object (hereinafter referred to as “substrate”) to which the metallic gloss member 1 of the present invention can be applied.
  • the substrate includes a resin molded material substrate, a glass substrate, and an article to be provided with a metallic luster.
  • the resin molding base material include resins for automobile emblems.
  • articles to be provided with metallic luster include a door knob of a car provided with a smart key, a mobile phone casing, a personal computer casing, and a refrigerator.
  • the metallic luster member 1 of the present invention can be applied to all these substrates.
  • the base to which the metallic luster member 1 is to be applied preferably satisfies the same materials and conditions as those of the base film 10 described above.
  • Indium oxide-containing layer As the indium oxide-containing layer 11, indium oxide (In 2 O 3) itself can be used, and for example, a metal-containing material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) can be used. It can. However, ITO or IZO containing the second metal is more preferable in terms of high discharge stability in the sputtering process.
  • ITO or IZO containing the second metal is more preferable in terms of high discharge stability in the sputtering process.
  • a film in a continuous state can be formed along the surface of the substrate.
  • a metal layer laminated on the indium oxide-containing layer is For example, an island-like discontinuous structure can be used.
  • chromium (Cr) or indium (In) but also a discontinuous structure is usually difficult to be applied to the metal layer.
  • Various metals can be included.
  • the content of tin (Sn) with respect to the weight of In 2 O 3 in ITO is not particularly limited, but is, for example, 2.5 wt% to 30 wt%, more preferably 3 wt% to 10 wt%.
  • the content of zinc oxide (ZnO) with respect to the weight of In 2 O 3 in IZO is, for example, 2 wt% to 20 wt%.
  • the thickness of the indium oxide-containing layer 11 is usually preferably 1000 nm or less, more preferably 50 nm or less, and still more preferably 20 nm or less, from the viewpoint of sheet resistance, radio wave transmission, and productivity. On the other hand, the thickness is preferably 1 nm or more so that the laminated metal layer 12 is in a discontinuous state, more preferably 2 nm or more in order to ensure a discontinuous state, and further 5 nm or more. preferable.
  • Metal layer It is desirable that the metal layer 12 has a relatively low melting point as well as sufficient glitter. This is because the metal layer 12 is applied by thin film growth using sputtering. For this reason, a metal having a melting point of about 1000 ° C. or less is suitable as the metal layer 12. For example, aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), silver (Ag) It is preferable that at least one kind of metal selected from the above and an alloy containing the metal as a main component are included. In particular, Al and alloys thereof are preferable for the reasons such as the luster and stability of the substance and the price.
  • the thickness of the metal layer 12 is usually preferably 20 nm or more so as to exhibit sufficient glitter, and is usually preferably 100 nm or less from the viewpoint of sheet resistance and radio wave transmission. For example, 20 nm to 100 nm is preferable, and 30 nm to 70 nm is more preferable. This thickness is also suitable for forming a uniform film with high productivity, and the appearance of the resin molded product as the final product is also good.
  • the ratio of the thickness of the metal layer to the thickness of the indium oxide-containing layer is preferably in the range of 0.1 to 100. A range of 3 to 35 is more preferable.
  • the sheet resistance as a laminate of the metal layer and the indium oxide-containing layer is preferably 100 to 100,000 ⁇ / ⁇ .
  • the radio wave permeability is about 10 to 0.01 [-dB] at a wavelength of 1 GHz. More preferably, it is 1000 to 50000 ⁇ / ⁇ .
  • the value of the sheet resistance is greatly influenced not only by the material and thickness of the metal layer but also by the material and thickness of the indium oxide-containing layer that is the underlayer. Therefore, it is necessary to set in consideration of the relationship with the indium oxide-containing layer.
  • the ease of forming the discontinuous structure is related to the surface diffusion on the member to which the metal layer 11 is applied (in this case, the indium oxide-containing layer 11).
  • the temperature of the member to be applied is higher, the wettability of the metal layer to the member to be applied is smaller, and the lower the melting point of the material of the metal layer, the easier it is to form a discontinuous structure. Therefore, for metals other than aluminum (Al) used particularly in the following examples, metals having a relatively low melting point such as zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), silver (Ag), etc. It is considered that a discontinuous structure can be formed by a similar method.
  • Step of forming an indium oxide-containing layer An indium oxide-containing layer 11 is formed on the base film 10.
  • the indium oxide-containing layer 11 can be formed by vacuum deposition, sputtering, ion plating, or the like. However, sputtering is preferable because the thickness can be strictly controlled even in a large area.
  • the metal layer 12 is laminated on the indium oxide-containing layer 11. Also in this case, for example, sputtering can be used. In addition, it is preferable that the indium oxide containing layer 11 and the metal layer 12 are directly contacted without interposing another layer. However, if the mechanism of the surface diffusion of the metal layer 12 on the indium oxide-containing layer 11 described above is ensured, other layers can be interposed.
  • Example> Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
  • Various samples were prepared for the metal film 3, and sheet resistance, radio wave transmission attenuation, and visible light reflectance were evaluated.
  • the sheet resistance and radio wave transmission attenuation amount are evaluations related to radio wave transmission, and the visible light reflectance is evaluations related to glitter. Larger values of visible light reflectance and sheet resistance are preferred, and smaller values of radio wave transmission attenuation are preferred. Details of the evaluation method are as follows.
  • Sheet resistance A sheet resistance as a laminate of a metal layer and an indium oxide-containing layer was measured by an eddy current measurement method according to JIS-Z2316 using a non-contact type resistance measuring device NC-80MAP manufactured by Napson.
  • the sheet resistance needs to be 100 ⁇ / ⁇ or more, preferably 200 ⁇ / ⁇ or more, and more preferably 600 ⁇ / ⁇ or more. If it is less than 100 ⁇ / ⁇ , there is a problem that sufficient radio wave permeability cannot be obtained.
  • the radio wave transmission attenuation at 1 GHz was evaluated using a KEC method measurement evaluation jig and an Agilent spectrum analyzer CXA signal Analyzer NA9000A.
  • the electromagnetic wave transmission in the millimeter wave radar frequency band (76 to 80 GHz) and the electromagnetic wave transmission in the microwave band (1 GHz) are correlated and show relatively close values.
  • the electromagnetic wave permeability in the band (1 GHz), that is, the microwave electric field transmission attenuation was used as an index.
  • the microwave electric field transmission attenuation amount needs to be 10 [ ⁇ dB] or less, preferably 5 [ ⁇ dB] or less, and more preferably 2 [ ⁇ dB] or less. If it is 10 [ ⁇ dB] or more, there is a problem that 90% or more of radio waves are blocked.
  • the reflectance at a measurement wavelength of 550 nm was measured.
  • the reflectance of the Al deposition mirror was set to 100%.
  • the visible light reflectance is required to be 20% or more in order to have sufficient glitter, and is preferably 40% or more, more preferably 50% or more. When the visible light reflectance is less than 20%, there is a problem that the glitter is lowered and the appearance is not excellent.
  • Example 1 A PET film (thickness 125 ⁇ m) manufactured by Mitsubishi Plastics was used as the base film. First, an ITO layer having a thickness of 50 nm was formed directly on the surface of the base film using DC magnetron sputtering. The temperature of the base film when forming the ITO layer was set to 130 ° C. ITO contains 10 wt% of Sn with respect to In2O3.
  • an aluminum (Al) layer having a thickness of 50 nm was formed on the ITO layer using AC sputtering (AC: 40 kHz) to obtain a metallic luster member (metal film).
  • the temperature of the base film when forming the Al layer was set to 130 ° C.
  • FIG. 1 (b) is an electron micrograph (SEM image) of the surface of the metallic luster member (metal film) obtained as a result of these treatments
  • FIG. 2 is a partial region of FIG. 1 (b).
  • the image size in the electron micrograph of FIG. 2 is 1.16 ⁇ m ⁇ 0.85 ⁇ m.
  • the ITO layer of the metallic luster member is provided in a continuous state along the surface of the base film, and thus exhibits high smoothness and corrosion resistance.
  • the aluminum layer includes a plurality of portions 12a formed in a discontinuous state by being laminated on the ITO layer, its sheet resistance is 260 ⁇ / ⁇ , and its radio wave transmission attenuation is at a wavelength of 1 GHz. The result was 4.5 [ ⁇ dB], and good results were obtained for radio wave transmission.
  • Example 2 to [Example 4]
  • the thickness of the aluminum layer laminated on the ITO layer was changed to be thinner than that of Example 1 for Examples 2 and 3, while thicker than that of Example 1 for Example 4. It changed so that it might become.
  • Other conditions are the same as in the first embodiment.
  • the same values and results as in Example 1 were obtained in all of Examples 2 to 4.
  • the visible light reflectance was slightly inferior for Examples 2 and 3 in which the thickness of the aluminum layer was thinner than that of Example 1, but better for Example 4 than for Example 1. Results were obtained.
  • Examples 2 and 3 can sufficiently withstand practical use.
  • Example 5 to [Example 8]
  • the thickness of the ITO layer was set to be thinner than that in Example 1.
  • Other conditions are the same as in the first embodiment.
  • sheet resistance and radio wave transmission attenuation in all of Examples 5 to 8, better results were obtained than in Example 1.
  • the visible light reflectance the same values and results as in Example 1 were obtained in all of Examples 5 to 8.
  • Example 9 to [Example 12]
  • the Sn content in the ITO layer was changed to be greater than that of Example 1 for Example 9, while it was changed to be less than that of Example 1 for Examples 10-12.
  • Sn is zero in the ITO layer of Example 12, it is not an ITO layer but an indium oxide (In 2 O 3) layer more accurately.
  • the aluminum layer was 40 nm.
  • Other conditions are the same as in the first embodiment. In this case, with respect to the sheet resistance and the radio wave transmission attenuation amount, the same results as in Example 1 were obtained in Examples 9 to 11, and the results in Example 12 were slightly inferior to those in Example 1.
  • the visible light reflectance the same values and results as in Example 1 were obtained in Examples 9 to 11, and the results in Example 12 were slightly inferior to those in Example 1. From these results, it was found that the ITO layer more preferably contains Sn.
  • Example 13 Instead of ITO, IZO using ZnO in indium oxide was used. ZnO is contained at 11 wt% with respect to In2O3. Other conditions are the same as in the first embodiment. In this case, the sheet resistance and the radio wave transmission attenuation amount were slightly inferior to those of Example 1. On the other hand, for the visible light reflectance, the same values and results as in Example 1 were obtained. Although the overall evaluation is inferior to that of Example 1, it was found that even when ZnO was contained, it was sufficiently practical.
  • Example 1 The thickness of the aluminum layer laminated on the ITO layer was changed to be thicker than that of Example 1. Other conditions are the same as in the first embodiment. In this case, the visible light reflectance was better than that of Example 1 because the thickness was increased. On the other hand, the sheet resistance and the radio wave transmission attenuation amount were greatly inferior to those of Example 1, and became impractical.
  • the metal layer 12 formed on the metallic luster member 1 is thin with a thickness of about 20 nm to 100 nm, and only this can be used as a metal thin film.
  • a metal layer 12 is formed by sputtering on an indium oxide-containing layer 11 laminated on a substrate such as the base film 10 to obtain a film.
  • an adhesive is applied on the base material to create a base material with an adhesive layer.
  • the film and the base material are bonded so that the metal layer 12 and the adhesive layer are in contact with each other, and after sufficiently adhering, the film and the base material are peeled off, whereby the metal layer (metal thin film) 12 existing on the outermost surface of the film. Can be transferred to the outermost surface of the substrate.
  • the metal film and metallic luster member according to the present invention can be suitably used for decorating a cover member of a millimeter wave radar mounted on a front part of an automobile such as a front grill or an emblem.
  • it can be used for various applications that require both design and electromagnetic wave permeability, such as mobile phones, smartphones, tablet PCs, notebook PCs, and refrigerators.

Abstract

クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた場合にも、容易に製造することができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することを目的とする。また、アルミニウム（Ａｌ）に加えて銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属層とすることができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することを目的とする。　基体の面に沿って設けた酸化インジウム含有層と、酸化インジウム含有層に積層された金属層と、を備え、金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む。

Description

電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜
　本発明は、電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜に関する。
　例えば、フロントグリル、エンブレムといった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材を装飾するために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢部材が求められている。
　ミリ波レーダーは、ミリ波帯の電磁波（周波数約７７ＧＨｚ、波長約４ｍｍ）を自動車の前方に送信し、ターゲットからの反射波を受信して、反射波を測定、分析することで、ターゲットとの距離や、ターゲットの方向、サイズを計測することができるものである。計測結果は、車間計測、速度自動調整、ブレーキ自動調整などに利用することができる。このようなミリ波レーダーが配置される自動車のフロント部分は、いわば自動車の顔であり、ユーザに大きなインパクトを与える部分であるから、金属光沢調のフロント装飾で高級感を演出することが好ましい。しかしながら、自動車のフロント部分に金属を使用した場合には、ミリ波レーダーによる電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、ミリ波レーダーの働きを妨げることなく、自動車の意匠性を損なわせないために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢部材が必要とされている。
　この種の金属光沢部材は、ミリ波レーダーのみならず、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器、携帯電話、パソコン等の電子機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。
　金属光沢部材に関して、特開２００７－１４４９８８号公報（特許文献１）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）より成る金属被膜を含む樹脂製品が開示されている。この樹脂製品は、樹脂基材と、当該樹脂基材の上に成膜された無機化合物を含む無機質下地膜と、当該無機質下地膜の上に物理蒸着法により成膜された光輝性及び不連続構造のクロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）よりなる金属皮膜を含む。無機質下地膜として、特許文献１では、（ａ）金属化合物の薄膜、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ、ＴｉＯ2、Ｔｉ3Ｏ5等）等のチタン化合物；酸化ケイ素（ＳｉＯ、ＳｉＯ2等）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4等）等のケイ素化合物；酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）等のアルミニウム化合物；酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3）等の鉄化合物；酸化セレン（ＣｅＯ）等のセレン化合物；酸化ジルコン（ＺｒＯ）等のジルコン化合物；硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の亜鉛化合物等、（ｂ）無機塗料の塗膜、例えば、シリコン、アモルファスＴｉＯ2等（その他、上記例示の金属化合物）を主成分とする無機塗料による塗膜が使用されている。しかしながら、この樹脂製品では、金属皮膜として、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみを用いるものであって、これらに比べて価格や光輝性において優れる、例えば、アルミニウム（Ａｌ）を金属皮膜として用いることはできない。
　一方、特開２００９－２９８００６号（特許文献２）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）をも金属膜として形成することができる電磁波透過性光輝樹脂製品が開示されている。これらの金属膜は、不連続構造の下地膜を設けることによって形成されるものであるが、下地膜を不連続層とするために、スパッタの基材傾斜角度を０°又は７０°に設定しなければならない等の制約があることから、製造が煩雑であるといった問題がある。また、特許文献２によっては、例えば、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属膜として形成することもできない。
特開２００７－１４４９８８号公報 特開２００９－２９８００６号公報 特開２０１０－５９９９号公報
　本願発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた場合にも、容易に製造することができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することを目的とする。また、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）に加えて、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属層とすることができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することを目的とする。
　本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、酸化インジウム含有層を下地層として用いることによって、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属から成る金属層をも不連続構造とすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
　上記の課題を解決するため、本発明の一態様による電磁波透過性光沢部材は、基体の面に沿って設けた酸化インジウム含有層と、前記酸化インジウム含有層に積層された金属層と、を備え、前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む。
　この態様の電磁波透過性金属光沢部材によれば、酸化インジウム含有層を下地層として用いることにより、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属から成る金属層をも不連続構造とすることができ、この結果、シート抵抗を大きくして電磁波透過性を向上させることができるため、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた、容易に製造可能な電磁波透過性金属光沢部材が提供される。また、アルミニウム（Ａｌ）に加えて銀（Ａｇ）や、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金をも金属層として使用した電磁波透過性金属光沢部材が提供される。
　上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層は、連続状態であってもよい。連続状態とすることにより、平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
　尚、前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
　上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかであってもよい。
　また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ～１０００ｎｍであるのが好ましい。また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層の厚さは、２０ｎｍ～１００ｎｍであるのが好ましい。更に、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２～１００であるのが好ましい。
　更に、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は１００～１０００００Ω／□であってもよい。
　また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記部分は島状に形成されていてもよい。
　上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかであってもよい。
　また、上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、基材フィルム、樹脂成型物基材、又はガラス基材を用いた物品としてもよいし、又は、金属光沢を付与すべき物品に電磁波透過性金属光沢部材を設けた物品としてもよい。
　また、本発明の他の態様によれば、基体の面に沿って設けた金属薄膜であって、前記金属薄膜は、２０ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含む金属薄膜を特徴とする。
　金属薄膜を転写可能とすることによって、様々な物品に金属薄膜を容易に設けることができる。
　本発明によれば、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を金属層として用いた場合にも、容易に製造することができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することができる。また、アルミニウム（Ａｌ）に加えて銀（Ａｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属層とすることができる電磁波透過性金属光沢部材を提供することができる。
図１の（ａ）は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材と、この金属光沢部材を用いた電磁波透過性金属フィルムの概略断面図であり、図１の（ｂ）は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材の表面の電子顕微鏡写真である。 図１の（ｂ）の一部領域における断面の画像である。
　以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。
＜１．基本構成＞
　図１の（ａ）に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材（以下、「金属光沢部材」という。）１と、この金属光沢部材１を用いた電磁波透過性金属フィルム（以下、「金属フィルム」という。）３の概略断面図を示し、また、図１の（ｂ）に、本発明の一実施形態による金属光沢部材１の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す。尚、電子顕微鏡写真における画像サイズは１．１６μm×０．８５μmである。
　金属光沢部材１は、少なくとも酸化インジウムを含有する、下地層としての酸化インジウム含有層１１と、この酸化インジウム含有層１１の上に積層された、金属層１２を含む。金属フィルム３は、この金属光沢部材１と基材フィルム１０を含む。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基材フィルム１０の面に設けられている。酸化インジウム含有層１１は、基材フィルム１０の面に直接設けられていてもよいし、基材フィルム１０の面に設けた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基材フィルム１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けるのが好ましい。連続状態で設けることにより、酸化インジウム含有層１１、ひいては、金属光沢部材１や金属フィルム３の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
　金属層１２は酸化インジウム含有層１１に積層される。金属層１２は複数の部分１２ａを含む。酸化インジウム含有層１１に積層されることにより、これらの部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、これらの部分１２ａのシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体である。スパッタ粒子が基材フィルム１０等の基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼす。本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、基体上に酸化インジウム含有層を設け、金属膜の表面拡散性を促進することで、金属層を不連続の状態で成長させることに成功した。尚、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状、クラック等が含まれる。ここで「島状」とは、図１の（ｂ）に示されているように、スパッタ粒子の集合体である粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。
＜２．基材フィルム（基体）＞
　基材フィルム１０には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、酸化インジウム含有層１１や金属層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。基材フィルム１０は、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ～２５０μｍ程度が好ましい。酸化インジウム含有層１１との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
　ここで、基材フィルム１０は、本願発明の金属光沢部材１を付与することができる対象（以下、「基体」という）の一例にすぎない点に注意すべきである。基体には、基材フィルム１０の他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型基材としては、例えば、自動車のエンブレム用の樹脂等がある。金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアノブ、携帯電話筐体、パソコン筐体、冷蔵庫等がある。本発明の金属光沢部材１は、これら全ての基体に付与することができる。この場合、金属光沢部材１を付与すべき基体は、上記の基材フィルム１０と同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。
＜３．酸化インジウム含有層＞
　酸化インジウム含有層１１として、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの酸化インジウム含有層１１を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、酸化インジウム含有層の上に積層される金属層を、例えば、島状の不連続構造とすることもできる。更に、後述するように、この場合には、金属層に、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム等の様々な金属を含めることができる。ＩＴＯにおけるＩｎ２Ｏ３の重量に対する錫（Ｓｎ）の含有率は特に限定されるものではないが、例えば、２．５ｗｔ％～３０ｗｔ％、より好ましくは、３ｗｔ％～１０ｗｔ％である。また、ＩＺＯにおけるＩｎ２Ｏ３の重量に対する酸化亜鉛（ＺｎＯ）の含有率は、例えば、２ｗｔ％～２０ｗｔ％である。酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２が不連続状態となるように、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にするために２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
＜４．金属層＞
　金属層１２は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって付与されるためである。このような理由から、金属層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からＡｌおよびそれらの合金が好ましい。
　金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常２０ｎｍ以上が好ましく、一方、シート抵抗や電波透過性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、２０ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、３０ｎｍ～７０ｎｍがより好ましい。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である樹脂成形品の見栄えも良い。
　また、同様の理由から、金属層の厚さと酸化インジウム含有層の厚さとの比（金属層の厚さ／酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．１～１００の範囲が好ましく、０．３～３５の範囲がより好ましい。
　更に、金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、１００～１０００００Ω／□であるのが好ましい。この場合、電波透過性は、１ＧＨｚの波長において、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００～５００００Ω／□である。このシート抵抗の値は、金属層の材質や厚さは勿論のこと、下地層である酸化インジウム含有層の材質や厚さからも大きな影響を受ける。よって、酸化インジウム含有層との関係も考慮したうえで設定する必要がある。
＜５．金属層が不連続状態となるメカニズム＞
　酸化インジウム含有層１１を設けることなく、基体の上に直接的に金属層１２を成膜した場合、金属層１１は基体１０上で連続状態となってしまう。この場合、十分な光輝性は得られるものの、シート抵抗は非常に小さくなり、従って、電波透過性を確保することはできない。これに対し、基体の上に成膜した酸化インジウム含有層１１の上に金属層１２を積層した場合、例えば連続状態で形成された酸化インジウム含有層１１の上で、金属層１１は不連続の状態で形成され、この結果、十分な光輝性が得られることは勿論、電波透過性を確保することもできる。金属層１１が酸化インジウム含有層１１の上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層１１の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属層１１が付与される被付与部材（本件では、酸化インジウム含有層１１）上での表面拡散と関連性があり、被付与部材の温度が高く、被付与部材に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ））以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。
＜６．金属光沢部材の製造＞
　金属光沢部材１の製造方法の一例について、基体として基材フィルム１０を用いた場合、即ち、金属フィルム３を製造する場合を例に挙げて説明する。特に説明しないが、基材フィルム１０以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。
（１）酸化インジウム含有層を成膜する工程
　基材フィルム１０に対し、酸化インジウム含有層１１を成膜する。酸化インジウム含有層１１は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成することができる。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。
（２）金属層を積層する工程
　次いで、酸化インジウム含有層１１の上に、金属層１２を積層する。この場合も、例えば、スパッタリングを用いることができる。尚、酸化インジウム含有層１１と金属層１２の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。但し、上に説明した酸化インジウム含有層１１上における金属層１２の表面拡散のメカニズムが確保されるのであれば、他の層を介在させることもできる。
＜７．実施例＞
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。金属フィルム３に関して各種試料を準備し、シート抵抗、電波透過減衰量、及び可視光反射率を評価した。シート抵抗と電波透過減衰量は、電波透過性に関する評価、可視光反射率は、光輝性に関する評価である。可視光反射率とシート抵抗の値は大きい方が好ましく、電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
　評価方法の詳細は以下のとおりである。
（１）シート抵抗
　ナプソン社製非接触式抵抗測定装置ＮＣ－８０ＭＡＰを用い、ＪＩＳ－Ｚ２３１６に準拠し、渦電流測定法により金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗を測定した。
　このシート抵抗は、１００Ω／□以上であることが必要であり、２００Ω／□以上であるのが好ましく、更に６００Ω／□以上であることがより好ましい。１００Ω／□より小さいと、充分な電波透過性が得られないという問題がある。
（２）電波透過減衰量
　1GHzにおける電波透過減衰量をKEC法測定評価治具およびアジレント社製スペクトルアナライザCXA signal Analyzer NA9000Aを用いて評価した。ミリ波レーダーの周波数帯域（76～80GHz）における電磁波透過性と、マイクロ波帯域（1GHz）における電磁波透過性には相関性があり、比較的近い値を示すことから、今回の評価では、マイクロ波帯域（1GHz）における電磁波透過性、即ち、マイクロ波電界透過減衰量を指標とした。
　このマイクロ波電界透過減衰量は、１０［－ｄＢ］以下であることが必要であり、５［－ｄＢ］以下であるのが好ましく、２［－ｄＢ］以下であることがより好ましい。１０［－ｄＢ］以上であると、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。
（３）可視光反射率
　日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計Ｕ４１００を用い、５５０ｎｍの測定波長における反射率を測定した。基準として、Ａｌ蒸着ミラーの反射率を反射率１００％とした。
　この可視光反射率は、十分な光輝性を有するために２０％以上が必要であり、４０％以上であるのが好ましく、更に好ましくは５０％以上である。可視光反射率が、２０％より小さいと、光輝性が低下し、外観に優れないという問題がある。
　以下の表１に、評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
[実施例１]
　基材フィルムとして、三菱樹脂社製ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ）を用いた。
　先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、５０ｎｍの厚さのＩＴＯ層をその上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯは、Ｉｎ２Ｏ３に対してＳｎを１０ｗｔ％含有させたものである。
　次いで、交流スパッタリング（ＡＣ：４０ｋＨｚ）を用いて、ＩＴＯ層の上に、５０ｎｍの厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢部材（金属フィルム）を得た。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。
　図１の（ｂ）は、これらの処理の結果得られた金属光沢部材（金属フィルム）表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）であり、図２は、この図１の（ｂ）の一部領域における断面の画像である。尚、図２の電子顕微鏡写真における画像サイズは１．１６μm×０．８５μmである。
　これらの図から明らかなように、本実施例では、金属光沢部材のＩＴＯ層は、基材フィルムの面に沿って連続状態で設けられていることから高い平滑性と耐食性を発揮し、その一方で、アルミニウム層は、ＩＴＯ層に積層されることによって不連続な状態に形成された複数の部分１２ａを含むことから、そのシート抵抗は２６０Ω／□となり、その電波透過減衰量は１ＧＨｚの波長において４．５［－ｄＢ］となり、電波透過性について良好な結果が得られた。尚、表１では、便宜上、電波透過減衰量の「評価」結果として、当該電波透過減衰量が２［－ｄＢ］より小さい場合を「◎」で、２［－ｄＢ］以上で且つ５［－ｄＢ］より小さい場合を「○」で、５［－ｄＢ］以上で且つ１０［－ｄＢ］より小さい場合を「△」で、１０［－ｄＢ］以上を「×」で、それぞれ表している。
　また、この金属光沢部材の可視光反射率は５６％となり、光輝性についても良好な結果が得られた。尚、便宜上、表１では、可視光反射率の「評価」結果として、当該可視光反射率が５０％より大きい場合を「◎」で、５０％以下で且つ４０％より大きい場合を「○」で、４０％以下で且つ２０％より大きい場合を「△」で、２０％以下を「×」で、それぞれ表している。更に、電波透過性と光輝性の「総合評価」として、両者が同じ評価結果の場合には同じ評価結果を、一方が片方より悪い結果の場合には悪い方の評価結果を、それぞれ示している。結果、実施例１について、総合評価は「○」となり、電波透過性と光輝性の双方を兼ね備えた良好な金属光沢部材、或いは、金属フィルムが得られた。
[実施例２]～［実施例４］
　ＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム層の厚さを、実施例２、３については実施例１のそれよりも薄くなるように変更し、一方、実施例４については実施例１のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については実施例１と同じである。
　この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例２～実施例４の全てにおいて、実施例１と同様の値及び結果が得られた。一方、可視光反射率については、アルミニウム層の厚さが実施例１のそれより薄い実施例２、３については若干劣る結果となったが、実施例４については、実施例１よりも良好な結果が得られた。但し、実施例２、３についても、実用に十分耐え得るものである。
[実施例５]～［実施例８］
　ＩＴＯ層の厚さを、実施例１よりも薄くなるように設定した。その他の条件については、実施例１と同じである。
　この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例５～実施例８の全てにおいて、実施例１よりも良好な結果が得られた。また、可視光反射率については、実施例５～実施例８の全てにおいて、実施例１と同様の値及び結果が得られた。これらの実施例により、ＩＴＯ層の厚さは薄くてもよいことが明らかとなり、ＩＴＯ層の厚さを薄くすることにより、材料コストを抑制できることが明らかとなった。
[実施例９]～［実施例１２］
　ＩＴＯ層におけるＳｎの含有率を、実施例９については実施例１のそれより大きくなるように変更し、一方、実施例１０乃至１２については実施例１のそれより小さくなるように変更した。尚、実施例１２のＩＴＯ層ではＳｎをゼロとしていることから、より正確には、ＩＴＯ層ではなく、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）層となっている。その他、実施例１２では、アルミニウム層は４０ｎｍとした。その他の条件については、実施例１と同じである。
　この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例９～実施例１１において、実施例１と同様の結果が得られ、実施例１２においては、実施例１より若干劣る結果となった。また、可視光反射率については、実施例９～実施例１１において、実施例１と同様の値及び結果が得られ、実施例１２において、実施例１より若干劣る結果となった。これの結果から、ＩＴＯ層は、Ｓｎを含有するのがより好ましいことが明らかとなった。
[実施例１３]
　ＩＴＯではなく、酸化インジウムにＺｎＯを含有させたＩＺＯを用いた。ＺｎＯは、Ｉｎ２Ｏ３に対して１１ｗｔ％含有する。その他の条件については、実施例１と同じである。
　この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１よりも若干劣る結果となった。一方、可視光反射率については、実施例１と同様の値及び結果が得られた。実施例１より総合評価は劣るものの、ＺｎＯを含有させた場合でも、十分に実用可能であることが明らかとなった。
[比較例１]
　ＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム層の厚さを、実施例１のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については、実施例１と同じである。
　この場合、可視光反射率については、厚さを増した分、実施例１よりも良好な結果が得られた。一方、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。
[比較例２]
　ＩＴＯ層を設けることなく、基材フィルム上にアルミニウム層を直接成膜した。その他の条件については、実施例１と同じである。
　この場合、可視光反射率については、実施例１と同様の値及び結果が得られたが、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。
＜８．金属薄膜の利用＞
　金属光沢部材１に形成された金属層１２は、厚さ２０ｎｍ～１００ｎｍ程度の薄いものであって、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基材フィルム１０のような基体に積層されたインジウム酸化物含有層１１の上に、スパッタリングで金属層１２を形成して、フィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作成する。フィルムと基材を、金属層１２と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、フィルムの最表面に存在した金属層（金属薄膜）１２を基材の最表面に転写させることができる。
　本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。
　本発明に係る金属フィルムや金属光沢部材は、例えば、フロントグリル、エンブレム、といった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材を装飾するために好適に用いることができる。また、例えば、携帯電話やスマートフォン、タブレット型ＰＣ、ノート型ＰＣ、冷蔵庫など、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。
１　金属光沢部材
３　金属フィルム
１０　基材フィルム
１１　酸化インジウム含有層
１２　金属層

Claims (13)

  1. 　基体の面に設けた酸化インジウム含有層と、前記酸化インジウム含有層に積層された金属層と、を備え、前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含むことを特徴とする電磁波透過性金属光沢部材。
  2. 　前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられている請求項１に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  3. 　前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかである請求項１又は２に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  4. 　前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ～１０００ｎｍである請求項１乃至３のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  5. 　前記金属層の厚さは、２０ｎｍ～１００ｎｍである請求項１乃至４のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  6. 　前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２～１００である請求項１乃至５のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  7. 　前記金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、１００～１０００００Ω／□である請求項１乃至６のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  8. 　前記部分は島状に形成されている請求項１乃至７のいずれかに記載の電磁波透過性積層部材。
  9. 　前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかである請求項１乃至８のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  10. 　前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである請求項１乃至９のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  11. 　請求項１０に記載の基材フィルム、樹脂成型物基材、又はガラス基材を用いた物品、又は、請求項１０に記載の金属光沢を付与すべき物品に請求項１乃至９の何れかに記載の電磁波透過性金属光沢部材を設けた物品。
  12. 　基体の面に沿って設けた金属薄膜であって、前記金属薄膜は、２０ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含むことを特徴とする金属薄膜。
  13. 　前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかである請求項１２に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
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