JP7319077B2 - 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 - Google Patents
電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7319077B2 JP7319077B2 JP2019080622A JP2019080622A JP7319077B2 JP 7319077 B2 JP7319077 B2 JP 7319077B2 JP 2019080622 A JP2019080622 A JP 2019080622A JP 2019080622 A JP2019080622 A JP 2019080622A JP 7319077 B2 JP7319077 B2 JP 7319077B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic wave
- metal layer
- metallic luster
- layer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 159
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 159
- 239000002932 luster Substances 0.000 title claims description 68
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 78
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 46
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 5
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims description 4
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 170
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 10
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- -1 titanium oxide (TiO Chemical class 0.000 description 9
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 8
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 7
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 7
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical class [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 210000003660 reticulum Anatomy 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
- B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
- B32B3/14—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a face layer formed of separate pieces of material which are juxtaposed side-by-side
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Details Of Aerials (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Description
本発明は、電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜に関する。
従来、電磁波透過性及び金属光沢を有する部材が、その金属光沢に由来する外観の高級感と、電磁波透過性とを兼ね備えることから、電磁波を送受信する装置に好適に用いられている。
例えば、フロントグリル、エンブレムといった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材に装飾を施した、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が求められている。
例えば、フロントグリル、エンブレムといった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材に装飾を施した、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が求められている。
ミリ波レーダーは、ミリ波帯の電磁波（周波数約７７ＧＨｚ、波長約４ｍｍ）を自動車の前方に送信し、ターゲットからの反射波を受信して、反射波を測定、分析することで、ターゲットとの距離や、ターゲットの方向、サイズを計測することができるものである。
計測結果は、車間計測、速度自動調整、ブレーキ自動調整などに利用することができる。
このようなミリ波レーダーが配置される自動車のフロント部分は、いわば自動車の顔であり、ユーザに大きなインパクトを与える部分であるから、金属光沢調のフロント装飾で高級感を演出することが好ましい。しかしながら、自動車のフロント部分に金属を使用した場合には、ミリ波レーダーによる電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、ミリ波レーダーの働きを妨げることなく、自動車の意匠性を損なわせないために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が必要とされている。
計測結果は、車間計測、速度自動調整、ブレーキ自動調整などに利用することができる。
このようなミリ波レーダーが配置される自動車のフロント部分は、いわば自動車の顔であり、ユーザに大きなインパクトを与える部分であるから、金属光沢調のフロント装飾で高級感を演出することが好ましい。しかしながら、自動車のフロント部分に金属を使用した場合には、ミリ波レーダーによる電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、ミリ波レーダーの働きを妨げることなく、自動車の意匠性を損なわせないために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が必要とされている。
この種の金属光沢物品は、ミリ波レーダーのみならず、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器、携帯電話、パソコン等の電子機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。
金属光沢部材に関して、特開２００７－１４４９８８号公報（特許文献１）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）より成る金属被膜を含む樹脂製品が開示されている。この樹脂製品は、樹脂基材と、当該樹脂基材の上に成膜された無機化合物を含む無機質下地膜と、当該無機質下地膜の上に物理蒸着法により成膜された光輝性及び不連続構造のクロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）よりなる金属皮膜を含む。無機質下地膜として、特許文献１では、（ａ）金属化合物の薄膜、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ、ＴｉＯ２、Ｔｉ３Ｏ５等）等のチタン化合物；酸化ケイ素（ＳｉＯ、ＳｉＯ２等）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４等）等のケイ素化合物；酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等のアルミニウム化合物；酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）等の鉄化合物；酸化セレン（ＣｅＯ）等のセレン化合物；酸化ジルコン（ＺｒＯ）等のジルコン化合物；硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の亜鉛化合物等、（ｂ）無機塗料の塗膜、例えば、シリコン、アモルファスＴｉＯｚ等（その他、上記例示の金属化合物）を主成分とする無機塗料による塗膜が使用されている。
一方、特開２００９－２９８００６号公報（特許文献２）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）をも金属膜として形成することができる電磁波透過性光輝樹脂製品が開示されている。
特開２０１０－５９９９号公報（特許文献３）には金属膜層を母材シートに形成し、母材シートに、張力を負荷しつつ、加熱処理を行うことによりクラックを有する電磁波透過性の金属膜加飾シートを製造する方法が記載されている。
特開２０１０－５９９９号公報（特許文献３）には金属膜層を母材シートに形成し、母材シートに、張力を負荷しつつ、加熱処理を行うことによりクラックを有する電磁波透過性の金属膜加飾シートを製造する方法が記載されている。
しかしながら、従来技術における金属膜は、薄膜では光輝性が充分でなく、厚膜では白濁や曇りが生じ外観が劣るという問題があり、電磁波透過性とより高い光輝性を両立する物品が望まれている。
本願発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、優れた金属外観を有する電磁波透過性金属光沢物品、及び金属薄膜を提供することを目的とする。
本願発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、優れた金属外観を有する電磁波透過性金属光沢物品、及び金属薄膜を提供することを目的とする。
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属から成る金属層を不連続構造とし、かつ特定の表面粗さとすることにより電磁波透過性と高い光輝性を両立し、白濁や曇りを抑えた優れた金属外観が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の一態様は、基体と、前記基体上に形成された金属層とを備え、
前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
前記金属層の算術平均表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である電磁波透過性金属光沢物品に関する。
前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
前記金属層の算術平均表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である電磁波透過性金属光沢物品に関する。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記基体と前記金属層の間に、酸化インジウム含有層をさらに備えることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記酸化インジウム含有層が連続状態で設けられていることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記酸化インジウム含有層が、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含むことが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記酸化インジウム含有層の厚さが、１ｎｍ～１０００ｎｍであることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記金属層が、ＳＣＥ（正反射除去法）方式で測定したＬ＊値が０～３０の範囲であることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記金属層の厚さが、１５ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）が、０．０２～１００であることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、電波透過減衰量が、１０［－ｄＢ］以下であることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記複数の部分が島状に形成されていることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記金属層が、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかであることが好ましい。
本発明の一態様において、電磁波透過性金属光沢物品は、前記基体が、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであることが好ましい。
本発明の一態様は、基体上に形成された金属薄膜であって、
前記金属薄膜は、１５ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含み、
前記金属薄膜の算術平均表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である金属薄膜に関する。
前記金属薄膜は、１５ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含み、
前記金属薄膜の算術平均表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である金属薄膜に関する。
本発明の一態様において、前記金属薄膜は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかであることが好ましい。
本発明によれば、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、白濁や曇りを抑えた優れた金属外観の電磁波透過性金属光沢物品、及び金属薄膜を提供することができる。
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。
＜１．基本構成＞
図１に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品（以下、「金属光沢物品」という。）１の概略断面図を示し、金属層の不連続構造について説明するため、図３に金属光沢物品の金属層の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す。また、図８に、本発明の一実施形態における島状構造の金属層１２の断面図の透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す。
図１に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢物品（以下、「金属光沢物品」という。）１の概略断面図を示し、金属層の不連続構造について説明するため、図３に金属光沢物品の金属層の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す。また、図８に、本発明の一実施形態における島状構造の金属層１２の断面図の透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す。
金属光沢物品１は、基体１０と、基体１０の上に形成された、金属層１２を含む。
金属層１２は基体１０の上に形成される。金属層１２は複数の部分１２ａを含む。金属層１２におけるこれらの部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、シート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体であってもよい。
尚、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。すなわち、不連続の状態で形成された金属層１２によれば、十分な光輝性が得られやすく、電磁波透過性を確保することもできる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状構造、クラック構造等が含まれる。ここで「島状構造」とは、図３に示されているように、金属粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造である。
クラック構造とは、金属薄膜がクラックにより分断された構造である。
クラック構造の金属層１２は、例えば基材フィルム上に金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、基材フィルムと金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属層１２を形成することができる。
クラック構造の金属層１２は、例えば基材フィルム上に金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、基材フィルムと金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属層１２を形成することができる。
上述のとおり金属層１２が不連続となる態様は特に限定されないが、生産性の観点からは島状構造とすることが好ましい。
金属光沢物品１の電磁波透過性は、例えば電波透過減衰量により評価することができる。
なお、マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量とミリ波レーダーの周波数帯域（７６～８０ＧＨｚ）における電波透過減衰量との間には相関性があり、比較的近い値を示すことから、マイクロ波帯域における電磁波透過性に優れる金属光沢物品は、ミリ波レーダーの周波数帯域における電磁波透過性にも優れる。
なお、マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量とミリ波レーダーの周波数帯域（７６～８０ＧＨｚ）における電波透過減衰量との間には相関性があり、比較的近い値を示すことから、マイクロ波帯域における電磁波透過性に優れる金属光沢物品は、ミリ波レーダーの周波数帯域における電磁波透過性にも優れる。
マイクロ波電界透過減衰量は、１０［－ｄＢ］以下であることが好ましく、５［－ｄＢ］以下であるのがより好ましく、２［－ｄＢ］以下であることが更に好ましい。１０［－ｄＢ］より大きいと、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。
金属光沢物品１のマイクロ波電界透過減衰量は実施例に記載の方法により測定できる。
金属光沢物品１のマイクロ波電界透過減衰量は実施例に記載の方法により測定できる。
金属光沢物品１の電波透過減衰量は、金属層１２の材質や厚さ等により影響を受ける。
また、金属光沢物品１が酸化インジウム含有層１１を備える場合には酸化インジウム含有層１１の材質や厚さ等によっても影響を受ける。
また、金属光沢物品１が酸化インジウム含有層１１を備える場合には酸化インジウム含有層１１の材質や厚さ等によっても影響を受ける。
＜２．基体＞
基体１０としては、電磁波透過性の観点から、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
基体１０は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
より具体的には、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。
基体１０としては、電磁波透過性の観点から、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
基体１０は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
より具体的には、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。
これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、酸化インジウム含有層１１や金属層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。
基材フィルムは、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ～２５０μｍ程度が好ましい。酸化インジウム含有層１１や金属層１２との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
基体１０が基材フィルムの場合、金属層１２は基材フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基材フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。
基体１０が基材フィルムの場合、金属層１２は基材フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基材フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。
ここで、基材フィルムは、その表面上に金属層１２を形成することができる対象（基体１０）の一例にすぎない点に注意すべきである。基体１０には、上記のとおり基材フィルムの他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型物基材、及び金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
金属層１２は、これら全ての基体上に形成することができ、基体の表面の一部に形成してもよく、基体の表面の全てに形成してもよい。この場合、金属層１２を付与すべき基体１０は、上記の基材フィルムと同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。
＜３．酸化インジウム含有層＞
また、一実施形態に係る金属光沢物品１は、図２に示されるように、基体１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに備えてもよい。酸化インジウム含有層１１は、基体１０の面に直接設けられていてもよいし、基体１０の面に設けられた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基体１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けられるのが好ましい。連続状態で設けられることにより、酸化インジウム含有層１１、ひいては、金属層１２や金属光沢物品１の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
また、一実施形態に係る金属光沢物品１は、図２に示されるように、基体１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに備えてもよい。酸化インジウム含有層１１は、基体１０の面に直接設けられていてもよいし、基体１０の面に設けられた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき基体１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けられるのが好ましい。連続状態で設けられることにより、酸化インジウム含有層１１、ひいては、金属層１２や金属光沢物品１の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
このように、基体１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに備えること、すなわち、基体１０の上に酸化インジウム含有層１１を形成し、その上に金属層１２を形成することによれば、金属層１２を不連続の状態で形成しやすくなるため好ましい。そのメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、金属の蒸着やスパッタによるスパッタ粒子が基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼし、基体の温度が高く、基体に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすいと考えられる。そして、基体上に酸化インジウム含有層を設けることにより、その表面上の金属粒子の表面拡散性が促進されて、金属層を不連続の状態で成長させやすくなると考えられる。
酸化インジウム含有層１１として、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの酸化インジウム含有層１１を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、酸化インジウム含有層の上に積層される金属層を、例えば、島状の不連続構造としやすくなるため、好ましい。更に、後述するように、この場合には、金属層に、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム等の様々な金属を含めやすくなる。
ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の質量比率である含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は特に限定されるものではないが、例えば、２．５ｗｔ％～３０ｗｔ％、より好ましくは、３ｗｔ％～１０ｗｔ％である。ＩＺＯに含まれる酸化亜鉛（ＺｎＯ）の質量比率である含有率（含有率＝（ＺｎＯ／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ））×１００）は、例えば、２ｗｔ％～２０ｗｔ％である。
酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２を不連続状態としやすくするためには、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２を不連続状態としやすくするためには、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
＜４．金属層＞
金属層１２は基体上に形成され、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、金属層１２の表面粗さ（算術平均表面粗さ）Ｒａが１２ｎｍ以下である。
金属層１２は基体上に形成され、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、金属層１２の表面粗さ（算術平均表面粗さ）Ｒａが１２ｎｍ以下である。
金属層１２が基体上で連続状態である場合、十分な光輝性は得られるものの、電波透過減衰量が非常に大きくなり、従って、電磁波透過性を確保することはできない。
基体上で、金属層１２が不連続の状態で形成され、その表面粗さＲａを１２ｎｍ以下とすることにより、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、白濁や曇り、青味を抑えた優れた金属外観の電磁波透過性金属光沢物品とすることができる。
基体上で、金属層１２が不連続の状態で形成され、その表面粗さＲａを１２ｎｍ以下とすることにより、電磁波透過性と高い光輝性を両立し、白濁や曇り、青味を抑えた優れた金属外観の電磁波透過性金属光沢物品とすることができる。
金属層１２が基体上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層１２の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属層１２が付与される基体上での表面拡散と関連性があり、基体の温度が高く、基体に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ）以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。
金属層１２の表面粗さＲａは、より優れた光輝性を発揮し、白濁や曇り、青味をより抑えるには１２ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、７ｎｍ以下であることが更に好ましい。金属層１２の表面粗さＲａの下限値に特に限定はなく、０であることが最も好ましい。
金属層１２の算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準じて測定することができる。
金属層１２の算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準じて測定することができる。
金属層１２の表面粗さＲａは、金属層の複数の部分１２ａの平均粒径を調整することにより上記の範囲とすることができる。不連続状態の金属層を形成する金属の複数の島状の部分１２ａの平均粒径を小さくすることにより、高い電波透過性を維持したまま、光輝性が向上できる。これは、金属層を形成する金属の複数の島の部分１２ａの平均粒径を小さくすることにより、表面粗さＲａを上記の範囲とすることができ、それにより拡散反射が抑制され可視光領域で正反射し鏡面反射が増大することを見出した。
ここで、複数の部分１２ａの平均粒径とは、複数の部分１２ａの円相当径の平均値を意味する。部分１２ａの円相当径とは、部分１２ａの面積に相当する真円の直径のことである。
島状構造の金属層１２における金属部分の円相当径は上記の観点から、３０ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がより好ましく、５０ｎｍ以上が更に好ましい。また、上記の観点から、５００ｎｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下が更に好ましい。
各金属部分同士の距離は特に限定されないが、上記の観点から、１ｎｍ以上が好ましく、３ｎｍ以上がより好ましく、５ｎｍ以上が更に好ましい。また、上記の観点から、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が更に好ましい。
島状構造の金属層１２における金属部分の円相当径は上記の観点から、３０ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がより好ましく、５０ｎｍ以上が更に好ましい。また、上記の観点から、５００ｎｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下が更に好ましい。
各金属部分同士の距離は特に限定されないが、上記の観点から、１ｎｍ以上が好ましく、３ｎｍ以上がより好ましく、５ｎｍ以上が更に好ましい。また、上記の観点から、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下が更に好ましい。
従来、結晶粒は製膜量の増加に伴い、隣りあう結晶粒同士が混ざり合い、一つの結晶粒となり成長が促進していた。そのため、平均粒径が大きくなるにつれて金属層の表面粗さＲａが粗くなると共に、連続膜へと変化してしまうことにより、電波透過性が低下していた。そこで、初期の結晶粒を小さくすることにより、隣り合う結晶粒同士の隙間を減らすことに成功した。本手法を用いることにより金属層の表面粗さＲａを特定の範囲に制御可能となり、その結果、拡散光を抑え、高反射率が得られ、高い電磁波透過性と高い光輝性の両立を実現できた。
金属層１２は、ＳＣＥ（正反射光除去）方式で測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表示系のＬ＊値が３０以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１０以下であることが更に好ましい。Ｌ＊値を３０以下とすることにより、白濁や曇りをより抑え、明度に優れた金属外観が得られる。０以上であることが好ましい。
Ｌ＊は明度を表わし、０から１００までで数値が大きいほど明るくなる。
Ｌ＊は明度を表わし、０から１００までで数値が大きいほど明るくなる。
金属層１２は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。このような理由から、金属層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からＡｌおよびそれらの合金が好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を５０質量％以上とすることが好ましい。
金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常１０ｎｍ以上が好ましく、一方、生産性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、１５ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、１５ｎｍ～８０ｎｍがより好ましく、１５ｎｍ～７０ｎｍがさらに好ましく、１５ｎｍ～６０ｎｍがよりさらに好ましく、１５ｎｍ～５０ｎｍが特に好ましく、１５ｎｍ～４０ｎｍが最も好ましい。なお、金属層１２の厚さは実施例の欄に記載の方法で測定できる。
また、同様の理由から、金属層の厚さと酸化インジウム含有層の厚さとの比（金属層の厚さ／酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．１～１００の範囲が好ましく、０．３～３５の範囲がより好ましい。
本実施形態の金属光沢物品は、上述の金属層、及び酸化インジウム含有層の他に、用途に応じてその他の層を備えてもよい。その他の層としては色味等の外観を調整するための高屈折材料等の光学調整層（色味調整層）、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）、バリア層（腐食防止層）、易接着層、ハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
本実施形態の金属光沢物品は、上述の金属層、及び酸化インジウム含有層の他に、用途に応じてその他の層を備えてもよい。その他の層としては色味等の外観を調整するための高屈折材料等の光学調整層（色味調整層）、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）、バリア層（腐食防止層）、易接着層、ハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
＜５．金属光沢物品の製造＞
金属光沢物品１の製造方法の一例について、説明する。特に説明しないが、基材フィルム以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。
金属光沢物品１の製造方法の一例について、説明する。特に説明しないが、基材フィルム以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。
基体１０上に金属層１２を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、例えば、スパッタリング等の方法を用いることができる。
また、基体１０上に酸化インジウム含有層１１を形成する場合には、金属層１２の形成に先立ち、酸化インジウム含有層１１を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成する。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。
尚、基体１０と金属層１２の間に酸化インジウム含有層１１を設ける場合、酸化インジウム含有層１１と金属層１２の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。
＜６．金属薄膜＞
本実施形態に係る金属薄膜は、基体１０上に形成された金属薄膜であって、前記金属薄膜は、１５ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含み、前記金属薄膜の表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である。
上述の金属層１２を、厚さ１５ｎｍ～１００ｎｍに形成し、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基材フィルムのような基体に積層された酸化インジウム含有層１１の上に、スパッタリングで金属層１２を形成して、フィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作製する。フィルムと基材を、金属層１２と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、フィルムの最表面に存在した金属層（金属薄膜）１２を基材の最表面に転写させることができる。
基体、金属層、及び表面粗さＲａとしては、上述の説明をそのまま援用し得る。
本実施形態に係る金属薄膜は、基体１０上に形成された金属薄膜であって、前記金属薄膜は、１５ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含み、前記金属薄膜の表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である。
上述の金属層１２を、厚さ１５ｎｍ～１００ｎｍに形成し、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基材フィルムのような基体に積層された酸化インジウム含有層１１の上に、スパッタリングで金属層１２を形成して、フィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作製する。フィルムと基材を、金属層１２と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、フィルムの最表面に存在した金属層（金属薄膜）１２を基材の最表面に転写させることができる。
基体、金属層、及び表面粗さＲａとしては、上述の説明をそのまま援用し得る。
＜７．金属光沢物品及び金属薄膜の用途＞
本実施形態の金属光沢物品及び金属薄膜は、電磁波透過性を有することから電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することが好ましい。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。
電子機器および家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。
本実施形態の金属光沢物品及び金属薄膜は、電磁波透過性を有することから電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することが好ましい。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。
電子機器および家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。金属光沢物品を準備し、金属層の厚み、表面粗さ（Ｒａ）、電波透過減衰量（－ｄＢ）、ＳＣＥ（正反射除去法）方式で測定したＬ＊ａ＊ｂ＊表示系におけるＬ＊値、光沢度を評価した。なお、基体１０としては、基材フィルムを用いた。
電波透過減衰量は、電磁波透過性に関する評価である。電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。
（１）膜厚の評価方法
まず、金属光沢物品から、図７に示すように一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」～「ｅ」を測定箇所として選択した。
次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図８に示すような断面画像（透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像））を測定し、得られたＴＥＭ画像から、５個以上の金属の部分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。
５箇所の測定箇所それぞれにおいて抽出された視野角領域における金属層の総断面積を視野角領域の横幅で割ったものを各視野角領域の金属層の膜厚とし、５箇所の測定箇所それぞれにおける、各視野角領域の金属層の膜厚の平均値を金属層の膜厚（ｎｍ）とした。
電波透過減衰量は、電磁波透過性に関する評価である。電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。
（１）膜厚の評価方法
まず、金属光沢物品から、図７に示すように一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」～「ｅ」を測定箇所として選択した。
次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図８に示すような断面画像（透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像））を測定し、得られたＴＥＭ画像から、５個以上の金属の部分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。
５箇所の測定箇所それぞれにおいて抽出された視野角領域における金属層の総断面積を視野角領域の横幅で割ったものを各視野角領域の金属層の膜厚とし、５箇所の測定箇所それぞれにおける、各視野角領域の金属層の膜厚の平均値を金属層の膜厚（ｎｍ）とした。
（２）算術平均表面粗さ（Ｒａ）
算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準じ、ブルカージャパン株式会社製ＡＦＭ ＭｕｌｔｉＭｏｄｅ８を用い、下記の条件にて実施例及び比較例の金属光沢物品の金属層の算術平均表面粗さ（Ｒａ）（ｎｍ）を測定した。
測定モード：タッピングモード
バネ定数：２００Ｎ／ｍ
測定範囲：１μ□
測定した算術平均表面粗さ（Ｒａ）について、下記の評価基準にて評価した。
１２（ｎｍ）超：×（不良）
１２（ｎｍ）以下～１０超（ｎｍ）：△（やや不良）
１０（ｎｍ）以下～７超（ｎｍ）：○（良好）
７（ｎｍ）以下：◎（極めて良好）
算術平均表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４に準じ、ブルカージャパン株式会社製ＡＦＭ ＭｕｌｔｉＭｏｄｅ８を用い、下記の条件にて実施例及び比較例の金属光沢物品の金属層の算術平均表面粗さ（Ｒａ）（ｎｍ）を測定した。
測定モード：タッピングモード
バネ定数：２００Ｎ／ｍ
測定範囲：１μ□
測定した算術平均表面粗さ（Ｒａ）について、下記の評価基準にて評価した。
１２（ｎｍ）超：×（不良）
１２（ｎｍ）以下～１０超（ｎｍ）：△（やや不良）
１０（ｎｍ）以下～７超（ｎｍ）：○（良好）
７（ｎｍ）以下：◎（極めて良好）
（３）電波透過減衰量
５ＧＨｚにおける電波透過減衰量を、方形導波管測定評価治具ＷＲ－１８７でサンプルを挟み、アンリツ社製スペクトルアナライザＭＳ４６４４Ｂを用いて測定した。また、測定値に基づいて下記基準で電波透過減衰量を評価した。
測定した電波透過減衰量について、下記の評価基準にて評価した。
５ＧＨｚにおける電波透過減衰量を、方形導波管測定評価治具ＷＲ－１８７でサンプルを挟み、アンリツ社製スペクトルアナライザＭＳ４６４４Ｂを用いて測定した。また、測定値に基づいて下記基準で電波透過減衰量を評価した。
測定した電波透過減衰量について、下記の評価基準にて評価した。
（電波透過減衰量の評価基準）
１０［－ｄＢ］超：×（不良）
１０［－ｄＢ］以下～５超［－ｄＢ］：△（やや不良）
５［－ｄＢ］以下～２超［－ｄＢ］：○（良好）
２［－ｄＢ］以下：◎（極めて良好）
１０［－ｄＢ］超：×（不良）
１０［－ｄＢ］以下～５超［－ｄＢ］：△（やや不良）
５［－ｄＢ］以下～２超［－ｄＢ］：○（良好）
２［－ｄＢ］以下：◎（極めて良好）
（４）Ｌ＊ａ＊ｂ＊表示系におけるＬ＊値
コニカミノルタジャパン製の色彩色差計ＣＭ－７００ｄを用いて、ＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅ）法により拡散光の反射光について４００ｎｍ～７００ｎｍの条件で、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表示系におけるＬ＊値を測定した。光源はパルスキセノンランプを使用した。測定したＬ＊値は、下記の評価基準に従って評価した。
コニカミノルタジャパン製の色彩色差計ＣＭ－７００ｄを用いて、ＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅ）法により拡散光の反射光について４００ｎｍ～７００ｎｍの条件で、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表示系におけるＬ＊値を測定した。光源はパルスキセノンランプを使用した。測定したＬ＊値は、下記の評価基準に従って評価した。
（Ｌ＊値の評価基準）
３０超：×（不良）
３０以下～１５超：△（やや不良）
１５以下～５超：○（良好）
５以下：◎（極めて良好）
３０超：×（不良）
３０以下～１５超：△（やや不良）
１５以下～５超：○（良好）
５以下：◎（極めて良好）
（５）光沢度
金属光沢物品の２０°光沢度（光沢度）をＪＩＳ Ｚ ８７４１（１９９７年版）に準拠して測定した。具体的には、ＰＧ－ＩＩＭ（日本電色工業（株）製）を用いて測定を行った。なお、光沢度の測定は金属層側の面に対して行った。得られた光沢度の値に応じて、金属光沢物品の光輝性を以下の評価基準で判断した。
金属光沢物品の２０°光沢度（光沢度）をＪＩＳ Ｚ ８７４１（１９９７年版）に準拠して測定した。具体的には、ＰＧ－ＩＩＭ（日本電色工業（株）製）を用いて測定を行った。なお、光沢度の測定は金属層側の面に対して行った。得られた光沢度の値に応じて、金属光沢物品の光輝性を以下の評価基準で判断した。
（光輝性の評価基準）
９００未満：×（不良）
９００～１１００未満：△（やや不良）
１１００～１５００未満：○（良好）
１５００以上：◎（極めて良好）
９００未満：×（不良）
９００～１１００未満：△（やや不良）
１１００～１５００未満：○（良好）
１５００以上：◎（極めて良好）
（６）総合評価
（２）～（５）の評価において、すべての項目の評価が〇以上であるものを○（良好）、すべての項目の評価が△以上であるものを△（やや不良）、一つの項目でも×であるものを×（不良）と評価した。
（２）～（５）の評価において、すべての項目の評価が〇以上であるものを○（良好）、すべての項目の評価が△以上であるものを△（やや不良）、一つの項目でも×であるものを×（不良）と評価した。
［実施例１］
基材フィルムとして、きもと社製ＰＥＴフィルム（厚さ５０μｍ、サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍ）を用いた。
先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、５０ｎｍの厚さのＩＴＯ層をその上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は１０ｗｔ％である。
基材フィルムとして、きもと社製ＰＥＴフィルム（厚さ５０μｍ、サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍ）を用いた。
先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、５０ｎｍの厚さのＩＴＯ層をその上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は１０ｗｔ％である。
次いで、交流スパッタリング（ＡＣ：４０ｋＨｚ）を用いて、ＩＴＯ層の上に、３５ｎｍの厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。得られたアルミニウム層は不連続層であった。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。
［実施例２］
実施例１におけるＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム（Ａｌ）層の膜厚を４０ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。
実施例１におけるＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム（Ａｌ）層の膜厚を４０ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。
［実施例３］
実施例１におけるＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム（Ａｌ）層の膜厚を３０ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。
実施例１におけるＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム（Ａｌ）層の膜厚を３０ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、実施例１と同じである。得られたアルミニウム層は不連続層であった。
［比較例１］
基体として、コーニング社製ガラス（厚さ５５０μｍ）を用いた。
アルバック社製蒸着装置ＥＸ５５０を用いて、ガラス基体の面に沿って、１００ｎｍの厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。Ａｌ層を形成する際のガラス基体の温度は、２５℃に設定した。得られたアルミニウム層は連続層であった。
基体として、コーニング社製ガラス（厚さ５５０μｍ）を用いた。
アルバック社製蒸着装置ＥＸ５５０を用いて、ガラス基体の面に沿って、１００ｎｍの厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。Ａｌ層を形成する際のガラス基体の温度は、２５℃に設定した。得られたアルミニウム層は連続層であった。
［比較例２］
比較例１におけるガラス基体の上に積層するアルミニウム（Ａｌ）層を、インジウム（Ｉｎ）層（膜厚４０ｎｍ）に変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、比較例１と同じである。得られたインジウム層は不連続層であった。
比較例１におけるガラス基体の上に積層するアルミニウム（Ａｌ）層を、インジウム（Ｉｎ）層（膜厚４０ｎｍ）に変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、比較例１と同じである。得られたインジウム層は不連続層であった。
［比較例３］
比較例２におけるガラス基体の上に積層するインジウム（Ｉｎ）層の膜厚を６０ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、比較例１と同じである。得られたインジウム層は不連続層であった。
比較例２におけるガラス基体の上に積層するインジウム（Ｉｎ）層の膜厚を６０ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、比較例１と同じである。得られたインジウム層は不連続層であった。
［比較例４］
比較例２におけるガラス基体の上に積層するインジウム（Ｉｎ）層の膜厚を１３５ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、比較例１と同じである。得られたインジウム層は連続層であった。
比較例２におけるガラス基体の上に積層するインジウム（Ｉｎ）層の膜厚を１３５ｎｍに変更し、金属光沢物品（金属薄膜）を得た。その他の条件については、比較例１と同じである。得られたインジウム層は連続層であった。
以下の表１に、上記で得られた実施例及び比較例の評価結果を示す。
図４は、これらの処理の結果得られた実施例１～３の金属光沢物品（金属薄膜）表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す図であり、図５は、比較例１及び２の金属光沢物品（金属薄膜）表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す図であり、図６は、比較例３及び４の金属光沢物品（金属薄膜）表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す図である。図４～６の電子顕微鏡写真における画像サイズはいずれも１μｍ×１μｍである。
これらの図及び表１から明らかなように、実施例１～３では、アルミニウム層は不連続な状態に形成された複数の部分１２ａを含むことから、その電波透過減衰量は５ＧＨｚの波長において０．１［－ｄＢ］以下となり、電磁波透過性について良好な結果が得られた。また、金属層の表面粗さＲａが実施例１では７．９２（ｎｍ）、実施例２では５．１６（ｎｍ）であることからＬ＊値、及び光沢度についても良好な結果が得られた。その結果、実施例１及び２について、総合評価は「○」となり、電磁波透過性と光沢度の双方を兼ね備えた良好な金属光沢物品、及び金属薄膜が得られた。
一方、比較例１及び４の金属光沢物品は、金属層が連続層となり電磁波透過性について大きく劣る結果となった。
また、比較例２及び３の金属光沢物品は、金属層の表面粗さＲａ及びＬ＊値が大きく、光沢度が小さく光輝性が低く金属外観に劣るものとなった。
一方、比較例１及び４の金属光沢物品は、金属層が連続層となり電磁波透過性について大きく劣る結果となった。
また、比較例２及び３の金属光沢物品は、金属層の表面粗さＲａ及びＬ＊値が大きく、光沢度が小さく光輝性が低く金属外観に劣るものとなった。
なお、以上の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ）以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。
本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。
本発明に係る金属光沢物品は、電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することができる。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。
１ 金属光沢物品
１０ 基体
１１ 酸化インジウム含有層
１２ 金属層
１２ａ 部分
１２ｂ 隙間
１０ 基体
１１ 酸化インジウム含有層
１２ 金属層
１２ａ 部分
１２ｂ 隙間
Claims (12)
- 基体と、前記基体上に形成された金属層とを備え、
前記基体と前記金属層の間に、酸化インジウム含有層をさらに備え、
前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
前記金属層の厚さは、３０ｎｍ～１００ｎｍであり、
前記金属層の算術平均表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である電磁波透過性金属光沢物品。 - 前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられている請求項１に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含む請求項１又は２に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記酸化インジウム含有層の厚さは、１ｎｍ～１０００ｎｍである請求項１～３のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記金属層は、ＳＣＥ（正反射除去法）方式で測定したＬ＊値が０～３０の範囲である請求項１～４のいずれか一項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比（前記金属層の厚さ／前記酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．０２～１００である請求項１～４のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 電波透過減衰量が、１０［－ｄＢ］以下である請求項１～６のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記複数の部分は島状に形成されている請求項１～７のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかである請求項１～８のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである請求項１～９のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢物品。
- 基体に積層された酸化インジウム含有層上に形成された金属薄膜であって、
前記金属薄膜は、３０ｎｍ～１００ｎｍの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含み、
前記金属薄膜の算術平均表面粗さＲａが１２ｎｍ以下である金属薄膜。 - 前記金属薄膜は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかである請求項１１に記載の金属薄膜。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2019/017039 WO2019208504A1 (ja) | 2018-04-23 | 2019-04-22 | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 |
| KR1020207029678A KR102679771B1 (ko) | 2018-04-23 | 2019-04-22 | 전자파 투과성 금속 광택 물품, 및, 금속 박막 |
| TW108114185A TW201945169A (zh) | 2018-04-23 | 2019-04-23 | 電磁波透過性金屬光澤物品及金屬薄膜 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018082659 | 2018-04-23 | ||
| JP2018082659 | 2018-04-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019188804A JP2019188804A (ja) | 2019-10-31 |
| JP7319077B2 true JP7319077B2 (ja) | 2023-08-01 |
Family
ID=68388232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019080622A Active JP7319077B2 (ja) | 2018-04-23 | 2019-04-22 | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7319077B2 (ja) |
| KR (1) | KR102679771B1 (ja) |
| CN (1) | CN112020423B (ja) |
| TW (1) | TW201945169A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7338530B2 (ja) * | 2020-03-26 | 2023-09-05 | トヨタ自動車株式会社 | メタリック塗料用フィラー |
| WO2021200292A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 日東電工株式会社 | 積層体、電磁波透過性積層体、及び物品 |
| KR102444429B1 (ko) * | 2020-06-18 | 2022-09-21 | (주)쓰리나인 | 스마트 크루즈 컨트롤 커버 및 이의 제조방법 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008221557A (ja) | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Ulvac Japan Ltd | 光輝性膜および光輝性膜の製造方法 |
| WO2014097943A1 (ja) | 2012-12-18 | 2014-06-26 | 東レ株式会社 | 金属ドット基板および金属ドット基板の製造方法 |
| WO2018079547A1 (ja) | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 日東電工株式会社 | 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH066783B2 (ja) * | 1986-12-22 | 1994-01-26 | 株式会社麗光 | 包装用蒸着フイルム |
| JP4706596B2 (ja) | 2005-10-31 | 2011-06-22 | 豊田合成株式会社 | 樹脂製品及びその製造方法並びに金属皮膜の成膜方法 |
| JP2009298006A (ja) | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Toyoda Gosei Co Ltd | 電磁波透過性光輝樹脂製品及び製造方法 |
| JP2010005999A (ja) | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Nissha Printing Co Ltd | クラックを有する金属膜加飾シートの製造方法 |
| EP2472295A4 (en) * | 2009-08-26 | 2015-09-16 | Sumitomo Riko Co Ltd | TRANSPARENT LAMINATE FILM AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF |
| JP2018022634A (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | Tdk株式会社 | 透明導電体 |
-
2019
- 2019-04-22 JP JP2019080622A patent/JP7319077B2/ja active Active
- 2019-04-22 KR KR1020207029678A patent/KR102679771B1/ko active IP Right Grant
- 2019-04-22 CN CN201980028069.6A patent/CN112020423B/zh active Active
- 2019-04-23 TW TW108114185A patent/TW201945169A/zh unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008221557A (ja) | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Ulvac Japan Ltd | 光輝性膜および光輝性膜の製造方法 |
| WO2014097943A1 (ja) | 2012-12-18 | 2014-06-26 | 東レ株式会社 | 金属ドット基板および金属ドット基板の製造方法 |
| WO2018079547A1 (ja) | 2016-10-24 | 2018-05-03 | 日東電工株式会社 | 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201945169A (zh) | 2019-12-01 |
| JP2019188804A (ja) | 2019-10-31 |
| CN112020423A (zh) | 2020-12-01 |
| CN112020423B (zh) | 2023-07-28 |
| KR102679771B1 (ko) | 2024-06-28 |
| KR20210005577A (ko) | 2021-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102271407B1 (ko) | 전자파 투과성 금속 광택 부재, 이것을 사용한 물품 및 금속 박막 | |
| JP7319079B2 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、加飾部材 | |
| JP7319077B2 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 | |
| JP7516707B2 (ja) | 電波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及びその製造方法 | |
| WO2019208499A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
| WO2019208493A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、加飾部材 | |
| WO2021182380A1 (ja) | 電磁波透過性積層部材、及びその製造方法 | |
| WO2019208504A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 | |
| JP2019188809A (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
| JP7319080B2 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 | |
| JP7319081B2 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
| JP7319078B2 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
| WO2019208494A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜 | |
| WO2019139122A1 (ja) | 電波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及びその製造方法 | |
| WO2019208488A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
| WO2019208490A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品及びその製造方法 | |
| WO2022004670A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材 | |
| WO2021187069A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢部材 | |
| WO2019208489A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230214 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230414 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230428 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230620 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230720 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7319077 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |