WO2021200292A1 - 積層体、電磁波透過性積層体、及び物品 - Google Patents

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WO2021200292A1
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base material
electromagnetic wave
pressure
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孝洋 中井
太一 渡邉
秀行 米澤
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日東電工株式会社
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    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]

Definitions

  • the present invention relates to a laminate, an electromagnetic wave transmitting laminate, and an article.
  • a member having electromagnetic wave transmission and metallic luster has both a high-class appearance derived from the metallic luster and electromagnetic wave transmission, and is therefore suitably used for an apparatus for transmitting and receiving electromagnetic waves.
  • metallic luster articles having both brilliance and electromagnetic wave transmission in housings of electronic devices such as mobile phones, smartphones, and personal computers.
  • Patent Document 1 describes a laminate in which an adhesive layer and a metal-deposited film are laminated on the back surface side of a transparent substrate in order from the visual recognition side.
  • the present invention has been made in view of the above, and provides a laminate having an excellent appearance (for example, a metal appearance) and an electromagnetic wave transmitting laminate by suppressing distortion of reflected light rays when light is reflected on the surface. To do.
  • the present inventors have suppressed deformation of the interface on the visual side of the optical functional layer due to pressing by providing a pressing relaxation layer, and have an excellent metallic appearance. They have found that a laminated body and an electromagnetic wave transmitting laminated body can be obtained, and have completed the present invention.
  • the present invention has the following configuration. [1] It has a first base material, an optical functional layer formed on the first base material, and a first pressure-sensitive adhesive layer in this order, which is opposite to the optical functional layer on the first base material. the surface on the side, a pressing relaxation layer, the pressing relieving layer, and the second substrate comprises a second adhesive layer is press-deformation parameter 4 ⁇ 10 8 or more, the laminate. [2] The laminate according to [1], wherein the optical functional layer is a metal layer. [3] The laminate according to [2], further comprising an indium oxide-containing layer between the first base material and the metal layer. [4] The laminate according to [3], wherein the indium oxide-containing layer is provided in a continuous state.
  • the metal layer is any one of [2] to [5] containing any one of aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), silver (Ag), or an alloy thereof.
  • the laminate according to any one of [2] to [7] is an electromagnetic wave transmitting laminate.
  • the metal layer is an electromagnetic wave transmitting laminated body containing a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part.
  • the electromagnetic wave transmissive laminate according to [8] or [9] which has a sheet resistance of 100 ⁇ / ⁇ or more.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electromagnetic wave transmitting laminated body according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a metallic luster article according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is an electron micrograph of the surface of the metal layer of the electromagnetic wave transmitting laminate according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining a method of measuring the film thickness of the metal layer of the electromagnetic wave transmitting laminated body according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram showing a transmission electron micrograph (TEM image) of a cross section of a metal layer according to an embodiment of the present invention.
  • TEM image transmission electron micrograph
  • the laminate according to the embodiment of the present invention has a first base material, an optical functional layer formed on the first base material, and a first pressure-sensitive adhesive layer in this order, and the first base material is described.
  • a pressing relaxation layer is provided on the surface of the substrate opposite to the optical functional layer, the pressing relaxation layer includes a second substrate and a second pressure-sensitive adhesive layer, and the pressing deformation parameter is 4 ⁇ 10. 8 or more.
  • the laminate according to the embodiment of the invention has a first base material, an optical functional layer formed on the first base material, and a first pressure-sensitive adhesive layer in this order, and the first base material is used.
  • the surface opposite to the in wood optical function layer, a pressing relaxation layer, the pressing relaxation layer comprises a second substrate and the second adhesive layer, pressing deformation parameter 4 ⁇ 10 8 or more Is.
  • the optical functional layer is preferably a metal layer, and the metal layer includes a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part.
  • the optical functional layer is a metal layer and the laminate is an electromagnetic wave transmitting laminate may be described, but the present invention is not limited to the following description.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the electromagnetic wave transmissive laminate 1 according to the embodiment of the present invention
  • FIG. 3 shows an electron microscope on the surface of the metal layer of the electromagnetic wave transmissive laminate 1 according to the embodiment of the present invention.
  • a photograph (SEM image) is shown.
  • the electromagnetic wave transmitting laminate 1 in FIG. 1 has a first base material 10, a metal layer 12 formed on the first base material 10, and a first pressure-sensitive adhesive formed on the metal layer 12.
  • the layers 13 are provided in this order, and the pressing relaxation layer 14 is provided on the surface of the first base material 10 opposite to the metal layer 12.
  • the pressure relief layer 14 includes a second base material 16 and a second pressure-sensitive adhesive layer 15.
  • the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 may be provided with an indium oxide-containing layer 11 between the first base material 10 and the metal layer 12.
  • the metal layer 12 is formed on the first base material 10.
  • the metal layer 12 includes a plurality of portions 12a. These portions 12a in the metal layer 12 are separated from each other, at least in part, by gaps 12b, in other words, at least in part. Since they are separated by the gap 12b, the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting laminated body is increased, and the interaction with the radio waves is reduced, so that the radio waves can be transmitted.
  • Each of these portions 12a may be an aggregate of sputtered particles formed by vapor deposition, sputtering, or the like of a metal.
  • the "discontinuous state” referred to in the present specification means a state in which they are separated from each other by a gap 12b, and as a result, they are electrically insulated from each other. By being electrically insulated, the sheet resistance is increased and the desired electromagnetic wave transmission can be obtained. That is, according to the metal layer 12 formed in a discontinuous state, sufficient brilliance can be easily obtained, and electromagnetic wave transmission can be ensured.
  • the discontinuous form is not particularly limited, and includes, for example, an island-like structure, a crack structure, and the like.
  • the "island-like structure” means that the metal particles are independent of each other, and the metal particles are laid out in a state of being slightly separated from each other or partially in contact with each other. Means the structure.
  • the crack structure is a structure in which a metal thin film is divided by cracks.
  • the metal layer 12 having a crack structure can be formed, for example, by providing a metal thin film layer on a substrate film as a first base material and bending and stretching the metal thin film layer to cause cracks in the metal thin film layer.
  • the metal layer 12 having a crack structure can be easily formed by providing a brittle layer made of a material having poor elasticity, that is, easily forming cracks by stretching, between the substrate film and the metal thin film layer.
  • the mode in which the metal layer 12 is discontinuous is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, an island-like structure is preferable.
  • the electromagnetic wave transmittance of the electromagnetic wave transmissive laminate 1 can be evaluated by, for example, the amount of radio wave transmission attenuation.
  • the amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (5 GHz) is preferably 10 [ ⁇ dB] or less, more preferably 5 [ ⁇ dB] or less, and further preferably 2 [ ⁇ dB] or less. .. If it is 10 [ ⁇ dB] or more, there is a problem that 90% or more of the radio waves are blocked.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmissive laminate 1 also has a correlation with the electromagnetic wave transmissivity.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more, and in this case, the amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (5 GHz) is about 10 to 0.01 [ ⁇ dB].
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 is more preferably 200 ⁇ / ⁇ or more, and particularly preferably 600 ⁇ / ⁇ or more. Further, it is particularly preferably 1000 ⁇ / ⁇ or more.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 can be measured by an eddy current measuring method according to JIS-Z2316-1: 2014.
  • the amount of radio wave transmission attenuation and the sheet resistance of the electromagnetic wave transmission laminate 1 are affected by the material and thickness of the metal layer 12. Further, when the electromagnetic wave transmitting laminate 1 includes the indium oxide-containing layer 11, it is also affected by the material and thickness of the indium oxide-containing layer 11.
  • Electromagnetically transparent laminate 1 is press-deformation parameter 4 ⁇ 10 8 or more.
  • Pressing deformation parameters is from the standpoint of press-deformation suppression 4 ⁇ 10 8 or more, preferably 5 ⁇ 10 8 or more, and more preferably 5.5 ⁇ 10 8 or more.
  • the pressing deformation parameter represents the easiness of visually recognizing the deformation from the transparent substrate side when the electromagnetic wave transmitting laminate is attached to the transparent substrate via an adhesive and a load is applied to the laminate. It is one of the indexes showing the pressure deformation resistance of the transparent laminated body.
  • the pressing deformation parameter can be calculated by the following equation (1).
  • E O1 / T O1 Elastic modulus (MPa) of the first pressure-sensitive adhesive layer TO1 : Thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer ( ⁇ m)
  • ES1 Elastic modulus (MPa) of the first base material TS1 : Thickness of the first base material ( ⁇ m)
  • EO2 Elastic modulus (MPa) of the second pressure-sensitive adhesive layer TO2 : Thickness of the second adhesive layer ( ⁇ m) ES2 : Elastic modulus (MPa) of the second base material
  • examples of the first base material 10 include resins, glass, ceramics, and the like from the viewpoint of electromagnetic wave transmission.
  • the first base material 10 may be a base film, a resin molded base, a glass base, or an article to which metallic luster should be imparted, and is preferably a base film.
  • examples of the substrate film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate (PC), cycloolefin polymer (COP), polystyrene, and the like.
  • a transparent film made of a homopolymer such as polypropylene (PP), polyethylene, polycycloolefin, polyurethane, acrylic (PMMA), ABS, or a copolymer can be used.
  • the layer can withstand high temperatures such as vapor deposition and sputtering. Therefore, among the above materials, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like. Acrylic, polycarbonate, cycloolefin polymer, ABS, polypropylene and polyurethane are preferred. Of these, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polycarbonate, and acrylic are preferable because they have a good balance between heat resistance and cost.
  • the substrate film may be a single-layer film or a laminated film.
  • the substrate film may be subjected to plasma treatment, easy adhesion treatment, or the like in order to strengthen the adhesive force with the indium oxide-containing layer 11 or the metal layer 12.
  • the metal layer 12 may be provided on at least a part of the substrate film, may be provided on only one side of the substrate film, or may be provided on both sides.
  • the substrate film may have a smooth or antiglare hard coat layer formed, if necessary.
  • the hard coat layer By providing the hard coat layer, the scratch resistance of the metal thin film can be improved.
  • the smooth hard coat layer By providing the smooth hard coat layer, the metallic luster is increased, and conversely, the anti-glare hard coat layer can prevent glare.
  • the hard coat layer can be formed by applying a solution containing a curable resin.
  • the curable resin examples include thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and electron beam curable resins.
  • the curable resin examples include various resins such as polyester-based, acrylic-based, urethane-based, acrylic-urethane-based, amide-based, silicone-based, silicate-based, epoxy-based, melamine-based, oxetane-based, and acrylic urethane-based resins.
  • these curable resins one kind or two or more kinds can be appropriately selected and used.
  • acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferable because they have high hardness, can be cured by ultraviolet rays, and are excellent in productivity.
  • the first base material may further have a light-shielding property.
  • the method of imparting the light-shielding property is not limited, but for example, the light-shielding property can be adjusted by adding a dye, a pigment, or a dye to the substrate film, or by printing the dye, the pigment, or the dye on the substrate film.
  • tensile tester manufactured by Minevea, universal tensile compression tester, device name "tensile compression tester, TCM-1kNB"
  • TCM-1kNB tensile compression tester
  • the thickness of the first base material is, for example, 23 ⁇ m or more, preferably 50 ⁇ m or more, from the viewpoint of suppressing pressure deformation, and, for example, 250 ⁇ m or less, preferably 150 ⁇ m or less from the viewpoint of productivity.
  • the thickness of the first base material can be measured using, for example, a film thickness meter (dial gauge).
  • the metal layer 12 can be formed on the first base material, may be formed on a part of the surface of the first base material, or may be formed on the entire surface of the first base material. ..
  • an indium oxide-containing layer 11 may be further provided between the first base material 10 and the metal layer 12.
  • the indium oxide-containing layer 11 may be provided directly on the surface of the first base material 10, or may be indirectly provided via a protective film or the like provided on the surface of the first base material 10. ..
  • the indium oxide-containing layer 11 is preferably provided continuously on the surface of the first base material 10 to which metallic luster should be imparted, in other words, without gaps.
  • the smoothness and corrosion resistance of the indium oxide-containing layer 11, the metal layer 12, and the electromagnetic wave-transmitting laminate 1 can be improved, and the indium oxide-containing layer 11 is formed without in-plane variation. It also becomes easy to film.
  • the indium oxide-containing layer 11 is further provided between the first base material 10 and the metal layer 12, that is, the indium oxide-containing layer 11 is formed on the first base material 10, and the indium oxide-containing layer 11 is formed on the first base material 10. It is preferable to form the metal layer 12 in the metal layer 12 because it is easy to form the metal layer 12 in a discontinuous state. The details of the mechanism are not always clear, but when sputtered particles by metal deposition or sputtering form a thin film on the first substrate, the surface diffusivity of the particles on the first substrate is thin.
  • the discontinuous structure is more likely to be formed when the temperature of the first base material is high, the wettability of the metal layer to the first base material is small, and the melting point of the material of the metal layer is low. Be done. Then, it is considered that by providing the indium oxide-containing layer on the first base material, the surface diffusibility of the metal particles on the surface thereof is promoted, and the metal layer can be easily grown in a discontinuous state.
  • indium oxide-containing layer 11 indium oxide (In 2 O 3 ) itself can be used, or a metal-containing substance such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) is used. You can also do it. However, ITO and IZO containing a second metal are more preferable because they have high discharge stability in the sputtering process.
  • ITO and IZO containing a second metal are more preferable because they have high discharge stability in the sputtering process.
  • a continuous film can be formed along the surface of the first base material, and in this case, it is laminated on the indium oxide-containing layer. It is preferable because the metal layer tends to have an island-like discontinuous structure, for example.
  • the thickness of the indium oxide-containing layer 11 is usually preferably 1000 nm or less, more preferably 50 nm or less, still more preferably 20 nm or less, from the viewpoint of sheet resistance, electromagnetic wave transmission, and productivity.
  • it is preferably 1 nm or more, and in order to ensure the discontinuous state, it is more preferably 2 nm or more, and 5 nm or more. Is more preferable.
  • the optical functional layer is formed on the first base material 10.
  • the optical functional layer is a layer having optical characteristics, and is preferably a layer having a metallic luster.
  • the material forming the optical functional layer is not particularly limited, and may contain a metal and a resin.
  • the optical functional layer may be a metal layer. A case where the optical functional layer is a metal layer will be described.
  • the metal layer 12 is formed on the first base material and includes a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part. When the metal layer 12 is in a discontinuous state on the first base material, sufficient brilliance can be obtained and the amount of radio wave transmission attenuation becomes small, so that electromagnetic wave transmission can be ensured.
  • the details of the mechanism when the metal layer 12 is in a discontinuous state on the first base material are not always clear, but it is presumed to be roughly as follows. That is, in the thin film forming process of the metal layer 12, the ease of forming the discontinuous structure is related to the surface diffusion on the first base material to which the metal layer 12 is applied, and the first base material The higher the temperature, the smaller the wettability of the metal layer with respect to the first base material, and the lower the melting point of the material of the metal layer, the easier it is to form a discontinuous structure. Therefore, with respect to metals other than aluminum (Al) particularly used in the following examples, metals having a relatively low melting point such as zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), and silver (Ag) are used. , It is considered that a discontinuous structure can be formed by the same method.
  • the average particle size of the plurality of portions 12a means the average value of the equivalent circle diameters of the plurality of portions 12a.
  • the circle-equivalent diameter of the portion 12a is the diameter of a perfect circle corresponding to the area of the portion 12a.
  • the equivalent circle diameter of the portion 12a of the metal layer 12 is not particularly limited, but is usually about 10 to 1000 nm.
  • the distance between the portions 12a is not particularly limited, but is usually about 10 to 1000 nm.
  • the brilliance can be further improved while maintaining high electromagnetic wave transmission.
  • the metal layer 12 has a relatively low melting point as well as being able to exhibit sufficient brilliance. This is because the metal layer 12 is preferably formed by thin film growth using sputtering. For this reason, a metal having a melting point of about 1000 ° C. or lower is suitable as the metal layer 12, and for example, aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), and silver (Ag). ), And any of an alloy containing the metal as a main component is preferably contained. In particular, Al and its alloys are preferable because of the brilliance, stability, price, and the like of the substance. When an aluminum alloy is used, the aluminum content is preferably 50% by mass or more.
  • the thickness of the metal layer 12 is usually preferably 20 nm or more so as to exhibit sufficient brilliance, while it is usually preferably 100 nm or less from the viewpoint of sheet resistance and electromagnetic wave transmission.
  • 20 nm to 100 nm is preferable, and 30 nm to 70 nm is more preferable. This thickness is also suitable for forming a uniform film with good productivity, and the appearance of the final resin molded product is also good.
  • the ratio of the thickness of the metal layer to the thickness of the indium oxide-containing layer is preferably in the range of 0.1 to 100, and is 0. The range of 3 to 35 is more preferable.
  • the sheet resistance of the metal layer is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more.
  • the electromagnetic wave transmission property is about 10 to 0.01 [ ⁇ dB] at a wavelength of 1 GHz. More preferably, it is 1000 ⁇ / ⁇ or more.
  • the sheet resistance of the metal layer and the indium oxide-containing layer as a laminate is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more.
  • the electromagnetic wave transmission property is about 10 to 0.01 [ ⁇ dB] at a wavelength of 1 GHz. More preferably, it is 1000 ⁇ / ⁇ or more.
  • the value of this sheet resistance is greatly affected not only by the material and thickness of the metal layer but also by the material and thickness of the indium oxide-containing layer which is the base layer. Therefore, when the indium oxide-containing layer is provided, it is necessary to consider the relationship with the indium oxide-containing layer when setting the layer.
  • the first pressure-sensitive adhesive layer can be formed from the base pressure-sensitive adhesive composition.
  • (1-1) Base Adhesive Composition The base adhesive composition preferably contains a (meth) acrylic polymer (A) as the base polymer.
  • the (meth) acrylic polymer (A) preferably contains an alkyl (meth) acrylate (a1) constituting the main skeleton of the (meth) acrylic polymer (A) as a monomer unit.
  • (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate.
  • alkyl (meth) acrylate (a1) examples include those having a linear or branched chain alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
  • the alkyl group includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, an amyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a heptyl group, a 2-ethylhexyl group, an isooctyl group, a nonyl group and a decyl group.
  • Examples thereof include a group, an isodecyl group, a dodecyl group, an isomyristyl group, a lauryl group, a tridecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, an octadecyl group and the like. These can be used alone or in combination.
  • the blending ratio of the alkyl (meth) acrylate (a1) is preferably 50% by mass or more, preferably 50 to mass%, based on the total constituent monomers (100% by mass) constituting the (meth) acrylic polymer (A). It is more preferably 100% by mass, further preferably 60 to 100% by mass, and particularly preferably 70 to 90% by mass.
  • the (meth) acrylic polymer (A) is composed of a group consisting of a carboxyl group-containing monomer (a2), a hydroxyl group-containing monomer (a3), and a nitrogen-containing monomer (a4) for the purpose of improving adhesiveness and heat resistance. It is preferable to include one or more selected monomers as a monomer component.
  • the carboxyl group-containing monomer (a2) one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a carboxyl group can be used without particular limitation. ..
  • the carboxyl group-containing monomer include (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid and the like. Can be used alone or in combination. These anhydrides can be used for itaconic acid and maleic acid. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are preferable, and acrylic acid is particularly preferable.
  • the blending ratio of the carboxyl group-containing monomer (a2) is preferably 10% by mass or less, preferably 0.05% by mass or less, based on the total constituent monomers (100% by mass) constituting the (meth) acrylic polymer (A). It is more preferably to 10% by mass, further preferably 0.1 to 10% by mass, and particularly preferably 0.5 to 5% by mass.
  • hydroxyl group-containing monomer (a3) a monomer having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a hydroxyl group can be used without particular limitation. ..
  • examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (6-hydroxyhexyl).
  • Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as meta) acrylates, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylates, 10-hydroxydecyl (meth) acrylates, 12-hydroxylauryl (meth) acrylates; Examples thereof include hydroxyalkylcycloalkalane (meth) acrylates such as meta) acrylates.
  • Other examples include hydroxyethyl (meth) acrylamide, allyl alcohol, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether and the like. These can be used alone or in combination. Among these, hydroxyalkyl (meth) acrylate is preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is more preferable.
  • the blending ratio of the hydroxyl group-containing monomer (a3) is preferably 20% by mass or less, preferably 0.05% by mass, based on the total constituent monomers (100% by mass) constituting the (meth) acrylic polymer (A). It is more preferably to 20% by mass, further preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 1 to 15% by mass.
  • the nitrogen-containing monomer (a4) one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a functional group having a nitrogen atom is used without particular limitation. be able to.
  • the blending ratio of the nitrogen-containing monomer (a4) is preferably 20% by mass or less, preferably 0.05 to mass%, based on the total constituent monomers (100% by mass) constituting the (meth) acrylic polymer (A). It is more preferably 20% by mass, further preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 1 to 15% by mass.
  • the (meth) acrylic polymer (A) is further added.
  • the (meth) acrylic polymer (A) is further added.
  • one or more kinds of copolymerizable monomers having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group by copolymerization for the purpose of improving adhesiveness and heat resistance. be able to.
  • Such copolymerizable monomers include caprolactone adducts of acrylic acid; containing sulfonic acid groups such as styrene sulfonic acid, allyl sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, and (meth) acryloyloxynaphthalene sulfonic acid.
  • Monomer examples thereof include a sulfonic acid group-containing monomer such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate.
  • the ratio of the copolymerization monomer other than the carboxyl group-containing monomer (a2), the hydroxyl group-containing monomer (a3), and the nitrogen-containing monomer (a4) is not particularly limited, but all of the (meth) acrylic polymer (A) is composed. It is preferably 10% by mass or less, more preferably 0.1 to 10% by mass, still more preferably 0.1 to 5% by mass in the monomer.
  • the (meth) acrylic polymer (A) can be obtained by polymerizing the above-mentioned monomers in an appropriate combination according to the purpose and desired properties.
  • the obtained (meth) acrylic polymer (A) may be any of a random copolymer, a block copolymer, and a graft copolymer.
  • the (meth) acrylic polymer (A) can be synthesized by any appropriate method. For example, it can be synthesized by referring to "Adhesion / Adhesive Chemistry and Applications" by Katsuhiko Nakamae published by Dainippon Tosho Co., Ltd. ..
  • any appropriate method can be adopted as the polymerization method of the (meth) acrylic polymer (A).
  • Specific examples include solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations.
  • the polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier, etc. used for radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used.
  • the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer can be controlled by the amount of the polymerization initiator and the chain transfer agent used, and the reaction conditions, and the amount of the (meth) acrylic polymer used is appropriately adjusted according to these types.
  • solution polymerization and the like for example, ethyl acetate, toluene and the like are used as the polymerization solvent.
  • the reaction is carried out under an inert gas stream such as nitrogen, a polymerization initiator is added, and usually at about 50 to 70 ° C. under reaction conditions of about 5 to 30 hours.
  • thermal polymerization initiator used for solution polymerization and the like examples include azo-based initiators such as 2,2'-azobisisobutyronitrile; peroxide-based initiators, peroxides and reducing agents. Examples thereof include a combined redox-based initiator, but the present invention is not limited thereto.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but with respect to 100 parts by mass of all the monomer components constituting the (meth) acrylic polymer (A). It is preferably about 1 part by mass or less, more preferably about 0.005 to 1 part by mass, and further preferably about 0.02 to 0.5 part by mass.
  • the amount of the polymerization initiator used is the total amount of the monomer components. It is preferably about 0.2 parts by mass or less, and more preferably about 0.06 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass.
  • the monomer component can be produced by polymerizing the monomer component by irradiating it with radiation such as an electron beam or UV.
  • radiation polymerization is carried out by an electron beam, it is not particularly necessary to include a photopolymerization initiator in the monomer component, but when the radiation polymerization is carried out by UV polymerization, the polymerization time is particularly short.
  • a photopolymerization initiator can be contained in the monomer component because of the advantages of the above.
  • the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • the weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer (A) used in the present invention is preferably 400,000 to 2.5 million, more preferably 600,000 to 2.2 million.
  • the weight average molecular weight is a value calculated by gel permeation chromatography (GPC) and converted to polystyrene. It is difficult to measure the molecular weight of the (meth) acrylic polymer obtained by radiation polymerization.
  • the base pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention may contain a cross-linking agent.
  • the cross-linking agent include an organic cross-linking agent and a polyfunctional metal chelate.
  • the organic cross-linking agent include isocyanate-based cross-linking agents, peroxide-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, and imine-based cross-linking agents.
  • a polyfunctional metal chelate is one in which a polyvalent metal is covalently or coordinated to an organic compound.
  • the polyvalent metal include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn and Ti. Can be mentioned.
  • Examples of the organic compound include an alkyl ester, an alcohol compound, a carboxylic acid compound, an ether compound, and a ketone compound.
  • Examples of the atom in the organic compound having a covalent bond or a coordination bond include an oxygen atom.
  • an isocyanate-based cross-linking agent is preferable as the cross-linking agent.
  • the isocyanate-based cross-linking agent typically refers to a compound having two or more isocyanate groups in one molecule.
  • isocyanate monomers such as tolylene diisocyanate, chlorphenylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, and isocyanate compounds obtained by adding these isocyanate monomers to trimethyl propane and the like.
  • Examples thereof include isocyanurates, bullet-type compounds, and urethane prepolymer-type isocyanates which have been subjected to an addition reaction with polyether polyols, polyester polyols, acrylic polyols, polybutadiene polyols, polyisoprene polyols, and the like.
  • Particularly preferred is a polyisocyanate compound, which is one selected from the group consisting of hexamethylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate, or a polyisocyanate compound derived thereto.
  • one selected from the group consisting of hexamethylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate, or a polyisocyanate compound derived from the same includes hexamethylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and polyol modification.
  • Hexamethylene diisocyanate, polyol-modified hydrogenated xylylene diisocyanate, trimmer-type hydrogenated xylylene diisocyanate, polyol-modified isophorone diisocyanate and the like are included.
  • any suitable compound capable of generating radically active species by heating or light irradiation to promote cross-linking of the base polymer can be adopted.
  • a peroxide having a one-minute half-life temperature of 80 ° C. to 160 ° C. is preferable, and a peroxide having a half-life temperature of 90 ° C. to 140 ° C. is more preferable.
  • Specific examples of peroxides include di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate (1 minute half-life temperature: 90.6 ° C.) and di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (1 minute half-life).
  • the half-life of peroxide is an index showing the decomposition rate of peroxide, and means the time until the residual amount of peroxide is halved. Therefore, the 1-minute half-life temperature of peroxide means the temperature at which the residual amount of peroxide is halved in 1 minute.
  • the decomposition temperature for obtaining a half-life at an arbitrary time and the half-life time at an arbitrary temperature are described in the manufacturer's catalog, etc. For example, "Organic Peroxide Catalog No. 9" of Nippon Oil & Fats Co., Ltd. Edition ( May 2003) ”etc.
  • the amount of the cross-linking agent used is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.03 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer (A). If the amount of the cross-linking agent used is less than 0.01 parts by mass, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive tends to be insufficient, and foaming may occur during heating. If the amount of the cross-linking agent used exceeds 20 parts by mass, the moisture resistance is not sufficient and peeling or the like may easily occur.
  • the base pressure-sensitive adhesive composition may contain any suitable additive.
  • the additive include light diffusing fine particles, an antistatic agent, an antioxidant, and a coupling agent.
  • the type, amount and combination of additives can be appropriately set according to the purpose.
  • the content of the base pressure-sensitive adhesive composition in the first pressure-sensitive adhesive layer used in the present invention is preferably 50 to 99.7% by mass, more preferably 52 to 97% by mass, and 70 to 97% by mass. It is more preferable to have.
  • the total light transmittance of the entire first pressure-sensitive adhesive layer 13 is not particularly limited, but the value at an arbitrary visible light wavelength measured according to JIS K7361 is preferably 10% or more, and more preferably 30% or more. It is preferably 50% or more, and more preferably 50% or more. The higher the total light transmittance of the first pressure-sensitive adhesive layer 13, the more preferable.
  • the elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer 13 of the present embodiment is preferably 0.3 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more, and further preferably 5 MPa or more from the viewpoint of suppressing pressure deformation. preferable.
  • the elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer 13 is such that a rectangular sample having a width of 10 mm and a length of 150 mm is prepared, and a tensile tester (manufactured by Minebea, universal tensile compression tester, device name “tensile compression test”). It can be calculated from the elastic deformation region of the obtained stress-displacement curve and the inclination in the range of less than 5% of the displacement by measuring with a machine, TCM-1kNB ”) under the condition of a tensile speed of 50 mm / min.
  • the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer 13 is, for example, preferably 5 ⁇ m or more, more preferably more preferably 15 ⁇ m or more, and from the viewpoint of suppressing pressure deformation, for example, preferably 50 ⁇ m or less. More preferably, it is more preferably 25 ⁇ m or less.
  • the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer 13 can be measured using, for example, a film thickness meter (dial gauge).
  • the transparent pressure-sensitive adhesive constituting the first pressure-sensitive adhesive layer 13 may be colored. In this case, since the metal layer 12 is visually recognized through the colored first pressure-sensitive adhesive layer 13, a colored metallic luster can be exhibited.
  • the method of coloring the transparent adhesive is not particularly limited, but it can be colored by adding a small amount of a dye, for example.
  • the pressing relaxation layer 14 is laminated on the surface of the first base material 10 opposite to the metal layer 12. By providing the pressing relaxation layer 14, deformation of the interface on the visual side of the metal layer due to pressing is suppressed, and an electromagnetic wave transmitting laminated body having an excellent metal appearance can be obtained.
  • the pressing relaxation layer 14 includes a second base material 16 and a second pressure-sensitive adhesive layer 15.
  • the second pressure-sensitive adhesive layer 15 can be formed from the base pressure-sensitive adhesive composition.
  • the base pressure-sensitive adhesive composition that forms the second pressure-sensitive adhesive layer 15 is not particularly limited, and examples thereof include a base pressure-sensitive adhesive composition that forms the first pressure-sensitive adhesive layer.
  • a base pressure-sensitive adhesive composition that forms the first pressure-sensitive adhesive layer As the base polymer contained in the base pressure-sensitive adhesive composition, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used from the viewpoint of processability and durability.
  • the elastic modulus of the second pressure-sensitive adhesive layer 15 of the present embodiment is preferably 5 MPa or less, more preferably 2 MPa or less, and even more preferably 1 MPa or more, from the viewpoint of alleviating pressure deformation.
  • the elastic modulus of the second pressure-sensitive adhesive layer 15 is such that a rectangular sample having a width of 10 mm and a length of 150 mm is prepared, and a tensile tester (manufactured by Minebea, universal tensile compression tester, device name “tensile compression test”). It can be calculated from the elastic deformation region of the obtained stress-displacement curve and the inclination in the range of less than 5% of the displacement by measuring with a machine, TCM-1kNB ”) under the condition of a tensile speed of 50 mm / min.
  • the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer 15 is, for example, 5 ⁇ m or more, preferably 25 ⁇ m or more, from the viewpoint of suppressing pressure deformation.
  • the thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer 15 can be measured using, for example, a film thickness meter (dial gauge).
  • the material of the second base material 16 is preferably a resin.
  • the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and (meth) acrylic resins (acrylic resin and / or methacrylic resin) such as polymethacrylate, such as polyethylene and polypropylene.
  • Olefin resins such as cycloolefin polymers, for example, polycarbonate resins, polyether sulfone resins, polyarylate resins, melamine resins, polyamide resins, polyimide resins, cellulose resins, polystyrene resins, norbornene resins and the like. These resins can be used alone or in combination of two or more.
  • the resin is preferably a polyester resin, and more preferably PET.
  • These resins generally have light transmittance, but for example, the light-shielding property can be adjusted by adding a dye or dye to the resin.
  • the second base material is preferably a light-shielding film, and the visible light transmittance of the second base material 16 is preferably less than 50%.
  • the elastic modulus of the second base material 16 is such that a rectangular sample having a width of 10 mm and a length of 150 mm is prepared, and a tensile tester (manufactured by Minebea, universal tensile compression tester, device name "tensile compression tester”). , TCM-1kNB ”), and it can be calculated from the elastic deformation region of the obtained stress-displacement curve and the inclination in the range of less than 5% of the displacement.
  • the thickness of the second base material 16 is, for example, 23 ⁇ m or more, preferably 50 ⁇ m or more, from the viewpoint of suppressing pressure deformation, and 250 ⁇ m or less, preferably 150 ⁇ m or less, from the viewpoint of productivity.
  • the thickness of the second base material 16 can be measured using, for example, a film thickness meter (dial gauge).
  • the first pressure-sensitive adhesive layer 13, and the pressing relaxation layer 14 may be provided depending on the intended use, as long as the effects of the present invention are exhibited. It may be provided.
  • Other layers include an optical adjustment layer (color adjustment layer) such as a high-refractive material for adjusting the appearance such as color, and a protective layer (scratch resistance) for improving durability such as moisture resistance and scratch resistance.
  • optical adjustment layer color adjustment layer
  • protective layer sustch resistance
  • sexual layer barrier layer (corrosion prevention layer), easy-adhesion layer, hard coat layer, antireflection layer, light extraction layer, anti-glare layer and the like.
  • a method such as vacuum deposition or sputtering can be used.
  • the indium oxide-containing layer 11 is formed on the first base material 10
  • the indium oxide-containing layer 11 is formed by vacuum vapor deposition, sputtering, ion plating, or the like prior to the formation of the metal layer 12.
  • sputtering is preferable because the thickness can be strictly controlled even in a large area.
  • the indium oxide-containing layer 11 When the indium oxide-containing layer 11 is provided between the first base material 10 and the metal layer 12, the indium oxide-containing layer 11 and the metal layer 12 are brought into direct contact with each other without interposing another layer. Is preferable.
  • the pressure-sensitive adhesive composition is applied onto a support, a solvent or the like is dried and removed, and if necessary, a cross-linking treatment is performed to perform the first pressure-sensitive adhesive layer 13.
  • a method of forming a pressure-sensitive adhesive layer and transferring the first pressure-sensitive adhesive layer onto the optical functional layer may be used, in which the pressure-sensitive adhesive composition is directly applied onto the optical functional layer to obtain the first pressure-sensitive adhesive layer.
  • a pressure-sensitive adhesive layer may be formed.
  • the first pressure-sensitive adhesive layer 13 can be formed, for example, by applying the base pressure-sensitive adhesive composition on the optical functional layer and drying and removing a solvent or the like.
  • the base pressure-sensitive adhesive composition is an active energy ray-curable type
  • a pressure-sensitive adhesive obtained by polymerizing a part of the base pressure-sensitive adhesive composition and dispersing light-diffusing fine particles in the prepolymer.
  • the first pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying the composition onto the optical functional layer and irradiating the first coating layer with active energy rays such as ultraviolet rays. Further, when the above-mentioned transparent conductive layer is provided, the pressure-sensitive adhesive composition can be applied onto the transparent conductive layer to form the first pressure-sensitive adhesive layer.
  • a peeled sheet can be used as the support.
  • a silicone release liner (separator) is preferably used as the release-treated sheet.
  • Various methods are used as the method for applying the pressure-sensitive adhesive composition. Specifically, for example, roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coater, etc. Examples include a method such as an extrusion coating method.
  • the heating and drying temperature is preferably about 30 ° C. to 200 ° C., more preferably 40 ° C. to 180 ° C., and even more preferably 80 ° C. to 160 ° C. By setting the heating temperature in the above range, a first pressure-sensitive adhesive layer having excellent pressure-sensitive adhesive properties can be obtained.
  • As the drying time an appropriate time can be adopted as appropriate.
  • the drying time is preferably about 5 seconds to 20 minutes, more preferably 30 seconds to 10 minutes, and even more preferably 1 minute to 8 minutes.
  • the first pressure-sensitive adhesive layer can be formed by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays.
  • active energy rays such as ultraviolet rays.
  • a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a chemical light lamp, or the like can be used for ultraviolet irradiation.
  • the second pressure-sensitive adhesive layer 15 is formed on the peeled separator.
  • the second pressure-sensitive adhesive layer can be formed by transferring to the surface of the first base material 10 opposite to the first pressure-sensitive adhesive layer 13. Further, in the second pressure-sensitive adhesive layer 15, the pressure-sensitive adhesive composition for the pressure-sensitive adhesive layer is directly applied to the surface of the first base material 10 opposite to the first pressure-sensitive adhesive layer 13, and the solvent is dried by heating or the like.
  • the second pressure-sensitive adhesive layer 15 can also be formed on the first base material 10 by removing the above.
  • the second pressure-sensitive adhesive layer 15 can be formed by appropriately transferring the second pressure-sensitive adhesive layer formed on the peeled separator to the surface of the first base material 10 opposite to the metal layer 12. .. Further, in the second pressure-sensitive adhesive layer 15, the pressure-sensitive adhesive composition for the second pressure-sensitive adhesive layer is directly applied to the surface of the first base material 10 opposite to the metal layer 12, and the solvent is applied by heating and drying. By removing it, it can also be formed on the first base material 10.
  • the above description can be used as it is.
  • the article according to the present embodiment is a laminated body or an electromagnetic wave transmitting laminated body 1 according to the present embodiment bonded to a transparent molded body.
  • the article according to the present embodiment may be a metallic luster article having a metallic luster.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a metallic luster article according to an embodiment of the present invention.
  • the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 having the structure shown in FIG. 2 is attached to a transparent member 17 which is a transparent molded body.
  • the electromagnetic wave transmitting laminate 1 is the first adhesive with respect to the surface 17b of the transparent member 17 on the side opposite to the visible side (hereinafter, also referred to as the outer side) surface 17a (hereinafter, also referred to as the inner side). It is attached via the layer 13, and the metal layer 12 is visually recognized through the transparent member 17 and the first pressure-sensitive adhesive layer 13. That is, the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 of the present embodiment can decorate the transparent member 17 from the inside. Since the metallic luster article 2 of the present embodiment is obtained by attaching the electromagnetic wave transmitting laminate 1 to the inside of the transparent member 17, it is not easily scratched. Further, the transparent member 17 can be decorated while utilizing the texture of the transparent member 17 as it is.
  • the transparent member a member made of glass or plastic can be used from the viewpoint of transparency and electromagnetic wave transmission.
  • the thickness of the transparent member is appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 100 ⁇ m to 2000 ⁇ m.
  • the method of attaching the electromagnetic wave transmitting laminate 1 to the transparent member 17 is not particularly limited, but it can be attached by, for example, vacuum forming.
  • Vacuum forming means that the electromagnetic wave transmitting laminate 1 is stretched while being heated and softened, the space on the transparent member side of the electromagnetic wave transmitting laminate 1 is depressurized, and the space on the opposite side is pressurized as necessary to transmit electromagnetic waves.
  • This is a method in which the sex laminate 1 is pasted and laminated while being formed along the three-dimensional three-dimensional shape of the surface of the transparent member.
  • the electromagnetic wave transmitting laminated body 1 the above description can be used as it is.
  • the article provided with the electromagnetic wave transmitting laminate of the present embodiment has electromagnetic wave transmission property, it is preferable to use it for a device (communication device) for transmitting and receiving electromagnetic waves, an article, and its parts.
  • a device for transmitting and receiving electromagnetic waves
  • applications for household goods such as electronic device housings, vehicle structural parts, vehicle mounting supplies, home appliance housings, structural parts, mechanical parts, various automobile parts, electronic device parts, furniture, kitchen supplies, etc. , Medical equipment, building material parts, other structural parts, exterior parts, etc.
  • home appliances such as refrigerators, washing machines, vacuum cleaners, microwave ovens, air conditioners, lighting equipment, electric water heaters, TVs, watches, ventilation fans, projectors, speakers, personal computers, mobile phones , Smartphones, digital cameras, tablet PCs, portable music players, portable game machines, chargers, electronic information devices such as batteries, and the like.
  • electronic information devices such as batteries, and the like.
  • the elastic modulus of each layer forming the electromagnetic wave transmitting laminate at 25 ° C. was measured by the following method.
  • a rectangular sample with a width of 10 mm and a length of 150 mm was prepared, and a tensile speed of 50 mm / min was prepared using a tensile tester (Minebear, universal tensile compression tester, device name "tensile compression tester, TCM-1kNB").
  • the elastic modulus was calculated from the elastic deformation region of the obtained stress-displacement curve and the inclination in the range of less than 5% of the displacement.
  • the total cross-sectional area of the metal layer in the viewing angle region extracted at each of the five measurement points divided by the width of the viewing angle region is defined as the thickness of the metal layer in each viewing angle region.
  • the average value of the thickness of the metal layer in each viewing angle region was taken as the thickness (nm) of the metal layer.
  • Sheet resistance Using a non-contact resistance measuring device NC-80MAP manufactured by Napson Corporation, the sheet resistance as a laminated body was measured by an eddy current measuring method in accordance with JIS-Z2316.
  • the sheet resistance is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more, more preferably 200 ⁇ / ⁇ or more, and further preferably 600 ⁇ / ⁇ or more.
  • Example 1 ⁇ Manufacturing of first base material with metal layer>
  • a PET film thickness 50 ⁇ m
  • an ultraviolet curable resin having a thickness of 2 ⁇ m was formed on both sides was used.
  • an ITO target was attached to a DC magnetron sputtering apparatus, and sputtering was performed while introducing Ar gas to directly form an ITO layer having a thickness of 5 nm along the surface of the substrate film.
  • the temperature of the substrate film when forming the ITO layer was set to 130 ° C.
  • An aluminum (Al) target was attached to an AC sputtering apparatus (AC: 40 kHz), and by sputtering while introducing Ar gas, an Al layer having a thickness of 35 nm was formed on the ITO layer to obtain a laminate 1. ..
  • the obtained Al layer was a discontinuous layer.
  • the temperature of the substrate film when forming the Al layer was set to 130 ° C.
  • Acrylic adhesive (SK Dyne 2563, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is applied to the peeled surface of a polyester film (trade name: Diafoil MRF, manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd.) with a thickness of 38 ⁇ m, which is peeled off on one side with silicone. , The coating layer was formed by coating so that the final thickness was 5 ⁇ m. Next, the coating layer was dried at 85 ° C. for 5 minutes to form an acrylic pressure-sensitive adhesive layer, and a first pressure-sensitive adhesive layer with a separator was prepared. The polyester film coated on the first pressure-sensitive adhesive layer functions as a separator.
  • a monomer mixture containing 100 parts by mass of butyl acrylate, 0.01 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, and 5 parts of acrylic acid is placed in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirrer. I prepared it. Further, 0.1 part by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile was charged with 100 parts by mass of ethyl acetate as a polymerization initiator with respect to 100 parts by mass of the monomer mixture, and nitrogen gas was introduced while gently stirring.
  • the pressure-sensitive adhesive composition obtained above is applied to the surface of the laminate 1 obtained above on the side opposite to the metal layer of the first base material by a hand roller so that the final thickness becomes 25 ⁇ m.
  • a second pressure-sensitive adhesive layer and a second base material having a thickness of 25 ⁇ m was attached thereto to form a pressure-relaxing layer.
  • the first pressure-sensitive adhesive layer with a separator obtained above was transferred to the surface on the metal layer side, and the separator was peeled off to obtain an electromagnetic wave-transmitting laminate.
  • the first pressure-sensitive adhesive layer side of the electromagnetic wave-transmitting laminate obtained above was attached to a transparent member to obtain a metallic luster article.
  • glass having a thickness of 1.2 mm was used as the transparent member.
  • Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 to 8 The same as in Example 1 except that the thicknesses of the first pressure-sensitive adhesive layer, the first base material, the second pressure-sensitive adhesive layer, and the second base material in Example 1 were changed as shown in Table 1. Then, an electromagnetic wave-transmitting laminate was obtained to prepare a metallic luster article.
  • the laminated body and the electromagnetic wave transmitting laminated body according to the present invention have an excellent appearance, and the laminated body according to the present invention or the metallic glossy article provided with the electromagnetic wave transmitting laminated body is used as a component of an apparatus for transmitting and receiving electromagnetic waves.
  • housings for electronic devices such as mobile phones, smartphones, and personal computers, structural parts for vehicles, vehicle-mounted products, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, various automobile parts, electronic device parts, and furniture.
  • Kitchen appliances and other household appliances, medical equipment, building material parts, other structural parts and exterior parts, etc. which can be used for various purposes that require both design and electromagnetic wave transmission.
  • Electromagnetic wave transmissive laminate Metallic luster article 10
  • First base material 11
  • Indium oxide-containing layer 12
  • Metal layer 12a Part 12b Gap 13
  • First pressure-sensitive adhesive layer 14
  • Pressurization relaxation layer 15
  • Second pressure-sensitive adhesive layer 16
  • Second Base material 17 Transparent member

Abstract

本発明は、第１の基材と、前記第１の基材上に形成された光学機能層と、第１の粘着剤層とをこの順に有し、前記第１の基材における前記光学機能層とは反対側の面に、押圧緩和層を備え、前記押圧緩和層が、第２の基材と第２の粘着剤層を含み、押圧変形パラメータが４×１０８以上である、積層体及び電磁波透過性積層体、並びに前記積層体又は電磁波透過性積層体を備えた物品に関する。

Description

積層体、電磁波透過性積層体、及び物品
　本発明は、積層体、電磁波透過性積層体、及び物品に関する。
　従来、電磁波透過性及び金属光沢を有する部材が、その金属光沢に由来する外観の高級感と、電磁波透過性とを兼ね備えることから、電磁波を送受信する装置に好適に用いられている。
　例えば、携帯電話、スマートフォン、パソコン等の電子機器における筐体において、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が求められている。
　このような電子機器においては、金属光沢調の装飾で高級感を演出することが好ましい。しかしながら、筐体部分に金属を使用した場合には、電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、電磁波の送受信を妨げることなく、電子機器の意匠性を損なわせないために、光輝性と電磁波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢物品が必要とされている。
　この種の金属光沢物品は、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。
　金属光沢部材に関して、例えば特許文献１には、透明基板の裏面側に、視認側から順次、粘着層、金属蒸着フィルムを積層した積層体が記載されている。
日本国特許第３７９０２６５号公報
　しかし、特許文献１に記載の部材では、基体の厚みを厚くするため、生産性やコスト面での課題が生じていた。
　本願発明は上記に鑑みてなされたものであり、表面に光を反射させたときの反射光線の歪みを抑制し、優れた外観（例えば金属外観）を有する積層体及び電磁波透過性積層体を提供することにある。
　本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、押圧緩和層を設けることにより、押圧による光学機能層の視認側の界面の変形を抑制し、優れた金属外観を有する積層体及び電磁波透過性積層体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
　本発明は、下記の構成を有する。
〔１〕
　第１の基材と、前記第１の基材上に形成された光学機能層と、第１の粘着剤層とをこの順に有し、前記第１の基材における前記光学機能層とは反対側の面に、押圧緩和層を備え、前記押圧緩和層が、第２の基材と第２の粘着剤層を含み、押圧変形パラメータが４×１０８以上である、積層体。
〔２〕
　前記光学機能層が金属層である〔１〕に記載の積層体。
〔３〕
　前記第１の基材と前記金属層の間に、酸化インジウム含有層をさらに備える〔２〕に記載の積層体。
〔４〕
　前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられている〔３〕に記載の積層体。
〔５〕
　前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含む〔３〕又は〔４〕に記載の積層体。
〔６〕
　前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかを含む〔２〕～〔５〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔７〕
　前記第１の基材が遮光性を有する〔２〕～〔６〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔８〕
　〔２〕～〔７〕のいずれか１項に記載の積層体が電磁波透過性積層体であり、
　前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む電磁波透過性積層体。
〔９〕
　前記複数の部分は島状に形成されている〔８〕に記載の電磁波透過性積層体。
〔１０〕
　シート抵抗が、１００Ω／□以上である〔８〕又は〔９〕に記載の電磁波透過性積層体。
〔１１〕
　〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の積層体又は〔８〕～〔１０〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体を、透明な成形体に貼り合せた物品。
　本発明によれば、優れた金属外観を有する積層体及び電磁波透過性積層体を提供することができる。
図１は、本発明の一実施形態による電磁波透過性積層体の概略断面図である。 図２は、本発明の一実施形態による金属光沢物品の概略断面図である。 図３は、本発明の一実施形態による電磁波透過性積層体の金属層表面の電子顕微鏡写真である。 図４は、本発明の一実施形態による電磁波透過性積層体の金属層の膜厚の測定方法を説明するための図である。 図５は、本発明の一実施形態における金属層の断面の透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す図である。
　本発明の実施形態にかかる積層体は、第１の基材と、前記第１の基材上に形成された光学機能層と、第１の粘着剤層とをこの順に有し、前記第１の基材における前記光学機能層とは反対側の面に、押圧緩和層を備え、前記押圧緩和層が、第２の基材と第２の粘着剤層を含み、押圧変形パラメータが４×１０８以上である。
　以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。
　なお、以下の説明において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
＜１．基本構成＞
　発明の一実施形態による積層体は、第１の基材と、前記第１の基材上に形成された光学機能層と第１の粘着剤層とをこの順に有し、前記第１の基材における前記光学機能層とは反対側の面に、押圧緩和層を備え、前記押圧緩和層が、第２の基材と第２の粘着剤層を含み、押圧変形パラメータが４×１０８以上である。
　光学機能層は金属層であることが好ましく、金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む。
　以下、光学機能層が金属層であり、積層体が電磁波透過性積層体である場合について説明する場合があるが、本発明は下記の記載によって限定されるものではない。
　図１に、本発明の一実施形態による電磁波透過性積層体１の概略断面図を示し、また、図３に、本発明の一実施形態による電磁波透過性積層体１の金属層表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す。
　図１における電磁波透過性積層体１は、第１の基材１０と、第１の基材１０の上に形成された金属層１２と、金属層１２の上に形成された第１の粘着剤層１３とをこの順に有し、第１の基材１０の金属層１２とは反対側の面に、押圧緩和層１４を備える。
　押圧緩和層１４は、第２の基材１６と第２の粘着剤層１５を含む。
　また、電磁波透過性積層体１は、第１の基材１０と金属層１２の間に酸化インジウム含有層１１を設けてもよい。
　金属層１２は第１の基材１０の上に形成される。金属層１２は複数の部分１２ａを含む。金属層１２におけるこれらの部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、電磁波透過性積層体のシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体であってもよい。
　尚、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。すなわち、不連続の状態で形成された金属層１２によれば、十分な光輝性が得られやすく、電磁波透過性を確保することもできる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状構造、クラック構造等が含まれる。ここで「島状構造」とは、図３に示されているように、金属粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。
　クラック構造とは、金属薄膜がクラックにより分断された構造である。
　クラック構造の金属層１２は、例えば第１の基材としての基体フィルム上に金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、基体フィルムと金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属層１２を形成することができる。
　上述のとおり金属層１２が不連続となる態様は特に限定されないが、生産性の観点からは島状構造とすることが好ましい。
　電磁波透過性積層体１の電磁波透過性は、例えば電波透過減衰量により評価することができる。
　マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、１０［－ｄＢ］以下であることが好ましく、５［－ｄＢ］以下であるのがより好ましく、２［－ｄＢ］以下であることが更に好ましい。１０［－ｄＢ］以上であると、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。
　電磁波透過性積層体１のシート抵抗も電磁波透過性と相関を有する。
　電磁波透過性積層体１のシート抵抗は１００Ω／□以上であることが好ましく、この場合、マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。
　電磁波透過性積層体１のシート抵抗は２００Ω／□以上であることが更に好ましく、６００Ω／□以上であることが特に好ましい。
　また、特に好ましくは、１０００Ω／□以上である。
　電磁波透過性積層体１のシート抵抗は、ＪＩＳ－Ｚ２３１６－１：２０１４に従って渦電流測定法により測定することができる。
　電磁波透過性積層体１の電波透過減衰量及びシート抵抗は、金属層１２の材質や厚さ等により影響を受ける。
　また、電磁波透過性積層体１が酸化インジウム含有層１１を備える場合には酸化インジウム含有層１１の材質や厚さ等によっても影響を受ける。
　電磁波透過性積層体１は、押圧変形パラメータが４×１０８以上である。押圧変形パラメータは、押圧変形抑制の観点から４×１０８以上であり、５×１０８以上であることが好ましく、５．５×１０８以上であることがより好ましい。
　ここで、押圧変形パラメータとは、電磁波透過性積層体を透明基体に粘着剤を介して貼り合せ、積層体に荷重がかかった際の透明基体側からの変形の視認されやすさを表し、電磁波透過性積層体の押圧変形耐性を示す指標の一つとなる。
　押圧変形パラメータは下記式（１）により算出することができる。
　（ＥＯ１／ＴＯ１）×（ＥＳ１×√ＴＳ１）×（ＴＯ２／ＥＯ２）×ＥＳ２　　　　式（１）
　ＥＯ１：第１の粘着剤層の弾性率（ＭＰａ）
　ＴＯ１：第１の粘着剤層の厚み（μｍ）
　ＥＳ１：第１の基材の弾性率（ＭＰａ）
　ＴＳ１：第１の基材の厚み（μｍ）
　ＥＯ２：第２の粘着剤層の弾性率（ＭＰａ）
　ＴＯ２：第２の粘着剤層の厚み（μｍ）
　ＥＳ２：第２の基材の弾性率（ＭＰａ）
＜２．第１の基材＞
　本実施形態にかかる電磁波透過性積層体において、第１の基材１０としては、電磁波透過性の観点から、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
　第１の基材１０は、基体フィルム、樹脂成型物基体、ガラス基体、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってよく、基体フィルムであることが好ましい。
　より具体的には、基体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。
　これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、酸化インジウム含有層１１や金属層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。
　基体フィルムは、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。
　基体フィルムは、酸化インジウム含有層１１や金属層１２との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
　金属層１２は基体フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基体フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。
　基体フィルムは、必要に応じて平滑性、或いは防眩性ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、金属薄膜の擦傷性を向上させる事ができる。平滑性ハードコート層が設けられることにより、金属光沢感が増し、逆に防眩性ハードコート層によりギラツキを防止する事が出来る。ハードコート層は、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布する事により形成できる。
　硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、およびエポキシ系樹脂が好ましい。
　第１の基材は、さらに遮光性を有していてもよい。
　遮光性の付与方法については限定されないが、例えば、基体フィルムに色素や顔料、染料を添加すること、色素や顔料、染料を基体フィルムに印刷をすることで遮光性を調整することができる。
　ここで、第１の基材の弾性率は、矩形状の試料を作製し、引張り試験機（ミネベア社製、万能引張圧縮試験機、装置名「引張圧縮試験機、ＴＣＭ－１ｋＮＢ」）を用いて引張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定し、得られた応力－変位曲線の弾性変形領域、変位５％未満の範囲の傾きより算出することができる。
　第１の基材の厚みは、押圧変形抑制の観点から例えば、２３μｍ以上、好ましくは、５０μｍ以上であり、また、生産性の観点から例えば、２５０μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。第１の基材の厚みは、例えば、膜厚計（ダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
　金属層１２は、第１の基材上に形成することができ、第１の基材の表面の一部に形成してもよく、第１の基材の表面の全てに形成してもよい。
＜３．酸化インジウム含有層＞
　また、一実施形態に係る電磁波透過性積層体１においては、図１に示されるように、第１の基材１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに設けてもよい。酸化インジウム含有層１１は、第１の基材１０の面に直接設けられていてもよいし、第１の基材１０の面に設けた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１は、金属光沢を付与すべき第１の基材１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けるのが好ましい。連続状態で設けることにより、酸化インジウム含有層１１、ひいては、金属層１２や電磁波透過性積層体１の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
　このように、第１の基材１０と金属層１２の間に、酸化インジウム含有層１１をさらに設けること、すなわち、第１の基材１０の上に酸化インジウム含有層１１を形成し、その上に金属層１２を形成することによれば、金属層１２を不連続の状態で形成しやすくなるため好ましい。そのメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、金属の蒸着やスパッタによるスパッタ粒子が第１の基材上で薄膜を形成する際には、第１の基材上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼし、第１の基材の温度が高く、第１の基材に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすいと考えられる。そして、第１の基材上に酸化インジウム含有層を設けることにより、その表面上の金属粒子の表面拡散性が促進されて、金属層を不連続の状態で成長させやすくなると考えられる。
　酸化インジウム含有層１１として、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの酸化インジウム含有層１１を用いることにより、第１の基材の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、酸化インジウム含有層の上に積層される金属層を、例えば、島状の不連続構造としやすくなるため、好ましい。更に、後述するように、この場合には、金属層に、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム等の様々な金属を含めやすくなる。
　ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の質量比率である含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は特に限定されるものではないが、例えば、２．５ｗｔ％～３０ｗｔ％、より好ましくは、３ｗｔ％～１０ｗｔ％である。また、ＩＺＯに含まれる酸化亜鉛（ＺｎＯ）の質量比率である含有率（含有率＝（ＺｎＯ／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ））×１００）は、例えば、２ｗｔ％～２０ｗｔ％である。
　酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２が不連続状態としやすくするためには、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
＜４．光学機能層＞
　光学機能層は第１の基材１０の上に形成される。光学機能層は、光学的な特徴を有する層であり、金属光沢を有する層であることが好ましい。光学機能層を形成する材料に特に限定はなく、金属及び樹脂を含んでいてもよい。光学機能層は金属層であってもよい。
　光学機能層が金属層である場合について説明する。
　金属層１２は第１の基材上に形成され、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含むことが好ましい。
　金属層１２が第１の基材上で不連続状態である場合、十分な光輝性が得られるとともに、電波透過減衰量が小さくなり、従って、電磁波透過性を確保することができる。
　金属層１２が第１の基材上で不連続状態となる場合のメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層１２の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属層１２が付与される第１の基材上での表面拡散と関連性があり、第１の基材の温度が高く、第１の基材に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ））以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。
　ここで、複数の部分１２ａの平均粒径とは、複数の部分１２ａの円相当径の平均値を意味する。部分１２ａの円相当径とは、部分１２ａの面積に相当する真円の直径のことである。複数の部分１２ａの平均粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、第１の基材上に金属層が形成された積層物のＳＥＭ画像を得、求めた各部分の面積（Ｖ）から各部分の粒径ＲをＲ＝２×（Ｖ／π）０．５より算出し、その平均値を複数の部分の平均粒径として求めることができる。
　金属層１２の部分１２ａの円相当径は特に限定されないが、通常１０～１０００ｎｍ程度である。また、各部分１２ａ同士の距離は特に限定されないが、通常は１０～１０００ｎｍ程度である。
　金属層が含む互いに不連続の状態にある複数の部分１２ａの平均粒径を上記の範囲とすることにより、高い電磁波透過性を維持したまま、光輝性がより向上できる。
　金属層１２は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。このような理由から、金属層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からＡｌおよびそれらの合金が好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を５０質量％以上とすることが好ましい。
　金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常２０ｎｍ以上が好ましく、一方、シート抵抗や電磁波透過性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、２０ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、３０ｎｍ～７０ｎｍがより好ましい。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である樹脂成形品の見栄えも良い。
　また、同様の理由から、金属層の厚さと酸化インジウム含有層の厚さとの比（金属層の厚さ／酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．１～１００の範囲が好ましく、０．３～３５の範囲がより好ましい。
　金属層のシート抵抗は、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、１ＧＨｚの波長において、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。
　酸化インジウム含有層を更に設ける場合、金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、１ＧＨｚの波長において、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。このシート抵抗の値は、金属層の材質や厚さは勿論のこと、下地層である酸化インジウム含有層の材質や厚さからも大きな影響を受ける。よって、酸化インジウム含有層を設ける場合は、酸化インジウム含有層との関係も考慮したうえで設定する必要がある。
＜５．第１の粘着剤層＞
　第１の粘着剤層は、ベース粘着剤組成物から形成することができる。
（１－１）ベース粘着剤組成物
　ベース粘着剤組成物は、ベースポリマーとして（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を含むことが好ましい。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、モノマー単位として、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の主骨格を構成するアルキル（メタ）アクリレート（ａ１）を含むことが好ましい。なお、（メタ）アクリレートはアクリレート及び／又はメタクリレートをいう。
　前記アルキル（メタ）アクリレート（ａ１）としては、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数１～１８のアルキル基を有するものを挙げることができる。例えば、前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、イソオクチル基、ノニル基、デシル基、イソデシル基、ドデシル基、イソミリスチル基、ラウリル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等を例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。
　前記アルキル（メタ）アクリレート（ａ１）の配合割合は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を構成する全構成モノマー（１００質量％）に対して、５０質量％以上であることが好ましく、５０～１００質量％であることがより好ましく、６０～１００質量％であることがさらに好ましく、７０～９０質量％であることが特に好ましい。
　前記（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、接着性や耐熱性の改善を目的に、カルボキシル基含有モノマー（ａ２）、ヒドロキシル基含有モノマー（ａ３）、及び窒素含有モノマー（ａ４）からなる群から選択される１種以上のモノマーをモノマー成分として含むことが好ましい。
　カルボキシル基含有モノマー（ａ２）としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつカルボキシル基を有するものを特に制限なく用いることができる。カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イソクロトン酸等が挙げられ、これらは単独で又は組み合わせて使用できる。イタコン酸、マレイン酸はこれらの無水物を用いることができる。これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。
　前記カルボキシル基含有モノマー（ａ２）の配合割合は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を構成する全構成モノマー（１００質量％）に対して、１０質量％以下であることが好ましく、０．０５～１０質量％であることがより好ましく、０．１～１０質量％であることがさらに好ましく、０．５～５質量％が特に好ましい。
　ヒドロキシル基含有モノマー（ａ３）としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつヒドロキシル基を有するものを特に制限なく用いることができる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０－ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２－ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；（４－ヒドロキシメチルシクロへキシル）メチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルシクロアルカン（メタ）アクリレートが挙げられる。その他、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、アリルアルコール、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。これらの中でも、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートがより好ましい。
　前記ヒドロキシル基含有モノマー（ａ３）の配合割合は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を構成する全構成モノマー（１００質量％）に対して、２０質量％以下であることが好ましく、０．０５～２０質量％であることがより好ましく、０．１～１５質量％であることがさらに好ましく、１～１５質量％が特に好ましい。
　窒素含有モノマー（ａ４）としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつ窒素原子を有する官能基を有するものを特に制限なく用いることができる。
　前記窒素含有モノマー（ａ４）の配合割合は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を構成する全構成モノマー（１００質量％）に対して、２０質量％以下であることが好ましく、０．０５～２０質量％であることがより好ましく、０．１～１５質量％であることがさらに好ましく、１～１５質量％が特に好ましい。
　前記（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）には、さらに、前記アルキル（メタ）アクリレート（ａ１）、カルボキシル基含有モノマー（ａ２）、ヒドロキシル基含有モノマー（ａ３）、窒素含有モノマー（ａ４）以外にも、接着性や耐熱性の改善を目的に、（メタ）アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有する、１種類以上の共重合モノマーを共重合により導入することができる。そのような共重合モノマーの具体例としては、例えば、アクリル酸のカプロラクトン付加物；スチレンスルホン酸やアリルスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー；２－ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等の燐酸基含有モノマー等が挙げられる。
　前記カルボキシル基含有モノマー（ａ２）、ヒドロキシル基含有モノマー（ａ３）、窒素含有モノマー（ａ４）以外の共重合モノマーの割合は、特に制限されないが、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を構成する全モノマー中、１０質量％以下であることが好ましく、０．１～１０質量％がより好ましく、０．１～５質量％がさらに好ましい。
　（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、上記のモノマーを目的や所望の特性に応じて適切に組み合わせて重合することにより得られ得る。得られる（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれでもよい。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、任意の適切な方法で合成することができ、例えば、大日本図書（株）発行　中前勝彦著「接着・粘着の化学と応用」を参考に合成できる。
　例えば、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の重合方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体例としては、溶液重合、塊状重合、乳化重合、各種ラジカル重合が挙げられる。
　ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等は特に限定されず適宜選択して使用することができる。なお、（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤、連鎖移動剤の使用量、反応条件により制御可能であり、これらの種類に応じて適宜のその使用量が調整される。
　例えば、溶液重合等においては、重合溶媒として、例えば、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素等の不活性ガス気流下で、重合開始剤を加え、通常、５０～７０℃程度で、５～３０時間程度の反応条件で行われる。
　溶液重合等に用いられる、熱重合開始剤としては、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、等のアゾ系開始剤；過酸化物系開始剤、過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を構成する全モノマー成分１００質量部に対して、１質量部以下程度であることが好ましく、０．００５～１質量部程度であることがより好ましく、０．０２～０．５質量部程度であることがさらに好ましい。
　なお、重合開始剤として、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを用いて（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を製造するには、重合開始剤の使用量は、モノマー成分の全量１００質量部に対して、０．２質量部以下程度であることが好ましく、０．０６～０．２質量部程度とするのがより好ましい。
　また、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、放射線重合により製造する場合には、前記モノマー成分を、電子線、ＵＶ等の放射線を照射することにより重合して製造することができる。前記放射線重合を電子線で行う場合には、前記モノマー成分には光重合開始剤を含有させることは特に必要ではないが、前記放射線重合をＵＶ重合で行う場合には、特に、重合時間を短くすることができる利点等から、モノマー成分に光重合開始剤を含有させることができる。光重合開始剤は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
　本発明で用いる（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の重量平均分子量は、４０万～２５０万であることが好ましく、６０万～２２０万であることがより好ましい。重量平均分子量が４０万より大きくすることで、第１の粘着剤層の耐久性を満足させたり、第１の粘着剤層の凝集力が小さくなって糊残りが生じるのを抑えることができる。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミネーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定し、ポリスチレン換算により算出された値をいう。なお、放射線重合で得られた（メタ）アクリル系ポリマーについては、分子量測定は困難である。
　本発明で用いるベース粘着剤組成物は、架橋剤を含有してもよい。架橋剤としては、例えば、有機系架橋剤、多官能性金属キレートが挙げられる。有機系架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤、イミン系架橋剤が挙げられる。多官能性金属キレートは、多価金属が有機化合物と共有結合又は配位結合しているものである。多価金属としては、例えば、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｙ、Ｃｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｓｎ、Ｔｉが挙げられる。有機化合物としては、例えば、アルキルエステル、アルコール化合物、カルボン酸化合物、エーテル化合物、ケトン化合物が挙げられる。共有結合又は配位結合する有機化合物中の原子としては、例えば酸素原子が挙げられる。これらの中でも、架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤が好ましい。
　イソシアネート系架橋剤は、代表的には、２個以上のイソシアネート基を１分子中に有する化合物をいう。例えば、トリレンジイソシアネート、クロルフェニレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添されたジフェニルメタンジイソシアネート等のイソシアネートモノマー及びこれらイソシアネートモノマーをトリメチロールプロパン等と付加したイソシアネート化合物やイソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、さらにはポリエーテルポリオールやポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール等と付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート等が挙げられる。特に好ましくは、ポリイソシアネート化合物であり、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、及びイソホロンジイソシアネートからなる群より選択される１種又はそれに由来するポリイソシアネート化合物である。ここで、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、及びイソホロンジイソシアネートからなる群より選択される１種又はそれに由来するポリイソシアネート化合物には、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ポリオール変性ヘキサメチレンジイソシアネート、ポリオール変性水添キシリレンジイソシアネート、トリマー型水添キシリレンジイソシアネート、及びポリオール変性イソホロンジイソシアネート等が含まれる。
　過酸化物としては、加熱又は光照射によりラジカル活性種を発生してベースポリマーの架橋を進行させ得る任意の適切な化合物を採用することができる。作業性及び安定性を考慮すると、１分間半減期温度が８０℃～１６０℃である過酸化物が好ましく、９０℃～１４０℃である過酸化物がより好ましい。過酸化物の具体例としては、ジ（２－エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９０．６℃）、ジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．１℃）、ジ－ｓｅｃ－ブチルパーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．４℃）、ｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート（１分間半減期温度：１０３．５℃）、ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート（１分間半減期温度：１０９．１℃）、ｔ－ブチルパーオキシピバレート（１分間半減期温度：１１０．３℃）、ジラウロイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１６．４℃）、ジ－ｎ－オクタノイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１７．４℃）、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート（１分間半減期温度：１２４．３℃）、ジ（４－メチルベンゾイル）パーオキシド（１分間半減期温度：１２８．２℃）、ジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期温度：１３０．０℃）、ｔ－ブチルパーオキシイソブチレート（１分間半減期温度：１３６．１℃）、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン（１分間半減期温度：１４９．２℃）等が挙げられる。なお、過酸化物の半減期とは、過酸化物の分解速度を表す指標であり、過酸化物の残存量が半分になるまでの時間をいう。したがって、過酸化物の１分間半減期温度とは、過酸化物の残存量が１分間で半分になる温度をいう。任意の時間で半減期を得るための分解温度や、任意の温度での半減期時間に関しては、メーカーカタログ等に記載されており、例えば、日本油脂（株）の「有機過酸化物カタログ第９版（２００３年５月）」等に記載されている。
　架橋剤の使用量は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００質量部に対して、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０３～１０質量部がより好ましい。架橋剤の使用量が０．０１質量部未満では、粘着剤の凝集力が不足する傾向があり、加熱時に発泡が生じる場合がある。架橋剤の使用量が２０質量部を超えると、耐湿性が十分ではなく、剥がれ等が生じやすくなる場合がある。
　前記ベース粘着剤組成物は、任意の適切な添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、光拡散性微粒子、帯電防止剤、酸化防止剤、カップリング剤が挙げられる。添加剤の種類、添加量及び組み合わせ等は、目的に応じて適切に設定され得る。
　本発明で用いる第１の粘着剤層中におけるベース粘着剤組成物の含有量は、５０～９９．７質量％であることが好ましく、５２～９７質量％がより好ましく、７０～９７質量％であることがさらに好ましい。
　第１の粘着剤層１３全体の全光線透過率は特に限定はされないが、ＪＩＳ　Ｋ７３６１に従って測定した任意の可視光波長における値で１０％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましい。第１の粘着剤層１３の全光線透過率は、高いほど好ましい。
　本実施形態の第１の粘着剤層１３の弾性率は、押圧変形抑制の観点から０．３ＭＰａ以上であることが好ましく、０．５ＭＰａ以上であることがより好ましく、５ＭＰａ以上であることがさらに好ましい。
　ここで、第１の粘着剤層１３の弾性率は、幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍの矩形状の試料を作製し、引張り試験機（ミネベア社製、万能引張圧縮試験機、装置名「引張圧縮試験機、ＴＣＭ－１ｋＮＢ」）を用いて引張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定し、得られた応力－変位曲線の弾性変形領域、変位５％未満の範囲の傾きより算出することができる。
　第１の粘着剤層１３の厚みは、粘着力の観点から例えば、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは、更に好ましくは１５μｍ以上であり、また、押圧変形抑制の観点から例えば、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは、更に好ましくは２５μｍ以下である。第１の粘着剤層１３の厚みは、例えば、膜厚計（ダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
　また、第１の粘着剤層１３を構成する透明粘着剤は着色されていてもよい。
　この場合、金属層１２が着色された第１の粘着剤層１３を通して視認されることとなるので、着色された金属光沢を発現することができる。
　透明粘着剤を着色する方法は特に限定されないが、例えば色素を微量添加することにより着色することができる。
＜６．押圧緩和層＞
　一実施形態に係る電磁波透過性積層体１においては、図１に示されるように、押圧緩和層１４は、第１の基材１０における金属層１２とは反対の面に積層される。
　押圧緩和層１４を設けることで、押圧による金属層の視認側の界面の変形を抑制し、優れた金属外観を有する電磁波透過性積層体が得られる。
　本発明の実施形態にかかる電磁波透過性積層体１において、押圧緩和層１４は、第２の基材１６と第２の粘着剤層１５を含む。
（第２の粘着剤層）
　第２の粘着剤層１５は、ベース粘着剤組成物から形成することができる。
　第２の粘着剤層１５を形成するベース粘着剤組成物は特に限定されず、例えば、上記第１の粘着剤層を形成するベース粘着剤組成物を挙げることができる。ベース粘着剤組成物が含むベースポリマーとしては、加工性及び耐久性などの観点から、例えば、アクリル系粘着剤を用いることが好ましい。
　本実施形態の第２の粘着剤層１５の弾性率は、押圧変形緩和の観点から５ＭＰａ以下であることが好ましく、２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１ＭＰａ以上であることがさらに好ましい。
　ここで、第２の粘着剤層１５の弾性率は、幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍの矩形状の試料を作製し、引張り試験機（ミネベア社製、万能引張圧縮試験機、装置名「引張圧縮試験機、ＴＣＭ－１ｋＮＢ」）を用いて引張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定し、得られた応力－変位曲線の弾性変形領域、変位５％未満の範囲の傾きより算出することができる。
　第２の粘着剤層１５の厚みは、押圧変形抑制の観点から例えば、５μｍ以上、好ましくは、２５μｍ以上である。第２の粘着剤層１５の厚みは、例えば、膜厚計（ダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
（第２の基材）
　第２の基材１６の材料としては、好ましくは、樹脂が挙げられる。
　樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。
　樹脂は、耐熱性、機械特性などの観点から、好ましくは、ポリエステル樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＰＥＴが挙げられる。
　これら樹脂は、一般的には光透過性を有するが、例えば、樹脂に色素や染料を添加することで遮光性を調整することができる。
　第２の基材は遮光フィルムであることが好ましく、第２の基材１６の可視光透過率は、５０％未満であることが好ましい。
　ここで、第２の基材１６の弾性率は、幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍの矩形状の試料を作製し、引張り試験機（ミネベア社製、万能引張圧縮試験機、装置名「引張圧縮試験機、ＴＣＭ－１ｋＮＢ」）を用いて引張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定し、得られた応力－変位曲線の弾性変形領域、変位５％未満の範囲の傾きより算出することができる。
　第２の基材１６の厚みは、押圧変形抑制の観点から例えば、２３μｍ以上、好ましくは、５０μｍ以上であり、また、生産性の観点から例えば、２５０μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。第２の基材１６の厚みは、例えば、膜厚計（ダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
　本実施形態の電磁波透過性積層体には、本発明の効果を奏する限りにおいて上述の金属層１２、第１の粘着剤層１３、押圧緩和層１４の他に、用途に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては色味等の外観を調整するための高屈折材料等の光学調整層（色味調整層）、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）、バリア層（腐食防止層）、易接着層、ハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
＜７．電磁波透過性積層体の製造＞
　本実施形態にかかる電磁波透過性積層体１の製造方法の一例について、説明する。
　第１の基材１０上に金属層１２を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。
　また、第１の基材１０上に酸化インジウム含有層１１を形成させる場合には、金属層１２の形成に先立ち、酸化インジウム含有層１１を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成させる。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。
　尚、第１の基材１０と金属層１２の間に酸化インジウム含有層１１を設ける場合、酸化インジウム含有層１１と金属層１２の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。
　第１の粘着剤層１３を形成する方法としては、例えば、支持体上に前記粘着剤組成物を塗布し、溶剤等を乾燥除去し、また、必要に応じて架橋処理を施して第１の粘着剤層を形成し、光学機能層上に、当該第１の粘着剤層を転写する方法であってもよく、前記光学機能層上に直接前記粘着剤組成物を塗布して、第１の粘着剤層を形成してもよい。
　第１の粘着剤層１３は、例えば、前記ベース粘着剤組成物を光学機能層上に塗布し、溶剤等を乾燥除去することにより形成することができる。粘着剤組成物の塗布にあたっては、適宜に一種以上の溶剤を加えてもよい。また、前記ベース粘着剤組成物が活性エネルギー線硬化型である場合、前記ベース粘着剤組成物の一部を重合したプレポリマーを作製し、当該プレポリマーに光拡散性微粒子を分散させた粘着剤組成物を光学機能層上に塗布し、当該第１の塗布層に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより第１の粘着剤層を形成することができる。また、上述の透明導電層を設ける場合は、透明導電層上に、前記粘着剤組成物を塗布して第１の粘着剤層を形成することもできる。
　前記支持体としては、例えば、剥離処理したシートを用いることができる。剥離処理したシートとしては、シリコーン剥離ライナー（セパレータ）が好ましく用いられる。
　粘着剤組成物の塗布方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等の方法が挙げられる。
　前記加熱乾燥温度は、３０℃～２００℃程度が好ましく、４０℃～１８０℃がより好ましく、８０℃～１６０℃がさらに好ましい。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する第１の粘着剤層を得ることができる。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、５秒～２０分程度が好ましく、３０秒～１０分がより好ましく、１分～８分がさらに好ましい。
　前記ベース粘着剤組成物が、活性エネルギー線硬化型粘着剤の場合には、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより第１の粘着剤層を形成することができる。紫外線照射には、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルライトランプ等を用いることができる。
　第２の基材１６と第２の基材上に形成された第２の粘着剤層１５を備えた押圧緩和層１４を設ける場合、第２の粘着剤層１５は、剥離処理したセパレータに形成した第２の粘着剤層を、第１の基材１０における第１の粘着剤層１３とは反対の面に転写して形成することができる。
　また、第２の粘着剤層１５は、第１の基材１０における第１の粘着剤層１３とは反対の面に、粘着剤層用粘着剤組成物を直接塗布し、加熱乾燥等により溶媒を除去することにより、第２の粘着剤層１５を第１の基材１０上に形成することもできる。
　第２の粘着剤層１５は、剥離処理したセパレータに形成した第２の粘着剤層を、適宜に第１の基材１０における金属層１２とは反対の面に転写して形成することができる。
　また、第２の粘着剤層１５は、第１の基材１０における金属層１２とは反対の面に、第２の粘着剤層用粘着剤組成物を直接塗布し、加熱乾燥等により溶媒を除去することにより、第１の基材１０上に形成することもできる。
　第２の粘着剤層１５の形成に用いることができる粘着剤組成物、及びセパレータについては、上述の説明をそのまま援用し得る。
＜８．物品＞
　本実施形態に係る物品は、本実施形態に係る積層体又は電磁波透過性積層体１を透明な成形体に貼り合せたものである。
　本実施形態に係る物品は、金属光沢を有する金属光沢物品であってもよい。
　図２は、本発明の一実施形態による金属光沢物品の概略断面図である。金属光沢物品２は、図２に示す構成の電磁波透過性積層体１が透明な成形体である透明部材１７に貼付されている。図２では電磁波透過性積層体１が透明部材１７の視認される側（以下、外側ともいう）の面１７ａとは反対側（以下、内側ともいう）の面１７ｂに対して第１の粘着剤層１３を介して貼付されており、透明部材１７及び第１の粘着剤層１３を通して金属層１２が視認される。すなわち、本実施形態の電磁波透過性積層体１は、透明部材１７を内側から装飾することができる。
　本実施形態の金属光沢物品２は、電磁波透過性積層体１を透明部材１７の内側に貼付して得られるため傷つきにくい。また、透明部材１７の質感をそのまま活かしつつ透明部材１７を装飾することができる。
　透明部材としては、透明性及び電磁波透過性の観点から、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することができる。
　透明部材の厚さは、その用途により適宜選択されるものであるが、１００μｍ～２０００μｍであることが好ましい。
　電磁波透過性積層体１を透明部材１７に貼付する方法は特に限定されないが、例えば真空成形により貼付することができる。真空成形とは、電磁波透過性積層体１を加熱軟化しつつ展張し、電磁波透過性積層体１の透明部材側の空間を減圧し、必要に応じ反対側の空間を加圧することにより、電磁波透過性積層体１を透明部材の表面の三次元立体形状に沿って成形しつつ貼付積層する方法である。
　電磁波透過性積層体１としては、上述の説明をそのまま援用し得る。
＜９．物品の用途＞
　本実施形態の電磁波透過性積層体を備える物品は、電磁波透過性を有することから電磁波を送受信する装置（通信機器）や物品及びその部品等に使用することが好ましい。例えば、電子機器の筐体、車両用構造部品、車両搭載用品、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
　電子機器および家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。
　車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。
（１）押圧変形力
　試料を固定し、Ａ－４型アタッチメントを付けた（イマダ）製小型メカニカルフォースゲージＵＫＫ－２０Ｎで、試料のガラス面と反対側の面にアタッチメントを押し込み、試料内のフィルムが変形したと目視により判断した際の押圧力［Ｎ］を、押圧変形力とした。
（２）押圧変形パラメータ
　押圧変形パラメータは、下記式（１）により算出した。
　（ＥＯ１／ＴＯ１）×（ＥＳ１×√ＴＳ１）×（ＴＯ２／ＥＯ２）×ＥＳ２　　　　式（１）
　ＥＯ１：第１の粘着剤層の弾性率（ＭＰａ）
　ＴＯ１：第１の粘着剤層の厚み（μｍ）
　ＥＳ１：第１の基材の弾性率（ＭＰａ）
　ＴＳ１：第１の基材の厚み（μｍ）
　ＥＯ２：第２の粘着剤層の弾性率（ＭＰａ）
　ＴＯ２：第２の粘着剤層の厚み（μｍ）
　ＥＳ２：第２の基材の弾性率（ＭＰａ）
　なお、電磁波透過性積層体を形成する各層の２５℃における弾性率について、以下の方法にて測定した。
　幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍの矩形状の試料を作製し、引張り試験機（ミネベア社製、万能引張圧縮試験機、装置名「引張圧縮試験機、ＴＣＭ－１ｋＮＢ」）を用いて引張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定し、得られた応力－変位曲線の弾性変形領域、変位５％未満の範囲の傾きより弾性率を算出した。
（３）金属層の膜厚
　まず、電磁波透過性積層体から、図４に示すように一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」～「ｅ」を測定箇所として選択した。
　次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図５に示すような断面画像（透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像））を測定し、得られたＴＥＭ画像から、５個以上の金属部分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。
　５箇所の測定箇所それぞれにおいて抽出された視野角領域における金属層の総断面積を視野角領域の横幅で割ったものを各視野角領域の金属層の膜厚とし、５箇所の測定箇所それぞれにおける、各視野角領域の金属層の膜厚の平均値を金属層の厚み（ｎｍ）とした。
（４）第１の粘着剤層、第２の粘着剤層、及び第１の基材の膜厚
　第１の粘着剤層、第２の粘着剤層、及び第１の基材の厚さは、ダイヤルゲージにより測定した。
（５）シート抵抗
　ナプソン社製非接触式抵抗測定装置ＮＣ－８０ＭＡＰを用い、ＪＩＳ－Ｚ２３１６に準拠し、渦電流測定法により積層体としてのシート抵抗を測定した。
　このシート抵抗は、１００Ω／□以上であることが好ましく、２００Ω／□以上であるのがより好ましく、更に６００Ω／□以上であることが更に好ましい。
［実施例１］
　＜金属層を備えた第１の基材の製造＞
　基体フィルムとして、三菱樹脂社株式会社製ＰＥＴフィルム（厚さ５０μｍ）の両面に厚み２μｍの紫外線硬化樹脂を形成したフィルムを用いた。
　先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリング装置にＩＴＯターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングをする事で基体フィルムの面に沿って、５ｎｍの厚さのＩＴＯ層を直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基体フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は１０ｗｔ％である。
　交流スパッタリング装置（ＡＣ：４０ｋＨｚ）にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングする事でＩＴＯ層の上に、３５ｎｍの厚さのＡｌ層を形成し、積層体１を得た。得られたＡｌ層は不連続層であった。Ａｌ層を形成する際の基体フィルムの温度は、１３０℃に設定した。
　＜セパレータ付き第１の粘着剤層の製造＞
　アクリル系粘着剤（ＳＫダイン２５６３、綜研化学（株）製）を、片面をシリコーンで剥離処理した厚み３８μｍのポリエステルフィルム（商品名：ダイアホイルＭＲＦ、三菱樹脂（株）製）の剥離処理面に、最終的な厚みが５μｍになるように塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布層を８５℃で５分乾燥させて、アクリル系粘着剤層を形成し、セパレータ付き第１の粘着剤層を作製した。第１の粘着剤層に被覆されたポリエステルフィルムは、セパレータとして機能する。
　＜第２の粘着剤層形成用粘着剤組成物の製造＞
　一方、冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器にアクリル酸ブチル１００質量部、アクリル酸２－ヒドロキシエチル０．０１質量部、およびアクリル酸５部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、前記モノマー混合物１００質量部に対して、重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１質量部を酢酸エチル１００質量部と共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、反応容器内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行って、重量平均分子量（Ｍｗ）１８０万、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．１のアクリル系ポリマーの溶液（固形分濃度３０質量％）を調製した。
　得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分１００質量部に対して、ベンゾイルパーオキサイド（日本油脂社製、ナイパーＢＭＴ）を０．３質量部、イソシアネート系架橋剤（東ソー社製、コロネートＬ）を１質量部配合して粘着剤組成物を得た。
　＜電磁波透過性積層体及び金属光沢物品の製造＞
　上記で得られた積層体１における、第１の基材の金属層とは反対側の面に対して、上記で得られた粘着剤組成物をハンドローラーで最終的な厚みが２５μｍになるように塗布して第２の粘着剤層を形成し、その上に厚みが２５μｍの第２の基材を貼付し押圧緩和層を形成した。
　金属層側の面に対して、上記で得られたセパレータ付き第１の粘着剤層を転写し、セパレータを剥離し、電磁波透過性積層体を得た。
　上記で得られた電磁波透過性積層体の第１の粘着剤層側を透明部材に貼付し金属光沢物品を得た。透明部材としては、厚み１．２ｍｍのガラスを用いた。
［実施例２～４、比較例１～８］
　実施例１における第１の粘着剤層、第１の基材、第２の粘着剤層、及び第２の基材の厚みを表１に記載のとおりに変更した以外は実施例１と同様にして、電磁波透過性積層体を得て、金属光沢物品を作製した。
　以下の表１に、評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１から明らかなように、押圧変形パラメータが４×１０８以上の実施例１～４の積層体では、第２の基材側から３Ｎ以上の押圧を加えた場合においても、良好な金属外観が得られた。
　一方、比較例１～８の積層体は、第２の基材側から３Ｎ程度の押圧を加えると金属外観不良を起こす結果となった。
　本発明は上記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。
　本発明に係る積層体及び電磁波透過性積層体は、優れた外観を有し、本発明に係る積層体又は電磁波透過性積層体を備えた金属光沢物品は、電磁波を送受信する装置の部品等に使用することができる。例えば、携帯電話、スマートフォン、パソコン等の電子機器の筐体、車両用構造部品、車両搭載用品、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０２０年３月３１日出願の日本特許出願（特願２０２０－０６３２２８）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１　電磁波透過性積層体
２　金属光沢物品
１０　第１の基材
１１　酸化インジウム含有層
１２　金属層
１２ａ　部分
１２ｂ　隙間
１３　第１の粘着剤層
１４　押圧緩和層
１５　第２の粘着剤層
１６　第２の基材
１７　透明部材

Claims (11)

  1. 　第１の基材と、前記第１の基材上に形成された光学機能層と、第１の粘着剤層とをこの順に有し、前記第１の基材における前記光学機能層とは反対側の面に、押圧緩和層を備え、前記押圧緩和層が、第２の基材と第２の粘着剤層を含み、押圧変形パラメータが４×１０８以上である、積層体。
  2. 　前記光学機能層が金属層である請求項１に記載の積層体。
  3. 　前記第１の基材と前記金属層の間に、酸化インジウム含有層をさらに備える請求項２に記載の積層体。
  4. 　前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられている請求項３に記載の積層体。
  5. 　前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含む請求項３又は４に記載の積層体。
  6. 　前記金属層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、又はこれらの合金のいずれかを含む請求項２～５のいずれか１項に記載の積層体。
  7. 　前記第１の基材が遮光性を有する請求項２～６のいずれか１項に記載の積層体。
  8. 　請求項２～７のいずれか１項に記載の積層体が電磁波透過性積層体であり、
    　前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む電磁波透過性積層体。
  9. 　前記複数の部分は島状に形成されている請求項８に記載の電磁波透過性積層体。
  10. 　シート抵抗が、１００Ω／□以上である請求項８又は９に記載の電磁波透過性積層体。
  11. 　請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体又は請求項８～１０のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体を、透明な成形体に貼り合せた物品。
     
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3790265B1 (ja) * 2005-12-07 2006-06-28 三菱樹脂株式会社 反射光線のゆらぎを防止可能な銘板作製用積層体
JP2010208113A (ja) * 2009-03-09 2010-09-24 Dainippon Printing Co Ltd 化粧板製造方法及びその方法により得られた化粧板
JP2019086510A (ja) * 2017-11-07 2019-06-06 三恵技研工業株式会社 車載レーダー装置用レドーム及びその製造方法
JP2019188804A (ja) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜
JP2019188806A (ja) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 電磁波透過性金属光沢物品、及び、加飾部材
JP2019188809A (ja) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 電磁波透過性金属光沢物品

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3790265B1 (ja) * 2005-12-07 2006-06-28 三菱樹脂株式会社 反射光線のゆらぎを防止可能な銘板作製用積層体
JP2010208113A (ja) * 2009-03-09 2010-09-24 Dainippon Printing Co Ltd 化粧板製造方法及びその方法により得られた化粧板
JP2019086510A (ja) * 2017-11-07 2019-06-06 三恵技研工業株式会社 車載レーダー装置用レドーム及びその製造方法
JP2019188804A (ja) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 電磁波透過性金属光沢物品、及び、金属薄膜
JP2019188806A (ja) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 電磁波透過性金属光沢物品、及び、加飾部材
JP2019188809A (ja) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 電磁波透過性金属光沢物品

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