WO2021261433A1 - フィルムミラー積層体及びミラー部材 - Google Patents

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WO2021261433A1
WO2021261433A1 PCT/JP2021/023372 JP2021023372W WO2021261433A1 WO 2021261433 A1 WO2021261433 A1 WO 2021261433A1 JP 2021023372 W JP2021023372 W JP 2021023372W WO 2021261433 A1 WO2021261433 A1 WO 2021261433A1
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layer
film
refractive index
index layer
mirror
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一生 田中
一裕 中島
智剛 梨木
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日東電工株式会社
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    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror laminate and a mirror member.
  • the image from the light source is formed as a virtual image on the windshield in the dashboard device, so that the image is visually recognized by the driver.
  • a mirror surface having a high reflectance is required. From the viewpoint of improving driving safety, head-up displays that require less movement of the viewpoint are attracting attention day by day, and the demand for mirror surfaces used as their reflectors is also increasing.
  • a plastic substrate, especially a polycarbonate substrate due to its high heat resistance is used as the support substrate constituting the mirror surface. There is.
  • the conventional mirror body manufacturing method a method of forming a metal thin film on a polycarbonate substrate by using a batch type vapor deposition / sputtering device has been common.
  • the batch-type manufacturing method has a problem that the production efficiency is low and the demand for the mirror surface is increasing every day, but the supply is insufficient, and a mirror surface that can be manufactured with high productivity is desired.
  • Patent Document 1 discloses a film mirror having at least a light reflecting layer, a resin base material, and an adhesive layer in which the adhesive layer is formed of an acrylic adhesive, and is used in a reflecting device for solar thermal power generation. ing.
  • the inventors have studied a film mirror capable of producing a mirror member that can be used as a mirror surface with high productivity by attaching it to a supporting base material made of resin.
  • the mirror member in which the conventional film mirror is attached to the resin supporting base material using an adhesive may be easily peeled off, and the adhesion may not be sufficient for use as a mirror surface in a head-up display device. understood. Therefore, there is a demand for a film mirror laminate and a mirror member that are highly productive, can be easily adapted to a complicated curved surface shape, etc., have excellent adhesion, and can obtain good reflectance.
  • the present invention has been completed in view of the above, and the problems thereof are high productivity, easy adaptation to a complicated curved surface shape, etc., excellent adhesion, and good reflectance can be obtained. It is an object of the present invention to provide a film mirror laminate and a mirror member.
  • the present inventors have improved productivity and easily created complicated curved surface shapes by laminating the base film, the optical adjustment layer, the metal reflection layer, and the pressure-sensitive adhesive layer in this order. It has been found that a film mirror laminate and a mirror member that can be adapted, have excellent adhesion, and have good reflectance can be manufactured, and the above problems can be solved.
  • the present invention is as follows.
  • [1] A film mirror laminate having a base film, an optical adjustment layer, a metal reflective layer, and an adhesive layer in this order.
  • the optical adjustment layer includes a first low refractive index layer, a high refractive index layer, and a second low refractive index layer.
  • the film according to [1] which has the base film, the first low refractive index layer, the high refractive index layer, the second low refractive index layer, the metal reflective layer, and the pressure-sensitive adhesive layer in this order.
  • Mirror laminate [3] The film mirror laminate according to [2], wherein the first low refractive index layer and the second low refractive index layer contain silicon oxide.
  • the metal reflective layer is any one of at least one metal selected from aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), and silver (Ag), and an alloy containing the metal as a main component.
  • [7] The film mirror laminate according to any one of [1] to [6] and the support base material are provided, and the film mirror laminate is attached to the support base material via the pressure-sensitive adhesive layer. , Mirror member.
  • the present invention can provide a film mirror laminate and a mirror member which are highly productive, can be easily adapted to a complicated curved surface shape, etc., have excellent adhesion, and can obtain good reflectance.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a film mirror laminate according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a film mirror laminate according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a mirror member according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the mirror member of Comparative Example 1.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a film mirror laminate 1 according to an embodiment of the present invention.
  • the film mirror laminate 1 has a base film 14, an optical adjustment layer 13, a metal reflective layer 11, and an adhesive layer 10 in this order.
  • the film mirror laminate 1 of the present embodiment can be used by attaching the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 10 on the side opposite to the metal reflective layer 11 side to the support base material.
  • the film mirror laminate 1 of the present embodiment can use the base film as the outermost layer when attached to the supporting base material, has good productivity, and can be easily adapted to a complicated curved surface shape or the like. Therefore, it is possible to form a mirror member having excellent adhesion and a good reflectance.
  • the film mirror laminate 1 of the present embodiment preferably has a reflectance of 90% or more, more preferably 95% or more, as measured by irradiating visible light having a wavelength of 380 to 780 nm from the base film side. ..
  • a function as a reflecting mirror can be obtained.
  • the reflectance of the film mirror laminate 1 of the present embodiment is measured for a mirror member in which the film mirror laminate 1 is attached to a support base material via an adhesive layer, and is measured by the method described in Examples. Can be done.
  • the base film 14 is not particularly limited, and for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate (PC), cycloolefin polymer (COP), polystyrene, and the like.
  • a film made of a homopolymer such as polypropylene (PP), polyethylene, polycycloolefin, polyurethane, acrylic (PMMA), ABS, or a copolymer can be used. According to these members, they are transparent, have little optical absorption, and do not affect the visual effect.
  • the film can withstand high temperatures such as thin film deposition and sputtering. Therefore, among the above materials, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, acrylic, polycarbonate, cycloolefin polymer, ABS, polypropylene, and polyurethane are preferable. Of these, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polycarbonate, and acrylic are preferable because they have a good balance between heat resistance and cost.
  • the base film 14 may be a single-layer film or a laminated film. From the viewpoint of ease of processing and the like, the thickness is preferably, for example, about 6 ⁇ m to 250 ⁇ m.
  • the base film 14 may be formed with a hard coat layer such as a smooth or antiglare hard coat layer, if necessary. By providing the hard coat layer, scratch resistance can be improved.
  • the hardcourt layer can be formed from the hardcourt composition. More specifically, it can be formed by applying a solution containing a curable resin to the base film 14 as a hard coat composition.
  • the curable resin include thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and electron beam curable resins.
  • the curable resin examples include various resins such as polyester-based, acrylic-based, urethane-based, acrylic-urethane-based, amide-based, silicone-based, silicate-based, epoxy-based, melamine-based, oxetane-based, and acrylic urethane-based resins.
  • these curable resins one kind or two or more kinds can be appropriately selected and used.
  • acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferable because they have high hardness, can be cured by ultraviolet rays, and are excellent in productivity.
  • the thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 ⁇ m or more, more preferably 1.0 ⁇ m or more, and preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 7.0 ⁇ m or less, still more preferably 5.0 ⁇ m or less.
  • the thickness of the hard coat layer can be measured using, for example, a film thickness meter (digital dial gauge).
  • the film mirror laminate 1 according to the embodiment of the present invention includes an optical adjustment layer 13 between the base film 14 and the metal reflective layer 11.
  • the film mirror laminate 1 according to the embodiment of the present invention is provided with the optical adjustment layer 13 to adjust the reflection spectrum depending on the wavelength of light, and makes it possible to increase the reflectance in the visible light region.
  • the optical adjustment layer 13 is preferably a layer made of a metal oxide and / or a metal nitride.
  • the metal element contained in the metal oxide and the metal nitride referred to here includes a metalloid element such as Si. Further, the metal oxide and / or the metal nitride includes a metal oxynitride. Further, the metal oxide may be an oxide of a single metal element (single oxide) or an oxide of a plurality of metal elements (composite oxide). Similarly, the metal nitride may be a nitride of a single metal element (single nitride) or a nitride of a plurality of metal elements (composite nitride). Examples of the metal element include Ce, Nb, Si, Sb, Ti, Ta, Zr, Zn and the like.
  • the material of the optical adjustment layer 13 for example, CeO 2 (2.30), NbO (2.33), Nb 2 O 3 (2.15), Nb 2 O 5 (2.32). , SiO 2 (1.46), SiN (2.03), Sb 2 O 3 (2.10), TiO 2 (2.35), Ta 2 O 5 (2.10), ZrO 2 (2.05) ), ZnO (2.10), ZnS (2.30), etc.
  • the optical adjustment layer 13 preferably contains at least one metal element selected from Nb, Si, and Ti, and preferably contains at least one selected from, for example, Nb 2 O 5 , SiO 2 , and TiO 2. ..
  • the thickness of the optical adjustment layer 13 is preferably 10 nm to 500 nm. From the viewpoint of cost, it is more preferably 300 nm or less, and further preferably 200 nm or less. Further, from the viewpoint of color, it is preferably 15 nm or more, more preferably 20 nm or more, and further preferably 30 nm or more.
  • the thickness of the optical adjustment layer 13 can be measured, for example, by exposing a cross section in the vertical direction (thickness direction) to the surface and using a transmission electron microscope.
  • the refractive index of the optical adjustment layer 13 is preferably 1.9 or more, more preferably 2.0 or more. Further, from the viewpoint of thickness controllability, the refractive index of the optical adjustment layer 13 is preferably 3.5 or less, more preferably 3.0 or less.
  • the optical adjustment layer 13 may be a laminated body of layers having different refractive indexes, or may include a low refractive index layer and a high refractive index layer.
  • the low refractive index layer having a refractive index of about 1.35 to 1.55 preferably contains, for example, silicon oxide, magnesium fluoride, or the like as a low refractive index material, and more preferably contains silicon oxide.
  • the high refractive index layer having a refractive index of about 1.80 to 2.40 titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimonated tin oxide (ATO), etc. are used as high refractive index materials.
  • niobide oxide is contained.
  • a medium refractive index layer having a refractive index of about 1.50 to 1.85 for example, titanium oxide or a mixture of the low refractive index material and the high refractive index material is used.
  • a thin film made of (a mixture of titanium oxide and silicon oxide, etc.) may be formed.
  • the optical adjustment layer includes a first low refractive index layer, a high refractive index layer, and a second low refractive index layer.
  • the film mirror laminate 1 includes a base film 14, a first low refractive index layer 13a, a high refractive index layer 13b, a second low refractive index layer 13c, and a metal reflective layer 11.
  • a laminate having the pressure-sensitive adhesive layer 10 in this order may be used.
  • the first low refractive index layer and the second low refractive index layer contain silicon oxide.
  • the thickness of the first low refractive index layer is preferably 5 nm or more, and more preferably 10 nm or more, from the viewpoint of the function as an anticorrosion layer. Further, from the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range, it is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and further preferably 20 nm or less.
  • the thickness of the high-refractive index layer is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, still more preferably 30 nm or more, from the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range.
  • the visible light reflection spectrum to a desired range it is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and further preferably 100 nm or less.
  • the thickness of the second low refractive index layer is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, still more preferably 30 nm or more, from the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range.
  • it is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and further preferably 100 nm or less.
  • the laminated structure of the optical adjustment layer 13 is a two-layer structure consisting of a high refractive index layer having a film thickness of 240 nm to 260 nm and a low refractive index layer having a film thickness of 120 nm to 140 nm from the base film 14 side; A three-layer structure consisting of a medium refractive index layer of about 180 nm, a high refractive index layer of about 60 nm to 70 nm, and a low refractive index layer of about 135 nm to 145 nm; a high refractive index layer of 25 nm to 55 nm.
  • a four-layer structure consisting of a low refractive index layer having a film thickness of 35 nm to 55 nm, a high refractive index layer having a film thickness of 80 nm to 240 nm, and a low refractive index layer having a film thickness of 120 nm to 150 nm; A layer, a high refractive index layer having a film thickness of 20 nm to 40 nm, a low refractive index layer having a film thickness of 20 nm to 40 nm, a high refractive index layer having a film thickness of 240 nm to 290 nm, and a low refractive index layer having a film thickness of 100 nm to 200 nm.
  • the five-layer structure of the above can be mentioned.
  • the range of the refractive index and the film thickness of the thin film constituting the optical adjustment layer 13 is not limited to the above examples.
  • the optical adjustment layer 13 may be a laminated body of six or more thin films.
  • the film mirror laminate 1 may include a plurality of optical adjustment layers 13. For example, some oxides, such as niobium oxide, are reduced when exposed to ultraviolet light while being laminated with an adhesive, and in order to prevent the reducing action, a layer made of silicon oxide is further laminated as a protective layer. You may be doing it.
  • the metal reflective layer 11 in this embodiment is formed on the optical adjusting layer 13.
  • the metal reflective layer 11 is preferably a layer having a metallic luster.
  • the material forming the metal reflective layer 11 is not particularly limited, and may contain a metal and a resin.
  • the metal reflective layer 11 may be a metal layer. The case where the metal reflective layer 11 is a metal layer will be described.
  • the metal reflective layer 11 is made of a metal having a relatively low melting point, as well as being able to exhibit sufficient brilliance. This is because the metal reflective layer 11 is preferably formed by thin film growth using sputtering. For this reason, a metal having a melting point of about 1000 ° C. or lower is suitable as the metal reflective layer 11, and for example, aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), and silver ( It is preferable to contain at least one metal selected from Ag) and any of the alloys containing the metal as a main component. In particular, Al and their alloys are preferable because of the brilliance, stability, price, and the like of the substance. When an aluminum alloy is used, the aluminum content is preferably 50% by mass or more.
  • the thickness of the metal reflective layer 11 is usually preferably 20 nm or more so as to exhibit sufficient brilliance, while it is usually preferably 100 nm or less from the viewpoint of sheet resistance and electromagnetic wave transmission. For example, 20 nm to 100 nm is preferable, and 30 nm to 70 nm is more preferable. This thickness is also suitable for forming a uniform film with high productivity, and also looks good when a mirror member produced by attaching the film mirror laminate 1 to a support base material is used as a mirror surface body. good.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 10 can be formed from the pressure-sensitive adhesive.
  • the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer 10 is preferably a transparent pressure-sensitive adhesive.
  • any of the polyether adhesives can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of transparency, processability, durability and the like, it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive.
  • the adhesive layer 10 is protected by a release liner until it is attached to the adherend member.
  • the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer 10 is preferably formed by a pressure-sensitive adhesive composition containing a base polymer (hereinafter, may be simply referred to as a “pressure-sensitive adhesive composition”).
  • a base polymer a known polymer used for the pressure-sensitive adhesive can be used.
  • the base polymer refers to the main component of the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive composition.
  • the “main component” refers to a component contained in an amount of more than 50% by mass, unless otherwise specified.
  • the pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a (meth) acrylic polymer as a base polymer. Some monomers constituting the (meth) acrylic polymer may be contained as unreacted monomers in the pressure-sensitive adhesive composition.
  • the (meth) acrylic polymer in the embodiment of the present invention is preferably a hydroxyl group-containing (meth) acrylic polymer containing an alkyl (meth) acrylate and a hydroxyl group-containing monomer as a monomer unit.
  • the method for introducing a hydroxyl group is not particularly limited, but for example, a method for copolymerizing a hydroxyl group-containing monomer can be easily performed.
  • the (meth) acrylic polymer in the embodiment of the present invention refers to an acrylic polymer and / or a methacrylic polymer
  • (meth) acrylate refers to an acrylate and / or methacrylate
  • an alkyl (meth) acrylate refers to alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate.
  • alkyl (meth) acrylate examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. Be done. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • hydroxyl group-containing monomer examples include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, and 8-hydroxyoctyl ( Meta) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl) methyl acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide, Examples thereof include vinyl alcohol, allyl alcohol, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • the hydroxyl group-containing monomer may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 1 to 1 to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer. It is preferably 40 parts by mass, more preferably 2 to 30 parts by mass.
  • a hydroxyl group-containing (meth) acrylic polymer having a reaction point by cross-linking or the like can be obtained.
  • the (meth) acrylic polymer used in the embodiment of the present invention preferably has a weight average molecular weight of about 300,000 to 2.5 million. When the weight average molecular weight is less than 300,000, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition is reduced, which tends to cause adhesive residue.
  • the weight average molecular weight is obtained by measuring by GPC (gel permeation chromatography).
  • the glass transition temperature (Tg) of the (meth) acrylic polymer is preferably 0 ° C. or lower (usually ⁇ 100 ° C. or higher), preferably ⁇ 10 ° C. or lower.
  • the glass transition temperature (Tg) of the (meth) acrylic polymer can be adjusted within the above range by appropriately changing the monomer component and the composition ratio to be used.
  • a polymerizable monomer for adjusting the glass transition point and the peelability of the (meth) acrylic polymer is used as long as the effect of the present invention is not impaired. be able to.
  • a sulfonic acid group-containing monomer for example, a sulfonic acid group-containing monomer, a phosphoric acid group-containing monomer, a cyano group-containing monomer, a vinyl ester monomer, an aromatic vinyl monomer and the like have cohesive strength and heat resistance. It has a functional group that acts as an adhesive strength improving component and a cross-linking base point for acid anhydride group-containing monomers, amide group-containing monomers, amino group-containing monomers, epoxy group-containing monomers, N-acryloylmorpholine, vinyl ether monomers, etc. Ingredients can be used as appropriate. These monomer compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the cyano group-containing monomer include acrylonitrile and methacrylonitrile.
  • vinyl ester monomer examples include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl laurate and the like.
  • aromatic vinyl monomer examples include styrene, chlorostyrene, chloromethylstyrene, ⁇ -methylstyrene and the like.
  • amide group-containing monomer examples include acrylamide, diethylacrylamide, N-vinyl-2-pyrrolidone and the like.
  • amino group-containing monomer examples include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N- (meth) acryloyl morpholine, and (meth) alkylaminoalkyl acrylate.
  • epoxy group-containing monomer examples include glycidyl (meth) acrylate and allyl glycidyl ether.
  • vinyl ether monomer examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether and the like.
  • the other polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more, but the total content is the (meth) acrylic polymer 100. It is preferably 0 to 40 parts by mass, and more preferably 0 to 30 parts by mass with respect to parts by mass.
  • the polymerization method of the (meth) acrylic polymer is not particularly limited, and known polymerization methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and UV polymerization can be adopted. Further, the obtained copolymer may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer and the like.
  • the pressure-sensitive adhesive composition may contain a polymer component other than the above-mentioned base polymer.
  • the pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a cross-linking agent, and it is preferable to use an isocyanate-based cross-linking agent as the cross-linking agent.
  • Isocyanate-based cross-linking agents are used to impart adhesion and cohesiveness.
  • isocyanate-based cross-linking agent a polyfunctional isocyanate compound is used, and various compounds having two or more isocyanate groups in the molecule are included.
  • isocyanate compound examples include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, and 2,4-tolylene diisocyanate.
  • lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate
  • alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate
  • 2,4-tolylene diisocyanate examples include 2,4-tolylene diisocyanate.
  • Aromatic isocyanates such as 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate, trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), trimethylolpropane / hexamethylene.
  • Aromatic isocyanates such as 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate, trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), trimethylolpropane / hexamethylene.
  • isocyanate adducts such as diisocyanate trimer adduct (trade name Coronate HL, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and isocyanur
  • those having an isocyanurate ring are particularly preferable, and for example, a polyisocyanate having an isocyanurate ring modified with a long-chain alkylene diol (Bernock DN-995 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and an isocyanurate compound of hexamethylene diisocyanate. (Product name: Coronate HX, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and the like. These compounds may be used alone or in combination.
  • the content of the cross-linking agent used in the embodiment of the present invention may be blended to such an extent that it does not affect the adhesive physical properties, but is usually 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer. It is contained, preferably 0.5 to 8 parts by mass, and more preferably 1 to 6 parts by mass.
  • the pressure-sensitive adhesive composition contains a polyfunctional (meth) acrylic monomer such as 1,6-hexanediol diacrylate as a cross-linking component.
  • the (meth) acrylic monomer in the embodiment of the present invention means an acrylic monomer and / or a methacrylic monomer.
  • the polyfunctional (meth) acrylic monomer is usually contained in an amount of 0.2 to 10 parts by mass and preferably 0.5 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic polymer. It is more preferable that the content is 6 parts by mass.
  • the acrylic pressure-sensitive adhesive includes cross-linking agents (polyamine compounds, melamine resins, aziridine derivatives, urea resins), polymerization initiators, tackifiers, plasticizers, silane coupling agents, colorants, and pigments other than those exemplified above.
  • Powders such as dyes, surfactants, surface lubricants, leveling agents, softeners, antioxidants, antistatic agents, antioxidants, light stabilizers, UV absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillings Agents, metal powders, particles, foils and the like can also be used as appropriate. These components may be used alone or in combination of two or more.
  • the pressure-sensitive adhesive layer can also be formed, for example, by applying the pressure-sensitive adhesive composition on the metal reflective layer 11 and drying and removing a solvent or the like. When applying the pressure-sensitive adhesive composition, one or more solvents may be added as appropriate. Further, the pressure-sensitive adhesive layer is formed by, for example, laminating the surface of the laminate of the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film formed on the protective film by the pressure-sensitive adhesive composition on the pressure-sensitive adhesive layer side and the metal reflective layer 11. It can also be formed.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 to 300 ⁇ m, more preferably 2 to 250 ⁇ m, further preferably 3 to 250 ⁇ m, and even more preferably 5 to 100 ⁇ m.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be measured with a dial gauge.
  • Various methods are used as the method for applying the pressure-sensitive adhesive composition. Specifically, for example, roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coater, etc. Examples include the extrusion coating method.
  • the heating and drying temperature is preferably about 30 ° C to 200 ° C, more preferably 40 ° C to 180 ° C, and even more preferably 80 ° C to 160 ° C. By setting the heating temperature in the above range, a pressure-sensitive adhesive layer having excellent pressure-sensitive properties can be obtained.
  • As the drying time an appropriate time may be adopted as appropriate. The drying time is preferably about 5 seconds to 20 minutes, more preferably 30 seconds to 10 minutes, still more preferably 1 minute to 8 minutes.
  • the pressure-sensitive adhesive layer can be formed by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays.
  • active energy rays such as ultraviolet rays.
  • a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a chemical light lamp, or the like can be used for ultraviolet irradiation.
  • the pressure-sensitive adhesive layer in the film mirror laminate can be protected by a release sheet (separator).
  • a release sheet separatator
  • the pressure-sensitive adhesive layer is protected by a release sheet, and then the release sheet can be peeled off and bonded to a supporting base material to manufacture a mirror member.
  • the release sheet is not particularly limited as long as it can protect the pressure-sensitive adhesive layer, and is, for example, a porous material such as a plastic film, paper, cloth, or non-woven fabric, a net, a foam sheet, a metal foil, and the like.
  • a porous material such as a plastic film, paper, cloth, or non-woven fabric, a net, a foam sheet, a metal foil, and the like.
  • An appropriate thin leaf body such as a laminated body can be mentioned, but a plastic film is preferably used because of its excellent surface smoothness.
  • plastic film examples include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, and ethylene.
  • -Vinyl acetate copolymer film and the like can be mentioned.
  • the thickness of the release sheet is usually about 5 to 200 ⁇ m, preferably about 5 to 100 ⁇ m.
  • the release sheet may be subjected to mold release and antifouling treatment with a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based mold release agent, silica powder, etc., as well as a coating type, a kneading type, and a vapor deposition. It is also possible to perform antistatic treatment on the mold and the like.
  • the peelability from the pressure-sensitive adhesive layer can be further enhanced by appropriately performing a peeling treatment such as a silicone treatment, a long-chain alkyl treatment, or a fluorine treatment on the surface of the peeling sheet.
  • the film mirror laminate according to the embodiment of the present invention may include other layers depending on the application, in addition to the base film 14, the optical adjustment layer 13, the metal reflection layer 11, and the pressure-sensitive adhesive layer 10. .
  • other layers include a hard coat layer, a barrier layer, an easy-adhesion layer, an antireflection layer, a light extraction layer, an anti-glare layer and the like.
  • the film mirror laminate according to the embodiment of the present invention includes a barrier layer, it is preferably provided on the surface of the metal reflective layer 11 opposite to the optical adjustment layer 13 side.
  • the barrier layer is a layer for suppressing oxidation (corrosion) of the metal reflective layer 11, and the barrier layer is an oxide, a nitride, a carbide, a nitride, an oxide, a carbide, or a carbide of at least one kind of a metal and a semi-metal. It is preferable to contain at least one selected from the group consisting of carbides nitride and carbide oxides.
  • the metal for example, aluminum, titanium, indium, magnesium and the like
  • the metalloid for example, silicon, bismuth, germanium and the like
  • ZnO + Al 2 O 3 AZO
  • indium tin oxide IZO
  • indium tin oxide ITO
  • silicon nitride silicon nitride film SiOCN
  • silicon nitride film SiON
  • SiN silicon nitride film
  • the network structure (mesh-like structure) in the barrier layer should be made dense. It preferably contains carbon and nitrogen. In order to further improve the transparency, it is preferable that oxygen is contained. That is, the barrier layer preferably contains at least one metal and metalloid oxynitride carbide.
  • the thickness of the barrier layer is not particularly limited, but is preferably 1 nm or more, more preferably 5 nm or more, still more preferably 10 nm or more in order to improve the barrier property. Further, in order to improve the reflectance and metallic luster, 100 nm or less is preferable, 80 nm or less is more preferable, and 60 nm or less is further preferable.
  • the method for manufacturing the film mirror laminate according to the embodiment of the present invention is not particularly limited.
  • the first low refractive index layer 13a, the high refractive index layer 13b, the second low refractive index layer 13c, and the metal reflective layer 11 can be formed on one surface of the base film 14 in this order.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 10 may be formed directly on the surface of the metal reflective layer 11 opposite to the second low-refractive index layer 13c side by coating or the like with a composition capable of forming the pressure-sensitive adhesive layer 10. , May be formed by laminating the separately formed pressure-sensitive adhesive layer 10.
  • the forming method when the first low refractive index layer 13a, the high refractive index layer 13b, the second low refractive index layer 13c, and the metal reflective layer 11 are formed is not particularly limited, and for example, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and the like.
  • the ion plating method and the like can be mentioned.
  • the sputtering method is preferable because the thickness can be strictly controlled even in a large area.
  • the film mirror laminate according to the embodiment of the present invention can be used as a mirror member. Further, the film mirror laminate of the present embodiment can also be used for decorating members. For example, it may be used by being attached to an adherend member, and the adherend member may be, for example, a member made of glass or plastic, but is not limited thereto.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a mirror member according to an embodiment of the present invention.
  • the mirror member 100 shown in FIG. 3 includes a base film 14, a first low refractive index layer 13a, a high refractive index layer 13b, a second low refractive index layer 13c, a metal reflective layer 11, and an adhesive layer 10.
  • the film mirror laminates having the order are attached to the support base material 21 via the pressure-sensitive adhesive layer 10.
  • the mirror member according to the embodiment of the present invention can be manufactured by attaching the film mirror laminate to the supporting base material, even a member having a complicated curved surface shape can be manufactured with high productivity. Further, the mirror member according to the embodiment of the present invention has excellent scratch resistance. This is because the base film is the outermost layer.
  • the material of the supporting base material is not particularly limited, and examples thereof include resin, glass, and metal, and it is preferable to use resin.
  • the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and (meth) acrylic resins (acrylic resin and / or methacrylic resin) such as polymethacrylate, such as polyethylene and polypropylene.
  • Organ resin such as cycloolefin polymer (for example, norbornen type, cyclopentadiene type), for example, polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, melamine resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, polystyrene resin and the like. Be done. These materials can be used alone or in combination of two or more. Of these, a polycarbonate resin is preferable because it can be made black and has excellent light-shielding properties.
  • cycloolefin polymer for example, norbornen type, cyclopentadiene type
  • polycarbonate resin for example, polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, melamine resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, polystyrene resin and the like.
  • a polycarbonate resin is preferable because it can be made black and has excellent light-shielding properties.
  • Film mirror laminates and mirror members Applications of the film mirror laminate and the mirror member of the present embodiment include, for example, structural parts for vehicles, vehicle-mounted products such as head-up displays, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, and the like. Examples thereof include various automobile parts, electronic device parts, furniture, kitchen supplies and other household goods, medical equipment, building material parts, and other structural parts and exterior parts. More specifically, in the vehicle field, instrument panels, console boxes, door knobs, door trims, shift levers, pedals, glove boxes, bumpers, bonnets, fenders, trunks, doors, roofs, pillars, seats, steering wheels.
  • ECU box electrical parts, engine peripheral parts, drive system / gear peripheral parts, intake / exhaust system parts, cooling system parts and the like.
  • home appliances such as refrigerators, washing machines, vacuum cleaners, microwave ovens, air conditioners, lighting equipment, electric water heaters, TVs, watches, ventilation fans, projectors, speakers, personal computers, mobile phones , Smartphones, digital cameras, tablet PCs, portable music players, portable game machines, chargers, electronic information devices such as batteries, and the like.
  • Example 1 Preparation of low refractive index layer and high refractive index layer
  • a PET film mirror (hereinafter referred to as a film base material) manufactured by Toray Industries, Inc. was prepared.
  • the film substrate was set in a magnetron sputtering device, and on one side of the film substrate, silicon oxide 20 nm (refractive index 1.46) was used as the first low refractive index layer, and niobium oxide (Nb 2 O 5) was used as the high refractive index layer.
  • a thin film of transparent oxide was formed in the order of 50 nm (refractive index 2.32) and silicon oxide (SiO 2) 70 nm as the second low refractive index layer.
  • a pure silicon target and a pure niobium target were used as targets, oxygen gas was introduced in addition to argon gas, and reactive sputtering was performed to obtain transparent oxides, respectively. A thin film was obtained.
  • the film substrate on which the first low-refractive index layer, the high-refractive index layer, and the second low-refractive index layer are formed is set in the magnetron sputtering device, and the Al target is used on the second low-refractive index layer.
  • a metal reflective layer an aluminum layer (Al layer) having a thickness of 44 nm was formed.
  • a film substrate having a first low refractive index layer, a high refractive index layer, a second low refractive index layer, and an Al layer formed therein is set in a magnetron sputtering apparatus, and an Al target is used on the Al layer.
  • a barrier layer to form an aluminum oxide layer having a thickness of 20nm to (Al 2 O 3 layer).
  • a laminate 1 in which a thin layer was formed in the order of silicon oxide 20 nm, niobium oxide 50 nm, silicon oxide 70 nm, aluminum 44 nm, and aluminum oxide 20 nm was produced on one surface of a PET substrate of 50 ⁇ m.
  • Adhesive Composition 1 (Preparation of Oligomer Composition 1) 60 parts by mass of dicyclopentanyl methacrylate (DCPMA) and 40 parts by mass of methyl methacrylate (MMA) as a monomer component, 3.5 parts by mass of ⁇ -thioglycerol as a chain transfer agent, and 100 parts by mass of toluene as a polymerization solvent are mixed. Then, the mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Next, 0.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added as a thermal polymerization initiator, and the mixture was reacted at 70 ° C.
  • DICPMA dicyclopentanyl methacrylate
  • MMA methyl methacrylate
  • AIBN 2,2'-azobisisobutyronitrile
  • oligomer composition 1 The weight average molecular weight of the oligomer composition 1 was 5100, and the glass transition temperature (Tg) was 130 ° C.
  • Adhesive Composition 1 100 parts by mass of the obtained prepolymer composition, 15 parts by mass of the oligomer composition, 1,6-hexanediol diacrylate (trade name "A-HD-N", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) 0. 3 parts by mass and 0.3 parts by mass of a silane coupling agent (trade name "KBM-403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) were added and mixed uniformly to obtain a pressure-sensitive adhesive composition 1. The gel fraction was 82%.
  • Adhesive sheet 1 A 75 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate (PET) film (“Diafoil MRF75” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) with a silicone-based release layer on the surface is used as a base material (heavy release film), and the above-mentioned adhesiveness is applied on the base material.
  • the agent composition 1 was applied so as to have a thickness of 25 ⁇ m to form a coating layer.
  • This laminated body is photo-cured by irradiating it with ultraviolet rays from the cover sheet side with a black light whose position is adjusted so that the irradiation intensity on the irradiation surface directly under the lamp is 5 mW / cm 2, and the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 25 ⁇ m.
  • An adhesive sheet made of was obtained.
  • the light release film of the adhesive sheet having a thickness of 25 ⁇ m produced above is peeled off and bonded to the surface of the base film of the laminated body 1 on which the sputter film formation is formed (the surface on which the aluminum oxide layer is formed), and the film mirror is laminated.
  • the body was made.
  • the heavy release film on the adhesive layer side of the film mirror laminate was peeled off and bonded to a 5.0 mm thick polycarbonate base material (Carboglass black manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) as a support base material to prepare a mirror member. ..
  • the size of the test piece is 50 mm ⁇ 150 mm.
  • Example 2 Similar to Example 1, a thin layer of silicon oxide 20 nm, niobium oxide 50 nm, silicon oxide 70 nm, and aluminum 44 nm was formed on one surface of a 50 ⁇ m PET substrate in the same manner as in Example 1 except that an aluminum oxide layer was not provided as a protective layer.
  • the formed laminated body 2 was produced.
  • the light release film of the adhesive sheet having a thickness of 25 ⁇ m produced by the same method as in Example 1 was peeled off, and the surface of the base film of the laminated body 2 on which the sputter film was formed (the surface on which the aluminum layer was formed) was formed. They were laminated to prepare a film mirror laminate. Further, the mirror member shown in FIG.
  • the mirror member 100 of Example 2 shown in FIG. 3 was produced by the same method as in Example 1.
  • the mirror member 100 of Example 2 shown in FIG. 3 includes a base film 14, a first low refractive index layer 13a, a high refractive index layer 13b, a second low refractive index layer 13c, a metal reflective layer 11, and an adhesive.
  • a film mirror laminate having layers 10 in this order is attached to the support base material 21 via the pressure-sensitive adhesive layer 10.
  • a PET film mirror (hereinafter referred to as a film base material) manufactured by Toray Industries, Inc. was prepared.
  • the Al target was set in a magnetron sputtering apparatus, and an aluminum layer (Al layer) having a thickness of 44 nm was formed as a metal reflective layer on one side of the film substrate.
  • the film substrate on which the Al layer was formed was set in a magnetron sputtering device, and on the Al layer, silicon oxide 70 nm (refractive index 1.46) was used as the second low refractive index layer, and niobium oxide (refractive index 1.46) was used as the high refractive index layer.
  • a thin film of transparent oxide was formed in the order of Nb 2 O 5 ) 50 nm (refractive index 2.32) and silicon oxide (SiO 2) 20 nm as the first low refractive index layer.
  • a pure silicon target and a pure niobium target were used as targets, oxygen gas was introduced in addition to argon gas, and reactive sputtering was performed to obtain transparent oxides, respectively. A thin film was obtained.
  • a metal reflective layer As described above, on one side of a 50 ⁇ m PET substrate, aluminum 44 nm as a metal reflective layer, silicon oxide 70 nm as a second low refractive index layer, niobium oxide 50 nm as a high refractive index layer, and oxidation as a first low refractive index layer.
  • the light release film of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 having a thickness of 25 ⁇ m produced by the same method as in Example 1 is peeled off and bonded to the surface of the base film of the laminate 3 where sputter film formation is not performed to form a film mirror laminate.
  • the mirror member shown in FIG. 4 was produced by the same method as in Example 1.
  • the mirror member 200 of Comparative Example 1 shown in FIG. 4 has an adhesive layer 10, a base film 14, a metal reflective layer 11, a second low refractive index layer 13c, a high refractive index layer 13b, and a first low refractive index.
  • a film mirror laminate having layers 13a in this order is attached to the support base material 21 via an adhesive layer.
  • ⁇ Adhesion test (110 ° C condition)> The prepared mirror members of Examples and Comparative Examples were held at a high temperature for 1000 hours, and then an adhesion test was performed. The mirror member was held at a high temperature by using a constant temperature and humidity device manufactured by ESPEC CORPORATION set at 110 ° C. and charged for 1000 hours.
  • the adhesion test was carried out according to the grid tape test JIS K 5400 and the cross-cut test method (paint adhesion test).
  • the tape was crimped again by changing the angle to 90 degrees and peeled, and the peeling of the grid was observed. Then, the number of squares in which peeling occurred was counted in 100 squares. When an area of 1/4 or more in one square was peeled off by tape peeling, it was counted as peeling.
  • Table 1 below shows the measurement results and test results for each example and comparative example.
  • the film mirror laminate of this embodiment is suitable for a mirror member because it has excellent adhesion and good reflectance. Further, the film mirror laminate of this embodiment can be bonded to a support base material via an adhesive layer, a mirror member can be obtained with high productivity, and it can be easily adapted to a complicated curved surface shape or the like. It is possible.
  • a film mirror laminate and a mirror member which are highly productive, can be easily adapted to a complicated curved surface shape, etc., have excellent adhesion, and can obtain good reflectance. can.

Abstract

本発明は、基材フィルム、光学調整層、金属反射層、及び粘着剤層をこの順に有するフィルムミラー積層体、及び該フィルムミラー積層体と支持基材とを備え、前記フィルムミラー積層体が、前記粘着剤層を介して前記支持基材に貼付されている、ミラー部材に関する。

Description

フィルムミラー積層体及びミラー部材
　本発明は、フィルムミラー積層体及びミラー部材に関する。
　車両の運転者は、フロントガラスを通して前方を注視すると共に、インストルメントパネル上の計器類を目視しながら運転を実施する。すなわち、視線が前方と下方の計器類とへ移動する。前方を見たままで、計器類を見ることができれば、視線の移動がなく、運転性（最終的に安全性）の向上が期待できる。この知見からヘッドアップディスプレイ装置が開発され、実用に供されるようになってきている。
　ヘッドアップディスプレイ装置においては、ダッシュボード装置内において、光源からの映像をフロントガラスに虚像として像を結ぶことで、運転者に映像として視認されている。光源からの映像情報を輝度を低下させることなく、投影させるためには、高い反射率を有した鏡面体が必要となる。
　運転の安全性を高める観点より、視点の移動が少なくて済むヘッドアップディスプレイは、日に日に注目を高めており、その反射鏡として利用される鏡面体の需要も高まっている。また車両の衝突等の事故により破損するリスクが低いこと、重量が軽いことなどの理由から、鏡面体を構成する支持基板としては、プラスチック基板、特に耐熱性の高さよりポリカーボネート基板等が用いられている。
　従来の鏡面体の製法ではバッチ式の蒸着・スパッタ装置を用いて、ポリカーボネート基板に金属薄膜を形成する手法が一般的であった。しかし、バッチ式製法は生産の効率が低く、日々鏡面体の需要が高まる傾向に対し、供給不足となるという課題があり、生産性良く製造し得る鏡面体が望まれている。
　一方、支持体に貼付し得るフィルムミラーが検討されている。例えば、特許文献１においては、少なくとも光反射層、樹脂基材、および粘着層を有し、前記粘着層がアクリル系粘着剤により形成されたフィルムミラーが開示され、太陽熱発電用反射装置に用いられている。
日本国特開２０１５－２１０３３５号公報
　発明者らは、樹脂で作製した支持基材に貼付することにより、鏡面体として使用可能なミラー部材を生産性良く製造し得る、フィルムミラーについて検討を行った。しかしながら、従来のフィルムミラーを粘着剤を用いて樹脂製の支持基材に貼付したミラー部材は、剥がれ易くなる場合があり、ヘッドアップディスプレイ装置における鏡面体として用いるには密着性が十分でないことが判った。
　そこで、生産性良く、複雑な曲面形状等へも簡単に適応が可能であり、密着性に優れ、良好な反射率が得られるフィルムミラー積層体及びミラー部材が求められている。
　本発明は、上記に鑑みて完成されたものであり、その課題は、生産性良く、複雑な曲面形状等へも簡単に適応が可能であり、密着性に優れ、良好な反射率が得られるフィルムミラー積層体及びミラー部材を提供することにある。
　本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、基材フィルム、光学調整層、金属反射層、及び粘着剤層をこの順に積層することにより、生産性良く、複雑な曲面形状等へも簡単に適応が可能であり、密着性に優れ、良好な反射率が得られるフィルムミラー積層体、及びミラー部材が製造可能となり、上記課題を解決できることを見出した。
　すなわち、本発明は以下の通りである。
〔１〕
　基材フィルム、光学調整層、金属反射層、及び粘着剤層をこの順に有するフィルムミラー積層体。
〔２〕
　前記光学調整層が、第一の低屈折率層、高屈折率層、及び第二の低屈折率層を備え、
　前記基材フィルム、前記第一の低屈折率層、前記高屈折率層、前記第二の低屈折率層、前記金属反射層、及び前記粘着剤層をこの順に有する〔１〕に記載のフィルムミラー積層体。
〔３〕
　前記第一の低屈折率層及び前記第二の低屈折率層が酸化珪素を含有する、〔２〕に記載のフィルムミラー積層体。
〔４〕
　前記高屈折率層が酸化ニオブを含有する、〔２〕又は〔３〕に記載のフィルムミラー積層体。
〔５〕
　波長３８０～７８０ｎｍの可視光線を前記基材フィルム側から照射して測定した反射率が９０％以上である、〔１〕～〔４〕のいずれか一項に記載のフィルムミラー積層体。
〔６〕
　前記金属反射層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含む、〔１〕～〔５〕のいずれか一項に記載のフィルムミラー積層体。
〔７〕
　〔１〕～〔６〕のいずれか一項に記載のフィルムミラー積層体と支持基材とを備え、前記フィルムミラー積層体が、前記粘着剤層を介して前記支持基材に貼付されている、ミラー部材。
　本発明は、生産性良く、複雑な曲面形状等へも簡単に適応が可能であり、密着性に優れ、良好な反射率が得られるフィルムミラー積層体、及びミラー部材を提供し得る。
図１は、本発明の一実施形態によるフィルムミラー積層体の概略断面図である。 図２は、本発明の一実施形態によるフィルムミラー積層体の概略断面図である。 図３は、本発明の一実施形態によるミラー部材の概略断面図である。 図４は、比較例１のミラー部材の概略断面図である。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
　［フィルムミラー積層体］
　図１に、本発明の一実施形態によるフィルムミラー積層体１の概略断面図を示す。フィルムミラー積層体１は、基材フィルム１４、光学調整層１３、金属反射層１１、及び粘着剤層１０をこの順に有する。
　本実施形態のフィルムミラー積層体１は、粘着剤層１０の金属反射層１１側とは反対側の面を支持基材に貼付して用いることができる。
　本実施形態のフィルムミラー積層体１は、この構成により支持基材に貼付した際に基材フィルムを最外層とすることができ、生産性良く、複雑な曲面形状等へも簡単に適応が可能であり、密着性に優れ、良好な反射率が得られるミラー部材を形成することができる。
　本実施形態のフィルムミラー積層体１は、波長３８０～７８０ｎｍの可視光線を基材フィルム側から照射して測定した反射率が９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。反射率を９０％以上とすることにより、反射鏡としての機能が得られる。
　本実施形態のフィルムミラー積層体１の反射率は、フィルムミラー積層体を粘着剤層を介して支持基材に貼付したミラー部材について測定したものであり、実施例に記載の方法により測定することができる。
　＜基材フィルム＞
　基材フィルム１４は、特に限定はされず、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなるフィルムを用いることができる。これらの部材によれば、透明で光学吸収は少なく、視覚効果に影響を与えることもない。但し、後に基材フィルム１４上に種々の層を形成するため、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましい。従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。基材フィルム１４は、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。
　加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ～２５０μｍ程度が好ましい。より好ましくは２０μｍ以上であり、更に好ましくは４０μｍ以上である。また、より好ましくは１００μｍ以下であり、更に好ましくは７５μｍ以下である。また、基材フィルム上に形成される層との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
　基材フィルム１４には、必要に応じて平滑性、或いは防眩性ハードコート層等のハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、耐擦傷性を向上させる事ができる。
　ハードコート層は、ハードコート組成物から形成することができる。より具体的には、硬化性樹脂を含有する溶液をハードコート組成物として基材フィルム１４に塗布する事により形成できる。
　硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、一種又は二種以上を、適宜選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。
　ハードコート層の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上であり、また、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは７．０μｍ以下、更に好ましくは５．０μｍ以下である。ハードコート層の厚みは、例えば、膜厚計（デジタルダイアルゲージ）を用いて測定することができる。
＜光学調整層＞
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体１は、基材フィルム１４と金属反射層１１との間に光学調整層１３を備える。
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体１は、光学調整層１３を備えることにより光の波長による反射スペクトルを調整し、可視光領域内の反射率を上げることを可能とする。
　光学調整層１３は、金属酸化物及び／又は金属窒化物からなる層であることが好ましい。なお、ここでいう金属酸化物、金属窒化物に含有される金属元素には、Ｓｉ等の半金属元素が包含される。また、金属酸化物及び／又は金属窒化物には、金属酸窒化物が包含される。また、金属酸化物は、単独の金属元素の酸化物（単独酸化物）であってもよく、複数の金属元素の酸化物（複合酸化物）であってもよい。同様に、金属窒化物は、単独の金属元素の窒化物（単独窒化物）であってもよく、複数の金属元素の窒化物（複合窒化物）であってもよい。
　金属元素としては、例えば、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｚｎなどが挙げられる。
　光学調整層１３の材料として、より具体的には、例えば、ＣｅＯ２（２．３０）、ＮｂＯ（２．３３）、Ｎｂ２Ｏ３（２．１５）、Ｎｂ２Ｏ５（２．３２）、ＳｉＯ２（１．４６）、ＳｉＮ（２．０３）、Ｓｂ２Ｏ３（２．１０）、ＴｉＯ２（２．３５）、Ｔａ２Ｏ５（２．１０）、ＺｒＯ２（２．０５）、ＺｎＯ（２．１０）、ＺｎＳ（２．３０）などが挙げられる（上記各材料の括弧内の数値は屈折率である）。
　特に、光学調整層１３は、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｔｉより選択される少なくとも一種の金属元素を含むことが好ましく、例えばＮｂ２Ｏ５、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２より選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。
　光学調整層１３の厚みは、１０ｎｍ～５００ｎｍであることが好ましい。コストの観点から、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、色味の観点から、１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
　光学調整層１３の厚みは、例えば、表面に垂直方向（厚み方向）の断面を露出させたうえ、透過型電子顕微鏡を用いて測定することができる。
　光学調整層１３の屈折率は１．９以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。また、厚み制御性の観点から、光学調整層１３の屈折率は３．５以下が好ましく、３．０以下がより好ましい。
　また、光学調整層１３は屈折率の異なる層の積層体であってもよく、低屈折率層と高屈折率層とを備えていてもよい。
　屈折率１．３５～１．５５程度の低屈折率層は、低屈折率材料として、例えば、酸化珪素、フッ化マグネシウム等を含有することが好ましく、酸化珪素を含有することがより好ましい。
　また、屈折率１．８０～２．４０程度の高屈折率層は、高屈折率材料として、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等を含有することが好ましく、酸化ニオブを含有することがより好ましい。
　また、低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．５０～１．８５程度の中屈折率層として、例えば、酸化チタンや、上記低屈折率材料と高屈折率材料の混合物（酸化チタンと酸化珪素との混合物等）からなる薄膜を形成してもよい。
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体１は、光学調整層が、第一の低屈折率層、高屈折率層、及び第二の低屈折率層を備えることが好ましい。
　例えば、図２に示すように、フィルムミラー積層体１は、基材フィルム１４、第一の低屈折率層１３ａ、高屈折率層１３ｂ、第二の低屈折率層１３ｃ、金属反射層１１、及び粘着剤層１０をこの順に有する積層体であってもよい。
　第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層が酸化珪素を含有することが好ましい。
　第一の低屈折率層の厚みは、防食層としての機能の観点から５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　高屈折率層の厚みは、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　第二の低屈折率層の厚みは、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　また、光学調整層１３の積層構成としては、基材フィルム１４側から、膜厚２４０ｎｍ～２６０ｎｍの高屈折率層と、膜厚１２０ｎｍ～１４０ｎｍの低屈折率層との２層構成；膜厚１７０ｎｍ～１８０ｎｍの中屈折率層と、膜厚６０ｎｍ～７０ｎｍ程度の高屈折率層と、膜厚１３５ｎｍ～１４５ｎｍ程の低屈折率層との３層構成；膜厚２５ｎｍ～５５ｎｍの高屈折率層と、膜厚３５ｎｍ～５５ｎｍの低屈折率層と、膜厚８０ｎｍ～２４０ｎｍの高屈折率層と、膜厚１２０ｎｍ～１５０ｎｍの低屈折率層との４層構成；膜厚１５ｎｍ～３０ｎｍの低屈折率層と、膜厚２０ｎｍ～４０ｎｍの高屈折率層と、膜厚２０ｎｍ～４０ｎｍの低屈折率層と、膜厚２４０ｎｍ～２９０ｎｍの高屈折率層と、膜厚１００ｎｍ～２００ｎｍの低屈折率層との５層構成等が挙げられる。光学調整層１３を構成する薄膜の屈折率や膜厚の範囲は上記例示に限定されない。また、光学調整層１３は、６層以上の薄膜の積層体でもよい。
　なお、フィルムミラー積層体１は光学調整層１３を複数層備えてもよい。
　例えば、酸化物によっては、酸化ニオブのように、粘着剤と積層された状態で紫外光を受けると還元される物質もあり、還元作用を防ぐために、更に保護層として酸化珪素からなる層を積層していても良い。
　＜金属反射層＞
　本実施形態における金属反射層１１は、光学調整層１３の上に形成される。金属反射層１１は、金属光沢を有する層であることが好ましい。金属反射層１１を形成する材料に特に限定はなく、金属及び樹脂を含んでいてもよい。金属反射層１１は金属層であってもよい。
　金属反射層１１が金属層である場合について説明する。
　金属反射層１１は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低い金属により形成したものであることが望ましい。金属反射層１１は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。このような理由から、金属反射層１１としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。
　特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からＡｌおよびそれらの合金が好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を５０質量％以上とすることが好ましい。
　金属反射層１１の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常２０ｎｍ以上が好ましく、一方、シート抵抗や電磁波透過性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、２０ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、３０ｎｍ～７０ｎｍがより好ましい。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、フィルムミラー積層体１を支持基材に貼付して作製したミラー部材を鏡面体として用いた場合の見栄えも良い。
＜粘着剤層＞
　粘着剤層１０は、粘着剤から形成することができる。
　粘着剤層１０を形成する粘着剤は透明粘着剤であることが好ましく、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、及びポリエーテル系粘着剤のいずれかを単独で、或いは、２種類以上を組み合わせて使用することができる。透明性、加工性及び耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤を用いることが好ましい。
　粘着剤層１０は、被着部材に貼付される際まで剥離ライナーにより保護されていることが好ましい。
　粘着剤層１０を形成する粘着剤は、ベースポリマーを含有する粘着剤組成物（以下、単に「粘着剤組成物」と称する場合がある）により形成されることが好ましい。ベースポリマーとしては、粘着剤に用いられる公知のポリマーを用いることが可能である。ここで、ベースポリマーとは、粘着剤組成物に含まれるポリマーの主成分をいう。また、この明細書において「主成分」とは、特記しない場合、５０質量％を超えて含まれる成分を指す。
（粘着剤組成物）
　粘着剤組成物は、ベースポリマーとして（メタ）アクリル系ポリマーを含むことが好ましい。（メタ）アクリル系ポリマーを構成する一部のモノマーは粘着剤組成物中に未反応モノマーとして含まれていてもよい。
　本発明の実施形態における（メタ）アクリル系ポリマーは、（メタ）アクリル酸アルキル及び水酸基含有モノマーをモノマー単位として含有する水酸基含有（メタ）アクリル系ポリマーであることが好ましい。水酸基を導入する手法は特に制限されないが、例えば、水酸基含有モノマーを共重合する手法が容易に行うことができる。
　なお、本発明の実施形態における（メタ）アクリル系ポリマーとは、アクリル系ポリマー及び／又はメタクリル系ポリマーをいい、また（メタ）アクリレートはアクリレート及び／又はメタクリレートをいい、また（メタ）アクリル酸アルキルはアクリル酸アルキル及び／又はメタクリル酸アルキルをいう。
　（メタ）アクリル酸アルキルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルなどが挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
　前記水酸基含有モノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０－ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２－ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、（４－ヒドロキシメチルシクロへキシル）メチルアクリレート、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどが挙げられる。これらのモノマーは単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
　前記水酸基含有モノマーは、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は（メタ）アクリル系ポリマー１００質量部に対して、１～４０質量部であることが好ましく、２～３０質量部であることがより好ましい。水酸基含有モノマーを共重合することにより、架橋などによる反応点が付与された水酸基含有（メタ）アクリル系ポリマーとすることとなる。
　本発明の実施形態に用いられる（メタ）アクリル系ポリマーは、重量平均分子量が３０万～２５０万程度であることが望ましい。重量平均分子量が３０万より小さい場合は、粘着剤組成物の凝集力が小さくなることにより糊残りを生じる傾向がある。重量平均分子量はＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定して得られたものをいう。
　また、粘着性能のバランスが取りやすい理由から、前記（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下（通常－１００℃以上）、好ましくは－１０℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が０℃より高い場合、ポリマーが流動しにくくなる。なお、（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、用いるモノマー成分や組成比を適宜変えることにより前記範囲内に調整することができる。
　また、前記モノマー以外にも、その他の重合性モノマーとして、（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移点や剥離性を調整するための重合性モノマーなどを、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。
　（メタ）アクリル系ポリマーにおいて用いられるその他の重合性モノマーとしては、例えば、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステルモノマー、芳香族ビニルモノマーなどの凝集力・耐熱性向上成分や、酸無水物基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、Ｎ－アクリロイルモルホリン、ビニルエーテルモノマーなどの接着力向上や架橋化基点として働く官能基を有す成分を適宜用いることができる。これらのモノマー化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
　前記シアノ基含有モノマーとしては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。
　前記ビニルエステルモノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニルなどが挙げられる。
　前記芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α－メチルスチレンなどが挙げられる。
　前記アミド基含有モノマーとしては、例えば、アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、Ｎ－ビニル－２－ピロリドンなどが挙げられる。
　前記アミノ基含有モノマーとしては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキルエステルなどが挙げられる。
　前記エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテルなどが挙げられる。
　前記ビニルエーテルモノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテルなどが挙げられる。
　本発明の実施形態において、その他の重合性モノマーは、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は（メタ）アクリル系ポリマー１００質量部に対して、０～４０質量部であることが好ましく、０～３０質量部であることがより好ましい。
　なお、（メタ）アクリル系ポリマーの重合法は特に制限されず、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、ＵＶ重合などの公知の重合法を採用できる。また、得られる共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体など何れでもよい。
　本発明の実施形態において、粘着剤組成物は上記ベースポリマー以外のポリマー成分を含んでいてもよい。
　本発明の実施形態において、粘着剤組成物は架橋剤を含むことが好ましく、架橋剤としてはイソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。イソシアネート系架橋剤は密着性及び凝集性を付与するため用いられる。
　イソシアネート系架橋剤としては、多官能イソシアネート化合物が用いられ、分子中に２個以上のイソシアネート基を有する種々の化合物が含まれる。
　イソシアネート化合物としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの脂環族イソシアネート類、２，４－トリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどの芳香族イソシアネート類、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（商品名コロネートＬ、日本ポリウレタン工業社製）、トリメチロールプロパン／へキサメチレンジイソシアネート３量体付加物（商品名コロネートＨＬ、日本ポリウレタン工業社製）、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（商品名コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）などのイソシアネート付加物などが挙げられる。なかでも、イソシアヌレート環を有するものが特に好ましく、例えば、長鎖アルキレンジオール変性のイソシアヌレート環を有するポリイソシアネート（大日本インキ化学工業社製、バーノックＤＮ－９９５）、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（商品名コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）などが挙げられる。これらの化合物は単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。
　本発明の実施形態に用いられる架橋剤の含有量は、粘着物性に影響を及ぼさない程度で配合すればよいが、通常（メタ）アクリル系ポリマー１００質量部に対し、０．２～１０質量部含有され、０．５～８質量部含有されていることが好ましく、１～６質量部含有されていることがより好ましい。
　また、本発明の実施形態において、粘着剤組成物は架橋成分として、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート等の多官能（メタ）アクリル系モノマーを含むことも好ましい。なお、本発明の実施形態における（メタ）アクリル系モノマーとは、アクリル系モノマー及び／又はメタクリル系モノマーをいう。
　多官能（メタ）アクリル系モノマーは、通常（メタ）アクリル系ポリマー１００質量部に対し、０．２～１０質量部含有され、０．５～８質量部含有されていることが好ましく、１～６質量部含有されていることがより好ましい。
　なお、アクリル系粘着剤には、前記例示した以外の架橋剤（ポリアミン化合物、メラミン樹脂、アジリジン誘導体、尿素樹脂）、重合開始剤、粘着付与剤、可塑剤、シランカップリング剤、着色剤、顔料などの粉体、染料、界面活性剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、帯電防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、粒子状、箔状物など等を適宜に使用することもできる。これらの成分は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
　（粘着剤層の形成方法）
　粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物を金属反射層１１上に塗布し、溶剤等を乾燥除去することにより形成することもできる。粘着剤組成物の塗布にあたっては、適宜に一種以上の溶剤を加えてもよい。
　また、前記粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物により保護フィルム上に形成した粘着剤層と保護フィルムとの積層体の粘着剤層側の面と、金属反射層１１を貼り合せることにより形成することもできる。
　粘着剤層の厚みは、１～３００μｍであることが好ましく、２～２５０μｍであることがより好ましく、３～２５０μｍであることがさらに好ましく、５～１００μｍであることがよりさらに好ましい。
　粘着剤層の厚さは、ダイヤルゲージにより測定することができる。
　粘着剤組成物の塗布方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等の方法が挙げられる。
　前記加熱乾燥温度は、３０℃～２００℃程度が好ましく、４０℃～１８０℃がより好ましく、８０℃～１６０℃がさらに好ましい。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する粘着剤層を得ることができる。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、５秒～２０分程度が好ましく、３０秒～１０分がより好ましく、１分～８分がさらに好ましい。
　前記粘着剤組成物が、活性エネルギー線硬化型粘着剤の場合には、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより粘着剤層を形成することができる。紫外線照射には、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルライトランプ等を用いることができる。
　フィルムミラー積層体における粘着剤層は、剥離シート（セパレータ）により保護することができる。
　例えば、フィルムミラー積層体の出荷時には粘着剤層を剥離シートにより保護した状態であり、その後、剥離シートを剥離し支持基材に貼り合わせてミラー部材を製造することができる。
　剥離シートとしては、粘着剤層を保護することができるものであれば特に制限はなく、例えば、プラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
　前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフイルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
　前記剥離シートの厚みは、通常５～２００μｍ、好ましくは５～１００μｍ程度である。前記剥離シートには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記剥離シートの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体は、基材フィルム１４、光学調整層１３、金属反射層１１、及び粘着剤層１０の他に、用途に応じてその他の層を備えていてもよい。
　その他の層としては、例えば、ハードコート層、バリア層、易接着層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
＜バリア層＞
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体がバリア層を備える場合、金属反射層１１の光学調整層１３側とは反対側の面上に備えることが好ましい。
　バリア層は、金属反射層１１の酸化（腐食）を抑制するための層であり、バリア層は、金属および半金属の少なくとも１種の酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。金属としては、例えば、アルミニウム、チタン、インジウム、マグネシウムなどを用いることができ、半金属としては、例えば、ケイ素、ビスマス、ゲルマニウムなどを用いることができる。
　具体的には、例えばＺｎＯ＋Ａｌ２Ｏ３（ＡＺＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化炭化窒化ケイ素膜（ＳｉＯＣＮ）、酸化窒化ケイ素膜（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素膜（ＳｉＮ）、ＳｉＯＸ、ＡｌＯＸ、ＡｌＯＮ、ＴｉＯＸ等を用いることができる。中でも、ＡＺＯ、ＩＴＯ、ＡｌＯＸ及びＳｉＯ２からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましく、ＡｌＯＸを用いることがより好ましい。
　バリア層が金属反射層１１の酸化（腐食）を抑制する性能（以下「バリア性」ともいう）の向上のためには、バリア層内におけるネットワーク構造（網目状の構造）を緻密にするような炭素、窒素を含むことが好ましい。さらに透明性を向上させるためには、酸素を含有していることが好ましい。すなわち、バリア層は、金属および半金属の少なくとも１種の酸化窒化炭化物を含むことが好ましい。
　バリア層の厚みは特に限定はされないが、バリア性を向上させるためには１ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が更に好ましい。また、反射率や金属光沢感を向上させるためには１００ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下が更に好ましい。
［フィルムミラー積層体の製造］
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体の製造方法は特に限定されない。例えば、基材フィルム１４の一方の面に第一の低屈折率層１３ａ、高屈折率層１３ｂ、第二の低屈折率層１３ｃ、金属反射層１１をこの順に形成することができる。また、粘着剤層１０は、金属反射層１１の第二の低屈折率層１３ｃ側とは反対側の面に、粘着剤層１０を形成し得る組成物を塗布等により直接形成してもよく、別途形成した粘着剤層１０を貼り合せることにより形成してもよい。
　第一の低屈折率層１３ａ、高屈折率層１３ｂ、第二の低屈折率層１３ｃ、金属反射層１１を形成する場合の形成方法は特に限定されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリング法が好ましい。
　本発明の実施形態に係るフィルムミラー積層体は、ミラー部材に用いることができる。
　また、本実施形態のフィルムミラー積層体は、部材の加飾に用いることもできる。例えば、被着部材に貼付して用いてもよく、被着部材としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することができるが、これに限定されるものではない。
［ミラー部材］
　本発明の実施形態に係るミラー部材は、上記フィルムミラー積層体と支持基材とを備え、前記フィルムミラー積層体が、前記粘着剤層を介して前記支持基材に貼付されている。
　図３は、本発明の一実施形態によるミラー部材の概略断面図である。図３に示すミラー部材１００は、基材フィルム１４、第一の低屈折率層１３ａ、高屈折率層１３ｂ、第二の低屈折率層１３ｃ、金属反射層１１、及び粘着剤層１０をこの順に有するフィルムミラー積層体が、粘着剤層１０を介して支持基材２１に貼付されている。
　本発明の実施形態に係るミラー部材は、フィルムミラー積層体を支持基材に貼付することにより作製できるため、複雑な曲面形状の部材であっても生産性良く製造することができる。
　また、本発明の実施形態に係るミラー部材は、耐傷性に優れる。これは基材フィルムが最外層となるためである。
（支持基材）
　支持基材の材料としては、特に限定はなく、樹脂、ガラス、金属等が挙げられ、樹脂を用いることが好ましい。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（例えば、ノルボルネン系、シクロペンタジエン系）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの材料は、単独使用または２種以上併用することができる。中でも、黒色にすることが可能であることにより遮光性が優れているため、ポリカーボネート樹脂が好ましい。
［フィルムミラー積層体及びミラー部材の用途］
　本実施形態のフィルムミラー積層体及びミラー部材の用途としては例えば、車両用構造部品、ヘッドアップディスプレイ等の車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。電子機器及び家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等の電子情報機器等が挙げられる。
　以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例１〕
［低屈折率層及び高屈折率層の作製］
　基材フィルムとして、東レ株式会社製のＰＥＴフィルム　ルミラー（以下フィルム基材）を準備した。
　フィルム基材を、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、フィルム基材の片面に、第一の低屈折率層として酸化珪素２０ｎｍ（屈折率１．４６）、高屈折率層として酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）５０ｎｍ（屈折率２．３２）、第二の低屈折率層として酸化珪素（ＳｉＯ２）７０ｎｍの順で、透明酸化物の薄膜を形成した。酸化珪素と酸化ニオブの薄膜の形成にあたっては、ターゲットとしては純珪素ターゲット、純ニオブターゲットを用い、アルゴンガスに加え、酸素ガスを導入し、反応性スパッタリングを実施することで、それぞれ透明酸化物の薄膜を得た。
（酸化珪素成膜条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ及びＯ２を用いてＯ２／（Ａｒ＋Ｏ２）が０．３となるよう調整
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
（酸化ニオブ成膜条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ及びＯ２を用いてＯ２／（Ａｒ＋Ｏ２）が０．１となるよう調整
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
［金属反射層の作製］
　第一の低屈折率層、高屈折率層、及び第二の低屈折率層を製膜したフィルム基材をマグネトロンスパッタリング装置にセットし、第二の低屈折率層上に、Ａｌターゲットを用いて、金属反射層として、厚み４４ｎｍのアルミニウム層（Ａｌ層）を形成した。
（Ａｌ層形成条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
［バリア層の作製］
　第一の低屈折率層、高屈折率層、第二の低屈折率層、及びＡｌ層を製膜したフィルム基材をマグネトロンスパッタリング装置にセットし、Ａｌ層上に、Ａｌターゲットを用いて、バリア層として、厚み２０ｎｍの酸化アルミニウム層（Ａｌ２Ｏ３層）を形成した。
（酸化アルミニウム層形成条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ及びＯ２を用いてＯ２／（Ａｒ＋Ｏ２）が０．１となるよう調整
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
　以上により、５０μｍのＰＥＴ基材の片面上に、酸化珪素２０ｎｍ、酸化ニオブ５０ｎｍ、酸化珪素７０ｎｍ、アルミニウム４４ｎｍ、酸化アルミニウム２０ｎｍの順で薄層が形成された積層体１を作製した。
［粘着剤層の作製］
〔粘着剤組成物１の調製〕
（オリゴマー組成物１の調製）
　モノマー成分としてメタクリル酸ジシクロペンタニル（ＤＣＰＭＡ）６０質量部及びメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）４０質量部、連鎖移動剤としてα―チオグリセロール３．５質量部、および重合溶媒としてトルエン１００質量部を混合し、窒素雰囲気下にて７０℃で１時間攪拌した。次に、熱重合開始剤として、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を投入し、７０℃で２時間反応させたのち、８０℃に昇温して２時間反応させた。その後、反応液を１３０℃に加熱して、トルエン、連鎖移動剤及び未反応モノマーを乾燥除去して、固形状のアクリルオリゴマー（オリゴマー組成物１）を得た。オリゴマー組成物１の重量平均分子量は５１００、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３０℃であった。
（プレポリマー組成物１の重合）
　モノマー成分としての２－エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）６７質量部、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン（ＮＶＰ）１５質量部、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）３質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレート（４－ＨＢＡ）１５質量部、光重合開始剤としての商品名「イルガキュア６５１」（ＢＡＳＦ社製）０．０５質量部および商品名「イルガキュア１８４」（ＢＡＳＦ社製）０．０５質量部を配合した後、このモノマー混合物を窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に光重合させることにより、プレポリマー組成物１（重合率約１０％）を得た。
（粘着剤組成物１の調製）
　得られたプレポリマー組成物１　１００質量部に、オリゴマー組成物１　５質量部、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（商品名「Ａ－ＨＤ－Ｎ」、新中村化学工業株式会社製）０．３質量部、シランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ－４０３」、信越化学工業社製）０．３質量部を添加して均一に混合し、粘着剤組成物１を得た。ゲル分率は８２％であった。
［粘着シートの作製］
（粘着シート１）
　表面にシリコーン系離型層が設けられた厚み７５μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（三菱ケミカル株式会社製「ダイアホイルＭＲＦ７５」）を基材（重剥離フィルム）として、基材上に上記の粘着剤組成物１を厚み２５μｍになるように塗布して塗布層を形成した。この塗布層上に、カバーシート（軽剥離フィルム）として片面がシリコーン剥離処理された厚み７５μｍのＰＥＴフィルム（三菱ケミカル株式会社製「ダイアホイルＭＲＥ７５」）を貼り合わせた。
　この積層体に、カバーシート側から、ランプ直下の照射面における照射強度が５ｍＷ／ｃｍ２になるように位置調節したブラックライトにより、紫外線を照射して光硬化を行い、厚み２５μｍの粘着剤層からなる粘着シートを得た。
［フィルムミラー積層体及びミラー部材の作製］
　上記で作製した厚み２５μｍの粘着シートの軽剥離フィルムを剥離し、積層体１の基材フィルムのスパッタ成膜のされた面（酸化アルミニウム層が成膜された面）に貼り合わせ、フィルムミラー積層体を作製した。
　フィルムミラー積層体の粘着剤層側の重剥離フィルムを剥離し、支持基材としての５．０ｍｍ厚みのポリカーボネート基材（旭硝子株式会社製カーボグラス　黒色）に貼り合わせをし、ミラー部材を作製した。試験片サイズは５０ｍｍ×１５０ｍｍである。
〔実施例２〕
　保護層として酸化アルミニウム層を設けなかった以外は実施例１と同様にして、５０μｍのＰＥＴ基材の片面上に、酸化珪素２０ｎｍ、酸化ニオブ５０ｎｍ、酸化珪素７０ｎｍ、アルミニウム４４ｎｍの順で薄層が形成された積層体２を作製した。
　実施例１と同様の手法にて作製した厚み２５μｍの粘着シートの軽剥離フィルムを剥離し、積層体２の基材フィルムのスパッタ成膜のされた面（アルミニウム層が成膜された面）に貼り合わせ、フィルムミラー積層体を作製した。また、実施例１と同様の手法にて図３に示すミラー部材を作製した。図３に示す実施例２のミラー部材１００は、基材フィルム１４、第一の低屈折率層１３ａ、高屈折率層１３ｂ、第二の低屈折率層１３ｃ、金属反射層１１、及び粘着剤層１０をこの順に有するフィルムミラー積層体が粘着剤層１０を介して支持基材２１に貼付されている。
〔比較例１〕
［金属反射層の作製］
　フィルム基材として、東レ株式会社製のＰＥＴフィルム　ルミラー（以下フィルム基材）を準備した。Ａｌターゲットを、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、フィルム基材の片面に、金属反射層として、厚み４４ｎｍのアルミニウム層（Ａｌ層）を形成した。
（Ａｌ層形成条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
［低屈折率層及び高屈折率層の作製］
　Ａｌ層を形成したフィルム基材を、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、Ａｌ層の上に、第二の低屈折率層として酸化珪素７０ｎｍ（屈折率１．４６）、高屈折率層として酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）５０ｎｍ（屈折率２．３２）、第一の低屈折率層として酸化珪素（ＳｉＯ２）２０ｎｍの順で、透明酸化物の薄膜を形成した。酸化珪素と酸化ニオブの薄膜の形成にあたっては、ターゲットとしては純珪素ターゲット、純ニオブターゲットを用い、アルゴンガスに加え、酸素ガスを導入し、反応性スパッタリングを実施することで、それぞれ透明酸化物の薄膜を得た。
（酸化珪素成膜条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ及びＯ２を用いてＯ２／（Ａｒ＋Ｏ２）が０．３となるよう調整
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
（酸化ニオブ成膜条件）
　到達真空度：１．０×１０－４Ｐａ
　スパッタガス：Ａｒ及びＯ２を用いてＯ２／（Ａｒ＋Ｏ２）が０．１となるよう調整
　チャンバー気圧：０．３０Ｐａ
　基材温度：２５℃
　以上により、５０μｍのＰＥＴ基材の片面上に、金属反射層としてアルミニウム４４ｎｍ、第二の低屈折率層として酸化珪素７０ｎｍ、高屈折率層として酸化ニオブ５０ｎｍ、第一の低屈折率層として酸化珪素２０ｎｍの順で薄層が形成された積層体３を作製した。
［フィルムミラー積層体及びミラー部材の作製］
　実施例１と同様の手法にて作製した厚み２５μｍの粘着シート１の軽剥離フィルムを剥離し、積層体３の基材フィルムのスパッタ成膜のされていない面に貼り合わせ、フィルムミラー積層体を作製した。
　また、実施例１と同様の手法にて図４に示すミラー部材を作製した。図４に示す比較例１のミラー部材２００は、粘着剤層１０、基材フィルム１４、金属反射層１１、第二の低屈折率層１３ｃ、高屈折率層１３ｂ、及び第一の低屈折率層１３ａをこの順に有するフィルムミラー積層体が粘着剤層を介して支持基材２１に貼付されている。
＜反射率測定＞
　日立ハイテクノロジーズ株式会社製の日立分光光度計Ｕ－４１００を使用し、作製した実施例及び比較例のミラー部材の反射率を測定した。反射率の測定は実施例１及び２についてはＰＥＴ基材面、比較例１については第一の低屈折率層を光の入射面として測定した。
＜密着性試験（１１０℃条件）＞
　作製した実施例及び比較例のミラー部材を、高温で１０００時間保持した後、密着性試験を行った。
　高温での保持は、ミラー部材を、１１０℃に設定したエスペック株式会社製恒温恒湿装置を使用し、１０００時間投入することにより行った。
　密着性試験は碁盤目テープ試験ＪＩＳ　Ｋ　５４００、クロスカット試験法（塗装の密着性試験）に準じて実施した。なお、テープを圧着させ剥離する動作は一度剥離を行ったあと、９０度に角度を変えてもう一度テープを圧着させ剥離を行い碁盤目の剥がれを観察した。そして１００マスの中で剥がれが発生したマスの個数をカウントした。１マスの中で１／４以上の面積がテープ剥離により剥がれているとき剥がれとしてカウントした。
＜密着性試験（６５℃９５％ＲＨ条件）＞
　作製した実施例及び比較例のミラー部材を、高温高湿で１０００時間保持した後、上記した密着性試験（１１０℃条件）と同様に密着性試験を行った。
　高温高湿での保持は、ミラー部材を、６５℃９５％ＲＨ条件に設定したエスペック株式会社製恒温恒湿装置を使用し、１０００時間投入することにより行った。
　各実施例及び比較例についての測定結果及び試験結果について、下記表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記のとおり、本実施例のフィルムミラー積層体は、密着性に優れ、良好な反射率が得られることから、ミラー部材に適したものであった。
　また、本実施例のフィルムミラー積層体は、粘着剤層を介して支持基材に貼り合わせ可能であり、生産性良くミラー部材を得ることができる上、複雑な曲面形状等へも簡単に適応可能である。
　本発明によれば、生産性良く、複雑な曲面形状等へも簡単に適応が可能であり、密着性に優れ、良好な反射率が得られるフィルムミラー積層体、及びミラー部材を提供することができる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０２０年６月２２日出願の日本特許出願（特願２０２０－１０７１５４）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　１　フィルムミラー積層体
　１０　粘着剤層
　１１　金属反射層
　１３　光学調整層
　１３ａ　第一の低屈折率層
　１３ｂ　高屈折率層
　１３ｃ　第二の低屈折率層
　１４　基材フィルム
　２１　支持基材
　１００，２００　ミラー部材

Claims (7)

  1. 　基材フィルム、光学調整層、金属反射層、及び粘着剤層をこの順に有するフィルムミラー積層体。
  2. 　前記光学調整層が、第一の低屈折率層、高屈折率層、及び第二の低屈折率層を備え、
    　前記基材フィルム、前記第一の低屈折率層、前記高屈折率層、前記第二の低屈折率層、前記金属反射層、及び前記粘着剤層をこの順に有する請求項１に記載のフィルムミラー積層体。
  3. 　前記第一の低屈折率層及び前記第二の低屈折率層が酸化珪素を含有する、請求項２に記載のフィルムミラー積層体。
  4. 　前記高屈折率層が酸化ニオブを含有する、請求項２又は３に記載のフィルムミラー積層体。
  5. 　波長３８０～７８０ｎｍの可視光線を前記基材フィルム側から照射して測定した反射率が９０％以上である、請求項１～４のいずれか一項に記載のフィルムミラー積層体。
  6. 　前記金属反射層は、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含む、請求項１～５のいずれか一項に記載のフィルムミラー積層体。
  7. 　請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルムミラー積層体と支持基材とを備え、前記フィルムミラー積層体が、前記粘着剤層を介して前記支持基材に貼付されている、ミラー部材。
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