KR20230025794A - 필름 미러 적층체 및 미러 부재 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기재 필름, 광학 조정층, 금속 반사층, 및 점착제층을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체, 및 상기 필름 미러 적층체와 지지 기재를 구비하고, 상기 필름 미러 적층체가 상기 점착제층을 개재해서 상기 지지 기재에 부착되어 있는 미러 부재에 관한 것이다.
Description
본 발명은 필름 미러 적층체 및 미러 부재에 관한 것이다.
차량의 운전자는 프런트 유리를 통해서 전방을 주시함과 아울러, 인스톨먼트 패널 상의 계기류를 목시하면서 운전을 실시한다. 즉, 시선이 전방과 하방의 계기류로 이동한다. 전방을 본 상태에서 계기류를 볼 수 있으면, 시선의 이동이 없어 운전성(최종적으로, 안전성)의 향상을 기대할 수 있다. 이 지견으로부터, 헤드업 디스플레이 장치가 개발되어 실용에 제공되고 있다.
헤드업 디스플레이 장치에 있어서는, 대시보드 장치 내에 있어서, 광원으로부터의 영상을 프런트 유리에 허상으로 해서 상을 연결함으로써, 운전자에게 영상으로서 시인되고 있다. 광원으로부터의 영상 정보를 휘도를 저하시키지 않고 투영시키기 위해서는, 높은 반사율을 가진 경면체가 필요해진다.
운전의 안전성을 높이는 관점에서, 시점의 이동이 적은 헤드업 디스플레이는 날이 갈수록 주목을 높이고 있으며, 그 반사경으로서 이용되는 경면체의 수요도 높아지고 있다. 또한, 차량의 충돌 등의 사고에 의해 파손되는 리스크가 낮은 것, 중량이 가벼운 것 등의 이유로부터, 경면체를 구성하는 지지 기판으로서는 플라스틱 기판, 특히 내열성의 높음으로부터 폴리카보네이트 기판 등이 사용되고 있다.
종래의 경면체의 제법에서는 배치식의 증착·스퍼터 장치를 사용하여, 폴리카보네이트 기판에 금속 박막을 형성하는 방법이 일반적이었다. 그러나, 배치식 제법은 생산의 효율이 낮고, 날마다 경면체의 수요가 높아지는 경향에 대해, 공급 부족이 된다고 하는 과제가 있어, 생산성 좋게 제조할 수 있는 경면체가 요망되고 있다.
또한, 지지체에 부착할 수 있는 필름 미러가 검토되어 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에 있어서는 적어도 광반사층, 수지 기재, 및 점착층을 갖고, 상기 점착층이 아크릴계 점착제에 의해 형성된 필름 미러가 개시되고, 태양열 발전용 반사 장치에 사용되고 있다.
발명자들은 수지로 제작한 지지 기재에 부착함으로써, 경면체로서 사용 가능한 미러 부재를 생산성 좋게 제조할 수 있는 필름 미러에 대해서 검토를 행했다. 그러나, 종래의 필름 미러를 점착제를 사용해서 수지제의 지지 기재에 부착한 미러 부재는 박리가 쉬워지는 경우가 있고, 헤드업 디스플레이 장치에 있어서의 경면체로서 사용하기 위해서는 밀착성이 충분하지 않은 것을 알았다.
그래서, 생산성 좋고, 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응이 가능하며, 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지는 필름 미러 적층체 및 미러 부재가 요구되고 있다.
본 발명은 상기를 감안하여 완성된 것이며, 그 과제는 생산성 좋고, 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응이 가능하며, 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지는 필름 미러 적층체 및 미러 부재를 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 예의 연구를 거듭한 결과, 기재 필름, 광학 조정층, 금속 반사층, 및 점착제층을 이 순서대로 적층함으로써, 생산성 좋고, 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응이 가능하며, 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지는 필름 미러 적층체, 및 미러 부재가 제조 가능해지고, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견했다.
즉, 본 발명은 이하와 같다.
〔1〕기재 필름, 광학 조정층, 금속 반사층, 및 점착제층을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체.
〔2〕〔1〕에 있어서,
상기 광학 조정층이 제 1 저굴절률층, 고굴절률층, 및 제 2 저굴절률층을 구비하고,
상기 기재 필름, 상기 제 1 저굴절률층, 상기 고굴절률층, 상기 제 2 저굴절률층, 상기 금속 반사층, 및 상기 점착제층을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체.
〔3〕〔2〕에 있어서,
상기 제 1 저굴절률층 및 상기 제 2 저굴절률층이 산화규소를 함유하는 필름 미러 적층체.
〔4〕〔2〕 또는 〔3〕에 있어서,
상기 고굴절률층이 산화니오브를 함유하는 필름 미러 적층체.
〔5〕〔1〕 내지 〔4〕 중 어느 하나에 있어서,
파장 380∼780㎚의 가시광선을 상기 기재 필름측으로부터 조사해서 측정한 반사율이 90% 이상인 필름 미러 적층체.
〔6〕〔1〕 내지 〔5〕 중 어느 하나에 있어서,
상기 금속 반사층은 알루미늄(Al), 아연(Zn), 납(Pb), 구리(Cu), 은(Ag)으로부터 선택된 적어도 1종의 금속, 및 상기 금속을 주성분으로 하는 합금 중 어느 하나를 포함하는 필름 미러 적층체.
〔7〕〔1〕 내지 〔6〕 중 어느 한 하나에 기재된 필름 미러 적층체와 지지 기재를 구비하고, 상기 필름 미러 적층체가 상기 점착제층을 개재해서 상기 지지 기재에 부착되어 있는 미러 부재.
본 발명은, 생산성 좋고, 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응이 가능하며, 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지는 필름 미러 적층체, 및 미러 부재를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 의한 필름 미러 적층체의 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 의한 필름 미러 적층체의 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 의한 미러 부재의 개략 단면도이다.
도 4는 비교예 1의 미러 부재의 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 의한 필름 미러 적층체의 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 의한 미러 부재의 개략 단면도이다.
도 4는 비교예 1의 미러 부재의 개략 단면도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하에 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
[필름 미러 적층체]
도 1에 본 발명의 일 실시형태에 의한 필름 미러 적층체(1)의 개략 단면도를 나타낸다. 필름 미러 적층체(1)는 기재 필름(14), 광학 조정층(13), 금속 반사층(11), 및 점착제층(10)을 이 순서대로 갖는다.
본 실시형태의 필름 미러 적층체(1)는 점착제층(10)의 금속 반사층(11)측과는 반대측의 면을 지지 기재에 부착해서 사용할 수 있다.
본 실시형태의 필름 미러 적층체(1)는 이 구성에 의해 지지 기재에 부착했을 때에 기재 필름을 최외층으로 할 수 있고, 생산성이 좋고, 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응이 가능해서, 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지는 미러 부재를 형성할 수 있다.
본 실시형태의 필름 미러 적층체(1)는 파장 380∼780㎚의 가시광선을 기재 필름측으로부터 조사해서 측정한 반사율이 90% 이상인 것이 바람직하고, 95% 이상인 것이 보다 바람직하다. 반사율을 90% 이상으로 함으로써, 반사경으로서의 기능이 얻어진다.
본 실시형태의 필름 미러 적층체(1)의 반사율은, 필름 미러 적층체를 점착제층을 개재해서 지지 기재에 부착한 미러 부재에 대해서 측정한 것이며, 실시예에 기재의 방법에 의해 측정할 수 있다.
<기재 필름>
기재 필름(14)은 특별히 한정은 되지 않고, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리아미드, 폴리염화비닐, 폴리카보네이트(PC), 시클로올레핀 폴리머(COP), 폴리스티렌, 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌, 폴리시클로올레핀, 폴리우레탄, 아크릴(PMMA), ABS 등의 단독 중합체나 공중합체로 이루어지는 필름을 사용할 수 있다. 이들 부재에 의하면, 투명하고 광학 흡수는 적어 시각 효과에 영향을 미치는 일도 없다. 단, 이후에 기재 필름(14) 상에 각종 층을 형성하기 위해서, 증착이나 스퍼터 등의 고온을 견딜 수 있는 것이 바람직하다. 따라서, 상기 재료 중에서도, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 아크릴, 폴리카보네이트, 시클로올레핀 폴리머, ABS, 폴리프로필렌, 폴리우레탄이 바람직하다. 그 중에서도, 내열성과 비용의 밸런스가 좋은 점에서 폴리에틸렌테레프탈레이트나 시클로올레핀 폴리머, 폴리카보네이트, 아크릴이 바람직하다. 기재 필름(14)은 단층 필름이어도 좋고 적층 필름이어도 좋다.
가공의 쉬움 등으로부터, 두께는 예를 들면, 6㎛∼250㎛ 정도가 바람직하다. 보다 바람직하게는 20㎛ 이상이며, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 100㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 75㎛ 이하이다. 또한, 기재 필름 상에 형성되는 층과의 부착력을 강하게 하기 위해서, 플라즈마 처리나 이접착 처리등이 실시되어도 좋다.
기재 필름(14)에는 필요에 따라 평활성, 또는 방현성 하드 코트층 등의 하드 코트층이 형성되어 있어도 좋다. 하드 코트층이 형성됨으로써 내찰상성을 향상시킬 수 있다.
하드 코트층은 하드 코트 조성물로 형성할 수 있다. 보다 구체적으로는, 경화성 수지를 함유하는 용액을 하드 코트 조성물로서 기재 필름(14)에 도포함으로써 형성할 수 있다.
경화성 수지로서는 열경화형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지등이 예시된다. 경화성 수지의 종류로서는 폴리에스테르계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 아미드계, 실리콘계, 실시케이트계, 에폭시계, 멜라민계, 옥세탄계, 아크릴우레탄계 등의 각종 수지가 예시된다. 이들 경화성 수지는 1종 또는 2종 이상을 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 경도가 높고, 자외선 경화가 가능해서 생산성이 우수한 점에서, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 및 에폭시계 수지가 바람직하다.
하드 코트층의 두께는, 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상이며, 또한 바람직하게는 10㎛ 이하, 보다 바람직하게는 7.0㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5.0㎛ 이하이다. 하드 코트층의 두께는, 예를 들면 막두께계(디지털 다이얼 게이지)를 사용해서 측정할 수 있다.
<광학 조정층>
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체(1)는 기재 필름(14)과 금속 반사층(11) 사이에 광학 조정층(13)을 구비한다.
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체(1)는 광학 조정층(13)을 구비함으로써 광의 파장에 의한 반사 스펙트럼을 조정하고, 가시광 영역 내의 반사율을 높이는 것을 가능하게 한다.
광학 조정층(13)은 금속 산화물 및/또는 금속 질화물로 이루어지는 층인 것이 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 금속 산화물, 금속 질화물에 함유되는 금속 원소에는 Si 등의 반금속 원소가 포함된다. 또한, 금속 산화물 및/또는 금속 질화물에는 금속 산질화물이 포함된다. 또한, 금속 산화물은 단독의 금속 원소의 산화물(단독 산화물)이어도 좋고, 복수의 금속 원소의 산화물(복합 산화물)이어도 좋다. 마찬가지로, 금속 질화물은 단독의 금속 원소의 질화물(단독 질화물)이어도 좋고, 복수의 금속 원소의 질화물(복합 질화물)이어도 좋다.
금속 원소로서는, 예를 들면 Ce, Nb, Si, Sb, Ti, Ta, Zr, Zn 등이 예시된다.
광학 조정층(13)의 재료로서, 보다 구체적으로는, 예를 들면 CeO2(2.30), NbO(2.33), Nb2O3(2.15), Nb2O5(2.32), SiO2(1.46), SiN(2.03), Sb2O3(2.10), TiO2(2.35), Ta2O5(2.10), ZrO2(2.05), ZnO(2.10), ZnS(2.30) 등이 예시된다(상기 각 재료의 괄호 내의 수치는 굴절률이다).
특히, 광학 조정층(13)은 Nb, Si, Ti로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 원소를 포함하는 것이 바람직하고, 예를 들면 Nb2O5, SiO2, TiO2로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
광학 조정층(13)의 두께는 10㎚∼500㎚인 것이 바람직하다. 비용의 관점에서, 300㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 200㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 색미의 관점에서, 15㎚ 이상인 것이 바람직하고, 20㎚ 이상인 것이 보다 바람직하고, 30㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다.
광학 조정층(13)의 두께는, 예를 들면 표면에 수직 방향(두께 방향)의 단면을 노출시킨 후, 투과형 전자현미경을 사용해서 측정할 수 있다.
광학 조정층(13)의 굴절률은 1.9 이상이 바람직하고, 2.0 이상이 보다 바람직하다. 또한, 두께 제어성의 관점에서, 광학 조정층(13)의 굴절률은 3.5 이하가 바람직하고, 3.0 이하가 보다 바람직하다.
또한, 광학 조정층(13)은 굴절률이 다른 층의 적층체여도 좋고, 저굴절률층과 고굴절률층을 구비하고 있어도 좋다.
굴절률 1.35∼1.55 정도의 저굴절률층은 저굴절률 재료로서, 예를 들면 산화규소, 불화마그네슘 등을 함유하는 것이 바람직하고, 산화규소를 함유하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 굴절률 1.80∼2.40 정도의 고굴절률층은 고굴절률 재료로서, 산화티타늄, 산화니오브, 산화지르코늄, 주석 도프 산화인듐(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO) 등을 함유하는 것이 바람직하고, 산화니오브를 함유하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 저굴절률층과 고굴절률층에 추가하여, 굴절률 1.50∼1.85 정도의 중굴절률층으로서, 예를 들면 산화티타늄이나, 상기 저굴절률 재료와 고굴절률 재료의 혼합물(산화티타늄과 산화규소의 혼합물 등)로 이루어지는 박막을 형성해도 좋다.
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체(1)는 광학 조정층이 제 1 저굴절률층, 고굴절률층, 및 제 2 저굴절률층을 구비하는 것이 바람직하다.
예를 들면, 도 2에 나타내는 바와 같이, 필름 미러 적층체(1)는 기재 필름(14), 제 1 저굴절률층(13a), 고굴절률층(13b), 제 2 저굴절률층(13c), 금속 반사층(11), 및 점착제층(10)을 이 순서대로 갖는 적층체여도 좋다.
제 1 저굴절률층 및 제 2 저굴절률층이 산화규소를 함유하는 것이 바람직하다.
제 1 저굴절률층의 두께는 방식층으로서의 기능의 관점에서 5㎚ 이상인 것이 바람직하고, 10㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 가시광 반사 스펙트럼을 소망의 범위로 조정하는 관점에서 50㎚ 이하인 것이 바람직하고, 30㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 20㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
고굴절률층의 두께는 가시광 반사 스펙트럼을 소망의 범위로 조정하는 관점에서 10㎚ 이상인 것이 바람직하고, 20㎚ 이상인 것이 보다 바람직하고, 30㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 가시광 반사 스펙트럼을 소망의 범위로 조정하는 관점에서 200㎚ 이하인 것이 바람직하고, 150㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 100㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
제 2 저굴절률층의 두께는 가시광 반사 스펙트럼을 소망의 범위로 조정하는 관점에서 10㎚ 이상인 것이 바람직하고, 20㎚ 이상인 것이 보다 바람직하고, 30㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 가시광 반사 스펙트럼을 소망의 범위로 조정하는 관점에서 200㎚ 이하인 것이 바람직하고, 150㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 100㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 광학 조정층(13)의 적층 구성으로서는 기재 필름(14)측으로부터, 막두께 240㎚∼260㎚의 고굴절률층과, 막두께 120㎚∼140㎚의 저굴절률층의 2층 구성;막두께 170㎚∼180㎚의 중굴절률층과, 막두께 60㎚∼70㎚ 정도의 고굴절률층과, 막두께 135㎚∼145㎚ 정도의 저굴절률층의 3층 구성; 막두께 25㎚∼55㎚의 고굴절률층과, 막두께 35㎚∼55㎚의 저굴절률층과, 막두께 80㎚∼240㎚의 고굴절률층과, 막두께 120㎚∼150㎚의 저굴절률층의 4층 구성; 막두께 15㎚∼30㎚의 저굴절률층과, 막두께 20㎚∼40㎚의 고굴절률층과, 막두께 20㎚∼40㎚의 저굴절률층과, 막두께 240㎚∼290㎚의 고굴절률층과, 막두께 100㎚∼200㎚의 저굴절률층의 5층 구성 등이 예시된다. 광학 조정층(13)을 구성하는 박막의 굴절률이나 막두께의 범위는 상기 예시에 한정되지 않는다. 또한, 광학 조정층(13)은 6층 이상의 박막의 적층체여도 좋다.
또한, 필름 미러 적층체(1)는 광학 조정층(13)을 복수층 구비해도 좋다. 예를 들면, 산화물에 따라서는 산화니오브와 같이, 점착제와 적층된 상태에서 자외광을 받으면 환원되는 물질도 있고, 환원 작용을 막기 위해서, 보호층으로서 산화규소로 이루어지는 층을 더 적층하고 있어도 좋다.
<금속 반사층>
본 실시형태에 있어서의 금속 반사층(11)은 광학 조정층(13) 상에 형성된다. 금속 반사층(11)은 금속 광택을 갖는 층인 것이 바람직하다. 금속 반사층(11)을 형성하는 재료에 특별히 한정은 없고, 금속 및 수지를 포함하고 있어도 좋다. 금속 반사층(11)은 금속층이어도 좋다.
금속 반사층(11)이 금속층인 경우에 대해서 설명한다.
금속 반사층(11)은 충분한 광휘성을 발휘할 수 있는 것은 물론, 융점이 비교적 낮은 금속에 의해 형성한 것이 바람직하다. 금속 반사층(11)은 스퍼터링을 사용한 박막 성장에 의해 형성하는 것이 바람직하기 때문이다. 이러한 이유에서, 금속 반사층(11)으로서는 융점이 약 1000℃ 이하의 금속이 적합하고, 예를 들면 알루미늄(Al), 아연(Zn), 납(Pb), 구리(Cu), 은(Ag)으로부터 선택된 적어도 1종의 금속,및 상기 금속을 주성분으로 하는 합금 중 어느 하나를 포함하는 것이 바람직하다.
특히, 물질의 광휘성이나 안정성, 가격 등의 이유에서 Al 및 그것들의 합금이 바람직하다. 또한, 알루미늄 합금을 사용하는 경우에는 알루미늄 함유량을 50질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.
금속 반사층(11)의 두께는 충분한 광휘성을 발휘하도록, 통상 20㎚ 이상이 바람직하고, 또한 시트 저항이나 전자파 투과성의 관점에서, 통상 100㎚ 이하가 바람직하다. 예를 들면, 20㎚∼100㎚가 바람직하고, 30㎚∼70㎚가 보다 바람직하다. 이 두께는, 균일한 막을 생산성 좋게 형성하는데에도 적합하며, 또한 필름 미러 적층체(1)를 지지 기재에 부착해서 제작한 미러 부재를 경면체로서 사용한 경우의 양호한 겉보기에도 좋다.
<점착제층>
점착제층(10)은 점착제로 형성할 수 있다.
점착제층(10)을 형성하는 점착제는 투명 점착제인 것이 바람직하고, 예를 들면 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제 중 어느 하나를 단독으로, 또는 2종류 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점에서, 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 바람직하다.
점착제층(10)은 피착 부재에 부착될 때까지 박리 라이너에 의해 보호되어 있는 것이 바람직하다.
점착제층(10)을 형성하는 점착제는 베이스 폴리머를 함유하는 점착제 조성물 (이하, 단지 「점착제 조성물」이라고 칭하는 경우가 있다)에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 베이스 폴리머로서는, 점착제에 사용되는 공지의 폴리머를 사용하는 것이 가능하다. 여기서, 베이스 폴리머란 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 주성분을 말한다. 또한, 이 명세서에 있어서 「주성분」이란 특기하지 않는 경우, 50질량%를 초과해서 포함되는 성분을 가리킨다.
(점착제 조성물)
점착제 조성물은 베이스 폴리머로서 (메타)아크릴계 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다. (메타)아크릴계 폴리머를 구성하는 일부의 모노머는 점착제 조성물 중에 미반응 모노머로서 포함되어 있어도 좋다.
본 발명의 실시형태에 있어서의 (메타)아크릴계 폴리머는 (메타)아크릴산 알킬 및 수산기 함유 모노머를 모노머 단위로서 함유하는 수산기 함유 (메타)아크릴계 폴리머인 것이 바람직하다. 수산기를 도입하는 방법은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 수산기 함유 모노머를 공중합하는 방법을 용이하게 행할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시형태에 있어서의 (메타)아크릴계 폴리머란 아크릴계 폴리머 및/또는 메타크릴계 폴리머를 말하고, 또한 (메타)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말하고, 또한 (메타)아크릴산 알킬은 아크릴산 알킬 및/또는 메타크릴산 알킬을 말한다.
(메타)아크릴산 알킬로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 프로필, (메타)아크릴산 부틸, (메타)아크릴산 2-에틸헥실 등이 예시된다. 이들 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.
상기 수산기 함유 모노머로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메타)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메타)아크릴레이트, (4-히드록시메틸 시클로헥실)메틸아크릴레이트, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-히드록시(메타)아크릴아미드, 비닐알코올, 알릴알코올, 2-히드록시에틸비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜 모노비닐에테르 등이 예시된다. 이들 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.
상기 수산기 함유 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋지만, 전체로서의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머 100질량부에 대하여, 1∼40질량부인 것이 바람직하고, 2∼30질량부인 것이 보다 바람직하다. 수산기 함유 모노머를 공중합함으로써, 가교 등에 의한 반응점이 부여된 수산기 함유 (메타)아크릴계 폴리머로 하게 된다.
본 발명의 실시형태에 사용되는 (메타)아크릴계 폴리머는 중량 평균 분자량이 30만∼250만 정도인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 30만보다 작은 경우에는 점착제 조성물의 응집력이 작아짐으로써 접착 잔사를 발생시키는 경향이 있다. 중량 평균 분자량은 GPC(겔·퍼미에이션·크로마토그래피)에 의해 측정해서 얻어진 것을 말한다.
또한, 점착 성능의 밸런스를 취하기 쉬운 이유로부터, 상기 (메타)아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 0℃ 이하(통상, -100℃ 이상), 바람직하게는 -10℃ 이하인 것이 바람직하다. 유리 전이 온도가 0℃보다 높은 경우, 폴리머가 유동하기 어려워진다. 또한, (메타)아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는 사용하는 모노머 성분이나 조성비를 적절히 변경함으로써 상기 범위 내로 조정할 수 있다.
또한, 상기 모노머 이외에도, 그 밖의 중합성 모노머로서 (메타)아크릴계 폴리머의 유리 전이점이나 박리성을 조정하기 위한 중합성 모노머 등을 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 사용할 수 있다.
(메타)아크릴계 폴리머에 있어서 사용되는 그 밖의 중합성 모노머로서는, 예를 들면 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 시아노기 함유 모노머, 비닐에스테르 모노머, 방향족 비닐 모노머 등의 응집력·내열성 향상 성분이나, 산 무수물기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, N-아크릴로일모르폴린, 비닐에테르 모노머 등의 접착력 향상이나 가교화 기점으로서 작용하는 관능기를 갖는 성분을 적절히 사용할 수 있다. 이들 모노머 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.
상기 시아노기 함유 모노머로서는, 예를 들면 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등이 예시된다.
상기 비닐에스테르 모노머로서는, 예를 들면 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 라우르산 비닐 등이 예시된다.
상기 방향족 비닐 모노머로서는, 예를 들면 스티렌, 클로로스티렌, 클로로메틸스티렌, α-메틸스티렌 등이 예시된다.
상기 아미드기 함유 모노머로서는, 예를 들면 아크릴아미드, 디에틸아크릴아미드, N-비닐-2-피롤리돈 등이 예시된다.
상기 아미노기 함유 모노머로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, N-(메타)아크릴로일모르폴린, (메타)아크릴산 알킬아미노알킬에스테르 등이 예시된다.
상기 에폭시기 함유 모노머로서는, 예를 들면 글리시딜(메타)아크릴레이트, 알릴글리시딜에테르 등이 예시된다.
상기 비닐에테르 모노머로서는, 예를 들면 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르 등이 예시된다.
본 발명의 실시형태에 있어서, 그 밖의 중합성 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋지만, 전체로서의 함유량은 (메타)아크릴계 폴리머 100질량부에 대하여, 0∼40질량부인 것이 바람직하고, 0∼30질량부인 것이 보다 바람직하다.
또한, (메타)아크릴계 폴리머의 중합법은 특별히 제한되지 않고, 용액 중합, 유화 중합, 현탁 중합, UV 중합 등의 공지의 중합법을 채용할 수 있다. 또한, 얻어지는 공중합체는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이라도 좋다.
본 발명의 실시형태에 있어서, 점착제 조성물은 상기 베이스 폴리머 이외의 폴리머 성분을 포함하고 있어도 좋다.
본 발명의 실시형태에 있어서, 점착제 조성물은 가교제를 포함하는 것이 바람직하고, 가교제로서는 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 것이 바람직하다. 이소시아네이트계 가교제는 밀착성 및 응집성을 부여하기 위해서 사용된다.
이소시아네이트계 가교제로서는, 다관능 이소시아네이트 화합물이 사용되고, 분자 중에 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 각종 화합물이 포함된다.
이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트류, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물(상품명 Coronate L, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.제), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 3량체 부가물(상품명 Coronate HL, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.제), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(상품명 Coronate HX, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.제) 등의 이소시아네이트 부가물 등이 예시된다. 그 중에서도, 이소시아누레이트환을 갖는 것이 특히 바람직하고, 예를 들면 장쇄 알킬렌디올 변성의 이소시아누레이트환을 갖는 폴리이소시아네이트(DIC Corporation제, BURNOCK DN-995), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(상품명 Coronate HX, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.제) 등이 예시된다. 이들 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 조합시켜서 사용해도 좋다.
본 발명의 실시형태에 사용되는 가교제의 함유량은 점착물성에 영향을 미치지 않을 정도로 배합하면 좋지만, 통상 (메타)아크릴계 폴리머 100질량부에 대하여, 0.2∼10질량부 함유되고, 0.5∼8질량부 함유되어 있는 것이 바람직하고, 1∼6질량부 함유되어 있는 것이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명의 실시형태에 있어서, 점착제 조성물은 가교 성분으로서 1,6-헥산디올디아크릴레이트 등의 다관능 (메타)아크릴계 모노머를 포함하는 것도 바람직하다. 또한, 본 발명의 실시형태에 있어서의 (메타)아크릴계 모노머란 아크릴계 모노머 및/또는 메타크릴계 모노머를 말한다.
다관능 (메타)아크릴계 모노머는 통상 (메타)아크릴계 폴리머 100질량부에 대하여, 0.2∼10질량부 함유되고, 0.5∼8질량부 함유되어 있는 것이 바람직하고, 1∼6질량부 함유되어 있는 것이 보다 바람직하다.
또한, 아크릴계 점착제에는 상기 예시한 것 이외의 가교제(폴리아민 화합물, 멜라민 수지, 아지리딘 유도체, 요소 수지), 중합 개시제, 점착 부여제, 가소제, 실란 커플링제, 착색제, 안료 등의 분체, 염료, 계면활성제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 대전 방지제, 노화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속분, 입자상, 박상물 등 등을 적절하게 사용할 수도 있다. 이들 성분은 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.
(점착제층의 형성 방법)
점착제층은, 예를 들면 상기 점착제 조성물을 금속 반사층(11) 상에 도포하고, 용제 등을 건조 제거함으로써 형성할 수도 있다. 점착제 조성물의 도포 시에는 적절하게 1종 이상의 용제를 첨가해도 좋다.
또한, 상기 점착제층은, 예를 들면 상기 점착제 조성물에 의해 보호 필름 상에 형성한 점착제층과 보호 필름의 적층체의 점착제층측의 면과, 금속 반사층(11)을 접합함으로써 형성할 수도 있다.
점착제층의 두께는 1∼300㎛인 것이 바람직하고, 2∼250㎛인 것이 보다 바람직하고, 3∼250㎛인 것이 더욱 바람직하고, 5∼100㎛인 것이 보다 더욱 바람직하다.
점착제층의 두께는 다이얼 게이지에 의해 측정할 수 있다.
점착제 조성물의 도포 방법으로서는 각종 방법이 예시된다. 구체적으로는, 예를 들면 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비아 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 다이 코터 등에 의한 압출 코팅법 등의 방법이 예시된다.
상기 가열 건조 온도는 30℃∼200℃가 바람직하고, 40℃∼180℃가 보다 바람직하고, 80℃∼160℃가 더 바람직하다. 가열 온도를 상기 범위로 함으로써, 우수한 점착 특성을 갖는 점착제층을 얻을 수 있다. 건조 시간은 적당히 적절한 시간이 채용될 수 있다. 상기 건조 시간은 5초∼20분 정도가 바람직하고, 30초∼10분이 보다 바람직하고, 1분∼8분이 더 바람직하다.
상기 점착제 조성물이 활성 에너지선 경화형 점착제인 경우에는 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 점착제층을 형성할 수 있다. 자외선 조사에는 고압수은 램프, 저압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 케미컬 라이트 램프 등을 사용할 수 있다.
필름 미러 적층체에 있어서의 점착제층은 박리 시트(세퍼레이터)에 의해 보호할 수 있다.
예를 들면, 필름 미러 적층체의 출시 시에는 점착제층을 박리 시트에 의해 보호한 상태이며, 그 후 박리 시트를 박리해 지지 기재에 접합하여 미러 부재를 제조할 수 있다.
박리 시트로서는, 점착제층을 보호할 수 있는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면 플라스틱 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 등을 예시할 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 적합하게 사용될 수 있다.
상기 플라스틱 필름으로서는, 예를 들면 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체 필름 등이 예시된다.
상기 박리 시트의 두께는 통상 5∼200㎛, 바람직하게는 5∼100㎛ 정도이다. 상기 박리 시트에는, 필요에 따라 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계 또는 지방산 아미드계의 이형제, 실리카분 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 혼련형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수도 있다. 특히, 상기 박리 시트의 표면에 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 행함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체는 기재 필름(14), 광학 조정층(13), 금속 반사층(11), 및 점착제층(10) 이외에, 용도에 따라 그 밖의 층을 구비하고 있어도 좋다.
그 밖의 층으로서는, 예를 들면 하드 코트층, 배리어층, 이접착층, 반사 방지층, 광인출층, 안티글레어층 등이 예시된다.
<배리어층>
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체가 배리어층을 구비하는 경우, 금속 반사층(11)의 광학 조정층(13)측과는 반대측의 면 상에 구비하는 것이 바람직하다.
배리어층은 금속 반사층(11)의 산화(부식)를 억제하기 위한 층이며, 배리어층은 금속 및 반금속 중 적어도 1종의 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물 및 산화질화탄화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 금속으로서는, 예를 들면 알루미늄, 티타늄, 인듐, 마그네슘 등을 사용할 수 있고, 반금속으로서는, 예를 들면 규소, 비스무트, 게르마늄 등을 사용할 수 있다.
구체적으로는, 예를 들면 ZnO+Al2O3(AZO), 산화인듐아연(IZO), 산화인듐주석(ITO), 산화탄화질화규소막(SiOCN), 산화질화규소막(SiON), 질화규소막(SiN), SiOX, AlOX, AlON, TiOX 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, AZO, ITO, AlOX 및 SiO2로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, AlOX를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
배리어층이 금속 반사층(11)의 산화(부식)를 억제하는 성능(이하, 「배리어성」이라고도 한다)의 향상을 위해서는, 배리어층 내에 있어서의 네트워크 구조(망목 형상의 구조)를 치밀하게 하는 탄소, 질소를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 투명성을 향상시키기 위해서는 산소를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 즉, 배리어층은 금속 및 반금속 중 적어도 1종의 산화질화탄화물을 포함하는 것이 바람직하다.
배리어층의 두께는 특별히 한정은 되지 않지만, 배리어성을 향상시키기 위해서는 1㎚ 이상이 바람직하고, 5㎚ 이상이 보다 바람직하고, 10㎚ 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 반사율이나 금속 광택감을 향상시키기 위해서는 100㎚ 이하가 바람직하고, 80㎚ 이하가 보다 바람직하고, 60㎚ 이하가 더욱 바람직하다.
[필름 미러 적층체의 제조]
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 기재 필름(14)의 일방의 면에 제 1 저굴절률층(13a), 고굴절률층(13b), 제 2 저굴절률층(13c), 금속 반사층(11)을 이 순서대로 형성할 수 있다. 또한, 점착제층(10)은 금속 반사층(11)의 제 2 저굴절률층(13c)측과는 반대측의 면에, 점착제층(10)을 형성할 수 있는 조성물을 도포 등에 의해 직접 형성해도 좋고, 별도 형성한 점착제층(10)을 접합함으로써 형성해도 좋다.
제 1 저굴절률층(13a), 고굴절률층(13b), 제 2 저굴절률층(13c), 금속 반사층(11)을 형성하는 경우의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등이 예시된다. 대면적이라도 두께를 엄밀하게 제어할 수 있는 점에서 스퍼터링법이 바람직하다.
본 발명의 실시형태에 의한 필름 미러 적층체는 미러 부재에 사용할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 필름 미러 적층체는 부재의 가식에 사용할 수도 있다. 예를 들면, 피착 부재에 부착해서 사용해도 좋고, 피착 부재로서는, 예를 들면 유리나 플라스틱으로 이루어지는 부재를 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.
[미러 부재]
본 발명의 실시형태에 의한 미러 부재는 상기 필름 미러 적층체와 지지 기재를 구비하고, 상기 필름 미러 적층체가 상기 점착제층을 개재해서 상기 지지 기재에 부착되어 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 의한 미러 부재의 개략 단면도이다. 도 3에 나타내는 미러 부재(100)는 기재 필름(14), 제 1 저굴절률층(13a), 고굴절률층(13b), 제 2 저굴절률층(13c), 금속 반사층(11), 및 점착제층(10)을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체가 점착제층(10)을 개재해서 지지 기재(21)에 부착되어 있다.
본 발명의 실시형태에 의한 미러 부재는 필름 미러 적층체를 지지 기재에 부착함으로써 제작할 수 있기 때문에 복잡한 곡면 형상의 부재여도 생산성 좋게 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시형태에 의한 미러 부재는 내상성이 우수한다. 이것은 기재 필름이 최외층이 되기 때문이다.
(지지 기재)
지지 기재의 재료로서는 특별히 한정은 없고, 수지, 유리, 금속 등이 예시되고, 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 수지로서는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지, 예를 들면 폴리메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴 수지(아크릴 수지 및/또는 메타크릴 수지), 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로올레핀 폴리머(예를 들면, 노르보르넨계, 시클로펜타디엔계) 등의 올레핀 수지, 예를 들면 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 멜라민 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리스티렌 수지 등이 예시된다. 이들 재료는 단독 사용 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 그 중에서도, 흑색으로 하는 것이 가능함으로써 차광성이 우수하기 때문에 폴리카보네이트 수지가 바람직하다.
[필름 미러 적층체 및 미러 부재의 용도]
본 실시형태의 필름 미러 적층체 및 미러 부재의 용도로서는, 예를 들면 차량용 구조 부품, 헤드업 디스플레이 등의 차량 탑재 용품, 전자 기기의 하우징, 가전 기기의 하우징, 구조용 부품, 기계 부품, 각종 자동차용 부품, 전자 기기용 부품, 가구, 부엌 용품 등의 가재용 용도, 의료 기기, 건축 자재의 부품, 그 밖의 구조용 부품이나 외장용 부품 등이 예시된다. 보다 구체적으로는, 차량 관계에서는 인스트루먼트 패널, 콘솔 박스, 도어 노브, 도어 트림, 시프트 레버, 페달류, 글러브 박스, 범퍼, 보닛, 펜더, 트렁크, 도어, 루프, 필라, 좌석 시트, 스티어링 휠, ECU 박스, 전장 부품, 엔진 주변 부품, 구동계·기어 주변 부품, 흡기·배기계 부품, 냉각계 부품 등이 예시된다. 전자 기기 및 가전 기기로서 보다 구체적으로는 냉장고, 세탁기, 청소기, 전자레인지, 에어 컨디셔너, 조명 기기, 전기 탕비 기기, 텔레비전, 시계, 환기 팬, 프로젝터, 스피커 등의 가전 제품류, 퍼스널 컴퓨터, 휴대 전화, 스마트폰, 디지털 카메라, 태블릿형 PC, 휴대 음악 플레이어, 휴대 게임기, 충전기, 전지 등의 전자 정보 기기 등이 예시된다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의거해서 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
〔실시예 1〕
[저굴절률층 및 고굴절률층의 제작]
기재 필름으로서, Toray Industries, Inc.제의 PET 필름 루미러(이하, 필름 기재)를 준비했다.
필름 기재를 마그네트론 스퍼터링 장치에 세팅하고, 필름 기재의 편면에 제 1 저굴절률층으로서 산화규소 20㎚(굴절률 1.46), 고굴절률층으로서 산화니오브(Nb2O5) 50㎚(굴절률 2.32), 제 2 저굴절률층으로서 산화규소(SiO2) 70㎚의 순서로 투명 산화물의 박막을 형성했다. 산화규소와 산화니오브의 박막의 형성 시에는 타겟으로서는 순규소 타겟, 순니오브 타겟을 사용하고, 아르곤 가스에 추가하여 산소 가스를 도입하고, 반응성 스퍼터링을 실시함으로써 각각 투명 산화물의 박막을 얻었다.
(산화규소 성막 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar 및 O2를 사용해서 O2/(Ar+O2)가 0.3이 되도록 조정
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
(산화니오브 성막 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar 및 O2를 사용해서 O2/(Ar+O2)가 0.1이 되도록 조정
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
[금속 반사층의 제작]
제 1 저굴절률층, 고굴절률층, 및 제 2 저굴절률층을 제막한 필름 기재를 마그네트론 스퍼터링 장치에 세팅하고, 제 2 저굴절률층 상에 A1 타겟을 사용하여, 금속 반사층으로서 두께 44㎚의 알루미늄층(Al층)을 형성했다.
(Al층 형성 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
[배리어층의 제작]
제 1 저굴절률층, 고굴절률층, 제 2 저굴절률층, 및 Al층을 제막한 필름 기재를 마그네트론 스퍼터링 장치에 세팅하고, Al층 상에 Al 타겟을 사용하고, 배리어층으로서 두께 20㎚의 산화알루미늄층(Al2O3층)을 형성했다.
(산화알루미늄층 형성 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar 및 O2를 사용해서 O2/(Ar+O2)가 0.1이 되도록 조정
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
이상에 의해, 50㎛의 PET 기재의 편면 상에 산화규소 20㎚, 산화니오브 50㎚, 산화규소 70㎚, 알루미늄 44㎚, 산화알루미늄 20㎚의 순서로 박층이 형성된 적층체(1)를 제작했다.
[점착제층의 제작]
〔점착제 조성물 1의 조제〕
(올리고머 조성물 1의 조제)
모노머 성분으로서 메타크릴산 디시클로펜타닐(DCPMA) 60질량부 및 메타크릴산 메틸(MMA) 40질량부, 연쇄 이동제로서 α-티오글리세롤 3.5질량부, 및 중합 용매로서 톨루엔 100질량부를 혼합하고, 질소 분위기 하에서 70℃에서 1시간 교반했다. 이어서, 열중합 개시제로서, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.2질량부를 투입하고, 70℃에서 2시간 반응시킨 후, 80℃로 승온해서 2시간 반응시켰다. 그 후, 반응액을 130℃로 가열하고, 톨루엔, 연쇄 이동제 및 미반응 모노머를 건조 제거하고, 고형상의 아크릴 올리고머(올리고머 조성물 1)를 얻었다. 올리고머 조성물 1의 중량 평균 분자량은 5100, 유리 전이 온도(Tg)는 130℃였다.
(프리폴리머 조성물 1의 중합)
모노머 성분으로서의 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA) 67질량부, N-비닐-2-피롤리돈(NVP) 15질량부, 히드록시에틸아크릴레이트(HEA) 3질량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(4-HBA) 15질량부, 광중합 개시제로서의 상품명 「Irgacure 651」(BASF Corporation제) 0.05질량부 및 상품명 「Irgacure 184」(BASF Corporation제) 0.05질량부를 배합한 후, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기 하에서 자외선에 폭로하여 부분적으로 광중합시킴으로써 프리폴리머 조성물 1(중합률 약10%)을 얻었다.
(점착제 조성물 1의 조제)
얻어진 프리폴리머 조성물 1 100질량부에 올리고머 조성물 15질량부, 1,6-헥산디올디아크릴레이트(상품명 「A-HD-N」, SHIN NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.제) 0.3질량부, 실란 커플링제(상품명 「KBM-403」, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.제) 0.3질량부를 첨가해서 균일하게 혼합하고, 점착제 조성물 1을 얻었다. 겔 분율은 82%였다.
[점착 시트의 제작]
(점착 시트 1)
표면에 실리콘계 이형층이 형성된 두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(Mitsubishi Chemical Corporation제 「DIAFOIL MRF75」)을 기재(중박리 필름)로 해서 기재 상에 상기 점착제 조성물 1을 두께 25㎛가 되도록 도포해서 도포층을 형성했다. 이 도포층 상에 커버 시트(경박리 필름)로서 편면이 실리콘 박리 처리된 두께 75㎛의 PET 필름(Mitsubishi Chemical Corporation제 「DIAFOIL MRE75」)을 접합했다.
이 적층체에 커버 시트측으로부터 램프 바로 아래의 조사면에 있어서의 조사 강도가 5mW/㎠가 되도록 위치 조절한 블랙 라이트에 의해, 자외선을 조사해서 광 경화를 행하고, 두께 25㎛의 점착제층으로 이루어지는 점착 시트를 얻었다.
[필름 미러 적층체 및 미러 부재의 제작]
상기에서 제작한 두께 25㎛의 점착 시트의 경박리 필름을 박리하고, 적층체(1)의 기재 필름의 스퍼터 성막이 된 면(산화알루미늄층이 성막된 면)에 접합하고, 필름 미러 적층체를 제작했다.
필름 미러 적층체의 점착제층측의 중박리 필름을 박리하고, 지지 기재로서의 5.0㎜ 두께의 폴리카보네이트 기재(Asahi Glass Co., Ltd.제 CARBOGLASS 흑색)에 접합을 하고, 미러 부재를 제작했다. 시험편 사이즈는 50㎜×150㎜이다.
〔실시예 2〕
보호층으로서 산화알루미늄층을 설치하지 않았던 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 해서, 50㎛의 PET 기재의 편면 상에 산화규소 20㎚, 산화니오브 50㎚, 산화규소 70㎚, 알루미늄 44㎚의 순으로 박층이 형성된 적층체 2를 제작했다.
실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제작한 두께 25㎛의 점착 시트의 경박리 필름을 박리하고, 적층체 2의 기재 필름의 스퍼터 성막이 된 면(알루미늄층이 성막 된 면)에 접합하여 필름 미러 적층체를 제작했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 도 3에 나타내는 미러 부재를 제작했다. 도 3에 나타내는 실시예 2의 미러 부재(100)는 기재 필름(14), 제 1 저굴절률층(13a), 고굴절률층(13b), 제 2 저굴절률층(13c), 금속 반사층(11), 및 점착제층(10)을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체가 점착제층(10)을 개재해서 지지 기재(21)에 부착되어 있다.
〔비교예 1〕
[금속 반사층의 제작]
필름 기재로서, Toray Industries, Inc.제의 PET 필름 루미러(이하, 필름 기재)를 준비했다. Al 타겟을 마그네트론 스퍼터링 장치에 세팅하고, 필름 기재의 편면에 금속 반사층으로서 두께 44㎚의 알루미늄층(Al층)을 형성했다.
(Al층 형성 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
[저굴절률층 및 고굴절률층의 제작]
Al층을 형성한 필름 기재를 마그네트론 스퍼터링 장치에 세팅하고, Al층 상에 제 2 저굴절률층으로서 산화규소 70㎚(굴절률 1.46), 고굴절률층으로서 산화니오브(Nb2O5) 50㎚(굴절률 2.32), 제 1 저굴절률층으로서 산화규소(SiO2) 20㎚의 순서로 투명 산화물의 박막을 형성했다. 산화규소와 산화니오브의 박막의 형성 시에는 타겟으로서는 순규소 타겟, 순니오브 타겟을 사용하고, 아르곤 가스에 추가하여 산소 가스를 도입하고, 반응성 스퍼터링을 실시함으로써 각각 투명 산화물의 박막을 얻었다.
(산화규소 성막 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar 및 O2를 사용해서 O2/(Ar+O2)가 0.3이 되도록 조정
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
(산화니오브 성막 조건)
도달 진공도: 1.0×10-4Pa
스퍼터 가스: Ar 및 O2를 사용해서 O2/(Ar+O2)가 0.1이 되도록 조정
챔버 기압: 0.30Pa
기재 온도: 25℃
이상에 의해, 50㎛의 PET 기재의 편면 상에 금속 반사층으로서 알루미늄 44㎚, 제 2 저굴절률층으로서 산화규소 70㎚, 고굴절률층으로서 산화니오브 50㎚, 제 1 저굴절률층으로서 산화규소 20㎚의 순서로 박층이 형성된 적층체 3을 제작했다.
[필름 미러 적층체 및 미러 부재의 제작]
실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제작한 두께 25㎛의 점착 시트 1의 경박리 필름을 박리하고, 적층체 3의 기재 필름의 스퍼터 성막이 되어 있지 않는 면에 접합하고, 필름 미러 적층체를 제작했다.
또한, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 도 4에 나타내는 미러 부재를 제작했다. 도 4에 나타내는 비교예 1의 미러 부재(200)는 점착제층(10), 기재 필름(14), 금속 반사층(11), 제 2 저굴절률층(13c), 고굴절률층(13b), 및 제 1 저굴절률층(13a)을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체가 점착제층을 개재해서 지지 기재 (21)에 부착되어 있다.
<반사율 측정>
Hitachi High-Technologies Corporation제의 히타치 분광 광도계 U-4100을 사용하여, 제작한 실시예 및 비교예의 미러 부재의 반사율을 측정했다. 반사율의 측정은 실시예 1 및 2에 대해서는 PET 기재면, 비교예 1에 대해서는 제 1 저굴절률층을 광의 입사면으로서 측정했다.
<밀착성 시험(110℃ 조건)>
제작한 실시예 및 비교예의 미러 부재를 고온에서 1000시간 유지한 후, 밀착성 시험을 행했다.
고온에서의 유지는 미러 부재를 110℃로 설정한 ESPEC Corporation제 항온항습 장치를 사용하여, 1000시간 투입함으로써 행했다.
밀착성 시험은 격자무늬 테이프 시험 JIS K 5400, 크로스 컷 시험법(도장의 밀착성 시험)에 준해서 실시했다. 또한, 테이프를 압착시켜 박리하는 동작은 한번 박리를 행한 후, 90℃로 각도를 변화시키고, 한번 더 테이프를 압착시켜 박리를 행하여 격자무늬의 박리를 관찰했다. 그리고, 100매스 중에서 박리가 발생된 매스의 개수를 카운트했다. 1매스 중에서 1/4 이상의 면적이 테이프 박리에 의해 박리되어 있을 때 박리로서 카운트했다.
<밀착성 시험(65℃ 95% RH 조건)>
제작한 실시예 및 비교예의 미러 부재를 고온고습에서 1000시간 유지한 후, 상기한 밀착성 시험(110℃ 조건)과 마찬가지로 밀착성 시험을 행했다.
고온고습으로의 유지는 미러 부재를 65℃ 95% RH 조건으로 설정한 ESPEC Corporation제 항온항습 장치를 사용하여, 1000시간 투입함으로써 행했다.
각 실시예 및 비교예에 대한 측정 결과 및 시험 결과에 대해서, 하기 표 1에 나타낸다.
상기와 같이, 본 실시예의 필름 미러 적층체는 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지기 때문에 미러 부재에 적합한 것이었다.
또한, 본 실시예의 필름 미러 적층체는 점착제층을 개재해서 지지 기재에 접합 가능하고, 생산성 좋게 미러 부재를 얻을 수 있는 점에서 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응 가능하다.
본 발명에 의하면, 생산성 좋고, 복잡한 곡면 형상 등에도 간단히 적응이 가능하고, 밀착성이 우수하고, 양호한 반사율이 얻어지는 필름 미러 적층체, 및 미러 부재를 제공할 수 있다.
본 발명을 상세하게 또한 특정 실시형태를 참조해서 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 각종 변경이나 수정을 추가할 수 있는 것은 당업자에 있어서 명확하다.
본 출원은 2020년 6월 22일 출원의 일본 특허 출원(특원 2020-107154)에 의거한 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 포함된다.
1: 필름 미러 적층체 10: 점착제층
11: 금속 반사층 13: 광학 조정층
13a: 제 1 저굴절률층 13b: 고굴절률층
13c: 제 2 저굴절률층 14: 기재 필름
21: 지지 기재 100, 200: 미러 부재
11: 금속 반사층 13: 광학 조정층
13a: 제 1 저굴절률층 13b: 고굴절률층
13c: 제 2 저굴절률층 14: 기재 필름
21: 지지 기재 100, 200: 미러 부재
Claims (7)
- 기재 필름, 광학 조정층, 금속 반사층, 및 점착제층을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체.
- 제 1 항에 있어서,
상기 광학 조정층이 제 1 저굴절률층, 고굴절률층, 및 제 2 저굴절률층을 구비하고,
상기 기재 필름, 상기 제 1 저굴절률층, 상기 고굴절률층, 상기 제 2 저굴절률층, 상기 금속 반사층, 및 상기 점착제층을 이 순서대로 갖는 필름 미러 적층체. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 저굴절률층 및 상기 제 2 저굴절률층이 산화규소를 함유하는 필름 미러 적층체. - 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 고굴절률층이 산화니오브를 함유하는 필름 미러 적층체. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
파장 380∼780㎚의 가시광선을 상기 기재 필름측으로부터 조사하여 측정한 반사율이 90% 이상인 필름 미러 적층체. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 반사층은 알루미늄(Al), 아연(Zn), 납(Pb), 구리(Cu), 은(Ag)으로부터 선택된 적어도 1종의 금속, 및 상기 금속을 주성분으로 하는 합금 중 어느 하나를 포함하는 필름 미러 적층체. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 필름 미러 적층체와 지지 기재를 구비하고, 상기 필름 미러 적층체가 상기 점착제층을 개재해서 상기 지지 기재에 부착되어 있는 미러 부재.
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