WO2014141816A1 - 成膜マスクの製造方法 - Google Patents

成膜マスクの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2014141816A1
WO2014141816A1 PCT/JP2014/053614 JP2014053614W WO2014141816A1 WO 2014141816 A1 WO2014141816 A1 WO 2014141816A1 JP 2014053614 W JP2014053614 W JP 2014053614W WO 2014141816 A1 WO2014141816 A1 WO 2014141816A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
mask
mesh
mask sheet
frame
film
Prior art date
Application number
PCT/JP2014/053614
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
齋藤 雄二
修二 工藤
崇之 小菅
水村 通伸
Original Assignee
株式会社ブイ・テクノロジー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社ブイ・テクノロジー filed Critical 株式会社ブイ・テクノロジー
Priority to CN201480014059.4A priority Critical patent/CN105051243B/zh
Priority to KR1020157025380A priority patent/KR102183116B1/ko
Publication of WO2014141816A1 publication Critical patent/WO2014141816A1/ja
Priority to US14/853,934 priority patent/US10195838B2/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/10Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/08Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation
    • B32B2310/0806Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B32B2310/0843Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a film forming mask having a structure in which a mask sheet having a plurality of opening patterns is stretched and fixed to a frame-shaped metal frame, and in particular, uniform tension is applied over the entire surface of the mask sheet.
  • the present invention relates to a method of manufacturing a film formation mask that can be fixed to a frame.
  • a metal sheet is etched using a resist mask to form a plurality of opening patterns penetrating, and then the metal sheet is stretched on the periphery of the metal sheet.
  • a frame-shaped metal frame is spot-welded (see, for example, Patent Document 1).
  • the metal sheet is directly fixed to the frame while being pulled in four directions, so that uniform tension is applied to the entire surface of the metal sheet. It was difficult to do. Therefore, depending on how the tension is applied to the metal sheet, there is a problem that the metal sheet may be wrinkled or bent, or a metal part between adjacent opening patterns may be broken, or the formed opening pattern may be deformed. It was.
  • an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a film forming mask that can cope with such problems and can be fixed to a frame by applying a uniform tension over the entire surface of the mask sheet.
  • a method of manufacturing a film formation mask according to the first invention is a method of manufacturing a film formation mask having a structure in which a mask sheet having a plurality of opening patterns is stretched and fixed to a frame-shaped metal frame.
  • a first step of bonding a peripheral edge of the mask sheet to a mesh of synthetic fiber to which a certain tension is applied, and a film forming effective area having a size including the plurality of opening patterns of the mask sheet A second step of cutting out the portion of the mesh corresponding to the above, a third step of joining and fixing the frame from the opposite side of the mesh to the peripheral edge of the mask sheet, and removing the mesh from the mask sheet And a fourth step.
  • a method for manufacturing a film forming mask having a structure in which a mask sheet having a plurality of opening patterns is stretched and fixed to a frame-shaped metal frame.
  • the film side of the mask member is the mesh side, the first step of adhering the peripheral edge of the film, and the film formation effective region having a size including the plurality of through holes of the mask member
  • a second step of excising the mesh portion and a third step of joining and fixing the frame to the peripheral edge of the magnetic metal member of the mask member from the side opposite to the mesh.
  • a fifth step is the mesh side, the first step of adhering the peripheral edge of the film, and the film formation effective region having a size including the plurality of through holes of the mask member
  • a second step of excising the mesh portion and a third step of joining and fixing the frame to the peripheral edge of the magnetic metal member of the mask member from the side opposite to the mesh.
  • the mask sheet or the mask member is fixed to the frame in a stretched state via the mesh of synthetic fiber, so that uniform tension is applied over the entire surface of the mask sheet or the mask member. be able to. Therefore, there is no possibility that the mask sheet or the mask member is wrinkled or bent, or the formed opening pattern is not deformed. Therefore, the formation position accuracy of the opening pattern can be improved.
  • FIG. 1 It is sectional drawing which shows embodiment of the manufacturing method of the film-forming mask by this invention, and shows the joining process to the flame
  • FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a method for manufacturing a film formation mask according to the present invention and showing a process of bonding a mask sheet to a frame.
  • This method of manufacturing a film forming mask is a method for manufacturing a film forming mask having a structure in which a mask sheet having a plurality of opening patterns is stretched and fixed to a frame-like metal frame.
  • the mask sheet is a metal mask sheet 4 in which a plurality of opening patterns 5 are formed by etching a sheet-like magnetic metal material such as Invar using a resist mask. The case will be described.
  • the mesh 1 is predetermined in all directions by sandwiching the four edges of the mesh 1 of a square synthetic fiber made of polyester or the like with clips 2 respectively. Pull with a certain tension. At this time, the mesh 1 is given a uniform tension over the entire surface due to its own stretchability.
  • the end surface of the support frame 3 made of, for example, aluminum (Al) is abutted against one surface (the lower surface in the figure) of the mesh 1 and supported from above the mesh 1.
  • An adhesive is applied to the end surface of the frame 3, and the mesh 1 is bonded to the end surface of the support frame 3 by the adhesive soaked through the mesh 1.
  • the mesh 1 is cut along the outer peripheral edge of the support frame 3 to form the mesh 1 fixed to the support frame 3 in a stretched state.
  • the metal mask sheet 4 is arranged at the center of the mesh 1 inside the support frame 3, and along the edge of the metal mask sheet 4. Then, an adhesive is applied from above the mesh 1, and the peripheral portion of the metal mask sheet 4 is bonded to the mesh 1 with an adhesive material soaked through the mesh 1. This completes the first step.
  • the metal mask sheet 4 may be bonded to the front side of the mesh 1. In this case, the support frame 3 to which the mesh 1 is bonded may be turned upside down in the same manner as described above.
  • the size of the plurality of opening patterns 5 (see FIG. 2) formed in the metal mask sheet 4 is enclosed by broken lines in FIG.
  • a portion of the mesh 1 along the peripheral edge portion of the film forming effective region 6 is cut off and removed by, for example, a cutter.
  • tensile_strength provided to the mesh 1 moves to the metal mask sheet 4, and the metal mask sheet
  • seat 4 is pulled by the equal tension
  • the end face of the frame 7 such as Invar or Invar alloy is abutted against the peripheral edge of the metal mask sheet 4 from the side opposite to the mesh 1.
  • the position of the frame 7 relative to the metal mask sheet 4 may be adjusted by observing the edge of the metal mask sheet 4 and the edge of the frame 7 with a camera.
  • the inside of the support frame 3 is set so that the distance between the opening patterns 5 becomes a predetermined distance.
  • the mesh 1 may be expanded and contracted by sandwiching the portion of the mesh 1 outside the metal mask sheet 4 with another clip (not shown) to adjust the magnitude of the tension.
  • the metal mask sheet 4 and the frame 7 are spot-welded by irradiating the peripheral edge of the metal mask sheet 4 with laser light L. Thereby, the metal mask sheet 4 is fixed to the frame 7 in a state where a uniform tension is applied over the entire surface.
  • the joint is loosened by the heat during film formation, and the metal mask sheet 4 is deformed, There is no possibility that the formed film is contaminated by the outgas generation.
  • the mesh 1 is cut along the outer periphery of the metal mask sheet 4 with a cutter or the like, for example, and the mesh 1 is removed from the metal mask sheet 4.
  • the metal mask sheet 4 is formed by irradiating the mesh 1 with the laser beam applied to the bonded portion between the mesh 1 and the metal mask sheet 4 or softening the adhesive by applying an appropriate temperature to the bonded portion.
  • the mesh 1 may be removed. As a result, a film formation mask in which the metal mask sheet 4 is stretched with a uniform tension and fixed to the frame 7 is obtained.
  • the mask sheet is the metal mask sheet 4
  • the mask sheet is a resin having a plurality of opening patterns 5 and transmitting visible light such as polyimide.
  • the composite mask sheet 11 may be used.
  • the film 8 side is the mesh 1 side, and the peripheral edge of the film 8 is bonded to the mesh 1 in the same manner as described above.
  • the frame 7 is joined and fixed to the peripheral edge of the magnetic metal member 10 from the side opposite to the mesh 1 in the same manner as described above.
  • the composite mask sheet 11 can be formed as follows. That is, for example, a polyimide resin solution is applied to one surface of a sheet-like magnetic metal member 10 such as Invar having a thickness of about 30 ⁇ m to 50 ⁇ m, and then dried to a thickness of about 10 ⁇ m to 30 ⁇ m. Film 8 is formed. Next, after applying a photoresist to the other surface of the magnetic metal member 10 and exposing the photoresist using a photomask, the photoresist is developed and a resist having an opening corresponding to the through hole 9 to be formed. A mask is formed. Next, the magnetic metal member 10 is etched using the resist mask, and a through hole 9 reaching the film 8 is formed in the magnetic metal member 10. Subsequently, the opening pattern 5 is formed by irradiating the portion of the film 8 in the through hole 9 with a laser beam.
  • a polyimide resin solution is applied to one surface of a sheet-like magnetic metal member 10 such as Invar having a thickness of about 30 ⁇ m
  • the composite mask sheet 11 may be formed as follows. That is, after forming an underlayer of a conductive metal such as nickel on the resin film 8 with a thickness of about 50 nm, a photoresist is applied on the underlayer, and the photoresist is patterned by a known technique. Then, an island pattern having the same shape as the through hole 9 is formed at a position corresponding to the through hole 9. Next, the magnetic metal member 10 is formed on the outer portion of the island pattern by electroplating. Subsequently, after removing the island pattern, the underlayer existing under the island pattern is removed by etching to form the through hole 9. Then, the opening pattern 5 is formed by irradiating the portion of the film 8 in the through hole 9 with laser light in the same manner as described above.
  • a photoresist is applied on the underlayer, and the photoresist is patterned by a known technique. Then, an island pattern having the same shape as the through hole 9 is formed at a position corresponding to the through hole 9. Next, the
  • the first to fourth steps are performed before the opening pattern 5 is formed on the film 8 in the through hole 9 of the magnetic metal member 10 instead of the mask sheet.
  • the mask member 12 as shown in FIG. 4 may be used.
  • the peripheral portion of the film 8 is bonded to the one side with the film 8 side of the mask member 12 having a structure in which the resin film 8 is in close contact as the mesh 1 side.
  • the portion of the mesh 1 corresponding to the film forming effective area having a size including the plurality of through holes 9 of the mask member 12 is cut out.
  • the frame 7 is joined and fixed to the periphery of the magnetic metal member 10 of the mask member 12 from the side opposite to the mesh 1. Then, the mesh 1 is removed from the mask member 12.
  • the fifth step of forming the opening pattern 5 by irradiating the portion of the film 8 corresponding to the opening pattern 5 in the through hole 9 of the magnetic metal member 10 with the laser beam is further executed.
  • the opening pattern 5 is formed by irradiating the mask member 12 that is stretched with equal tension and fixed to the frame 7 by irradiating the laser beam, so that the formation position accuracy of the opening pattern 5 can be further improved.
  • the present invention is not limited to this, and the clip 2 can be used without fixing the mesh 1 to the support frame 3.
  • the mask sheet or the mask member 12 may be bonded to the mesh 1 in a state where the mesh 1 is sandwiched and stretched in all directions, and the second and subsequent steps may be performed.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

 本発明は、複数の開口パターンを形成したメタルマスクシート4を架張して枠状の金属フレーム7に固定した構造の成膜マスクの製造方法であって、一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュ1にメタルマスクシート4の周縁部を接着する第1ステップと、メタルマスクシート4の複数の開口パターンを内包する大きさの成膜有効領域に対応したメッシュ1の部分を切除する第2ステップと、メタルマスクシート4の周縁部にメッシュ1とは反対側からフレーム7を接合して固定する第3ステップと、メッシュ1をメタルマスクシート4から除去する第4ステップと、を行うものである。

Description

成膜マスクの製造方法
 本発明は、複数の開口パターンを形成したマスクシートを架張して枠状の金属フレームに固定した構造の成膜マスクの製造方法に関し、特にマスクシートの全面に亘って均等な張力を付与してフレームに固定し得る成膜マスクの製造方法に係るものである。
 従来の成膜マスクの製造方法は、レジストマスクを使用して金属製シートをエッチングし、貫通する複数の開口パターンを形成した後、金属製シートを張った状態で該金属製シートの周縁部に枠状の金属フレームをスポット溶接するようになっていた(例えば、特許文献1参照)。
特開2009-074160号公報
 しかし、このような従来の成膜マスクの製造方法においては、金属製シートを直接、四方向に引っ張った状態でフレームに固定するものであったので、金属製シートの全面に均等な張力を付与することが困難であった。したがって、金属製シートへの張力のかかり方によっては、金属製シートにしわや撓み又は隣接する開口パターン間の金属部分の破断が発生したり、形成された開口パターンが変形したりする問題があった。
 そこで、本発明は、このような問題点に対処し、マスクシートの全面に亘って均等な張力を付与してフレームに固定し得る成膜マスクの製造方法を提供することを目的とする。
 上記目的を達成するために、第1の発明による成膜マスクの製造方法は、複数の開口パターンを形成したマスクシートを架張して枠状の金属フレームに固定した構造の成膜マスクの製造方法であって、一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュに前記マスクシートの周縁部を接着する第1ステップと、前記マスクシートの前記複数の開口パターンを内包する大きさの成膜有効領域に対応した前記メッシュの部分を切除する第2ステップと、前記マスクシートの周縁部に前記メッシュとは反対側から前記フレームを接合して固定する第3ステップと、前記メッシュを前記マスクシートから除去する第4ステップと、を行うものである。
 また、第2の発明による成膜マスクの製造方法は、複数の開口パターンを形成したマスクシートを架張して枠状の金属フレームに固定した構造の成膜マスクの製造方法であって、一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュに、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する大きさの複数の貫通孔を設けたシート状の磁性金属部材の一面に、樹脂製フィルムを密接させた構造のマスク用部材の前記フィルム側を前記メッシュ側として、前記フィルムの周縁部を接着する第1ステップと、前記マスク用部材の前記複数の貫通孔を内包する大きさの成膜有効領域に対応した前記メッシュの部分を切除する第2ステップと、前記マスク用部材の前記磁性金属部材の周縁部に前記メッシュとは反対側から前記フレームを接合して固定する第3ステップと、前記メッシュを前記マスク用部材から除去する第4ステップと、前記磁性金属部材の前記貫通孔内の前記開口パターンに対応した前記フィルムの部分にレーザ光を照射して前記開口パターンを形成する第5ステップと、を行うものである。
 本発明によれば、合繊繊維のメッシュを介してマスクシート又はマスク用部材を架張した状態でフレームに固定しているので、マスクシート又はマスク用部材の全面に亘って均等な張力を付与することができる。したがって、マスクシート又はマスク用部材にしわや撓みが発生したり、形成された開口パターンが変形したりするおそれがない。それ故、開口パターンの形成位置精度を向上することができる。
本発明による成膜マスクの製造方法の実施形態を示し、マスクシートのフレームへの接合工程を示す断面図である。 上記マスクシートとしてのメタルマスクシートの一構成例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は一部拡大断面図である。 上記マスクシートとしての複合型マスクシートの一構成例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は一部拡大断面図である。 上記複合型マスクシートの開口パターン形成前のマスク用部材を示す図であり、(a)は平面図、(b)は一部拡大断面図である。
 以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明による成膜マスクの製造方法の実施形態を示し、マスクシートのフレームへの接合工程を示す断面図である。この成膜マスクの製造方法は、複数の開口パターンを形成したマスクシートを架張して枠状の金属フレームに固定した構造の成膜マスクを製造するもので、一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュにマスクシートの周縁部を接着する第1ステップと、マスクシートの複数の開口パターンを内包する大きさの成膜有効領域に対応したメッシュの部分を切除する第2ステップと、マスクシートの周縁部にメッシュとは反対側からフレームを接合して固定する第3ステップと、メッシュをマスクシートから除去する第4ステップと、を行うものである。以下、各ステップについて詳細に説明する。なお、ここでは、マスクシートが、図2に示すように、レジストマスクを使用してシート状の例えばインバー等の磁性金属材料をエッチングし、複数の開口パターン5を形成したメタルマスクシート4である場合について説明する。
 上記第1ステップにおいては、先ず、図1(a)に示すように、例えばポリエステル等からなる四角形の合成繊維のメッシュ1の四辺縁部を夫々クリップ2で挟んで、メッシュ1を四方に予め定められた一定の張力で引っ張る。このとき、メッシュ1には、それ自身の持つ伸縮性により、面内全体に亘って均等な張力が付与される。
 次いで、図1(b)に示すように、メッシュ1の一方の面(同図においては下面)に、例えばアルミニウム(Al)等からなる支持枠3の端面を突き当て、メッシュ1の上方から支持枠3の端面に接着剤を塗布し、メッシュ1の網目を通して浸み込んだ接着剤によりメッシュ1を支持枠3の端面に接着する。その後、支持枠3の外周縁部に沿ってメッシュ1を切断して、張った状態で支持枠3に固定されたメッシュ1を形成する。
 続いて、図1(c)に示すように、例えばメッシュ1の裏面側にて、支持枠3の内側のメッシュ1中央部にメタルマスクシート4を配置し、メタルマスクシート4の縁部に沿ってメッシュ1の上方から接着剤を塗布し、メッシュ1を通して浸み込んだ接着材によりメタルマスクシート4の周縁部をメッシュ1に接着する。これにより、第1ステップが終了する。なお、メッシュ1の表側にメタルマスクシート4を接着してもよい。この場合には、メッシュ1を接着した支持枠3の上下を反転して上述と同様に行うとよい。
 上記第2ステップにおいては、図1(d)に示すように、メタルマスクシート4に形成された複数の開口パターン5(図2参照)を内包する大きさの、図2に破線で囲って示す成膜有効領域6の周縁部に沿ったメッシュ1の部分を、例えばカッター等によって切り取って除去する。これにより、メッシュ1に付与されていた均一な張力がメタルマスクシート4に移り、メタルマスクシート4がその四方に均等な張力で引っ張られることになる。
 上記第3ステップにおいては、先ず、図1(e)に示すように、メタルマスクシート4の周縁部にメッシュ1とは反対側から、例えばインバー又はインバー合金等のフレーム7の端面を突き当てる。この際、カメラによりメタルマスクシート4の縁部とフレーム7の縁部とを観察して、メタルマスクシート4に対するフレーム7の位置ずれを調整してもよい。また、メタルマスクシート4の左右に一定距離はなれて位置する開口パターン5を2台のカメラにより観察しながら、該開口パターン5の間隔が予め定められた距離となるように、支持枠3の内側で且つメタルマスクシート4の外側のメッシュ1の部分を図示省略の別のクリップで挟んでメッシュ1を伸縮させ、張力の大きさを調整してもよい。
 次いで、図1(f)に示すように、メタルマスクシート4の周縁部にレーザ光Lを照射してメタルマスクシート4とフレーム7とをスポット溶接する。これにより、面内全体に亘って均等な張力が付与された状態でメタルマスクシート4がフレーム7に固定される。この場合、メタルマスクシート4とフレーム7とをスポット溶接しているため、有機接着剤を使用した接着と違って、成膜時の熱により接合部が緩んでメタルマスクシート4が変形したり、アウトガスの発生により成膜された膜が汚染されたりするおそれがない。
 上記第4ステップにおいては、図1(g)に示すように、メッシュ1を、例えばカッター等で溶接部の外側をメタルマスクシート4の外周縁に沿って切断し、メタルマスクシート4からメッシュ1を除去する。又は、メッシュ1とメタルマスクシート4との接着部にレーザ光を照射してメッシュ1を焼き切ったり、上記接着部に適度な温度を付与して接着剤を軟化させたりしてメタルマスクシート4からメッシュ1を除去してもよい。これにより、メタルマスクシート4が均等な張力で張られてフレーム7に固定された成膜マスクが得られる。
 以上の説明においては、マスクシートがメタルマスクシート4の場合について述べたが、マスクシートは、図3に示すように、複数の開口パターン5を設けた、例えばポリイミド等の可視光を透過する樹脂製フィルム8と、少なくとも一つの開口パターン5を内包する大きさの複数の貫通孔9を設けたシート状のインバー、インバー合金、ニッケル又はニッケル合金等からなる磁性金属部材10とを密接させた構造の複合型マスクシート11であってもよい。
 マスクシートが複合型マスクシート11の場合、上記第1ステップにおいては、上記フィルム8側をメッシュ1側として、前述と同様にしてメッシュ1にフィルム8の周縁部を接着する。
 また、上記第3ステップにおいては、前述と同様にして、磁性金属部材10の周縁部にメッシュ1とは反対側からフレーム7を接合して固定する。
 なお、上記複合型マスクシート11は、次のようにして形成することができる。即ち、厚みが30μm~50μm程度の例えばインバー等のシート状の磁性金属部材10の一面に、例えばポリイミドの樹脂液を一定の厚みに塗布した後、これを乾燥させて厚みが10μm~30μm程度のフィルム8を形成する。次に、磁性金属部材10の他面にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを使用してフォトレジストを露光した後、これを現像し、形成しようとする貫通孔9に対応させて開口を有するレジストマスクを形成する。次いで、該レジストマスクを使用して上記磁性金属部材10をエッチングし、磁性金属部材10にフィルム8に達する貫通孔9を形成する。続いて、上記貫通孔9内のフィルム8の部分にレーザ光を照射して上記開口パターン5を形成する。
 又は、上記複合型マスクシート11は、次のようにして形成してもよい。即ち、樹脂製のフィルム8上に50nm程度の厚みの、例えばニッケル等の導電性金属の下地層を形成した後、該下地層上にフォトレジストを塗布し、該フォトレジストを公知の技術によりパターニングして上記貫通孔9に対応する位置に貫通孔9と同形状の島パターンを形成する。次に、電気めっきにより島パターンの外側部分に上記磁性金属部材10をめっき形成する。続いて、上記島パターンを除去した後、島パターンの下部に存在した下地層をエッチングして除去して貫通孔9を形成する。そして、上述と同様にして貫通孔9内のフィルム8の部分にレーザ光を照射して開口パターン5を形成する。
 また、マスクシートが複合型マスクシート11の場合、上記第1~第4ステップは、マスクシートの代わりに、磁性金属部材10の貫通孔9内のフィルム8部分に開口パターン5を形成する前の、図4に示すようなマスク用部材12を使用して行ってもよい。
 即ち、第1ステップにおいては、一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュ1に、少なくとも一つの開口パターン5を内包する大きさの複数の貫通孔9を設けたシート状の磁性金属部材10の一面に、樹脂製フィルム8を密接させた構造のマスク用部材12のフィルム8側をメッシュ1側として、フィルム8の周縁部を接着する。また、第2ステップにおいては、マスク用部材12の複数の貫通孔9を内包する大きさの成膜有効領域に対応したメッシュ1の部分を切除する。さらに、第3ステップにおいては、マスク用部材12の磁性金属部材10の周縁部にメッシュ1とは反対側からフレーム7を接合して固定する。そして、メッシュ1をマスク用部材12から除去する。
 この場合は、磁性金属部材10の貫通孔9内の上記開口パターン5に対応したフィルム8の部分にレーザ光を照射して開口パターン5を形成する第5ステップをさらに実行することになる。これにより、均等な張力で張られてフレーム7に固定されたマスク用部材12に対してレーザ光を照射し開口パターン5を形成するため、開口パターン5の形成位置精度をより向上することができる。
 なお、上記実施形態においては、メッシュ1を架張して支持枠3に固定する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、メッシュ1を支持枠3に固定することなく、クリップ2で挟んで四方に引張って架張された状態のメッシュ1にマスクシート又はマスク用部材12を接着し、上記第2ステップ以降を実施してもよい。
 1…メッシュ
 4…メタルマスクシート
 5…開口パターン
 6…成膜有効領域
 7…フレーム
 8…フィルム
 9…貫通孔
 10…磁性金属部材
 11…複合型マスクシート
 12…マスク用部材

Claims (5)

  1.  複数の開口パターンを形成したマスクシートを架張して枠状の金属フレームに固定した構造の成膜マスクの製造方法であって、
     一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュに前記マスクシートの周縁部を接着する第1ステップと、
     前記マスクシートの前記複数の開口パターンを内包する大きさの成膜有効領域に対応した前記メッシュの部分を切除する第2ステップと、
     前記マスクシートの周縁部に前記メッシュとは反対側から前記フレームを接合して固定する第3ステップと、
     前記メッシュを前記マスクシートから除去する第4ステップと、
    を行うことを特徴とする成膜マスクの製造方法。
  2.  前記マスクシートは、前記複数の開口パターンを形成した磁性金属材料からなるメタルマスクシートであることを特徴とする請求項1記載の成膜マスクの製造方法。
  3.  前記マスクシートは、前記複数の開口パターンを設けた樹脂製フィルムと、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する大きさの複数の貫通孔を設けたシート状の磁性金属部材とを密接させた構造の複合型マスクシートであり、
     前記第1ステップにおいては、前記フィルム側を前記メッシュ側として前記メッシュに前記フィルムの周縁部を接着し、
     前記第3ステップにおいては、前記磁性金属部材の周縁部に前記メッシュとは反対側から前記フレームを接合して固定する、
    ことを特徴とする請求項1記載の成膜マスクの製造方法。
  4.  複数の開口パターンを形成したマスクシートを架張して枠状の金属フレームに固定した構造の成膜マスクの製造方法であって、
     一定の張力がかけられた合成繊維のメッシュに、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する大きさの複数の貫通孔を設けたシート状の磁性金属部材の一面に、樹脂製フィルムを密接させた構造のマスク用部材の前記フィルム側を前記メッシュ側として、前記フィルムの周縁部を接着する第1ステップと、
     前記マスク用部材の前記複数の貫通孔を内包する大きさの成膜有効領域に対応した前記メッシュの部分を切除する第2ステップと、
     前記マスク用部材の前記磁性金属部材の周縁部に前記メッシュとは反対側から前記フレームを接合して固定する第3ステップと、
     前記メッシュを前記マスク用部材から除去する第4ステップと、
     前記磁性金属部材の前記貫通孔内の前記開口パターンに対応した前記フィルムの部分にレーザ光を照射して前記開口パターンを形成する第5ステップと、
    を行うことを特徴とする成膜マスクの製造方法。
  5.  前記マスクシート又は前記マスク用部材と前記フレームとの接合は、スポット溶接により行うことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の成膜マスクの製造方法。
PCT/JP2014/053614 2013-03-15 2014-02-17 成膜マスクの製造方法 WO2014141816A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201480014059.4A CN105051243B (zh) 2013-03-15 2014-02-17 成膜掩模的制造方法
KR1020157025380A KR102183116B1 (ko) 2013-03-15 2014-02-17 성막 마스크의 제조 방법
US14/853,934 US10195838B2 (en) 2013-03-15 2015-09-14 Method for producing deposition mask

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013053207A JP6142196B2 (ja) 2013-03-15 2013-03-15 蒸着マスクの製造方法
JP2013-053207 2013-03-15

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US14/853,934 Continuation US10195838B2 (en) 2013-03-15 2015-09-14 Method for producing deposition mask

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014141816A1 true WO2014141816A1 (ja) 2014-09-18

Family

ID=51536491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2014/053614 WO2014141816A1 (ja) 2013-03-15 2014-02-17 成膜マスクの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10195838B2 (ja)
JP (1) JP6142196B2 (ja)
KR (1) KR102183116B1 (ja)
CN (1) CN105051243B (ja)
TW (1) TWI612159B (ja)
WO (1) WO2014141816A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019171455A1 (ja) * 2018-03-06 2019-09-12 シャープ株式会社 蒸着マスクの製造方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103882375B (zh) * 2014-03-12 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制作方法
DE112016003224T5 (de) 2015-07-17 2018-04-19 Toppan Printing Co., Ltd. Metallmaskensubstrat für dampfabscheidung, metallmaske für dampfabscheidung, herstellungsverfahren für metallmaskensubstrat für dampfabscheidung und herstellungsverfahren für metallmaske für dampfabscheidung
KR102401484B1 (ko) * 2015-08-31 2022-05-25 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN105220110A (zh) * 2015-10-20 2016-01-06 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法
JP6720564B2 (ja) * 2016-02-12 2020-07-08 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
WO2018025835A1 (ja) * 2016-08-05 2018-02-08 凸版印刷株式会社 蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、表示装置の製造方法
CN113463017A (zh) * 2016-09-30 2021-10-01 大日本印刷株式会社 框架一体式的蒸镀掩模及其制备体和制造方法、蒸镀图案形成方法
KR20180083459A (ko) * 2017-01-12 2018-07-23 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크 어셈블리
KR102280187B1 (ko) * 2017-05-31 2021-07-22 주식회사 오럼머티리얼 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN107385391A (zh) * 2017-07-14 2017-11-24 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、oled显示基板及其制作方法、显示装置
CN107740040B (zh) * 2017-09-08 2019-09-24 上海天马有机发光显示技术有限公司 掩膜版组件及蒸镀装置
CN107815642A (zh) * 2017-12-13 2018-03-20 唐军 高精密掩膜版
CN110055492B (zh) * 2019-04-09 2021-03-23 Tcl华星光电技术有限公司 一种掩膜片成形结构
KR20210032586A (ko) * 2019-09-16 2021-03-25 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법
KR20220091647A (ko) * 2020-12-23 2022-07-01 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리의 제작 방법
KR20220113588A (ko) * 2021-02-05 2022-08-16 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이의 제조 방법
KR102597712B1 (ko) * 2021-04-01 2023-11-03 (주)세우인코퍼레이션 Oled 마스크 조립체의 제조 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003064468A (ja) * 2001-08-23 2003-03-05 Fuchigami Micro:Kk コンビネーションマスク
JP2004190057A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 Nippon Filcon Co Ltd パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法
JP2005005070A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク及びその溶接固定方法
JP2005197043A (ja) * 2004-01-06 2005-07-21 Toppan Printing Co Ltd 有機el用蒸着マスク
JP2013021165A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Sony Corp 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法、電子素子および電子素子の製造方法
JP2013108143A (ja) * 2011-11-22 2013-06-06 V Technology Co Ltd マスクの製造方法及びマスクの製造装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW289901B (ja) * 1994-12-28 1996-11-01 Ricoh Microelectronics Kk
JPH09174271A (ja) * 1995-12-26 1997-07-08 Nikon Corp レーザ加工装置及び加工用マスク
US20040163592A1 (en) * 2003-02-20 2004-08-26 Tohoku Poineer Corporation Mask for vacuum deposition and organic EL display panel manufactured by using the same
JP5262226B2 (ja) 2007-08-24 2013-08-14 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
KR100947442B1 (ko) 2007-11-20 2010-03-12 삼성모바일디스플레이주식회사 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형마스크의 제조방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003064468A (ja) * 2001-08-23 2003-03-05 Fuchigami Micro:Kk コンビネーションマスク
JP2004190057A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 Nippon Filcon Co Ltd パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法
JP2005005070A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク及びその溶接固定方法
JP2005197043A (ja) * 2004-01-06 2005-07-21 Toppan Printing Co Ltd 有機el用蒸着マスク
JP2013021165A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Sony Corp 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法、電子素子および電子素子の製造方法
JP2013108143A (ja) * 2011-11-22 2013-06-06 V Technology Co Ltd マスクの製造方法及びマスクの製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019171455A1 (ja) * 2018-03-06 2019-09-12 シャープ株式会社 蒸着マスクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20160001542A1 (en) 2016-01-07
US10195838B2 (en) 2019-02-05
JP2014177682A (ja) 2014-09-25
TW201446986A (zh) 2014-12-16
KR20150132169A (ko) 2015-11-25
CN105051243A (zh) 2015-11-11
TWI612159B (zh) 2018-01-21
KR102183116B1 (ko) 2020-11-25
JP6142196B2 (ja) 2017-06-07
CN105051243B (zh) 2017-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014141816A1 (ja) 成膜マスクの製造方法
JP6341434B2 (ja) 成膜マスク、その製造方法及び成膜マスクのリペア方法
JP2017179591A5 (ja)
KR100704688B1 (ko) 증착용 마스크의 제조방법 및 증착용 마스크
WO2015053250A1 (ja) 成膜マスク及びその製造方法
WO2014115477A1 (ja) 成膜マスクの製造方法及びレーザ加工装置
KR102432234B1 (ko) 증착 마스크의 인장 방법, 프레임이 구비된 증착 마스크의 제조 방법, 유기 반도체 소자의 제조 방법, 및 인장 장치
JP6035548B2 (ja) 蒸着マスク
WO2014097728A1 (ja) 成膜マスクの製造方法
KR102155259B1 (ko) 성막 마스크의 제조 방법 및 성막 마스크
WO2018110253A1 (ja) 蒸着マスク装置及び蒸着マスク装置の製造方法
JP2017210633A (ja) 蒸着マスクおよびその製造方法
WO2014069049A1 (ja) 成膜マスク
JP2014125671A (ja) 蒸着マスク及びその製造方法
JP2006092752A (ja) コンビネーションマスクの製造方法
JP6078746B2 (ja) 蒸着マスクの製造方法
WO2020031987A1 (ja) 蒸着マスクの製造方法及び有機el表示装置の製造方法
JP7110776B2 (ja) 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および有機el表示装置の製造方法
WO2017170172A1 (ja) 成膜マスク、その製造方法及び成膜マスクのリペア方法
JP4863247B2 (ja) 金属多孔体とその製造方法
JP2015064454A (ja) スクリーン印刷版の製造方法
JP4861507B2 (ja) 金属多孔体とその製造方法
JP2018139249A (ja) 光学デバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201480014059.4

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14765014

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20157025380

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14765014

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1