JP2017179591A5 - - Google Patents
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Description
上記目的を達成するために、第１の発明による成膜マスクは、複数の開口パターンを設けたフィルム層上に、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する複数の貫通孔を設けたメタル層を積層すると共に、一面を複数の前記開口パターン及び貫通孔が内在する複数の単位セルに区画したマスクシートと、外的なテンションがない状態の前記マスクシートの前記メタル層に接合して前記マスクシートを支持し、前記マスクシートの前記単位セルに対応させて開口部を有する金属製のサポート部材と、を備えたものである。
そして、第５の発明による成膜マスクのリペア方法は、複数の開口パターンを設けたフィルム層上に、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する複数の貫通孔を設けたメタル層を積層すると共に、一面を複数の前記開口パターン及び貫通孔が内在する複数の単位セルに区画したマスクシートと、外的なテンションがない状態の前記マスクシートの前記メタル層に接合して前記マスクシートを支持し、前記単位セルに対応させて開口部を有する金属製のサポート部材と、を備えた成膜マスクのリペア方法であって、前記メタル層には、前記単位セルの周縁部に沿って、隣接する単位セルを相互に分離するためのミシン目が設けられており、欠陥が有る単位セル（以下、「欠陥単位セル」という）周囲の前記ミシン目に沿って前記メタル層及びフィルム層を切り取り、該欠陥単位セルを除去する段階と、前記単位セルと同じ形状を有し、フィルム層と複数の貫通孔を設けたメタル層を積層した単位マスク部材を前記欠陥単位セルが抜けた部分に嵌合した後、前記単位マスク部材を前記サポート部材に接合する段階と、前記単位マスク部材にメタル層側からレーザ光を照射し、貫通孔内に開口パターンを形成する段階と、を行うものである。
なお、上記フィルム層４への開口パターン７の形成は、フィルム層４をガラス基板に密着させた状態でレーザアブレーションして行ってもよく、フィルム層４をガラス基板から剥離した状態でレーザアブレーションして行ってもよく、必要に応じて適宜な方法により行うとよい。また、開口パターン７を形成するためのレーザ光の照射位置は、後述のメタル層５に予め形成した被成膜基板とのアライメントマークやレーザ加工装置のステージに設けられたアライメントマーク等を基準にして算出してもよく、この場合も、必要に応じて適宜な方法により行うとよい。フィルム層４をガラス基板に密着させた状態で開口パターン７を形成すれば、開口パターン７の縁部におけるバリの発生を抑制することができる。以下の説明においては、フィルム層４をガラス基板に密着させた状態で開口パターン７を形成する場合について述べる。
上記マスクシート１のメタル層５に接合して金属製のサポート部材２が設けられている。このサポート部材２は、外的なテンションがない無テンション状態のマスクシート１のメタル層５に接合してマスクシート１を支持するもので、上記マスクシート１の複数の単位セル６に夫々対応して、図２に示すように、単位セル６内の複数の開口パターン７及び複数の貫通孔８を内包する開口部１０を有している。そして、サポート部材２は、厚みが１００μｍ〜３００μｍのシート状の部材であり、メタル層５としてのニッケルよりも熱膨張係数が小さい、例えばインバー又はインバー合金で形成される。
マスクシート１のメタル層５とサポート部材２との接合は、少なくとも開口部１０の周辺部でレーザスポット溶接して行うのが望ましく、メタル層５にレーザ光を、製造工程においてマスクシート１のフィルム層４に密着してマスクシート１を支持する後述の透明基板１１越しに照射して行う。また、レーザスポット溶接の代わりに接着剤で接合することもできる。
次に、図６（ｂ）に示すように、サポート部材２の開口部１０の周辺領域及びマスクシート１の周縁領域に対応させてメタル層５に、レーザ光Ｌ２が透明基板１１越しに照射されて、マスクシート１のメタル層５とサポート部材２とがスポット溶接される。詳細には、図７に示すように、サポート部材２の開口部１０の周縁部とマスクシート１の単位セル６の周縁部との間の領域にレーザ光Ｌ２が照射されてスポット溶接２０が行われる。
図３（ａ）〜（ｆ）の工程を経て、所定のめっき条件により、透明基板１１に密着して保持されたポリイミドフィルム１２（フィルム層４）上にメタル層５がめっき形成されると、図１０（ａ）に矢印Ｆで示すように、メタル層５内には、透明基板１１に対する内部応力（引張応力）が発生する。
次に、図３（ｇ），（ｈ）を経て、ポリイミドフィルム１２（フィルム層４）上に貫通孔８を有するメタル層５が形成された後、図１０（ｂ）に示すように、外的なテンションがない状態のマスクシート１のメタル層５に、単位セル６に対応させて開口部１０を有し、枠状のフレーム３に周縁部が予め固定された金属製のサポート部材２が接合される。このとき、メタル層５内には、同図（ｂ）に矢印Ｆで示すように、上記内部応力（引張応力）が残存したままである。
このようにして形成された成膜マスクは、成膜時には、成膜装置のマスクホルダーに図１０（ｃ）に示すように、フィルム層４を被成膜基板２６の成膜面に密着させた状態で保持されて使用される。このとき、一般には、マスクシート１には、同図（ｃ）に破線で示すように、熱膨張による撓みが発生する。しかしながら、本発明によれば、メタル層５内に矢印Ｆで示す内部応力（引張応力）が存在するため、この引張応力によりマスクシート１の撓みが抑制される。これにより、マスクシート１と被成膜基板２６との間の隙間を小さくすることができ、被成膜基板２６に形成される薄膜パターンの形状精度及び位置精度を高精度に確保することができる。
次に、図１１（ｂ）に示すように、単位セル６と同じ形状を有し、図３と同様の工程により、フィルム層４と複数の貫通孔８を設けたメタル層５を積層して予め形成された単位マスク部材２２を欠陥単位セル２１が抜けた部分に嵌合する。この工程は、単位マスク部材２２のフィルム層４側を透明基板１１に密着させた状態で行われる。その後、図１２（ａ）に示すように、透明基板１１越しに単位マスク部材２２の周縁部にレーザ光Ｌ２を照射し、単位マスク部材２２のメタル層５とサポート部材２とをスポット溶接する。
Claims (2)
- 複数の開口パターンを設けたフィルム層上に、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する複数の貫通孔を設けたメタル層を積層すると共に、一面を複数の前記開口パターン及び貫通孔が内在する複数の単位セルに区画したマスクシートと、
外的なテンションがない状態の前記マスクシートの前記メタル層に接合して前記マスクシートを支持し、前記マスクシートの前記単位セルに対応させて開口部を有する金属製のサポート部材と、
を備えたことを特徴とする成膜マスク。 - 複数の開口パターンを設けたフィルム層上に、少なくとも一つの前記開口パターンを内包する複数の貫通孔を設けたメタル層を積層すると共に、一面を複数の前記開口パターン及び貫通孔が内在する複数の単位セルに区画したマスクシートと、外的なテンションがない状態の前記マスクシートの前記メタル層に接合して前記マスクシートを支持し、前記単位セルに対応させて開口部を有する金属製のサポート部材と、を備えた成膜マスクのリペア方法であって、
前記メタル層には、前記単位セルの周縁部に沿って、隣接する単位セルを相互に分離するためのミシン目が設けられており、
欠陥が有る単位セル（以下、「欠陥単位セル」という）周囲の前記ミシン目に沿って前記メタル層及びフィルム層を切り取り、該欠陥単位セルを除去する段階と、
前記単位セルと同じ形状を有し、フィルム層と複数の貫通孔を設けたメタル層を積層した単位マスク部材を前記欠陥単位セルが抜けた部分に嵌合した後、前記単位マスク部材を前記サポート部材に接合する段階と、
前記単位マスク部材にメタル層側からレーザ光を照射し、貫通孔内に開口パターンを形成する段階と、
を行うことを特徴とする成膜マスクのリペア方法。
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| KR102009714B1 (ko) * | 2019-07-15 | 2019-08-13 | (주)세우인코퍼레이션 | 초미세 와이어를 이용한 다중 다각망 구조의 네트 마스크 제조방법 |
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