JP2017210633A - 蒸着マスクおよびその製造方法 - Google Patents
蒸着マスクおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017210633A JP2017210633A JP2016102630A JP2016102630A JP2017210633A JP 2017210633 A JP2017210633 A JP 2017210633A JP 2016102630 A JP2016102630 A JP 2016102630A JP 2016102630 A JP2016102630 A JP 2016102630A JP 2017210633 A JP2017210633 A JP 2017210633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- mask
- vapor deposition
- layer
- primary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 192
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 119
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 119
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 48
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 180
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 95
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 82
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims description 79
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 65
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 42
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 37
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 32
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 30
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 15
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 13
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 abstract description 37
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 20
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 12
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 19
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 10
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 6
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical group [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/10—Moulds; Masks; Masterforms
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
まず、例えば金属板材に対する熱影響の小さいワイヤー放電加工機等を用いて、金属板材から上枠16および下枠17の大きさに切り出す切断工程を行う。次いで、切り出した上枠16および下枠17にエッチングやレーザー加工を施すことにより、図6(a)に示すように、マスク開口11となる複数の開口を形成するマスク開口形成工程を行う。次いで、図6(b)に示すように、金属板材に由来する上枠16と下枠17の突弧面どうしが対向する状態で、両枠16・17を接着層18で接合して、二次元曲面状の反りが相殺された状態で、枠体3を平坦状に形成する接合工程を行う。接着層18は、シート状の未硬化感光性ドライフィルムレジストからなる。
図8(a)に示すように、導電性を有する例えばステンレスや真ちゅう製の母型24の表面にフォトレジスト層25を形成する。このフォトレジスト層25は、ネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、フォトレジスト層25の上に、蒸着通孔5および接合通孔7(一次パターンニング)に対応する透光孔26aを有するパターンフィルム26(ガラスマスク)を密着させ、パターンニング前段体27を得た。
パターンニング前段体27は、例えばヒータープレートや予熱炉等を用いて、露光作業時の紫外線照射装置の炉内温度に予熱する。パターンニング前段体27の予熱と並行して、紫外線照射装置の炉内も露光作業時の炉内温度に予熱する。紫外線照射装置の炉内の予熱は、炉内に照射対象を収容しない状態、もしくはダミー母型(母型+フォトレジスト層+保護フィルム)を収容した状態で紫外線ランプ28を点灯して行う。パターンニング前段体27および炉内は、例えば23±3℃に予熱する。因みに露光作業における紫外線照射装置の炉内の最高温度は、26℃前後である。
紫外線照射装置の炉内およびパターンニング前段体27の予熱が完了したら、パターンニング前段体27を紫外線照射装置の炉内に収容し、図8(a)に示すように、紫外光ランプ28で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行う。次いで、未露光部分を溶解除去することにより、図8(b)に示すように、蒸着通孔5および接合通孔7に対応するレジスト体29aを有する一次パターンレジスト29を母型24上に形成した。このように、紫外線照射装置の炉内およびパターンニング前段体27を、露光作業時の炉内温度に予熱した状態で露光作業を行うと、紫外線照射によりパターンニング前段体27が加熱されて膨張し、前記3者24・25・26の相対的な位置関係がずれながら露光作業が行われることを解消することができる。従って、位置精度がよく、しかも意図した形状どおりの一次パターンレジスト29を母型24上に設けることができ、蒸着層の再現精度および蒸着精度の高精度化に寄与できる。
次いで、上記母型24を電鋳液の温度条件が40〜50℃に建浴された電鋳槽に入れ、図8(c)に示すように先のレジスト体29aの高さの範囲内で、母型24のレジスト体29aで覆われていない表面にニッケルからなる電着金属を一次電鋳して、一次電鋳層30、すなわちマスク本体2となる層を形成した。次に、レジスト体29aを溶解除去することにより、図8(d)に示すように、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6および接合通孔7を備えるマスク本体2を得た。なお、図8(d)において符号30aは、マスク本体2・2どうしの間に形成された、後述する剥離工程で除去される一次電着層を示す。
図9(a)に示すように、一次電鋳層30・30aの表面全体に、フォトレジスト層33を形成してから、接合通孔7の周辺部分に対応する透光孔34aを有するパターンフィルム34を密着させて紫外線照射装置の炉内に収容し、紫外光ランプ28で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行う。ここでのフォトレジスト層33は、先と同様にネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、未露光部分のフォトレジスト層33を溶解除去することにより、図9(b)に示すように、接合通孔7の周辺部分に対応する開口35aを有するパターンレジスト35を得た。つまり、接合通孔7の周辺部分のみが表面に露出するようにパターンレジスト35を形成した。
図10(a)に示すように、一次電鋳層30・30aの形成部分を含む母型24の表面全体に、フォトレジスト層38を形成する。このフォトレジスト層38は、先と同様にネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、パターン形成領域4に対応する透光孔39aを有するパターンフィルム39を密着させて紫外線照射装置の炉内に収容し、紫外光ランプ28で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行う。この状態においては、パターン形成領域4に係る部分(38a)が露光されており、それ以外が未露光の部分(38b)のフォトレジスト層38を得た(図10(b)参照)。
上記母型24を電鋳液の温度条件が23±3℃に建浴された電鋳槽に入れ、図10(d)に示すように、パターン形成領域4の外周縁4aに臨む一次電鋳層30の上面と、枠体3の表面と、枠体3と一次電鋳層30との間で表面に露出する母型24の表面と、接合通孔7内とに、ニッケルからなる電着金属を電鋳して金属層8を形成した。これにより、一次電着層30と枠体3を金属層8で不離一体的に接合できる。
母型24から一次電鋳層30および金属層8を剥離したうえで、これら両層30・8から枠体3の下面に位置する一次電鋳層30aを剥離した。最後に、二次パターンレジスト40および未露光のフォトレジスト層38bを除去することにより、図3に示す蒸着マスク1を得た。
図12(a)に示すように、母型24上に一次電鋳層30を囲むように、レジスト体42aを設けた枠体3を位置合わせしながら配した。ここでは、未露光のフォトレジスト層38bの接着性を利用して、母型24上に枠体3を仮止め固定した。さらに図12(b)に示すように、表面に露出している未露光のフォトレジスト層38bを溶解除去して、パターン形成領域4を覆うレジスト体40aを有する二次パターンレジスト40を形成した。このとき、枠体3の下面にある未露光のフォトレジスト層38bは、枠体3でカバーされて溶解除去されず母型24上に残留している。
上記母型24を電鋳液の温度条件が23±3℃に建浴された電鋳槽に入れ、図12(c)に示すように、パターン形成領域4の外周縁4aに臨む一次電鋳層30の上面と、レジスト体42aで覆われていない枠体3の表面と、枠体3と一次電鋳層30との間で表面に露出する母型24の表面と、接合通孔7内とに、ニッケルからなる電着金属を電鋳して金属層8を形成した。これにより、一次電着層30と枠体3を金属層8で不離一体的に接合できる。本実施形態においては、第1の電鋳工程、および第2の電鋳工程で使用する電鋳液の温度領域を、同一(23±3℃)に設定した。これにより、一次電鋳層30、すなわちマスク本体2が熱膨張しながら枠体3と接合されるのを可及的に阻止できるので、枠体3に対するマスク本体2の接合位置の位置精度を向上でき、蒸着層の再現精度および蒸着精度がより高精度化された蒸着マスクを得ることができる。なお、第1の電鋳工程および第2の電鋳工程とも、電鋳槽内の電鋳液の温度を低く設定すればするほど、一次電鋳層30及び金属層8の熱膨張を可及的に抑えることができる。この時、第1の電鋳工程の電鋳槽の電鋳液の温度と第2の電鋳工程における電鋳槽の電鋳液の温度とは、同一もしくは±3℃にするのがより好ましい。
母型24から一次電鋳層30および金属層8を剥離したうえで、これら両層30・8から枠体3の下面に位置する一次電鋳層30aを剥離した。最後に、二次パターンレジスト40、レジスト体42a、および未露光のフォトレジスト層38bを除去することにより、図11に示す応力緩和部42を設けた蒸着マスク1を得た。
まず、例えば金属板材に対する熱影響の小さいワイヤー放電加工機等を用いて、金属板材から上枠16および下枠17の大きさに切り出す切断工程を行う。次いで、切り出した上枠16および下枠17にエッチングやレーザー加工を施すことにより、図6(a)に示すように、マスク開口11となる複数の開口を形成するマスク開口形成工程を行う。次いで、図6(b)に示すように、金属板材に由来する上枠16と下枠17の突弧面どうしが対向する状態で、両枠16・17を接着層18で接合して、二次元曲面状の反りが相殺された状態で、枠体3を平坦状に形成する接合工程を行う。接着層18は、シート状の未硬化感光性ドライフィルムレジストからなる。
図14(a)に示すように、導電性を有する例えばステンレスや真ちゅう製の母型24の表面にフォトレジスト層25を形成する。このフォトレジスト層25は、ネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、フォトレジスト層25の上に、蒸着通孔5に対応する透光孔26aを有するパターンフィルム26(ガラスマスク)を密着させ、パターンニング前段体27を得た。
パターンニング前段体27は、例えばヒータープレートや予熱炉等を用いて、露光作業時の紫外線照射装置の炉内温度に予熱する。パターンニング前段体27の予熱と並行して、紫外線照射装置の炉内も露光作業時の炉内温度に予熱する。紫外線照射装置の炉内の予熱は、炉内に照射対象を収容しない状態、もしくはダミー母型(母型+フォトレジスト層+保護フィルム)を収容した状態で紫外線ランプ28を点灯して行う。パターンニング前段体27および炉内は、例えば23±3℃に予熱する。因みに露光作業における紫外線照射装置の炉内の最高温度は、26℃前後である。
紫外線照射装置の炉内およびパターンニング前段体27の予熱が完了したら、パターンニング前段体27を紫外線照射装置の炉内に収容し、図14(a)に示すように、紫外光ランプ28で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行う。次いで、未露光部分を溶解除去することにより、図14(b)に示すように、蒸着通孔5(一次パターンニング)に対応するレジスト体29aを有する一次パターンレジスト29を母型24上に形成した。このように、紫外線照射装置の炉内およびパターンニング前段体27を、露光作業時の炉内温度に予熱した状態で露光作業を行うと、紫外線照射によりパターンニング前段体27が加熱されて膨張し、前記3者24・25・26の相対的な位置関係がずれながら露光作業が行われることを解消することができる。従って、位置精度がよく、しかも意図した形状どおりの一次パターンレジスト29を母型24上に設けることができ、蒸着層の再現精度および蒸着精度の高精度化に寄与できる。
次いで、上記母型24を電鋳液の温度条件が40〜50℃に建浴された電鋳槽に入れ、図14(c)に示すように先のレジスト体29aの高さの範囲内で、母型24のレジスト体29aで覆われていない表面にニッケルからなる電着金属を一次電鋳して、一次電鋳層30、すなわちマスク本体2となる層を形成した。次に、レジスト体29aを溶解除去することにより、図14(d)に示すように、多数独立の蒸着通孔5からなる蒸着パターン6を備えるマスク本体2を得た。
図15(a)に示すように、一次電鋳層30の形成部分を含む母型24の表面全体に、フォトレジスト層38を形成した。このフォトレジスト層38は、先と同様にネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、パターン形成領域4に対応する透光孔39aを有するパターンフィルム39を密着させて紫外線照射装置の炉内に収容し、紫外光ランプ28で紫外線光を照射して露光を行う。この状態においては、パターン形成領域4に係る部分(38a)が露光されており、それ以外が未露光の部分(38b)のフォトレジスト層38を得た(図15(b)参照)。なお、本実施例においても二次パターンニング工程に先立ち活性化処理工程を行って、パターン形成領域4の外周縁4aとなる一次電鋳層30に対して酸浸漬や電解処理等の活性化処理を施してもよい。
次いで、上記母型24を電鋳液の温度条件が23±3℃に建浴された電鋳槽に入れ、図15(d)に示すように、パターン形成領域4の外周縁4aに臨む一次電鋳層30の上面と、枠体3の表面と、枠体3と一次電鋳層30との間で表面に露出する母型24の表面とに、ニッケルからなる電着金属を電鋳して金属層8を形成した。これにより、一次電着層30と枠体3を金属層8で不離一体的に接合できる。
母型24から一次電鋳層30および金属層8を剥離したうえで、これら両層30・8から枠体3の下面に位置する一次電鋳層30aを剥離した。最後に、二次パターンレジスト40および未露光のフォトレジスト層38bを除去することにより、図13に示す蒸着マスク1を得た。
まず、例えば金属板材に対する熱影響の小さいワイヤー放電加工機等を用いて、金属板材から上枠16および下枠17の大きさに切り出す切断工程を行う。次いで、切り出した上枠16および下枠17にエッチングやレーザー加工を施すことにより、図6(a)に示すように、マスク開口11となる複数の開口を形成するマスク開口形成工程を行う。次いで、図6(b)に示すように、金属板材に由来する上枠16と下枠17の突弧面どうしが対向する状態で、両枠16・17を接着層18で接合して、二次元曲面状の反りが相殺された状態で、枠体3を平坦状に形成する接合工程を行う。接着層18は、シート状の未硬化感光性ドライフィルムレジストからなる。
図17(a)に示すように、導電性を有する例えばステンレスや真ちゅう製の母型24の表面にフォトレジスト層25を形成する。このフォトレジスト層25は、ネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、フォトレジスト層25の上に、マスク本体2に対応する透光孔26aを有するパターンフィルム26(ガラスマスク)を密着させ、パターンニング前段体27を得た。
パターンニング前段体27は、例えばヒータープレートや予熱炉等を用いて、露光作業時の紫外線照射装置の炉内温度に予熱する。パターンニング前段体27の予熱と並行して、紫外線照射装置の炉内も露光作業時の炉内温度に予熱する。紫外線照射装置の炉内の予熱は、炉内に照射対象を収容しない状態、もしくはダミー母型(母型+フォトレジスト層+保護フィルム)を収容した状態で紫外線ランプ28を点灯して行う。パターンニング前段体27および炉内は、例えば23±3℃に予熱する。因みに露光作業における紫外線照射装置の炉内の最高温度は、26℃前後である。
紫外線照射装置の炉内およびパターンニング前段体27の予熱が完了したら、パターンニング前段体27を紫外線照射装置の炉内に収容し、図17(a)に示すように、紫外光ランプ28で紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行う。次いで、未露光部分を溶解除去することにより、図17(b)に示すように、マスク本体2(一次パターンニング)に対応するレジスト体29aを有する一次パターンレジスト29を母型24上に形成した。このように、紫外線照射装置の炉内およびパターンニング前段体27を、露光作業時の炉内温度に予熱した状態で露光作業を行うと、紫外線照射によりパターンニング前段体27が加熱されて膨張し、前記3者24・25・26の相対的な位置関係がずれながら露光作業が行われることを解消することができる。従って、位置精度がよく、しかも意図した形状どおりの一次パターンレジスト29を母型24上に設けることができ、蒸着層の再現精度および蒸着精度の高精度化に寄与できる。
図17(c)に示すように、一次パターンレジスト29の形成部分を含む母型24の表面全体に、接着レジスト43を形成した。この接着レジスト43は、先と同様にネガタイプのシート状感光性ドライフィルムレジストの一枚ないし数枚をラミネートして熱圧着により形成して、所定の厚みになるようにした。次いで、母型24上に一次パターンレジスト29を囲むように、枠体3を位置合わせしながら配した。ここでは、未露光の接着レジスト43の接着性を利用して、母型24上に枠体3を仮止め固定した。さらに図17(d)に示すように、表面に露出している未露光の接着レジスト43を溶解除去した。このとき、枠体3の下面にある接着レジスト43は、枠体3でカバーされて溶解除去されず母型24上に残留している。
上記母型24を電鋳液の温度条件が23±3℃に建浴された電鋳槽に入れ、図17(e)に示すように、レジスト体29aで覆われていない母型24の表面と、枠体3の表面とに、ニッケルからなる電着金属を電鋳して金属層8を形成した。これにより、マスク本体2を構成する一次電鋳層30と、該マスク本体2と枠体3とを接合する金属層8とを一体に形成できる。
母型24から一次電鋳層30、金属層8、および枠体3を一体に剥離したうえで、これら両層30・8から枠体3の下面に位置する接着レジスト43を除去することにより、図16に示す蒸着マスク1を得た。
2 マスク本体
3 枠体
4 パターン形成領域
4a 外周縁
5 蒸着通孔
6 蒸着パターン
8 金属層
10 外周枠
11 マスク開口
12 縦枠
13 横枠
16 上枠
17 下枠
18 接着層
19 接着層
24 母型
25 フォトレジスト層
26 パターンフィルム
26a 透光孔
27 パターンニング前段体
29 一次パターンレジスト
29a レジスト体
30 一次電鋳層
43 接着レジスト
46 支持フレーム
47 補助フレーム
48 フレーム開口
W1 縦枠の幅寸法
W2 横枠の幅寸法
Claims (10)
- 多数独立の蒸着通孔(5)からなる蒸着パターン(6)を備えるマスク本体(2)と、マスク本体(2)の周囲に配置した、低熱線膨張係数の金属板材からなる補強用の枠体(3)とを備えた蒸着マスクであって、
マスク本体(2)と枠体(3)とは、金属層(8)を介して不離一体的に接合されており、
枠体(3)が同一形状に形成された上枠(16)と下枠(17)とで構成されて、上枠(16)と下枠(17)とが接着層(18)を介して接合され一体化されていることを特徴とする蒸着マスク。 - 複数の枠体(3・3)が積層されて、積層方向に隣り合う枠体(3・3)どうしが接着層(19)を介して接合されている請求項1に記載の蒸着マスク。
- 上枠(16)と下枠(17)は、突弧面あるいは凹弧面どうしが対向する状態で接合されており、上枠(16)および下枠(17)の二次元曲面、ないしは三次元曲面状の反りが相殺された状態で、枠体(3)が平坦状に形成されている請求項1または2に記載の蒸着マスク。
- マスク本体(2)は長方形状に形成されて、複数のマスク本体(2)がマトリクス状に配置されており、
枠体(3)は、外周枠(10)と、外周枠(10)内に複数のマスク開口(11)を区画する、格子枠状の縦枠(12)および横枠(13)を備えており、
マスク本体(2)の長辺と平行な縦枠(12)の幅寸法を(W1)とし、マスク本体(2)の短辺と平行な横枠(13)の幅寸法を(W2)とするとき、縦枠(12)の幅寸法(W1)と横枠(13)の幅寸法(W2)とが、不等式(W1≦W2≦W1×1.1)を満足するように設定されている請求項1から3のいずれかひとつに記載の蒸着マスク。 - 金属層(8)がマスク本体(2)と一体形成されている請求項1から4のいずれかひとつに記載の蒸着マスク。
- 枠体(3)の下面に固定される支持フレーム(46)と、支持フレーム(46)の下面に固定される補助フレーム(47)とを備えており、
支持フレーム(46)には、枠体(3)のマスク開口(11)に対応するフレーム開口(48)が形成されており、
フレーム開口(48)は、マスク開口(11)より一回り大きな開口形状に形成されて、枠体(3)の縦枠(12)および横枠(13)の全体が支持フレーム(46)で支持されており、
補助フレーム(47)は額縁状に形成されて、支持フレーム(46)の四周縁が補助フレーム(47)で支持されている請求項1から5のいずれかひとつに記載の蒸着マスク。 - 多数独立の蒸着通孔(5)からなる蒸着パターン(6)をパターン形成領域(4)内に備えるマスク本体(2)と、マスク本体(2)の周囲に配置した、低熱線膨張係数の金属板材からなる補強用の枠体(3)とを備えた蒸着マスク製造方法であって、
補強用の枠体(3)を形成する枠体形成工程と、
母型(24)の表面に、蒸着通孔(5)に対応するレジスト体(29a)を有する一次パターンレジスト(29)を設ける一次パターンニング工程と、
一次パターンレジスト(29)を用いて母型(24)上に電着金属を電鋳し、該母型(24)上にマスク本体(2)に対応する一次電鋳層(30)を所定位置に複数個形成する第1の電鋳工程と、
枠体(3)の各マスク開口(11)内に、該マスク開口(11)に対応する一次電鋳層(30)が位置するように位置合わせしながら、母型(24)上に枠体(3)を配する枠体配設工程と、
枠体(3)の表面と、マスク本体(2)のパターン形成領域(4)の外周縁(4a)の表面とを覆う状態で、電鋳法により金属層(8)を形成して、該金属層(8)を介して一次電鋳層(30)と枠体(3)とを不離一体的に接合する第2の電鋳工程と、
母型(24)から一次電鋳層(30)、枠体(3)、および金属層(8)を一体に剥離する剥離工程とを含み、
枠体形成工程において、上枠(16)と下枠(17)の突弧面あるいは凹弧面どうしが対向する状態で、両枠(16・17)を接着層(18)で接合して、上枠(16)および下枠(17)の二次元曲面、ないしは三次元曲面状の反りが相殺された状態で、枠体(3)を平坦状に形成する接合工程とを含んで枠体(3)を形成することを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 多数独立の蒸着通孔(5)からなる蒸着パターン(6)をパターン形成領域(4)内に備えるマスク本体(2)と、マスク本体(2)の周囲に配置した、低熱線膨張係数の金属板材からなる補強用の枠体(3)とを備えた蒸着マスク製造方法であって、
補強用の枠体(3)を形成する枠体形成工程と、
母型(24)の表面に、マスク本体(2)に対応するレジスト体(29a)を有する一次パターンレジスト(29)を設ける一次パターンニング工程と、
一次パターンレジスト(29)を含む母型(24)の上面の全面に、接着レジスト(43)を貼り付けたうえで、一次パターンレジスト(29)を囲むように、母型(24)上に枠体(3)を接着固定する枠体配設工程と、
枠体(3)の下面に位置する接着レジスト(43)を除いて、接着レジスト(43)を除去する工程と、
レジスト体(29a)を除く母型(24)の表面と、および枠体(3)の表面とを覆う状態で、電着金属を電鋳して、マスク本体(2)を構成する一次電鋳層(30)と、該マスク本体(2)と枠体(3)とを接合する金属層(8)とを一体に形成する一体電鋳工程と、
母型(24)から一次電鋳層(30)、金属層(8)、および枠体(3)を一体に剥離する剥離工程とを含み、
枠体形成工程において、上枠(16)と下枠(17)の突弧面あるいは凹弧面どうしが対向する状態で、両枠(16・17)を接着層(18)で接合して、上枠(16)および下枠(17)の二次元曲面、ないしは三次元曲面状の反りが相殺された状態で、枠体(3)を平坦状に形成する接合工程とを含んで枠体(3)を形成することを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 一次パターンニング工程において、導電性を有する母型(24)の表面にフォトレジスト層(25)を積層し、さらにフォトレジスト層(25)の表面に一次パターンニングに対応する透光孔(26a)を有するパターンフィルム(26)を積層したパターンニング前段体(27)を形成し、
パターンニング前段体(27)の温度と紫外線照射装置の炉内温度とを、露光作業時の炉内温度に予熱した状態で、紫外線照射装置によるフォトレジスト層(25)の露光作業を行う請求項7または8に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 第1の電鋳工程で使用する電鋳液の温度領域と、第2の電鋳工程で使用する電鋳液の温度領域とが、略同一の温度領域に設定されている請求項7に記載の蒸着マスクの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016102630A JP6722512B2 (ja) | 2016-05-23 | 2016-05-23 | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
KR1020160105382A KR102654794B1 (ko) | 2016-05-23 | 2016-08-19 | 증착 마스크 및 그 제조 방법 |
TW105126978A TWI699445B (zh) | 2016-05-23 | 2016-08-24 | 蒸鍍罩及其製造方法 |
CN201610772120.2A CN107419217B (zh) | 2016-05-23 | 2016-08-30 | 蒸镀掩膜及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016102630A JP6722512B2 (ja) | 2016-05-23 | 2016-05-23 | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020106672A Division JP7049400B2 (ja) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 蒸着マスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017210633A true JP2017210633A (ja) | 2017-11-30 |
JP6722512B2 JP6722512B2 (ja) | 2020-07-15 |
Family
ID=60422880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016102630A Active JP6722512B2 (ja) | 2016-05-23 | 2016-05-23 | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6722512B2 (ja) |
KR (1) | KR102654794B1 (ja) |
CN (1) | CN107419217B (ja) |
TW (1) | TWI699445B (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020170762A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
JP2020164913A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | マクセルホールディングス株式会社 | 蒸着マスク |
JP2020180340A (ja) * | 2019-04-25 | 2020-11-05 | マクセルホールディングス株式会社 | 蒸着マスク |
KR20210031398A (ko) | 2019-09-11 | 2021-03-19 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 및 증착 마스크의 제조 방법 |
JPWO2020032149A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2021-05-13 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法及び蒸着方法 |
CN112981318A (zh) * | 2021-02-08 | 2021-06-18 | 合肥维信诺科技有限公司 | 掩膜版及掩膜版的精度检测方法 |
KR20210119882A (ko) | 2020-03-25 | 2021-10-06 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크의 제조 방법 |
KR20220051804A (ko) | 2020-10-19 | 2022-04-26 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 및 증착 마스크의 제조 방법 |
KR20220052271A (ko) | 2020-10-20 | 2022-04-27 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 유닛과 그 제조 방법 |
KR20220068151A (ko) | 2020-11-18 | 2022-05-25 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크의 제조 방법 |
KR20230004257A (ko) | 2021-06-30 | 2023-01-06 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 |
KR20230104962A (ko) | 2021-01-08 | 2023-07-11 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크의 제조 장치 및 증착 마스크의 제조 방법 |
KR20230113153A (ko) | 2022-01-21 | 2023-07-28 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 및 그 제조 방법 |
KR20230136525A (ko) | 2022-03-18 | 2023-09-26 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 |
JP7464415B2 (ja) | 2020-03-16 | 2024-04-09 | マクセル株式会社 | 接着層、およびこの接着層を用いたメタルマスク |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI772559B (zh) * | 2017-11-22 | 2022-08-01 | 日商麥克賽爾股份有限公司 | 蒸鍍遮罩及其製造方法 |
WO2020009088A1 (ja) * | 2018-07-03 | 2020-01-09 | 大日本印刷株式会社 | マスク及びその製造方法 |
JP7267762B2 (ja) * | 2019-02-01 | 2023-05-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
CN109913805B (zh) * | 2019-03-27 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜版 |
JP2021143365A (ja) * | 2020-03-11 | 2021-09-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
JP7454988B2 (ja) * | 2020-04-01 | 2024-03-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの製造装置および製造方法 |
CN116162894A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-05-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及其制作方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003308966A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-31 | Seiko Epson Corp | マスク、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器 |
JP2004349086A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機el素子用の蒸着マスクとその製造方法 |
JP2011068978A (ja) * | 2009-09-22 | 2011-04-07 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体、その製造方法及びそれを用いた平板表示装置用蒸着装置 |
JP2015148003A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004323888A (ja) | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 蒸着マスク及び蒸着方法 |
JP4369199B2 (ja) | 2003-06-05 | 2009-11-18 | 九州日立マクセル株式会社 | 蒸着マスクとその製造方法 |
JP4847081B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2011-12-28 | 九州日立マクセル株式会社 | メタルマスクおよびその製造方法 |
JP4677363B2 (ja) * | 2006-04-07 | 2011-04-27 | 九州日立マクセル株式会社 | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
JP5607312B2 (ja) * | 2009-04-02 | 2014-10-15 | 株式会社ボンマーク | 蒸着マスク及びその製造方法 |
JP5751810B2 (ja) * | 2010-11-26 | 2015-07-22 | 日立マクセル株式会社 | メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法 |
JP6160356B2 (ja) * | 2013-08-14 | 2017-07-12 | ソニー株式会社 | 蒸着用マスクおよび表示装置の製造方法 |
CN203559114U (zh) * | 2013-09-05 | 2014-04-23 | 中山新诺科技有限公司 | 一种oled显示面板生产用新型精细金属掩膜版 |
-
2016
- 2016-05-23 JP JP2016102630A patent/JP6722512B2/ja active Active
- 2016-08-19 KR KR1020160105382A patent/KR102654794B1/ko active IP Right Grant
- 2016-08-24 TW TW105126978A patent/TWI699445B/zh active
- 2016-08-30 CN CN201610772120.2A patent/CN107419217B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003308966A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-31 | Seiko Epson Corp | マスク、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器 |
JP2004349086A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機el素子用の蒸着マスクとその製造方法 |
JP2011068978A (ja) * | 2009-09-22 | 2011-04-07 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体、その製造方法及びそれを用いた平板表示装置用蒸着装置 |
JP2015148003A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020032149A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2021-05-13 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法及び蒸着方法 |
JP7078118B2 (ja) | 2018-08-10 | 2022-05-31 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法及び蒸着方法 |
KR20210114040A (ko) | 2019-02-19 | 2021-09-17 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 |
JP2020132939A (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-31 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
JP7233954B2 (ja) | 2019-02-19 | 2023-03-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
WO2020170762A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
CN113490761A (zh) * | 2019-02-19 | 2021-10-08 | 株式会社日本显示器 | 蒸镀掩模 |
JP7473298B2 (ja) | 2019-03-29 | 2024-04-23 | マクセル株式会社 | 蒸着マスク |
JP2020164913A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | マクセルホールディングス株式会社 | 蒸着マスク |
JP7450076B2 (ja) | 2019-04-25 | 2024-03-14 | マクセル株式会社 | 蒸着マスク |
JP2020180340A (ja) * | 2019-04-25 | 2020-11-05 | マクセルホールディングス株式会社 | 蒸着マスク |
JP7232699B2 (ja) | 2019-04-25 | 2023-03-03 | マクセル株式会社 | 蒸着マスク |
KR20210031398A (ko) | 2019-09-11 | 2021-03-19 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 및 증착 마스크의 제조 방법 |
JP7464415B2 (ja) | 2020-03-16 | 2024-04-09 | マクセル株式会社 | 接着層、およびこの接着層を用いたメタルマスク |
KR20210119882A (ko) | 2020-03-25 | 2021-10-06 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크의 제조 방법 |
CN114438554A (zh) * | 2020-10-19 | 2022-05-06 | 株式会社日本显示器 | 蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法 |
KR20220051804A (ko) | 2020-10-19 | 2022-04-26 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 및 증착 마스크의 제조 방법 |
KR20220052271A (ko) | 2020-10-20 | 2022-04-27 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 유닛과 그 제조 방법 |
KR20220068151A (ko) | 2020-11-18 | 2022-05-25 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크의 제조 방법 |
KR20230104962A (ko) | 2021-01-08 | 2023-07-11 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크의 제조 장치 및 증착 마스크의 제조 방법 |
CN112981318A (zh) * | 2021-02-08 | 2021-06-18 | 合肥维信诺科技有限公司 | 掩膜版及掩膜版的精度检测方法 |
KR20230004257A (ko) | 2021-06-30 | 2023-01-06 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 |
KR20230113153A (ko) | 2022-01-21 | 2023-07-28 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 및 그 제조 방법 |
KR20230136525A (ko) | 2022-03-18 | 2023-09-26 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 증착 마스크 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6722512B2 (ja) | 2020-07-15 |
CN107419217A (zh) | 2017-12-01 |
KR20170132068A (ko) | 2017-12-01 |
KR102654794B1 (ko) | 2024-04-05 |
TW201741482A (zh) | 2017-12-01 |
CN107419217B (zh) | 2022-03-04 |
TWI699445B (zh) | 2020-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017210633A (ja) | 蒸着マスクおよびその製造方法 | |
JP4677363B2 (ja) | 蒸着マスクおよびその製造方法 | |
JP5751810B2 (ja) | メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法 | |
JP4369199B2 (ja) | 蒸着マスクとその製造方法 | |
JP2008255449A (ja) | 蒸着マスクとその製造方法 | |
JP2022167910A (ja) | 蒸着マスク | |
TWI772559B (zh) | 蒸鍍遮罩及其製造方法 | |
JP7470734B2 (ja) | 枠体および蒸着マスク | |
JP4475496B2 (ja) | 有機el素子用の蒸着マスクとその製造方法 | |
JP7067889B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP4782548B2 (ja) | 蒸着方法 | |
JP6904852B2 (ja) | 電鋳用母型及びその製造方法 | |
JP7049400B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP7464415B2 (ja) | 接着層、およびこの接着層を用いたメタルマスク | |
JP7133383B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP7450076B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP7473298B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP2023042234A (ja) | メタルマスク | |
JP2022097146A (ja) | メタルマスクとその製造方法 | |
JP2020026535A (ja) | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200527 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6722512 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |