JP2021143365A - 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】蒸着不良が低減された蒸着マスクの製造方法を提供すること。【解決手段】蒸着マスクの製造方法は、枠部または桟部によって囲まれた空隙を有するマスクフレームと、空隙と平面視で重畳するとともに、枠部または桟部とは平面視で重畳しない領域に設けられた第１メッキ層と、マスクフレームと第１メッキ層とを接合する第２メッキ層と、を有し、第１メッキ層は、マスクフレームから第１方向に突出するように設けられた蒸着マスクの製造方法であって、第２メッキ層と第１メッキ層との境界において、第２メッキ層から、第１方向に突出する突起を押し倒す工程を含む。【選択図】図２Ｈ

Description

本発明は、蒸着マスクに関する。また、本発明は、蒸着マスクの製造方法に関する。特に、本発明は、マスクフレームに薄膜状のマスク本体を備えた蒸着マスクの製造方法に関する。

フラットパネル型表示装置の一例として、液晶表示装置や有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置が挙げられる。これらの表示装置は、絶縁体、半導体、導電体などの様々な材料を含む薄膜が基板上に積層された構造体である。これらの薄膜が適宜パターニングされ、接続されることで、表示装置としての機能が実現される。

薄膜を形成する方法は、大別すると気相法、液相法、固相法に分類される。気相法は物理的気相法と化学的気相法に分類される。物理的気相法の代表的な例として蒸着法が知られている。蒸着法のうち最も簡便な方法が真空蒸着法である。真空蒸着法は、高真空下において材料を加熱することで、材料を昇華又は蒸発させて材料の蒸気を生成する（以下、これらを総じて気化という）。この材料を堆積させるための領域（以下、蒸着領域）において、気化していた材料が固化し、堆積することで材料の薄膜が得られる。蒸着領域に対して選択的に薄膜が形成され、それ以外の領域（以下、非蒸着領域）には材料が堆積しないようにするために、マスク（蒸着マスク）を用いて真空蒸着が行われる（特許文献１及び２参照）。

特開２００９−８７８４０号公報 特開２０１３−２０９７１０号公報

蒸着マスクは、蒸着パターンが形成されたマスク本体に、マスク本体を固定するためのマスクフレームが接合されている。マスク本体とマスクフレームとを接合する工程においては、マスク本体の被蒸着基板側にバリ（端部からはみ出した突起）が生じる。バリがある場合、蒸着時に、バリが被蒸着基板を傷つけてしまう。また、蒸着マスクと被蒸着基板との間に間隙が生じ、蒸着パターンがぼやけてしまう。これらの現象は、蒸着不良と判定される。そのため、マスク本体にバリがあると、被蒸着基板を含む製品の歩留まりが低下する。したがって、マスク本体のバリをカッターなどで切断し、マスク本体からバリを除去することが行われていた。

しかしながら、バリを切断する場合、バリの位置を顕微鏡で確認しながら、作業者による手作業で行う必要がある。このような作業は、作業者の熟練度によるところが大きく、作業者によって作業時間が異なり、また、作業時間が長いものであった。さらに、切断されたバリが異物としてマスク本体に付着する問題もあった。

本発明は、上記問題に鑑み、蒸着不良が低減された蒸着マスクの製造方法を提供することを課題の１つとする。

本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法は、枠部または桟部によって囲まれた空隙を有するマスクフレームと、空隙と平面視で重畳するとともに、枠部または桟部とは平面視で重畳しない領域に設けられた第１メッキ層と、マスクフレームと第１メッキ層とを接合する第２メッキ層と、を有し、第１メッキ層は、マスクフレームから第１方向に突出するように設けられた蒸着マスクの製造方法であって、第２メッキ層と第１メッキ層との境界において、第２メッキ層から、第１方向に突出する突起を押し倒す工程を含む。

本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの平面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を説明する模式図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を説明する模式図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を説明する模式図である。 本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法を説明する模式図である。

以下、本発明の各実施形態について、図面等を参照しつつ説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。

図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合がある。しかし図面に示す例は、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の構成には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

本発明において、ある一つの膜に対してエッチングや光照射を行うことで複数の膜を形成した場合、これら複数の膜は異なる機能、役割を有することがある。しかしながら、これら複数の膜は同一の工程で同一層として形成された膜に由来し、同一の層構造、同一の材料を有する。したがって、これら複数の膜は同一層に存在しているものと定義する。

本明細書および特許請求の範囲において、ある構造体の上に他の構造体が配置された態様を表現する際に、単に「上に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある構造体に接するように、その構造体の直上に他の構造体が配置される場合と、ある構造体の上方に、さらに別の構造体を介して他の構造体が配置される場合と、の両方を含むものと定義される。

＜第１実施形態＞
図１Ａおよび図１Ｂを参照して、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の構成について説明する。

図１Ａは、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の平面図である。また、図１Ｂは、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の断面図である。具体的には、図１Ｂは、図１に示すＡ−Ａ’線に沿って切断した蒸着マスク１０の断面図である。

蒸着マスク１０は、マスク本体１１０、マスクフレーム１２０、および接続部材１３０を含む。マスク本体１１０は、接続部材１３０を介して、マスクフレーム１２０に接続されている。

マスクフレーム１２０は開口部を有し、マスクフレーム１２０の開口部と重畳するようにマスク本体１１０が設けられている。図１Ａでは、マスクフレーム１２０は、１２個の開口部を有し、各開口部と重畳してマスク本体１１０が設けられている。なお、マスクフレーム１２０に設けられる開口部の数は、これに限られない。マスクフレーム１２０に設けられる開口部の数は、被蒸着基板の大きさや蒸着パターンに合わせて適宜決定することができる。

マスク本体１１０には、マスク本体１１０を貫通する複数の開口１１３が設けられている。以下では、便宜上、マスク本体１１０に開口１１３が設けられている領域を開口領域１１１とし、マスク本体に開口１１３が設けられていない領域を非開口領域１１２として説明する。開口領域１１１と非開口領域１１２との境界は必ずしも明確ではないが、少なくとも非開口領域１１２には開口１１３が設けられていない点で区別をすることができる。

蒸着時には、蒸着対象の被蒸着基板における蒸着領域と開口領域１１１が重なり、被蒸着基板における非蒸着領域と非開口領域１１２が重なるように、蒸着マスク１０と被蒸着基板が位置合わせされる。蒸着材料の蒸気が開口領域１１１の開口１１３を通過し、被蒸着基板の蒸着領域に蒸着材料が堆積する。

被蒸着基板が表示装置の基板である場合、表示装置の画素の配列と対応して開口領域１１１の開口１１３を配列することができる。開口１１３の配列は、例えば、マトリクス状である。

マスクフレーム１２０は、マスク本体１１０を支持することができる。上述したように、マスクフレーム１２０は開口部を含むが、言い換えると、マスクフレーム１２０は、外側に位置する枠部と内側に位置する桟部とを含むということもできる。桟部は、枠部に剛性を与え、枠部が反ることを防止することができる。桟部は、複数の部材が組み合わされて構成されていてもよい。例えば、桟部の１つの部材は、枠部の一方の辺から対向する他方の辺に向かって延伸している。また、桟部の部材は、縦方向（蒸着マスク１０の短辺方向）および横方向（蒸着マスク１０の長辺方向）に設けられることが好ましい。すなわち、桟部は、縦方向に延伸する部材と横方向に延伸する部材とが交差している井桁構造であることが好ましい。ただし、桟部の構成は、これに限られない。桟部の部材は、縦方向または横方向にのみ設けられていてもよい。また、枠部の幅および桟部（または桟部の部材）の幅は、蒸着マスク１０の大きさに合わせて適宜決定することができる。なお、蒸着パターンの領域をできる限り広くするためには、桟部の幅が枠部の幅よりも小さいことが好ましい。

図１Ｂに示すように、接続部材１３０は、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０の開口部の間隙に設けられ、マスク本体１１０の側面およびマスクフレーム１２０の開口部の側面に接する。すなわち、平面視において、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０とは重畳していない。なお、平面視において、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０とが重畳することもできる。

接続部材１３０は、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０とを接続すればよいため、接続部材１３０は、マスクフレーム１２０の開口部の側面の全面に設けられなくてもよい。接続部材１３０は、マスクフレーム１２０の開口部の側面の少なくとも一部に設けられていればよい。一方、マスク本体１１０の厚さは、マスクフレームの厚さに比べて非常に小さい。例えば、マスク本体１１０の厚さは１μｍ以上１０μｍ以下であり、マスクフレーム１２０の厚さは１０μｍ以上２０００μｍ以下である。そのため、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０との接着強度を大きくするため、接続部材１３０は、マスク本体１１０の側面の全面に設けられていることが好ましい。

また、接続部材１３０は、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０との間で階段状に形成されていてもよい。

接続部材１３０の間にあって、マスク本体１１０が設けられていない領域、すなわち、マスクフレーム１２０の桟部と重畳する領域には、溝部１４０が設けられている。言い換えると、図１Ｂにおいて、マスク本体１１０は、マスクフレーム１２０の底面よりも下部に突出しており、その結果生ずるマスクフレーム１２０とマスク本体１１０との段差として、この溝部１４０が形成される。溝部１４０は、溝部１４０の側面が接続部材１３０で形成され、溝部１４０の底面がマスクフレーム１２０で形成されているということもできる。溝部１４０の側面の端部は、突起１４１を有する。突起１４１の先端は、溝部１４０の底面に向かって形成されている。すなわち、突起１４１は、マスク本体１１０の表面（図１Ｂでは下面）より外側に突出しないように形成されている。なお、突起１４１の大きさは、０μｍよりも大きく、１００μｍ未満である。

マスクフレーム１２０の枠部と重畳する領域では、一方の側面が接続部材１３０で形成され、他方の側面は解放されており、構造上厳密に区別すると溝ではないということもできる。しかしながら、突起１４１の形成においては、上述した溝部１４０と同様である。そのため、以下では、便宜上、マスクフレーム１２０の枠部と重畳する領域に形成された突起１４１が溝部１４０に形成されているとして説明する場合がある。

突起１４１の形成方法については後述するが、突起１４１は、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０との接続によって生じたバリを押し倒すことによって形成される。したがって、蒸着マスク１０では、マスク本体１１０の被蒸着基板側にバリが突出していない。

本実施形態に係る蒸着マスク１０によれば、マスク本体１１０とマスクフレーム１２０とが、接続部材１３０を介して接続されている。接続部材１３０間には、溝部１４０が形成され、溝部１４０の側面の端部に突起１４１が形成されている。また、突起１４１の先端は、溝部１４０の底面に向かって形成され、マスク本体１１０の表面より外側に突出していない。すなわち、蒸着マスク１０では、マスク本体１１０の被蒸着基板側にバリが突出していない。そのため、蒸着マスク１０を用いた蒸着では、蒸着時に、バリが被蒸着基板を傷つけることはなく、また、蒸着マスク１０と被蒸着基板との間に間隙を生じない。したがって、蒸着マスク１０を用いた蒸着では、蒸着不良が低減され、製品の歩留まりが向上する。

＜第２実施形態＞
図２Ａ〜図２Ｇを参照して、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法について説明する。

図２Ａ〜図２Ｇは、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法を示す断面図である。

まず、図２Ａに示すように、支持基板２１０上に金属層２２０を形成し、金属層２２０上に所定のパターンを有するフォトレジスト層２３０を形成する。

支持基板２１０は、蒸着マスク１０の製造工程において、各層を支持する基板である。そのため、支持基板２１０は剛性基板であることが好ましい。また、蒸着マスク１０は、熱膨張係数が小さいことが好ましい。蒸着マスク１０の製造工程では、支持基板２１０が加熱される。加熱処理によって支持基板２１０が膨張または縮小すると、支持基板２１０上に形成されるフォトレジスト層２３０の位置ズレが生じ、または製造工程中に応力に伴う不良となる剥離が生ずることになる。そのため、蒸着マスク１０の製造工程を安定化させるためにも、支持基板２１０は、熱膨張係数が小さい剛性基板であることが好ましい。支持基板２１０の材料としては、例えば、ステンレス（ＳＵＳ３０４またはＳＵＳ４３０など）、４２アロイ、インバー、スーパーインバー、またはステンレスインバーなどである。

金属層２２０は、後述する電鋳（または電解メッキ）の下地金属として機能することができる。金属層２２０の材料としては、例えば、ニッケル（Ｎｉ）またはニッケル合金である。金属層２２０は、スパッタリングなどによって形成することができる。

蒸着マスク１０は、電鋳ではなく、無電解メッキを用いて製造することもできる。この場合、金属層２２０の代わりに、絶縁層を用いることもできる。

フォトレジスト層２３０は、後述する電鋳の母型として機能することができる。フォトレジスト層２３０は、所定の膜厚を有するように、金属層２２０上に１つまたは複数の感光性ドライフィルムレジストを配置し、熱圧着によって形成される。感光性ドライフィルムレジストは、ポジ型またはネガ型のいずれであってもよい。なお、以下では、感光性ドライフィルムがネガ型であるとして説明する。

フォトレジスト層２３０は、蒸着マスク１０の蒸着パターンが形成されるための所定のパターンを有する。フォトレジスト層２３０の所定のパターンは、フォトリソグラフィーにより形成することができる。すなわち、所定のパターンは、ドライフィルムレジストにマスクを密着させ、紫外線を照射してドライフィルムを露光し、未露光部分を溶解除去することによって形成することができる。

次に、図２Ｂに示すように、フォトレジスト層２３０をマスクとして、第１メッキ層２４０を形成する。第１メッキ層２４０は、蒸着マスク１０のマスク本体１１０に対応するものである。第１メッキ層２４０は、電鋳により形成することができる。具体的には、金属層２２０およびフォトレジスト層２３０を所定の条件に建浴した電鋳漕に入れ、フォトレジスト層２３０に覆われていない金属層２２０の表面から、フォトレジスト層２３０の高さまで金属メッキを形成する。第１メッキ層２４０の材料としては、例えば、ニッケル（Ｎｉ）またはニッケル（Ｎｉ）−コバルト（Ｃｏ）合金などである。

次に、図２Ｃに示すように、フォトレジスト層２３０を剥離（除去）する。フォトレジスト層２３０は、例えば、アミン系の剥離液によって剥離することができる。フォトレジスト層２３０を剥離することによって、蒸着パターンを有する第１メッキ層２４０が形成される。

なお、フォトレジスト層２３０を剥離する前に、電鋳によって形成された第１メッキ層２４０を研磨してよい。第１メッキ層２４０を研磨することにより、第１メッキ層２４０の表面を平坦化することができる。

次に、図２Ｄに示すように、第１メッキ層２４０上に、接着層２５０が設けられたマスクフレーム２６０を配置する。すなわち、接着層２５０を介して、第１メッキ層２４０とマスクフレーム２６０とが接着される。なお、ここでの工程では、第１メッキ層２４０とマスクフレーム２６０とを完全に接着する必要はない。そのため、接着層２５０は、完全に硬化されていなくてもよい。

マスクフレーム２６０は開口を有する。マスクフレーム２６０は、第１メッキ層２４０の蒸着パターンの開口と重畳しないように位置を合わせて接着される。言い換えると、マスクフレーム２６０の開口は、第１メッキ層２４０の蒸着パターンの開口と重畳する。

接着層２５０は、後の工程において除去されるため、除去しやすい材料であることが好ましい。接着層２５０の材料としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、シアノアクリレート樹脂、またはアクリル樹脂などを用いることができる。また、接着層２５０の材料としては、ドライフィルムレジストを用いることもできる。接着層２５０の材料としてドライフィルムレジストを用いる場合、ドライフィルムレジストを弱く露光しておいてもよい。ドライフィルムレジストを露光しておくことで、後の工程においてドライフィルムレジストを除去しやすくなる。

なお、この後の工程において、第１メッキ層２４０の蒸着パターンを保護する（例えば、工程によって発生するパーティクルによって蒸着パターンの開口が塞がれないように保護する）ため、第１メッキ層２４０の蒸着パターンの領域にドライフィルムレジストを設けてもよい。

次に、図２Ｅに示すように、支持基板２１０、金属層２２０、第１メッキ層２４０、接着層２５０、およびマスクフレーム２６０を覆うように、マスクフレーム２６０の上方にフィルム２８０を配置する。続いて、支持基板２１０とフィルム２８０との間の空気を排気（真空排気）し、フィルム２８０の下方側の圧力を下げる。フィルム２８０の上方側と下方側との圧力差により、フィルム２８０は支持基板２１０側に引き付けられる。フィルム２８０の下方側の圧力をさらに下げると、フィルム２８０がマスクフレーム２６０を押圧する。フィルム２８０からの押圧を受けて、マスクフレーム２６０は、接着層２５０を介して、第１メッキ層２４０とより強く接着する。この工程は、いわゆる真空圧着と呼ばれる工程である。

フィルム２８０の下方側の真空度は、大気圧を０ｋＰａとしたゲージ圧において、−５０ｋＰａ以下であり、好ましくは−７０ｋＰａ以下であり、さらに好ましくは−９０ｋＰａである。

真空圧着後は、フィルム２８０を除去する。

次に、図２Ｆに示すように、第１メッキ層２４０とマスクフレーム２６０とを接続する第２メッキ層２９０を形成する。第２メッキ層２９０は、金属層２２０または第１メッキ層２４０に通電する電鋳によって形成することができる。第２メッキ層２９０は、蒸着マスク１０の接続部材１３０に対応するものである。第２メッキ層２９０は、金属層２２０、第１メッキ層２４０、接着層２５０、およびマスクフレーム２６０と接している。具体的には、第２メッキ層２９０は、第１メッキ層２４０の溝部の一部およびマスクフレーム２６０の側面（蒸着マスク１０の枠部および桟部の側面）と接するように形成されている。

第２メッキ層２９０は、第１メッキ層２４０と同様の方法で形成することができる。

第２メッキ層２９０は、第１メッキ層２４０の開口領域１１１に対応する領域には設けられていない。第１メッキ層２４０の開口領域１１１に対応する領域上に、例えば、ドライフィルムレジストを形成し、第１メッキ層２４０の開口領域１１１に対応する領域にメッキされることを防止することができる。ドライフィルムレジストは、第２メッキ層２９０の形成後に剥離することができる。

次に、図２Ｇに示すように、支持基板２１０、金属層２２０、および接着層２５０を剥離することにより、マスク本体１１０、マスクフレーム１２０、および接続部材１３０が形成される。接着層２５０を剥離することで、接着層２５０と接着していた第１メッキ層２４０の一部（第１メッキ層２４０内のマスクフレーム２６０と重畳する領域）も剥離され、溝部１４０が形成される。また、溝部１４０の側面および底面は、それぞれ、第２メッキ層２９０およびマスクフレーム２６０で構成される。すなわち、図２Ｇに示すように、マスクフレーム１２０の下方には、マスク本体１１０が設けられず、溝部１４０が形成される。なお、支持基板２１０、金属層２２０、および接着層２５０は、一度に全ての基板および層を剥離してもよく、基板および層の各々を個別に剥離してもよい。

溝部１４０の側面の端部には、バリ１４２が形成されている。バリ１４２は形成されないことが好ましいが、第２メッキ層２９０が第１メッキ層２４０と融着し、接着層２５０を剥離する場合にバリ１４２が生じることがある。また、金属層２２０と第１メッキ層２４０との間隙に第２メッキ層２９０が入り込み、接着層２５０を剥離した際にもバリ１４２が生じることがある。バリ１４２は、接着層２５０の剥離の際に形成されるため、バリ１４２はマスク本体１１０の被蒸着基板側に突出している。また、第１メッキ層２４０と第２メッキ層２９０との境界から離れる方向に向いている。以下では、バリ１４２の被蒸着基板側に突出している方向を第１方向として説明する場合がある。

次に、図２Ｈに示すように、バリ１４２に棒体３００を押し当て、溝部１４０の側面の端部に沿って（図２Ｈの奥行き方向へ）棒体３００を移動させる。バリ１４２は、棒体３００によって、溝部１４０内に収まるように押し倒される。すなわち、バリ１４２は、溝部１４０の底面に向かって形成された突起１４１となる。言い換えると、バリ１４２は、第１メッキ層１１０の表面の延長線よりも外側に突出していないということもできる。

以上のような製造方法により、マスク本体１１０の被蒸着基板側の溝部１４０内に突起１４１が形成された蒸着マスク１０を製造することができる。図３を参照して、さらに詳細に蒸着マスク１０の突起１４１の形成について説明する。

図３は、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法を示す模式図である。具体的には、図３は、蒸着マスク１０のマスク本体１１０の被蒸着基板側から眺めた平面図である。

図３に示すように、マスクフレーム１２０と重畳する溝部１４０では、接続部材１３０からバリ１４２が突出している。言い換えると、溝部１４０の側面の端部にバリ１４２が形成されているということもできる。棒体３００は、所定の角度を有して溝部１４０の側面の端部に押し当てられる。続いて、棒体３００を、溝部１４０の側面の端部に押し当てながら、溝部１４０の側面の端部に沿って移動させる。棒体３００の移動は、１回でもよく、複数回でもよい。また、棒体３００は、一方向にのみ移動させてもよく、溝部１４０の側面の端部に沿って往復させてもよい。

（角度についてご教示ください。）
棒体３００を押し当てる所定の角度は、マスク本体１１０の面に対して０．１°以上４５°以下であり、好ましくは１°以上３０°以下であり、さらに好ましくは５°以上２０°以下である。所定の角度が上記範囲であれば、バリ１４２を溝部１４０内に押し倒すことができる。

バリ１４２は、蒸着マスク１０の縦方向だけでなく、横方向にも形成されているため、蒸着マスク１０の縦方向および横方向で、棒体３００を移動させ、バリ１４２が溝部１４０内に収まるように押し倒し、溝部１４０の内部に突起１４１を形成する。突起１４１の先端は、溝部１４０の底面に向かって形成される。

棒体３００の材料は、第２メッキ層２９０（すなわち、接続部材１３０）の材料よりも硬い材料（硬度の高い材料）であることが好ましい。棒体３００の材料は、例えば、炭化タングステン（ＷＣ）などの超硬合金である。棒体３００のの例としては、超硬ヘラである。

棒体３００の押し当て、および移動は、自動制御で行うことができる。センサを用いて、棒体３００とマスク本体１１０との距離を測定し、マスク本体１１０に対する棒体３００の位置、距離、および角度を調整することができる。また、カメラまたはセンサを用いて、接続部材１３０とは異なるバリ１４２からの反射光を撮像または検知し、バリ１４２からの反射光が変化するように棒体３００を溝部１４０の側面の端部に沿って移動させることができる。すなわち、突起１４１からの反射光の変化に基づいて、突起１４１が形成されたことを判定することができる。

本実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法によれば、接着層２５０の剥離によって生じたバリ１４２を切断することなく、棒体３００を用いて、バリ１４２を溝部１４０内に収まるように押し倒す。バリ１４２は、溝部１４０の底面に向かって形成された突起１４１となる。すなわち、バリ１４２を切断することなく、突起１４１として蒸着マスク１０に残す。切断されたバリ１４２が異物として飛散し、マスク本体１１０の別の場所に不用意に付着することがないため、蒸着マスク１０の製造歩留まりが向上する。また、突起１４１の先端は、溝部１４０の底面に向かって形成され、マスク本体１１０の表面より外側に突出していない。そのため、蒸着マスク１０が被蒸着基板を傷つけることがなくなり、製品の蒸着不良を低減することができる。

＜変形例１＞
図４を参照して、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法の変形例について説明する。蒸着マスク１０の製造においては、棒体３００以外にも、回転体４００を用いることができる。

図４は、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法を説明する模式図である。具体的には、図３は、蒸着マスク１０のマスク本体１１０の被蒸着基板側眺めた平面図である。

図４に示すように、回転体４００は、回転部４１０および軸部４２０を含む。回転部４１０は、軸部４２０を中心軸として回転することができる。回転体４００は、回転部４１０の表面がマスク本体１１０の表面と平行になるように溝部１４０の側面の端部に押し当てられる。続いて、回転体４００を、回転部４１０を回転させながら、溝部１４０の側面の端部に沿って移動させる。回転体４００の移動は、１回でも良く、複数回でもよい。また、回転体４００は、一方向にのみ移動させてもよく、溝部１４０の側面の端部に沿って往復させてもよい。

回転体４００を、回転部４１０の表面がマスク本体１１０の表面と平行になるように移動させる場合、バリ１４２を押し倒すだけでなく、接続部材１３０の表面を平坦化することもできる。

回転体４００は、所定の角度を有して溝部１４０の側面の端部に押し当て、移動させてもよい。また、回転体４００は、回転部４１０の表面がマスク本体１１０の表面と平行になるように溝部１４０の側面の端部に押し当て移動させた後、所定の角度を有して溝部１４０の側面の端部に押し当て、移動させることもできる。

バリ１４２は、蒸着マスク１０の縦方向だけでなく、横方向にも形成されているため、蒸着マスク１０の縦方向および横方向で、回転体４００を移動させ、バリ１４２が溝部１４０内に収まるように押し倒し、溝部１４０の内部に突起１４１を形成する。突起１４１の先端は、溝部１４０の底面に向かって形成される。

回転体４００の回転部４１０の材料は、第２メッキ層２９０（すなわち、接続部材１３０）の材料よりも硬い材料（硬度の高い材料）であることが好ましい。回転部４１０の材料は、例えば、炭化タングステン（ＷＣ）などの超硬合金である。回転体４００のの例としては、超硬ローラーである。

回転体４００の押し当て、および移動は、自動制御で行うことができる。カメラを用いて、溝部１４０と回転体４００との位置合わせを行う。センサを用いて、回転体４００がバリ１４２（または接続部材１３０）と接触したことを検知し、所定の圧力となるまで回転体４００をバリ１４２（または接続部材１３０）に押し当てる。必要であれば、回転体４００の角度を調整する。また、カメラまたはセンサを用いて、接続部材１３０とは異なるバリ１４２からの反射光を撮像または検知し、バリ１４２からの反射光が変化するように回転体４００を溝部１４０の側面の端部に沿って移動させることができる。すなわち、突起１４１からの反射光の変化に基づいて、突起１４１が形成されたことを判定することができる。

本変形例に係る回転体４００を用いた蒸着マスク１０の製造方法においても、溝部１４０内に突起１４１を形成することができる。また、突起１４１の先端を溝部１４０の底面に向けることもでき、突起１４１は、マスク本体１１０の表面より外側に突出していない。そのため、蒸着マスク１０が被蒸着基板を傷つけることがなくなり、製品の蒸着不良を低減することができる。さらに、回転体４００によって接続部材１３０の表面を平坦化することもできるため、製品の蒸着不良をさらに低減することができる。

＜変形例２＞
図５Ａおよび図５Ｂを参照して、本発明の一実施形態のに係る蒸着マスク１０の製造方法のさらなる変形例について説明する。蒸着マスク１０の製造方法においては、棒体３００および回転体４００以外にも、押圧体５００を用いることができる。

図５Ａおよび図５Ｂのそれぞれは、本発明の一実施形態に係る蒸着マスク１０の製造方法を説明する断面図である。具体的には、図５Ａは、押圧体５００を押し当てる前の蒸着マスク１０および押圧体５００の断面図であり、図５Ｂは、押圧体５００を押し当てた後の蒸着マスク１０および押圧体５００の断面図である。

図５Ａに示すように、押圧体５００は凸部５１０を含む。押圧体５００の凸部５１０は、溝部１４０のパターンに対応させて設けられている。凸部５１０は、凸部５１０の一部が溝部１４０内に入り込むように、凸部５１０の側面が傾斜面を有していてもよい。この場合、凸部５１０の側面が傾斜に合わせてバリ１４２が押し倒されるため、溝部１４０に形成された突起１４１の先端は、溝部１４０の底面を向くことになる。凸部５１０の断面形状は、例えば、台形または馬蹄形などを有する。図５Ａに示す凸部５１０は台形の例であり、凸部５１０の上底の幅は溝部１４０の幅よりも大きく、凸部５１０の下底の幅は溝部１４０の幅よりも小さい。

図５Ｂに示すように、押圧体５００は、押圧体５００の表面がマスク本体１１０の表面と平行になるように溝部１４０の側面の端部に押し当てられる。続いて、押圧体５００に所定の圧力を印加する。凸部５１０の下底の幅は、溝部１４０の幅よりも小さいため、凸部５１０の一部は溝部１４０に入り込む。これにより、凸部５１０がバリ１４２を上方から押圧し、溝部１４０の内部に突起１４１が形成される。また、凸部５１０の上底の幅は溝部１４０の幅よりも大きいため、凸部５１０も下底が溝部１４０の底、つまりマスクフレーム１２０に突き当たる前に止まることができる。

押圧体５００の少なくとも凸部５１０の材料は、第２メッキ層２９０（すなわち、接続部材１３０）の材料よりも硬い材料（硬度の高い材料）であることが好ましい。凸部５１０の材料は、例えば、炭化タングステン（ＷＣ）などの超硬合金である。押圧体５００のの例としては、超硬ダイスである。

押圧体５００の大きさは、蒸着マスク１０の大きさと同じでなくてもよい。溝部１４０の一部のパターンに対応する凸部５１０が設けられた押圧体５００（例えば、１つの延伸する溝部１４０に対応して１つの延伸する凸部５１０が設けられた押圧体５００）であってもよい。この場合、溝部１４０の位置を変えながら、押圧体５００よる押圧を繰り返すことで、バリ１４２を押し倒し、突起１４１を形成することができる。

押圧体５００の押し当て、および移動は、自動制御で行うことができる。カメラを用いて、溝部１４０と押圧体５００との位置合わせを行う。続いて、センサを用いて、押圧体５００がバリ１４２（または接続部材１３０）と接触したことを検知し、所定の圧力となるまで押圧体５００をバリ１４２（または接続部材１３０）に押し当てる。また、カメラまたはセンサを用いて、接続部材１３０とは異なるバリ１４２からの反射光を撮像または検知し、バリ１４２からの反射光が変化したるように押圧体５００を溝部１４０の側面の端部に沿って移動させることができる。すなわち、突起１４１からの反射光の変化に基づいて、突起１４１が形成されたことを判定することができる。

本変形例に係る押圧体５００を用いた蒸着マスクの製造方法においても、溝部１４０内に突起１４１を形成することができる。また、突起１４１の先端を溝部１４０の底面に向けることもでき、突起１４１は、マスク本体１１０の表面より外側に突出していない。そのため、蒸着マスク１０が被蒸着基板を傷つけることがなくなり、製品の蒸着不良を低減することができる。さらに、押圧体５００によって接続部材１３０の表面を平坦化することもできるため、製品の蒸着不良をさらに低減することができる。

本発明の実施形態として上述した各実施形態は、相互に矛盾しない限りにおいて、適宜組み合わせて実施することができる。また、各実施形態を基にして、当業者が適宜構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

上述した各実施形態の態様によりもたらされる作用効果とは異なる他の作用効果であっても、本明細書の記載から明らかなもの、又は、当業者において容易に予測し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。

１０：蒸着マスク、 ２０：製造装置、 １１０：マスク本体、 １１１：開口領域、 １１２：非開口領域、 １１３：開口、 １２０：マスクフレーム、 １３０：接続部材、 ２１０：支持基板、 ２２０：金属層、 ２３０：フォトレジスト層、 ２４０：第１メッキ層、 ２５０：接着層、 ２６０：マスクフレーム、 ２６０：マスクフレーム、 ２８０：フィルム、 ２９０：第２メッキ層、 ３００：棒体、 ４００：回転体、 ４１０：回転部、 ４２０：軸部、 ５００：押圧体、 ５１０：凸部

Claims (8)

1. 枠部または桟部によって囲まれた空隙を有するマスクフレームと、前記空隙と平面視で重畳するとともに、前記枠部または桟部とは平面視で重畳しない領域に設けられた第１メッキ層と、前記マスクフレームと前記第１メッキ層とを接合する第２メッキ層と、を有し、前記第１メッキ層は、前記マスクフレームから第１方向に突出するように設けられた蒸着マスクの製造方法であって、
   前記第２メッキ層と前記第１メッキ層との境界において、前記第２メッキ層から、前記第１方向に突出する突起を押し倒す工程を含む蒸着マスクの製造方法。
2. 前記突起を押し倒す工程は、前記突起に、棒体を押し当てることを含み、
   前記棒体の材料は、前記第２メッキ層よりも硬度の高い材料である請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
3. 前記突起を押し倒す工程は、前記突起に、回転体を押し当てることを含み、
   前記回転体の前記突起に接する部分の材料は、前記第２メッキ層よりも硬度の高い材料である請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
4. 前記突起を押し倒す工程は、前記突起に、傾斜面を有する凸部を含む押圧体を押し当てることを含み、
   前記凸部の材料は、前記第２メッキ層よりも硬度の高い材料である請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
5. 前記突起の先端は、前記第１メッキ層と前記第２メッキ層との境界から離れる方向に向いている請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
6. 前記突起は、前記第１メッキ層の表面および前記表面の延長戦よりも前記第１方向に突出している請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
7. 前記突起からの反射光の変化に基づいて、前記突起が形成されたことを判定する請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
8. 枠部または桟部によって囲まれた空隙を有するマスクフレームと、
   前記空隙と平面視で重畳するとともに、前記枠部または桟部とは平面視で重畳しない領域に設けられた第１メッキ層と、
   前記マスクフレームと前記第１メッキ層とを接合する第２メッキ層と、を有し、
   前記第１メッキ層は、前記マスクフレームから第１方向に突出するように設けられ、
   前記第２メッキ層と前記第１メッキ層との境界において、前記第２メッキ層の端部に突起が設けられ、
   前記突起の先端は、前記第２メッキ層と前記第１メッキ層との境界から離れる方向に向くとともに、前記第１メッキ層の表面および前記表面の延長線よりも外側に突出していない蒸着マスク。

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