KR20230104962A - 증착 마스크의 제조 장치 및 증착 마스크의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

증착 마스크의 제조 장치는 피도금 부재를 지지하는 제1 면을 갖는 지지 모재, 제1 면 상에서 피도금 부재의 외주를 둘러싸도록 마련되는 제1 지지 부재 및 제2 지지 부재, 및 제1 면으로부터 소정의 높이 이격되어 마련되는 전극부를 갖고, 제1 지지 부재는, 제1 면 상에 마련되는 제1 벽부, 및 제1 벽부의 상부에 있어서 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제1 차양부를 갖고, 제2 지지 부재는, 제1 면 상에 마련되는 제2 벽부, 및 제2 벽부의 상부에 있어서 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제2 차양부를 갖고, 제1 벽부는, 제1 면으로부터 소정의 높이에 걸쳐 높이가 감소하는 제1 부분, 및 제1 부분에 의해 제1 벽부의 내측면에 제1 단차부를 갖고, 제2 벽부는, 제2 벽부의 내측면에 제1 면으로부터 소정의 높이로 전극부가 돌출됨으로써 형성되는 제2 단차부를 갖는다.

Description

증착 마스크의 제조 장치 및 증착 마스크의 제조 방법

본 발명의 일 실시 형태는, 증착 마스크의 제조 장치 및 그것을 사용한 증착 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.

근년, 발광 소자로서 유기 EL 소자를 사용하는 유기 EL 표시 장치가 알려져 있다. 유기 EL 소자는, 애노드 전극과, 캐소드 전극과, 애노드 전극과 캐소드 전극 사이에 마련되는 유기 EL 재료를 포함하는 층(이하, 「유기 EL층」이라 함)을 갖는다. 유기 EL층은, 예를 들어 발광층, 전자 주입층, 정공 주입층과 같은 기능층을 포함한다. 애노드 전극과, 캐소드 전극의 각각에 전압을 인가하고, 애노드 전극과, 캐소드 전극 사이에 전류를 흐르게 함으로써, 유기 EL 소자는 발광한다.

유기 EL 소자의 발광층의 형성에는, 예를 들어 진공 증착법이 사용된다. 진공 증착법은, 진공 하에 있어서, 증착 재료를 히터에 의해 가열함으로써 승화시켜, 기판의 표면에 퇴적(증착)시키는 방법이다. 진공 증착법을 사용함으로써, 기판의 표면에, 증착 재료의 박막을 형성할 수 있다. 또한, 진공 증착법에서는, 다수의 미세한 개구 패턴을 구비한 마스크(증착 마스크)를 사용함으로써, 고정밀의 박막 패턴을 형성할 수 있다.

전계 도금(도금법)을 사용하는 전주(전기 주조) 기술을 사용하여 제조되는 일렉트로 파인 포밍 마스크(EFM)는, 증착 마스크의 하나이다. 예를 들어, 특허문헌 1에는, 증착 마스크를 전주 기술에 의해 제조하는 방법이 개시되어 있다.

일본 특허 공개 제2017-210633호 공보

예를 들어, 파손된 증착 마스크를 사용하여 유기 EL 표시 장치를 제조하면, 증착 마스크의 파손 부분에 대응하는 유기 EL 소자는 발광층이 정상적으로 증착되지 않는다. 예를 들어, 증착 마스크의 제조 불량에 의해 미세한 개구 패턴이 폐색되어 있는 등의 결함이 있으면, 당해 결함을 포함하는 증착 마스크를 사용하여 제조된 유기 EL 표시 장치의 유기 EL 소자는 발광층이 증착되지 않는다. 발광층이 증착되지 않는 유기 EL 소자는 발광하지 않기 때문에, 유기 EL 표시 장치는 표시 불량을 일으킨다. 또한, 증착 마스크의 제조 불량에 의해, 원래 분리되어 있어야만 하는 개구 패턴이 연결되어 있는 등의 결함이 있으면, 당해 결함을 포함하는 증착 마스크를 사용하여 제조된 유기 EL 표시 장치의 유기 EL 소자는, 원래 발광층이 형성되어서는 안되는 영역에 발광층이 형성되어, 소자 분리 불량을 일으킨다. 따라서, 증착 마스크의 제조에서는, 다수의 미세한 개구 패턴을 고정밀도로 형성하는 것에 더하여, 결함을 생성하지 않는 기술이 요구되고 있다. 또한, 결함을 생성하지 않는 증착 마스크를 제조하는 장치(증착 마스크 제조 장치)가 요구된다.

본 발명의 일 실시 형태는, 결함을 억제 가능한 증착 마스크의 제조 장치 및 증착 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 목적의 하나로 한다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크의 제조 장치는, 피도금 부재를 지지하는 제1 면을 갖는 지지 모재와, 상기 제1 면 상에서, 상기 피도금 부재의 외주를 둘러싸도록 마련되는 제1 지지 부재 및 제2 지지 부재와, 상기 제1 면으로부터 소정의 높이 이격되어 마련되는 전극부를 갖고, 상기 제1 지지 부재는, 상기 제1 면 상에 마련되는 제1 벽부와, 상기 제1 벽부의 상부에 있어서 상기 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제1 차양부를 갖고, 상기 제2 지지 부재는, 상기 제1 면 상에 마련되는 제2 벽부와, 상기 제2 벽부의 상부에 있어서 상기 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제2 차양부를 갖고, 상기 제1 벽부는, 상기 제1 면으로부터 상기 소정의 높이에 걸쳐 높이가 감소하는 제1 부분과, 상기 제1 부분에 의해 상기 제1 벽부의 내측면에 제1 단차부를 갖고, 상기 제2 벽부는, 상기 제2 벽부의 내측면에 상기 제1 면으로부터 상기 소정의 높이로 상기 전극부가 돌출됨으로써 형성되는 제2 단차부를 갖고, 상기 제1 지지 부재와 상기 제2 지지 부재는, 상기 제1 단차부 및 상기 제2 단차부와, 상기 제1 면 사이에 상기 피도금 부재를 끼워 넣는 것이 가능하도록 배치되어 있다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크의 제조 방법은, 상기 제2 면의 내측 영역에 제1 막 두께로 상기 제1 레지스트 마스크를 형성하고, 피도금 부재를 지지하는 제1 면을 갖는 지지 모재와, 상기 제1 면 상에서, 상기 피도금 부재의 외주를 둘러싸도록 마련되는 제1 지지 부재 및 제2 지지 부재와, 상기 제1 면으로부터 소정의 높이 이격되어 마련되는 전극부를 갖고, 상기 제1 지지 부재는, 상기 제1 면 상에 마련되는 제1 벽부와, 상기 제1 벽부의 상부에 있어서 상기 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제1 차양부를 갖고, 상기 제2 지지 부재는, 상기 제1 면 상에 마련되는 제2 벽부와, 상기 제2 벽부의 상부에 있어서 상기 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제2 차양부를 갖고, 상기 제1 벽부는, 상기 제1 면으로부터 상기 소정의 높이에 걸쳐 높이가 감소하는 제1 부분과, 상기 제1 부분에 의해 상기 제1 벽부의 내측면에 제1 단차부를 갖고, 상기 제2 벽부는, 상기 제2 벽부의 내측면에 상기 제1 면으로부터 상기 소정의 높이로 상기 전극부가 돌출됨으로써 형성되는 제2 단차부를 갖고, 상기 제1 지지 부재와 상기 제2 지지 부재는, 상기 제1 단차부 및 상기 제2 단차부와, 상기 제1 면 사이에 상기 피도금 부재를 끼워 넣는 것이 가능하도록 배치되고, 상기 제1 차양부 및 상기 제2 차양부는, 상기 피도금 부재의 제2 면의 일부를 덮고, 상기 제2 차양부가 상기 제2 면을 덮는 길이는, 상기 제1 차양부가 상기 피도금 부재를 덮는 길이보다 크고, 단면에서 보아, 상기 제2 차양부의 단부와 상기 제2 면에 마련되는 제1 레지스트 마스크의 단부의 거리는, 상기 제1 차양부의 단부와 상기 제1 레지스트 마스크의 단부의 거리와 동등하고, 상기 제2 차양부와 상기 제2 면의 거리는 10㎜이며, 상기 제2 차양부의 단부와 상기 제1 레지스트 마스크의 단부의 거리는 4㎜인 증착 마스크의 제조 장치를 사용하여, 상기 제1 레지스트 마스크에 대하여, 상기 제1 단차부가 마련되는 측 및 상기 제1 단차부가 마련되는 측의 반대측의, 각각의 상기 제2 면 상에 박리층을 형성하는 것을 포함하는 증착 마스크의 제조 방법.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 방법으로 제작되는 증착 마스크 유닛의 모식적인 평면도를 나타낸다.
도 2는 도 1에 도시한 A1-A2선을 따른 단면 구조를 도시한다.
도 3의 (A), 도 3의 (B) 및 도 3의 (C)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 4의 (A) 및 도 4의 (B)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 장치를 도시하는 모식적인 평면도를 나타낸다.
도 6은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 장치를 도시하는 모식적인 평면도를 나타낸다.
도 7의 (A)는 도 6에 도시한 B1-B2를 따른 단면 구조를 도시하고, 도 7의 (B)는 도 6에 도시한 C1-C2를 따른 단면 구조를 도시한다.
도 8은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 장치 및 방법을 도시하는 모식적인 평면도를 나타낸다.
도 9의 (A)는 도 8에 도시한 D1-D2를 따른 단면 구조를 도시하고, 도 9의 (B)는 도 8에 도시한 E1-E2를 따른 단면 구조를 도시한다.
도 10은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 장치를 사용하여 도금 처리를 행하는 경우의 차양부의 높이에 대한 박리층의 최외주의 막 두께의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 11의 (A) 및 도 11의 (B)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 12의 (A) 및 도 12의 (B)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 13의 (A), 도 13의 (B) 및 도 13의 (C)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 14의 (A) 및 도 14의 (B)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크를 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 15는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크 유닛을 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 16의 (A) 및 도 16의 (B)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크 유닛을 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.
도 17의 (A) 및 도 17의 (B)는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크 유닛을 제조하는 방법을 도시하는 모식적인 단면도를 나타낸다.

이하, 본 발명의 실시 형태를, 도면 등을 참조하면서 설명한다. 단, 본 발명은 많은 다른 양태로 실시하는 것이 가능하고, 이하에 예시하는 실시 형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것은 아니다. 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위해, 실제의 양태에 비해, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대하여 모식적으로 표시되는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것은 아니다. 또한, 본 명세서와 각 도면에 있어서, 기출의 도면에 관하여 전술한 것과 마찬가지의 요소에는, 동일한 부호(또는 숫자의 뒤에 a, b, A, B 등)를 붙여, 상세한 설명을 적절히 생략하는 경우가 있다. 또한 각 요소에 대한 「제1」, 「제2」로 부기된 문자는, 각 요소를 구별하기 위해 사용되는 편의적인 표지이며, 특별한 설명이 없는 한 그 이상의 의미를 갖지 않는다.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재 또는 영역이 다른 부재 또는 영역의 「상에(또는 하에)」 있다라고 하는 경우, 특별한 한정이 없는 한 이것은 다른 부재 또는 영역의 바로 위(또는 바로 아래)에 있는 경우뿐만 아니라 다른 부재 또는 영역의 상방(또는 하방)에 있는 경우를 포함하고, 즉, 다른 부재 또는 영역의 상방(또는 하방)에 있어서 사이에 다른 구성 요소가 포함되어 있는 경우도 포함한다.

또한, 본 명세서에 있어서 「α는 A, B 또는 C를 포함한다」, 「α는 A, B 및 C 중 어느 것을 포함한다」, 「α는 A, B 및 C로 이루어지는 군에서 선택되는 하나를 포함한다」와 같은 표현은, 특별히 명시가 없는 한, α는 A 내지 C의 복수의 조합을 포함하는 경우를 배제하지 않는다. 또한, 이들 표현은, α가 다른 요소를 포함하는 경우도 배제하지 않는다.

<1. 증착 마스크 유닛(100)의 구조>

도 1은 증착 마스크 유닛(100)의 모식적인 평면도이다. 도 2는 도 1에 도시한 A1과 A2를 따른 단면 구조이다. 도 1 및 도 2에 도시한 증착 마스크 유닛(100)의 구성은 일례이며, 증착 마스크 유닛(100)의 구성은, 도 1 및 도 2에 도시한 구성에 한정되지는 않는다.

도 1에 도시한 바와 같이, 증착 마스크 유닛(100)은, 적어도 하나의 증착 마스크(102)와, 적어도 하나의 증착 마스크(102)를 둘러싸는 지지 프레임(108)과, 지지 프레임(108)과 적어도 하나의 증착 마스크(102)를 접속하는 접속부(106)를 포함한다. 도 1에 도시한 양태에서는, 적어도 하나의 증착 마스크(102)가 복수의 증착 마스크(102)로 이루어지고, 복수의 증착 마스크(102)가 각각 접속부(106)를 통해 지지 프레임(108)에 고정된다.

도 1의 삽입 확대도에 도시한 바와 같이, 증착 마스크(102)는 복수의 개구(103)를 갖는다. 증착 마스크(102) 중에서, 복수의 개구(103)는, 소정의 영역 내에 배열되어 1개의 마스크 패턴(104)을 형성한다. 증착 마스크(102)는, 복수의 마스크 패턴(104)을 포함해도 된다. 증착 마스크(102)는 마스크 패턴(104)이 형성되지 않는 영역에서 접속부(106)와 접속되어, 지지 프레임(108)에 보유 지지된다.

도 2에 도시한 바와 같이, 증착 마스크(102)는 판상 부재이며, 복수의 개구(103)는 판상 부재를 관통하는 관통 구멍이다. 상세는 후술하지만, 증착 마스크(102)는 금속 재료를 사용하여 형성된다. 증착 마스크(102)를 평판상으로 지지하기 위해, 지지 프레임(108)이 마련된다. 복수의 증착 마스크(102)를 보유 지지하기 위해, 격자상의 프레임이 지지 프레임(108)에 마련되어도 된다. 증착 마스크 유닛(100)에서는, 지지 프레임(108)이 머더 유리 기판의 사이즈에 대응하고, 마스크 패턴(104)은 머더 유리 기판 중에 만들어 넣어지는 개개의 표시 패널에 대응하여 배치되고, 복수의 개구(103)는 표시 패널 내의 화소의 배열에 대응하여 배치된다.

접속부(106)는, 증착 마스크(102)와 지지 프레임(108)을 접속하고, 이들을 서로 고정하는 기능을 갖는다. 따라서, 지지 프레임(108)은 증착 마스크(102)와 직접 접촉하지 않지만, 접속부(106)는 증착 마스크(102)의 비개구부(마스크 패턴(104)이 형성되지 않는 영역)에 있어서 증착 마스크(102)와 접하고, 또한, 지지 프레임(108)의 측면과 접한다.

또한, 도 1 및 도 2에 도시한 일례는, 지지 프레임(108)에 복수의 증착 마스크(102)가 보유 지지되는 양태를 나타내지만, 본 발명의 일 실시 형태는 이것에 한정되지는 않고, 예를 들어 지지 프레임(108)에 하나의 증착 마스크(102)가 접속부(106)를 통해 보유 지지되는 구성을 갖고 있어도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크 유닛(100)은, 표시 패널의 제조 공정 중에서, 유기 EL 소자를 형성하는 공정에서 사용된다. 구체적으로는, 진공 증착법을 사용하여 유기 EL 소자의 발광층을 형성하는 공정에서 사용된다. 발광층을 형성하는 공정에서는, 머더 유리 기판측의 증착 영역이 증착 마스크(102) 측의 마스크 패턴(104)과 정합하도록 배치되고, 증착 재료가 복수의 개구(103)를 통과하여, 증착 재료가 증착 영역에 퇴적된다.

증착 마스크(102), 및 접속부(106)는 니켈(Ni), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 등의 0가의 금속 재료를 사용하여 형성된다. 즉, 박리층(116), 및 접속부(106)는, 금속막을 갖는다. 증착 마스크(102) 및 접속부(106)의 재료의 조성은 서로 동일해도 된다. 증착 마스크(102), 및 접속부(106)와 마찬가지로, 지지 프레임(108)도 니켈(Ni), 철(Fe), 코발트(Co), 크롬(Cr), 망간(Mn) 등의 0가의 금속 재료를 사용하여 형성된다. 예를 들어, 지지 프레임(108)의 재료의 조성은 철(Fe)과 크롬(Cr)을 포함하는 합금, 또는 철(Fe), 니켈(Ni), 망간(Mn)의 합금이어도 되고, 합금에는 탄소(C)가 포함되어 있어도 된다.

<2. 증착 마스크 유닛(100)의 제조 방법>

도 3의 (A) 내지 도 4의 (B)는 증착 마스크(102)의 제조 방법을 도시하는 모식적인 단면도이며, 도 5 및 도 6은 증착 마스크(102)의 제조 방법 및 증착 마스크 제조 장치(150)를 도시하는 모식적인 평면도이며, 도 7의 (A)는 도 6에 도시한 B1-B2를 따른 단면 구조이며, 도 7의 (B)는 도 6에 도시한 C1-C2를 따른 단면 구조이며, 도 8은 증착 마스크(102)의 제조 방법 및 증착 마스크 제조 장치(150)를 도시하는 모식적인 단면도이며, 도 9의 (A)는 도 8에 도시한 D1-D2를 따른 단면 구조이며, 도 9의 (B)는 도 8에 도시한 E1-E2를 따른 단면 구조이며, 도 10은 증착 마스크 제조 장치(150)를 사용하여 도금 처리를 행하는 경우의 차양부의 높이에 대한 박리층(116)의 최외주의 막 두께의 관계를 나타내는 그래프이며, 도 11의 (A) 내지 도 17의 (B)는 증착 마스크(102)의 제조 방법을 도시하는 모식적인 단면도이다. 도 3의 (A) 내지 도 17의 (B)에 도시한 증착 마스크(102)의 제조 방법 또는 증착 마스크 제조 장치(150)의 구성은 일례이며, 증착 마스크(102)의 제조 방법 또는 증착 마스크 제조 장치(150)의 구성은, 도 3의 (A) 내지 도 17의 (B)에 도시한 구성에 한정되지는 않는다. 도 1 및 도 2와 동일, 또는 유사한 구성에 대해서는, 여기에서의 설명을 생략한다.

도 3의 (A)는 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)에, 제1 레지스트 마스크(114)를 형성하는 단계를 도시한다. 본 발명의 일 실시 형태에서는, 제1 지지 기판(110)은 금속제이다. 제1 지지 기판(110)은, 예를 들어 구리(Cu), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 철(Fe), 니켈(Ni), 코발트(Co), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 망간(Mn) 등의 금속 재료, 또는 이들의 합금을 사용하여 형성된다. 합금은, 예를 들어 철(Fe)과 크롬(Cr)을 포함하는 합금, 철(Fe), 니켈(Ni), 및 망간(Mn)의 합금이어도 되고, 합금에는 탄소(C)가 포함되어 있어도 된다. 예를 들어, 제1 지지 기판(110)은, 철(Fe)을 주성분으로 하고, 크롬(Cr), 니켈(Ni)을 함유하는 스테인리스강으로 형성되어 있어도 된다. 또한, 본 발명의 일 실시 형태에서는, 제1 지지 기판(110)은 금속제인 예를 나타내지만, 제1 지지 기판(110)은 금속제에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 제1 지지 기판(110)은, 유리, 석영, 세라믹스, 플라스틱 등의 절연물로 형성되어도 된다. 본 발명의 일 실시 형태에서는, 제1 지지 기판(110)은 피도금 부재라 부르는 경우가 있다.

제1 레지스트 마스크(114)는, 감광성의 수지 재료를 사용하여, 포토리소그래피에 의해 형성한다. 감광성의 수지 재료로서는, 도포형 포토레지스트, 또는 드라이 필름 레지스트(DFR)를 사용할 수 있다. 제1 레지스트 마스크(114)는, 도 1에 있어서 나타내는 증착 마스크 유닛(100)에 있어서, 복수의 증착 마스크(102)가 배치될 때, 그것들(복수의 증착 마스크(102) 전부)을 둘러싸는 프레임상의 형태를 갖는다.

도 3의 (B)는 박리층(116)을 형성하는 단계를 도시한다. 박리층(116)을 형성하는 단계의 상세는 후술한다. 박리층(116)은, 제1 레지스트 마스크(114)가 형성된 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)에 있어서, 프레임상의 제1 레지스트 마스크로부터 노출된 영역에 형성된다. 구체적으로는, 증착 마스크 제조 장치(150)를 사용함으로써, 박리층(116)은, 제2 면(110A)에 마련된 제1 레지스트 마스크(114)에 대하여, 제1 단차부(156A)가 마련되는 측과, 제1 단차부(156A)가 마련되는 측의 반대측의 양쪽에 마련된다. 즉, 박리층(116)은, 제1 레지스트 마스크(114)가 마련되지 않는 제2 면(110A)의 일부에 마련된다. 박리층(116)은, 예를 들어 증착 마스크(102)를 형성하는 재료와 동일한 금속 재료를 사용하여 형성된다. 즉, 박리층(116)은, 금속막을 갖는다. 박리층(116)은, 예를 들어 니켈(Ni), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 등의 0가의 금속 재료를 사용하여 형성된다. 박리층(116)은, 도금법을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 박리층(116)은, 제1 지지 기판(110) 상에 니켈 도금 처리에 의해 제작된다. 도금법을 사용하여 박리층(116)을 형성하는 경우, 제1 지지 기판(110)을 세정하고, 제2 면(110A)에 이형제가 도포되어 있어도 된다.

도 3의 (C)는 제1 레지스트 마스크(114)를 제거하는 단계를 도시한다. 제1 레지스트 마스크(114)는, 박리액에 의해 제거된다. 제1 레지스트 마스크(114)가 제거된 영역에는 개구부(118)가 형성된다. 환언하면, 제1 레지스트 마스크(114)가 제1 지지 기판(110) 상으로부터 제거되어, 박리층(116)은 개구부(118)를 사이에 두고 내측 영역(120)과 외측 영역(122)으로 분리된다.

박리층(116)을 형성하는 경우에 있어서, 도 4의 (A)에 도시한 바와 같이, 제1 레지스트 마스크(114)의 막 두께 d1은, 박리층(116)의 설계 막 두께 d2와 동일하거나 또는 대략 동등하게 형성되어 있는 것이 바람직하다. 박리층(116)을 도금법으로 형성하는 경우, 박리층(116)은 도전성을 갖는 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A) 상으로부터 막 두께를 증가시키는 방향으로 성장한다. 박리층(116)이 원하는 설계 막 두께 d2로 될 때까지 성장하였을 때, 제1 레지스트 마스크(114)의 상면이 박리층(116)에 접하지 않을 정도의 막 두께로 함으로써, 후의 제1 레지스트 마스크(114)의 박리 공정을 양호하게 행할 수 있다.

일반적으로, 박리층(116)을 형성하는 단계에서는, 증착 마스크(102)의 최외주에 전계가 집중된다. 그 결과, 증착 마스크(102)의 최외주의 막 두께는, 증착 마스크의 내측의 막 두께와 비교하여 두꺼워진다. 따라서, 도 4의 (B)에 도시한 바와 같이, 박리층(116)이 제1 레지스트 마스크(114)보다 두껍게(d2>d1) 형성되어, 제1 레지스트 마스크(114)의 상면에 덮이도록 박리층(116)이 성장해 버린다. 이와 같은 상태에서 제1 레지스트 마스크(114)를 제거하면 박리층(116)의 일부가 박리되어 버리는 것이 문제가 된다. 즉, 제1 레지스트 마스크(114)를 박리액에 침지하면 팽윤하고, 그것에 수반하여 제1 레지스트 마스크(114)의 상면에 덮인 박리층(116)의 일부가 밀어올려지기 때문에, 박리층(116)이 박리되어 버린다. 박리층(116)이 박리되어 버리면, 후에 박리층(116) 상에 형성되는 증착 마스크(102)는 파손된 불량품이 되어 버린다. 파손된 증착 마스크를 사용하여 유기 EL 표시 장치를 제조하면, 증착 마스크의 파손 부분에 대응하는 유기 EL 소자는 발광층이 증착되지 않는다. 발광층이 증착되지 않는 유기 EL 소자는 발광하지 않기 때문에, 유기 EL 표시 장치에서는, 표시 불량이 되는 것이 문제가 된다.

전술한 바와 같이, 도금법에 의해 형성되는 박리층(116)은, 중앙부보다도 최외주 부근에서 막의 성장이 촉진되기 쉬워, 막 두께가 커지는 경향이 있다. 따라서, 최외주 부근에서 제1 레지스트 마스크(114)의 막 두께를 박리층(116)의 막 두께가 초과하지 않는 조건을 설정하면, 중앙부 부근에서의 박리층(116)의 막 두께가 부족한 경우가 있다.

이와 같은 문제를 해소하기 위해, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크(102)의 제조 방법에서는, 도 3의 (B)에 도시한 박리층(116)을 형성하는 단계를, 도 5에 도시한 증착 마스크 제조 장치(150)를 사용하여 행한다. 구체적으로는, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크(102)의 제조 방법에서는, 도 5 및 도 6에 도시한 증착 마스크 제조 장치(150)를 사용하여, 도 4의 (A)에 도시한 구조를 형성한다.

도 5는 증착 마스크 제조 장치(150)에 있어서, 일례로서, 제2 지지 부재(164)가 착탈 가능한 부재이며, 제2 지지 부재(164)가 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A))으로부터 떼어내어진 양태를 도시하고, 도 6은 증착 마스크 제조 장치(150)에 있어서, 제2 지지 부재(164)가 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A))에 부착된 양태를 도시한다. 도 5 또는 도 6에 도시한 바와 같이, 증착 마스크 제조 장치(150)는, 지지 모재(151)와, 제1 지지 기판(110)(도 8)을 수납하는 수납부(152)와, 제1 지지 기판(110)의 외연부(111)(도 8)를 덮는 프레임형부(154)를 갖는다. 수납부(152)는 지지 모재(151)와 프레임형부(154) 사이에 마련된다.

프레임형부(154)는, 제1 지지 부재(162)와, 제2 지지 부재(164)와, 제1 지지 부재(162)를 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A))에 고정하는 고정 부재(166A 및 166B)와, 제2 지지 부재(164)를 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A))에 고정하는 고정 부재(168)를 갖는다. 또한, 프레임형부(154)는, 제1 지지 부재(162)와, 제2 지지 부재(164)에 의해 마련되는 개구부(190)를 갖는다.

제1 지지 부재(162)는, 제1 차양부(162A)(도 7의 (A), 도 7의 (B))와, 제1 벽부(157A)를 갖는다. 제1 지지 부재(162)는, 평면에서 보아, コ자형의 형상을 갖는다. コ자형의 형상은, 제1 변(190A)과, 제2 변(190B)과, 제3 변(190C)을 포함한다. 제1 변(190A)은, 제2 지지 부재(164)에 포함되는 제4 변(190D)과 마주본다(대향한다). 제2 변(190B)은, 제3 변(190C)과 마주본다(대향한다). 제1 차양부(162A)(도 7의 (A), 도 7의 (B))와, 제1 벽부(157A)는, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A)) 상에 마련된다. 제1 벽부(157A)는, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)의 상부에 있어서, 제1 면(151A)과 제1 차양부(162A) 사이에, 제1 면(151A)과 제1 차양부(162A)에 접하도록 마련된다. 제1 차양부(162A)는, 제1 벽부(157A)의 상부에 있어서, 제1 면(151A)의 내측을 향하여 돌출되도록 마련된다. 제1 지지 부재(162)는, 고정 부재(166A, 166B 및 166C)에 의해, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)에 착탈 가능하다. 고정 부재(166)의 개수는 임의이다. 본 발명의 일 실시 형태에서는, 고정 부재(166)의 개수는 예를 들어 8개이다.

제2 지지 부재(164)는, 전극부(163)와, 제3 지지 부재(165)와, 제4 변(190D)과, 제2 차양부(165A)와, 제2 벽부(157B)를 갖는다. 전극부(163)와, 제3 지지 부재(165)와, 제4 변(190D)과, 제2 차양부(165A)와, 제2 벽부(157B)는, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A)) 상에 마련된다. 제2 벽부(157B)는, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)의 상부에 있어서, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)과 제2 차양부(165A) 사이에, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)과 제2 차양부(165A)에 접하도록 마련된다. 전극부(163)는, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)의 상부에 있어서, 제1 면(151A)과 제2 차양부(165A) 사이에, 제2 차양부(165A)에 접하도록 마련된다. 제2 차양부(165A)는, 전극부(163)의 상부에 있어서, 전극부(163)에 접하고, 제1 면(151A)의 내측을 향하여 돌출되도록 마련된다. 제2 지지 부재(164)는, 고정 부재(168)에 의해, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A))에 착탈 가능하다. 고정 부재(168)의 개수는 임의이다. 제3 지지 부재(165)는, 전극부(163)를 둘러싸도록 마련된다. 본 발명의 일 실시 형태에서는, 고정 부재(168)의 개수는 예를 들어 2개이다. 예를 들어, 제1 지지 부재(162) 또는 제2 지지 부재(164) 중 적어도 어느 한쪽을 지지 모재(151)의 제1 면(151A)(도 7의 (A))으로부터 착탈 가능하게 함으로써, 제1 지지 기판(110)(도 8)을 수납부(152)에 수납하는 것과, 제1 지지 기판(110)(도 8)을 수납부(152)로부터 떼어내는 것이 가능해진다.

도 6과 도 7의 (A)와 도 7의 (B)에 도시한 바와 같이, 제2 지지 부재(164)가 제1 면(151A)에 부착된 양태에서는, 제1 지지 부재(162)와 제2 지지 부재(164)는 인접하여 마련되고, 제1 차양부(162A)와 제2 차양부(165A)는 인접하여 마련되고, 제1 단차부(156A)와 제2 단차부(156B)는 인접하여 마련되고, 제1 벽부(157A)와 제2 벽부(157B)는 인접하여 마련된다. 또한, 개구부(190)는, 제1 변(190A)과, 제2 변(190B)과, 제3 변(190C)과, 제4 변(190D)의 4개의 변으로 구성된다. 길이 L1은, 제1 변(190A)과 제4 변(190D)의 길이이며, 제1 차양부(162A)와 제2 차양부(165A) 사이의 길이이기도 하다. 길이 L2는, 제2 변(190B)과 제3 변(190C)의 길이이며, 제1 차양부(162A)와 제1 차양부(162A) 사이의 길이이기도 하다. 또한, 수납부(152)의 길이 L3은, 개구부(190)의 길이 L1에 대응하는 길이이며, 수납부(152)의 길이 L4는, 개구부(190)의 길이 L2에 대응하는 길이이다. 수납부(152)의 길이 L3은, 제1 단차부(156A)와 제2 단차부(156B) 사이의 길이이기도 하다. 수납부(152)의 길이 L4는, 제1 차양부(162A)와 제2 차양부(165A)의 길이이기도 하다. 또한, 본 발명의 일 실시 형태에서는, 길이를 거리라고도 부른다.

길이 L1은 길이 L2보다도 짧고(작고), 길이 L3은 길이 L4보다도 짧고(작고), 길이 L1은 길이 L3보다도 짧고(작고), 길이 L2는 길이 L4보다도 짧다(작다). 즉, 개구부(190)의 개구부 부분은, 수납부(152)보다 작다. 또한, 개구부(190)의 개구부 부분은, 제1 지지 기판(110)보다 작다. 따라서, 제1 지지 기판(110)이 수납부(152)에, 확실하게 수납 및 고정되기 때문에, 증착 마스크 제조 장치(150)를 도금욕에 침지할 때, 제1 지지 기판(110)의 위치가 어긋나는 일이 없다. 그 결과, 제1 지지 기판(110) 상에 형성되는 박리층(116)의 막 두께가 박리층(116)의 중심부와 외주부에서 균일하게 형성되어, 박리층(116)이 면 내에서 균일하게 형성된다. 본 발명의 일 실시 형태에서는, 길이 L1은 제1 폭이라 부르는 경우가 있고, 길이 L2는 제2 폭이라 부르는 경우가 있고, 길이 L3은 제3 폭이라 부르는 경우가 있고, 길이 L4는 제4 폭이라 부르는 경우가 있다.

도 7의 (A)과 도 7의 (B)에 의하면, 고정 부재(166A)가 제1 지지 부재(162)에 마련되는 개구부(176A)와, 지지 모재(151)에 마련되는 개구부(186A)를 관통하고, 고정 부재(166B)가, 제1 지지 부재(162)에 마련되는 개구부(176B)와, 지지 모재(151)에 마련되는 개구부(186B)를 관통하고, 고정 부재(166C)가, 제1 지지 부재(162)에 마련되는 개구부(176C)와, 지지 모재(151)에 마련되는 개구부(186C)를 관통함으로써, 제1 지지 부재(162)가 제1 면(151A)에 부착되어, 고정된다. 또한, 고정 부재(168)가, 제3 지지 부재(165)에 마련되는 개구부(178)와, 전극부(163)에 마련되는 개구부(173)와, 지지 모재(151)에 마련되는 개구부(186D)를 관통함으로써, 제2 지지 부재(164)가 제1 면(151A)에 부착되어, 고정된다.

도 7의 (A)에 도시한 바와 같이, 제1 벽부(157A)는, 제1 부분(157C)과, 제1 단차부(156A)를 갖는다. 제1 부분(157C)은, 제1 면(151A)으로부터 소정의 높이 K에 걸쳐 높이가 감소하도록 마련된다. 제1 단차부(156A)는, 제1 부분(157C)에 의해 제1 벽부(157A)의 내측면에 마련된다. 제2 벽부(157B)는, 제2 단차부(156B)를 갖는다. 제2 단차부(156B)는, 제2 벽부(157B)의 내측면에 제1 면(151A)으로부터 소정의 높이 K로 전극부(163)가 돌출됨으로써 형성된다. 전극부(163)는, 제1 면(151A)으로부터 소정의 높이 K 이격되어 마련되고, 제2 지지 부재(164)(제3 지지 부재(165))의 제2 차양부(165A)에 대하여 반대측으로 돌출되어 있다. 전극부(163)가, 제2 차양부(165A)에 대하여 반대측으로 돌출됨으로써, 클립 등의 접속 부재가 전극부(163)에 접속되기 쉬워진다. 그 결과, 후술하는 도금 처리 시에, 접속 부재를 경유하여 전극부(163)에 전압이 인가되기 쉬워진다.

도 8, 도 9의 (A) 및 도 9의 (B)는 증착 마스크 제조 장치(150)를 사용하여 박리층(116)을 형성하는 단계를 도시한다. 이후의 설명에서는, 도 1 내지 도 7의 (B)와 동일, 또는 유사한 구성에 관한 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 8, 도 9의 (A) 및 도 9의 (B)에 도시한 바와 같이, 박리층(116)을 형성하는 단계에서는, 제1 지지 기판(110)을 수납부(152)에 수납하여, 고정한다. 구체적으로는, 제1 지지 기판(110)을 지지 모재(151)의 제1 면(151A)에 적재하고, 제1 지지 기판(110)의 주위의 적어도 2변을, 제1 지지 부재(162)의 コ자형의 형상의 코너부를 사이에 둔 적어도 2변에 맞부딪치게 한다. 예를 들어, 제1 지지 기판(110)의 2변을, 수납부(152)의 제1 변(190A)과 제2 변(190B)에 제3 변(190C))에, 맞부딪치게 한다.

이때, 제1 지지 기판(110)의 점선의 원(162C)(도 9의 (A))에 나타내는 바와 같이, 제1 지지 기판(110)의 1변의 외연부(111)는, 제1 단차부(156A)에 맞부딪친다. 환언하면, 제1 지지 기판(110)의 외연부(111)의 일부는, 제1 지지 부재(162)의 제1 단차부(156A)에 끼워 넣어져, 제1 지지 기판(110)은 제1 면(151A)과 제1 단차부(156A) 사이에 끼워 넣어진다.

다음에, 제2 지지 부재(164)를 지지 모재(151)의 제1 면(151A)에 부착하여, 고정한다. 이때, 점선의 원(164C)(도 9의 (A))에 나타내는 바와 같이, 제1 지지 기판(110)의 1변의 외연부(111)는, 제2 단차부(156B)에 맞부딪친다. 환언하면, 제1 지지 기판(110)의 외연부(111)의 일부는, 제2 지지 부재(164)의 제2 단차부(156B)에 끼워 넣어져, 제1 지지 기판(110)은 제1 면(151A)과 제2 단차부(156B) 사이에 끼워 넣어진다. 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)의 일부는, 개구부(190)에 대하여 노출되고, 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)의 나머지의 일부는, 프레임형부(154)에 덮인다.

결과로서, 제1 지지 부재(162) 및 제2 지지 부재(164)는, 제1 면(151A) 상에서, 제1 지지 기판(110)의 외주를 둘러싸도록 마련된다. 또한, 지지 모재(151)의 제1 면(151A)은, 제1 지지 기판(110)을 지지할 수 있다.

계속해서, 제1 지지 기판(110)이 수납된 증착 마스크 제조 장치(150)를 도금욕에 침지한다. 도금욕에 충전된 금속 재료를 포함하는 용액과, 전극부(163) 사이에 전압을 인가함으로써, 도금 처리를 행한다. 증착 마스크 제조 장치(150)를 사용함으로써, 박리층(116)은 도전성을 갖는 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A) 상으로부터 막 두께가 증가하는 방향으로 성장하여, 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A) 상에 박리층(116)을 형성할 수 있다. 환언하면, 박리층(116)은, 제2 면(110A)에 마련된 제1 레지스트 마스크(114)에 대하여, 제1 단차부(156A)가 마련되는 측과, 제1 단차부(156A)가 마련되는 측의 반대측의 양쪽에 마련된다. 즉, 박리층(116)은, 제1 레지스트 마스크(114)가 마련되지 않는 제2 면(110A)의 일부에 마련된다. 박리층(116)은, 금속 재료를 사용하여 형성된 금속막을 갖는다.

도 9의 (A)에 도시한 바와 같이, 제1 지지 부재(162) 또는 제1 차양부(162A)는 제1 레지스트 마스크(114)와 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)의 일부를 덮는다. D1-D2를 따른 단면 구조(단면에서 보아)에 있어서, 제1 차양부(162A)의 제1 지지 기판(110)에 면한 부분과, 제2 면(110A)의 거리 H는, 예를 들어 10㎜이다. 또한, 제1 지지 부재(162)의 제1 차양부(162A)의 단부와 제2 면(110A)에 마련된 제1 레지스트 마스크(114)의 단부의 거리 W는, 예를 들어 4㎜이다. 이때, 박리층(116)의 설계 막 두께 d2는, 120㎛이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 거리 H는 차양부의 높이라고도 불리고, 거리 W는 피복 폭이라고도 불린다.

제2 지지 부재(164) 또는 제2 차양부(165A)는 제1 레지스트 마스크(114)와 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)의 일부를 덮는다. D1-D2를 따른 단면 구조(단면에서 보아)에 있어서, 제2 차양부(165A)의 제1 지지 기판(110)에 면한 부분(면)과, 제2 면(110A)의 거리 H는, 예를 들어 10㎜이며, 제3 지지 부재(165)의 제2 차양부(165A)의 단부와 제2 면(110A)에 마련된 제1 레지스트 마스크(114)의 단부의 거리 W는, 예를 들어 4㎜이며, 제2 차양부(165A)가 제1 지지 기판(110)을 덮는 길이는, 제1 차양부(162A)가 제1 지지 기판(110)을 덮는 길이보다 길다(크다).

도 9의 (B)에 도시한 바와 같이, 제1 지지 부재(162)는 제1 레지스트 마스크(114)과 제1 지지 기판(110)을 덮는다. 또한, D1-D2를 따른 단면 구조(단면에서 보아)와 마찬가지로, E1-E2를 따른 단면 구조(단면에서 보아)에 있어서도, 제1 차양부(162A)의 제1 지지 기판(110)에 면한 부분(면)과, 제2 면(110A)의 거리 H는 10㎜이며, 제1 차양부(162A)의 단부와 제2 면(110A)에 마련된 제1 레지스트 마스크(114)의 단부의 거리 W는 4㎜이며, 박리층(116)의 설계 막 두께 d2는 120㎛이다.

제1 지지 기판(110)을 수납부(152)에 수납하여, 고정할 때, 제1 지지 기판(110)은 제1 지지 부재(162)의 コ자형의 형상의 코너부를 사이에 둔 적어도 2변에 맞부딪쳐, 제1 지지 기판(110)이 제1 지지 부재(162) 및 제2 지지 부재(164)(제3 지지 부재(165))의 일부에 들어간다. 그 결과, 제1 지지 기판(110)이 수납부(152)에 안정적으로 고정되기 때문에, 제1 지지 기판(110) 상에 형성되는 박리층(116)의 막 두께가 박리층(116)의 중심부와 외주부에서 균일하게 형성되어, 박리층(116)이 면 내에서 균일하게 형성된다.

또한, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크 제조 장치(150)는, 개구부(190)를 갖고, 거리 W와 거리 H가 소정의 값으로 구성되기 때문에, 제1 차양부(162A)가 제1 지지 기판(110) 및 제1 레지스트 마스크(114)를 덮을 수 있다. 그 결과, 증착 마스크 제조 장치(150)는, 증착 마스크 제조 장치(150) 내에 있어서의, 도금욕에 충전된 금속 재료를 포함하는 용액의 순환을 제어할 수 있다. 즉, 제1 지지 기판(110)의 최외주 부근에서는, 용액의 순환이 억제됨으로써, 박리층(116)의 성장에 수반하여 근방의 용액 중의 이온 농도가 저하된다. 그것에 수반하여, 제1 지지 기판(110)의 최외주 부근에서의 박리층(116)의 성장 속도가 저하되기 때문에, 중앙부에 비해 막 두께가 커지는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 증착 마스크 제조 장치(150)는, 순환이 제어된 금속 재료를 박리층(116)으로 하여, 제1 지지 기판(110) 상에 균일하게 형성하고, 박리층(116)의 막 두께를 박리층(116)의 중심부와 외주부에서 균일하게 형성할 수 있다.

도 10에 도시한 바와 같이, 예를 들어 거리 H(차양부의 높이 H)가 3.5㎜일 때, 박리층(116)의 최외주의 막 두께는 19.5㎛ 이상 20.5㎛ 이하이며, 거리 H(차양부의 높이 H)가 6㎜일 때, 박리층(116)의 최외주의 막 두께는 59.5㎛ 이상 60.5㎛ 이하이며, 거리 H(차양부의 높이 H)가 9㎜일 때, 박리층(116)의 최외주의 막 두께는 99.5㎛ 이상 100.5㎛ 이하이며, 거리 H(차양부의 높이 H)가 10㎜일 때, 박리층(116)의 최외주의 막 두께는 119.5㎛ 이상 120.5㎛ 이하이다. 즉, 박리층(116)의 설계 막 두께 d2를 설정한 경우, 도 10을 사용하여 거리 H(차양부의 높이 H)를 설정할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 거리 H(차양부의 높이 H)를 10㎜로 함으로써, 박리층(116)의 설계 막 두께 d2를 120㎛로 할 수 있다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 증착 마스크 제조 장치(150)는, 개구부(190)를 갖고, 도 10에 기초하여, 거리 W와 거리 H가 소정의 값으로 구성되어, 박리층(116)의 막 두께를 제어할 수 있다. 그 결과, 박리층(116)의 막 두께가 중앙부와 최외주 부근 사이에서 변동이 발생하는 일이 없기 때문에, 후술하는, 박리층(116)을 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)으로부터 박리하는 단계에 있어서, 박리층(116)이 박리되는 것, 파손되는 것 등을 억제할 수 있다.

도 11의 (A)는 박리층(116) 상에 접착층(124)을 마련하는 단계를 도시한다. 접착층(124)은, 미노광의 상태에서 소정의 접착력 또는 점착력을 갖는 레지스트 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 레지스트 필름은, 예를 들어 드라이 필름 레지스트이다. 접착층(124)은 박리층(116)의 내측 영역(120)의 전체면을 덮고, 접착층(124)의 단부가 박리층(116)의 외측으로 확대되어 있는 것이 바람직하다. 접착층(124)의 단부는, 박리층(116)의 외측 영역(122)까지 확대되어 있어도 된다. 필름상의 부재로서 공급되는 접착층(124)이 이와 같은 크기를 가짐으로써, 박리층(116)의 내측 영역을 확실하게 덮을 수 있다.

도 11의 (B)에 도시한 바와 같이, 접착층(124)의 외주부는 미노광이며, 접착층(124)의 내측 영역은 노광되어도 된다. 구체적으로는, 접착층(124)에 있어서, 박리층(116)의 단부와 겹치는 영역을 포함하는 외주부(132)를 미노광 영역으로 하고, 외주부(132)보다 내측의 영역을 노광하여 노광 영역으로 하고, 외주부(132)보다 내측의 영역의 노광면을 경화시키는 처리를 행해도 된다. 외측 영역(122)(노광 처리되는 영역)은, 적어도 일부가 박리층(116)과 겹쳐 있는 것이 바람직하다. 접착층(124)의 선택적인 노광은, 포토마스크를 사용하여 행할 수 있다. 예를 들어, 접착층(124)으로서 사용되는 감광성의 드라이 필름 레지스트가 포지티브형인 경우, 투광부(130)를 둘러싸도록 차광부(129)가 형성된 제1 포토마스크(126)가 사용된다. 이와 같은 노광 처리에 의해, 접착층(124)에는, 외측 영역(122)(미노광 영역)과 비교하여 경화되어, 접착력이 저하된 영역(외측 영역(122)의 내측 영역)이 형성된다.

또한, 드라이 필름 레지스트는, 상술한 바와 같이, 노광 처리에 의해 표면의 점착력은 상실되지만, 미노광의 상태에서 이미 다른 표면과 접하고 있는 개소는, 광 조사에 의해 경화된 후에도, 그 접착력을 유지한다.

도 12의 (A)는 제2 지지 기판(112)의 제2 면(112A)에 접착층(124)을 밀접시켜, 박리층(116)을 제1 지지 기판(110)마다 접합하는 단계를 도시한다. 이때, 접착층(124)의 대부분은 노광되어 있어, 그 표면은 점착력을 상실하였다. 따라서 제2 지지 기판(112)은, 접착층(124)의 미노광 외주부(132)에 있어서 고정된다. 한편, 접착층(124)과 박리층(116)의 계면은, 노광 전의 시점에서 이미 밀착시켜져 있어, 노광에 의해 점착력은 상실되지만, 어느 정도의 밀착력은 유지되고 있다. 또한, 제2 지지 기판(112)은, 제1 지지 기판(110)과 마찬가지의 재료로 형성된다.

또한, 미노광의 외주부(132)와 박리층(116)의 계면은, 접합 후에 베이크 처리를 행함으로써, 밀착성을 증가시킬 수 있다. 베이크 처리의 조건은, 예를 들어 60℃, 1시간이다.

도 12의 (B)는 박리층(116)을 제1 지지 기판(110)의 제2 면(110A)으로부터 박리하는 단계를 도시한다. 박리층(116)은, 제1 지지 기판(110)과의 계면에 물리적인 힘을 작용시킴으로써, 제1 지지 기판(110)으로부터 박리할 수 있다. 예를 들어, 예리한 선단을 갖는 지그를, 제1 지지 기판(110)과 박리층(116)의 계면에 밀어붙여 박리의 계기가 되는 부분을 형성하고, 그 후, 제1 지지 기판(110)을 떼어내도록 외력을 가함으로써, 박리층(116)을 제1 지지 기판(110)으로부터 박리할 수 있다.

도 13의 (A)는 박리층(116)이 마련된 제2 지지 기판(112) 상에, 제2 레지스트 마스크(138)를 형성하는 단계를 도시한다. 제2 레지스트 마스크(138)는 소정의 패턴으로 형성된다. 즉, 제2 레지스트 마스크(138)는, 복수의 개구(103), 및 후술하는 더미 패턴(140)을 형성하는 영역에 선택적으로 형성된다. 예를 들어, 네가티브형의 포토레지스트를 박리층(116) 상에 도포하고, 복수의 개구(103)와 더미 패턴(140)을 형성하는 영역이 선택적으로 노광되도록, 포토마스크를 사용하여 노광을 행한다. 또한, 포지티브형의 포토레지스트를 박리층(116) 상에 도포하고, 비개구부가 선택적으로 노광되도록, 포토마스크를 사용하여 노광을 행한다. 그 후, 현상을 행함으로써, 패터닝된 제2 레지스트 마스크(138)를 얻을 수 있다. 또한, 제2 레지스트 마스크(138)는, 박리층(116)을 증착 마스크 유닛(100)으로부터 용이하게 박리할 수 있도록, 박리층(116)의 외연부에도 형성하는 것이 바람직하다.

도 13의 (B)는 도금법을 사용하여, 제2 레지스트 마스크(138)에 의해 피복되어 있지 않은 영역에 도금 패턴을 형성하여, 증착 마스크(102)를 형성하는 단계를 도시한다. 도금 패턴의 형성은, 1단계로 행해도 되고, 수단계로 나누어 행해도 된다. 복수의 단계로 행하는 경우, 다른 단계에서 다른 금속이 형성되도록, 도금 처리를 행해도 된다. 또한, 도금 처리는, 도금 패턴의 상면이 제2 레지스트 마스크(138)의 상면보다도 낮아지도록 행해도 되고, 높아지도록 행해도 된다. 후자의 경우, 도금 패턴의 상면(표면)을 연마함으로써 도금 패턴 상면의 평탄화를 행해도 된다. 다음에, 도 13의 (C)에 도시한 바와 같이, 제2 레지스트 마스크(138)를 박리액에 의한 에칭, 및/또는 애싱에 의해 제거함으로써, 박리층(116) 상에 복수의 개구(103)에 의해 마스크 패턴이 형성되는 증착 마스크(102)를 제조할 수 있다.

또한, 도 13의 (B) 및 도 13의 (C)에 도시한 바와 같이, 증착 마스크(102)를 형성할 때, 증착 마스크(102)로부터 이격되는 더미 패턴(140)이 형성된다. 더미 패턴(140)은, 평면에서 보아 복수의 증착 마스크(102)를 둘러싸도록 구성된다. 더미 패턴(140)과 증착 마스크(102)는 동시에 형성되기 때문에, 이들은 서로 동일한 조성과 두께를 가질 수 있다.

도 14의 (A)는 증착 마스크(102)의 마스크 패턴(104)을 보호하기 위한 보호 필름(142)의 일 양태를 도시한다. 보호 필름(142)은, 드라이 필름 레지스트를 사용할 수 있다. 보호 필름(142)은, 예를 들어 광경화성 수지막(144)이, 박리막(145)과 보호막(146)에 의해 사이에 끼워진 구조를 갖는다. 광경화성 수지막(144)에는, 네가티브형의 광경화성 수지가 포함된다. 즉, 광에 의해 경화되는 고분자 또는 올리고머가 포함된다. 광경화성 수지막(144)의 두께는 임의로 선택할 수 있고, 예를 들어 20㎛ 이상 500㎛ 이하, 50㎛ 이상 200㎛ 이하, 또는 50㎛ 이상 120㎛ 이하의 범위로부터 선택할 수 있다. 보호막(146)은 고분자 재료를 포함한다. 고분자 재료는, 예를 들어 폴리올레핀, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 또는 불소 함유 폴리올레핀 등으로부터 선택할 수 있다.

도 14의 (B)는 보호 필름(142)이 증착 마스크(102) 상에 배치된 상태를 도시한다. 보호 필름(142)은, 박리막(145)을 박리한 후, 광경화성 수지막(144)이 증착 마스크(102)와 보호막(146)에 의해 사이에 끼워지도록 배치된다. 보호 필름(142)은, 적어도 모든 마스크 패턴(104)을 덮도록 마련된다.

다음에, 광경화성 수지막(144)을 노광한다. 구체적으로는, 도 15에 도시한 바와 같이, 차광부(129)와 투광부(130)를 갖는 제2 포토마스크(128)를, 투광부(130)가 마스크 패턴(104)과 겹치도록 배치하고, 제2 포토마스크(128)를 사용하여 노광을 행한다. 그 결과, 노광된 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하된다.

도 16의 (A)는 광경화성 수지막(144)을 노광한 후, 보호막(146)을 박리하여 현상을 행하여, 마스크 패턴(104) 상에 제3 레지스트 마스크(148)가 형성된 상태를 도시한다. 도 16의 (A)에 도시한 바와 같이, 박리층(116) 상에 복수의 마스크 패턴(104)이 형성되는 경우에는, 각각의 마스크 패턴(104)마다 제3 레지스트 마스크(148)가 마련된다. 또한, 더미 패턴(140) 상에는 후의 공정에서 지지 프레임이 형성되기 때문에, 제3 레지스트 마스크(148)는 마련되어 있지 않다.

도 16의 (B)는 더미 패턴(140) 상에 지지 프레임(108)을 배치하는 단계를 도시한다. 지지 프레임(108)은, 복수의 마스크 패턴(104)이 형성될 때, 각각의 마스크 패턴의 사이에 배치된다. 지지 프레임(108)은, 외곽의 패턴이 광폭이며, 외곽의 패턴의 내측에 형성되는 패턴(마스크 패턴(104)의 사이에 형성되는 패턴)이 협폭의 형태를 갖고 있어도 된다.

도 17의 (A)는 도금법을 사용하여, 접속부(106)를 형성하는 단계를 도시한다. 접속부(106)에서는, 증착 마스크(102)의 표면 중 지지 프레임(108)과 제3 레지스트 마스크(148)에 덮여 있지 않은 부분으로부터 주로, 금속 재료가 퇴적된다. 그 결과, 도 17의 (A)에 도시한 바와 같이, 증착 마스크(102)의 상면, 및 지지 프레임(108)의 측면에 접하는 접속부(106)가 형성된다. 접속부(106)가 형성됨으로써, 증착 마스크(102)와 지지 프레임(108)이 접속되어, 고정된다.

접속부(106)를 형성한 결과, 접속부(106)의 두께는 제3 레지스트 마스크(148)의 두께와 동일해도 되고, 접속부(106)의 두께는 제3 레지스트 마스크(148)의 두께보다도 작아도 되고, 도 17의 (A)에 도시한 바와 같이, 접속부(106)의 두께는 제3 레지스트 마스크(148)의 두께보다도 커도 된다. 접속부(106)의 두께가 제3 레지스트 마스크(148)의 두께보다도 큰 경우, 증착 마스크(102)와 지지 프레임(108) 사이는, 보다 강고하게 결합된다. 한편, 접속부(106)의 두께가 제3 레지스트 마스크(148)의 두께 이하인 경우, 접속부(106)가 제3 레지스트 마스크(148) 상에 형성되는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 제3 레지스트 마스크(148)의 제거 시에, 접속부(106)가 파괴되는 것, 또는, 접속부(106)의 파괴에 기인하여 마스크 패턴(104)이 파손되는 것 등의 문제를 억제할 수 있다.

도 17의 (B)에 도시한 바와 같이, 제3 레지스트 마스크(148)를, 박리액을 사용하여 박리함으로써, 제2 지지 기판(112) 상에 증착 마스크 유닛(100)을 형성할 수 있다. 그 후, 박리층(116)을 제2 지지 기판(112)으로부터 박리하고, 또한 박리층(116)을 증착 마스크(102)로부터 박리함으로써, 도 2에 도시한 증착 마스크 유닛(100)을 얻을 수 있다.

또한, 증착 마스크(102)는 미세한 마스크 패턴(104)이 형성되기 때문에, 중앙부와 최외주 근방에서 막 두께가 균일하게 되는 것은 마찬가지로 요구된다. 따라서, 전술한 증착 마스크 제조 장치(150)는, 도 13의 (B) (C)에 도시한 증착 마스크(102)의 형성 시의 도금 처리 시에, 제2 지지 기판(112)을 수용하기 위해 사용할 수도 있다.

본 실시 형태에 관한 증착 마스크 유닛(100)의 제조 공정에 있어서, 박리층(116)을 제2 지지 기판(112)에 전재한 후에, 광경화성 수지막(144)을 노광 및 현상하여 제2 레지스트 마스크(138)를 형성하는 단계(도 16의 (A) 내지 도 16의 (B)), 및 제2 레지스트 마스크(138)를 박리액으로 제거하는 단계(도 17의 (A) 내지 도 17의 (B))에 있어서, 약액에 의한 웨트 처리가 행해진다.

이상 설명한, 증착 마스크 제조 장치(150), 또는 증착 마스크(102)의 제조 방법을 사용함으로써, 제1 레지스트 마스크(114)의 막 두께 d1을 필요 이상으로 두껍게 하는 것을 억제할 수 있다. 즉, 제1 레지스트 마스크(114)의 후막화를 억제할 수 있다. 또한, 증착 마스크 제조 장치(150), 증착 마스크(102)의 제조 방법을 사용함으로써, 제1 레지스트 마스크(114)의 후막화를 억제할 수 있기 때문에, 제조 방법의 간략화 및 제조에 수반하여 비용의 증가를 억제할 수 있다.

본 발명의 실시 형태로서 상술한 증착 마스크의 구성, 증착 마스크의 제조 장치, 증착 마스크의 제조 방법, 증착 마스크 유닛의 구성, 및 증착 마스크 유닛의 제조 방법은, 서로 모순되지 않는 한에 있어서, 적절히 조합하여 실시할 수 있다. 또한, 증착 마스크의 구성, 증착 마스크의 제조 장치, 증착 마스크의 제조 방법, 증착 마스크 유닛의 구성, 및 증착 마스크 유닛의 제조 방법을 기초로 하여, 당업자가 적절히 구성 요소의 추가, 삭제 혹은 설계 변경을 행한 것, 또는, 공정의 추가, 생략 혹은 조건 변경을 행한 것도, 본 발명의 요지를 구비하고 있는 한, 본 발명의 범위에 포함된다.

또한, 상술한 실시 형태의 양태에 의해 가져오게 되는 작용 효과와는 상이한 다른 작용 효과라도, 본 명세서의 기재로부터 명백한 것, 또는, 당업자에게 있어서 용이하게 예측할 수 있는 것에 대해서는, 당연히 본 발명에 의해 가져오게 되는 것으로 이해된다.

100: 증착 마스크 유닛
102: 증착 마스크
103: 개구
104: 마스크 패턴
106: 접속부
108: 지지 프레임
110: 제1 지지 기판
110A: 제2 면
111: 외연부
112: 제2 지지 기판
112A: 제2 면
114: 제1 레지스트 마스크
116: 박리층
118: 개구부
120: 내측 영역
122: 외측 영역
124: 접착층
126: 제1 포토마스크
128: 제2 포토마스크
129: 차광부
130: 투광부
132: 외주부
138: 제2 레지스트 마스크
140: 더미 패턴
142: 보호 필름
144: 광경화성 수지막
145: 박리막
146: 보호막
148: 제3 레지스트 마스크
150: 증착 마스크 제조 장치
151: 지지 모재
151A: 제1 면
152: 수납부
154: 프레임형부
156A: 제1 단차부
156B: 제2 단차부
157A: 제1 벽부
157B: 제2 벽부
157C: 제1 부분
162: 제1 지지 부재
162A: 제1 차양부
162C: 원
163: 전극부
164: 제2 지지 부재
164C: 원
165: 제3 지지 부재
165A: 제2 차양부
166: 고정 부재
166A: 고정 부재
166B: 고정 부재
166C: 고정 부재
168: 고정 부재
173: 개구부
176A: 개구부
176B: 개구부
176C: 개구부
178: 개구부
186A: 개구부
186B: 개구부
186C: 개구부
186D: 개구부
190: 개구부
190A: 제1 변
190B: 제2 변
190C: 제3 변
190D: 제4 변

Claims (13)

1. 피도금 부재를 지지하는 제1 면을 갖는 지지 모재와,
   상기 제1 면 상에서, 상기 피도금 부재의 외주를 둘러싸도록 마련되는 제1 지지 부재 및 제2 지지 부재와,
   상기 제1 면으로부터 소정의 높이 이격되어 마련되는 전극부를 갖고,
   상기 제1 지지 부재는, 상기 제1 면 상에 마련되는 제1 벽부와, 상기 제1 벽부의 상부에 있어서 상기 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제1 차양부를 갖고,
   상기 제2 지지 부재는, 상기 제1 면 상에 마련되는 제2 벽부와, 상기 제2 벽부의 상부에 있어서 상기 제1 면의 내측을 향하여 돌출되는 제2 차양부를 갖고,
   상기 제1 벽부는, 상기 제1 면으로부터 상기 소정의 높이에 걸쳐 높이가 감소하는 제1 부분과, 상기 제1 부분에 의해 상기 제1 벽부의 내측면에 제1 단차부를 갖고,
   상기 제2 벽부는, 상기 제2 벽부의 내측면에 상기 제1 면으로부터 상기 소정의 높이로 상기 전극부가 돌출됨으로써 형성되는 제2 단차부를 갖고,
   상기 제1 지지 부재와 상기 제2 지지 부재는, 상기 제1 단차부 및 상기 제2 단차부와, 상기 제1 면과의 사이에 상기 피도금 부재를 끼워 넣는 것이 가능하도록 배치되어 있는 증착 마스크의 제조 장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 차양부와 상기 제2 차양부의 거리는, 상기 제1 단차부와 상기 제2 단차부의 거리보다 작은, 증착 마스크의 제조 장치.
3. 제2항에 있어서,
   상기 제1 차양부 및 상기 제2 차양부는, 상기 피도금 부재의 제2 면의 일부를 덮고,
   상기 제2 차양부가 상기 제2 면을 덮는 길이는, 상기 제1 차양부가 상기 피도금 부재를 덮는 길이보다 큰, 증착 마스크의 제조 장치.
4. 제3항에 있어서,
   단면에서 보아, 상기 제2 차양부와 상기 제2 면의 거리는, 상기 제1 차양부와 상기 제2 면의 거리와 동등한, 증착 마스크의 제조 장치.
5. 제3항에 있어서,
   단면에서 보아, 상기 제2 차양부의 단부와 상기 제2 면에 마련되는 제1 레지스트 마스크의 단부의 거리는, 상기 제1 차양부의 단부와 상기 제1 레지스트 마스크의 단부의 거리와 동등한, 증착 마스크의 제조 장치.
6. 제5항에 있어서,
   단면에서 보아, 상기 제2 차양부와 상기 제2 면의 거리는 10㎜이며, 상기 제2 차양부의 단부와 상기 제1 레지스트 마스크의 단부의 거리는 4㎜인, 증착 마스크의 제조 장치.
7. 제5항에 있어서,
   단면에서 보아, 상기 제1 레지스트 마스크에 대하여, 상기 제1 단차부가 마련되는 측과, 상기 제1 단차부가 마련되는 측의 반대측에, 박리층이 마련되는, 증착 마스크의 제조 장치.
8. 상기 제2 면의 내측 영역에 제1 막 두께로 상기 제1 레지스트 마스크를 형성하고,
   제6항에 기재된 증착 마스크의 제조 장치를 사용하여, 상기 제1 레지스트 마스크에 대하여, 상기 제1 단차부가 마련되는 측 및 상기 제1 단차부가 마련되는 측의 반대측의, 각각의 상기 제2 면 상에 박리층을 형성하는 것을 포함하는 증착 마스크의 제조 방법.
9. 제8항에 있어서,
   상기 제1 단차부 및 상기 제2 단차부와, 상기 제1 면과의 사이에, 상기 피도금 부재를 끼워 넣는, 증착 마스크의 제조 방법.
10. 제9항에 있어서,
    상기 박리층을 금속막으로 형성하는, 증착 마스크의 제조 방법.
11. 제10항에 있어서,
    상기 박리층을 도금법으로 형성하는, 증착 마스크의 제조 방법.
12. 제8항에 있어서,
    상기 박리층의 두께는, 상기 제1 막 두께와 동등한, 증착 마스크의 제조 방법.
13. 제8항에 있어서,
    상기 박리층의 두께는, 119.5㎛ 이상 120.5㎛ 이하인, 증착 마스크의 제조 방법.

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