CN116970900A - 蒸镀掩模 - Google Patents

Abstract

本发明的一个目的是提供破损少的蒸镀掩模，蒸镀掩模具有：薄膜状的掩模主体；设置在掩模主体的周围的保持框；和连接掩模主体与保持框的连接部件，掩模主体包括：具有第1图案部的第1区域、包围第1区域且具有第2图案部的第2区域；和包围第2区域的第3区域，第1区域和第2区域配置在基准框内。另外，蒸镀掩模的掩模主体的第1区域与第2图案部隔开间隔，此外，蒸镀掩模中，第2区域外接于掩模主体的第1区域的外形。

Description

蒸镀掩模

技术领域

本发明的一个实施方式涉及蒸镀掩模。本发明的一个实施方式特别涉及具有薄膜状的掩模主体的蒸镀掩模。

背景技术

作为平板型显示装置的一个例子，能够列举液晶显示装置和有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示装置。这些显示装置是在基板上层叠含有绝缘体、半导体、导电体等各种材料的薄膜而得到的构造体。通过将这些薄膜适当地图案化并连接，能够实现作为显示装置的功能。

形成薄膜的方法大致分为气相法、液相法、固相法。气相法分为物理气相法和化学气相法。作为物理气相法的代表的例子已知有蒸镀法。蒸镀法中最简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法是通过在高真空下对材料进行加热，使材料升华或蒸发而生成材料的蒸气(以下将它们总称为气化)。在用于使该材料沉积的区域(以下称为蒸镀区域)，气化了的材料固化并沉积，由此获得材料的薄膜。为了对蒸镀区域有选择地形成薄膜，使得材料在其以外的区域(以下称为非蒸镀区域)不沉积，而使用掩模(蒸镀掩模)来进行真空蒸镀(参照专利文献1和2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-087840号公报。

专利文献2：日本特开2013-209710号公报。

发明内容

发明所要解决的问题

蒸镀掩模在掩模主体形成有与贯通掩模主体的开口的形状相应的蒸镀图案，而没有蒸镀图案的区域占比很大。蒸镀掩模中，如果没有蒸镀图案的区域大，则在蒸镀时与被蒸镀基板的接触面积就大，存在因静电等而增加与被蒸镀基板的贴合程度，从而发生破损这样的问题。

本发明是鉴于上述问题而完成的，目的之一是提供一种降低了与被蒸镀基板的接触面积的蒸镀掩模。此外，本发明的一个目的是提供一种抑制了在与被蒸镀基板之间产生的静电的蒸镀掩模。进一步，本发明的一个目的是提供一种不易破损的蒸镀掩模。

用于解决问题的技术手段

本发明的一个实施方式的蒸镀掩模具有：薄膜状的掩模主体；设置在掩模主体的周围的保持框；和连接掩模主体与保持框的连接部件，掩模主体具有配置在基准框的第1区域和第2区域，以及第3区域，第1区域具有第1图案部，第2区域具有第2图案部。

附图说明

图1是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的俯视图。

图2是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的俯视图。

图3是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的俯视图。

图4是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的俯视图。

图5是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的俯视图。

图6A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图6B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图6C是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图7A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图7B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图8A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图8B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图9A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图9B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图9C是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图10A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图10B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图11是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图12A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图12B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图13是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图14A是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图14B是表示制作本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意的截面图。

图15是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意的截面图。

具体实施方式

以下，参照附图等说明本发明的各实施方式。不过，本发明能够在不脱离其主旨的范围以各种的方式实施，并不限定于以下例示的实施方式的记载内容地被解释。

为了更明确地进行说明，与实际的方式相比，附图存在示意地表示各部分的宽度、厚度、形状等的情况。但是，附图所示例子只是一个例子而已，并不限定本发明的解释。在本说明书和各附图中，对于与已示出的图所描述的结构相同的结构，有时会标注相同的附图标记，适当地省略详细的说明。

在本发明中，通过对某一个膜进行蚀刻、光照射而形成多个膜的情况下，有时该多个膜具有不同的功能、作用。但是，该多个膜源自以同一工序作为同一个层形成的膜，具有相同的层构造，相同的材料。因此，定义为该多个膜存在于同一层。

在本说明书和请求保护的范围内，在表达在某个构造体上配置有其他构造体的方式时，单纯记作“在……上”的情况下，只要没有特别地否定，就定义为以与某个构造体接触的方式，在该构造体的正上方配置其他构造体的情况，和在某个构造体的上方再隔着别的构造体配置其他构造体的情况这两种情况。

＜第1实施方式＞

参照图1，说明本发明的一个实施方式的蒸镀掩模10的结构。

1.整体构造

图1是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模10的俯视图。蒸镀掩模10具有薄膜状的掩模主体100、保持框102和连接部件104。掩模主体100通过连接部件104与保持框102连接。

图1表示2个掩模主体100与保持框102连接的构造。保持框102具有包围2个掩模主体100各自的周缘部的构造。保持框102具有形成蒸镀掩模10的外轮廓的框体部分和相当于架设在框体部分的梁(中梁)的部分。另外，图1表示在保持框102连接2个掩模主体100的构造，而在蒸镀掩模10中掩模主体100的数量并没有限定，能够根据蒸镀基板的大小和蒸镀图案适当地决定。此外，保持框102的构造也能够根据掩模主体100的数量和配置适当地变更。

掩模主体100能够区分成第1区域106、第2区域108、第3区域110。第1区域106是位于掩模主体100的内侧(中央侧)的区域。第2区域108是位于第1区域106的外侧的区域。第3区域110是位于第2区域108的外侧的区域。因此，如图1所示，具有第1区域106被第2区域108包围，第2区域108被第3区域110包围的位置关系。

第1区域106具有第1图案部114，第1图案部114具有多个第1开口图案116p。第1开口图案116p贯通掩模主体100。在蒸镀时，蒸镀掩模10和被蒸镀基板以蒸镀对象的被蒸镀基板的蒸镀区域与第1图案部114或第1区域106重叠的方式进行对位。蒸镀材料的蒸气从第1图案部114的第1开口图案116p通过，在被蒸镀基板的蒸镀区域沉积蒸镀材料。

在被蒸镀基板为显示装置的基板的情况下，与显示装置的像素的排列对应地在第1图案部114排列第1开口图案116p。显示装置的像素的排列在x方向和y方向上呈矩阵状排列时，第1开口图案116p的排列也同样呈矩阵状排列。

第1区域106的形状例如图1所示那样具有圆形的形状。此外，如上所述，第1区域106被第2区域108外接。第2区域108也可以以夹着第1区域106的方式分成第2区域108-1和第2区域108-2。第2区域108-1与第2区域108-2可以是能够区分开的2个区域，可以配置成从两侧夹着第1区域106。

在图1中示出第1区域106的形状为圆形的例子，不过并不限定于圆形，也可以为矩形等。其中，在第1区域106的形状为圆形的情况下，与第1区域106的形状为矩形的情况相比，由于作为非蒸镀区域的第2区域108的面积在基准框112占有更大的比例，因此蒸镀掩模10有时更显示出降低与被蒸镀基板的贴合程度的效果。

如上所述，保持框102包括位于外侧的框部和位于内侧的梁部。梁部对框部赋予刚性，能够防止框部翘曲。梁部也可以组合多个部件而构成。例如，梁部的1个部件从框部的一个边向相对的另一个边延伸。此外，梁部的部件优选设置在纵方向(蒸镀掩模10的短边方向)和横方向(蒸镀掩模10的长边方向)上。即，梁部优选为沿纵方向延伸的部件与沿横方向延伸的部件交叉的井栏构造。不过，梁部的结构并不限定于此。梁部的部件也可以仅设置在纵方向或横方向上。此外，框部的宽度和梁部(或梁部的部件)的宽度能够根据蒸镀掩模10的大小适当地决定。另外，为了尽量拓宽第1区域106那样的蒸镀图案的区域，优选使得梁部的宽度小于框部的宽度。

如图1所示，连接部件104设置在掩模主体100与保持框102的开口部的间隙，与掩模主体100的侧面和保持框102的开口部的侧面接触。即，在平面视图中，掩模主体100与保持框102不重叠。另外，在后述的截面视图中掩模主体100与保持框102也可以重叠。

连接部件104只要连接掩模主体100与保持框102即可，因此连接部件104也可以不设置在保持框102的开口部的侧面的整个面。连接部件104只要设置在保持框102的开口部的侧面的至少一部分即可。另一方面，掩模主体100的厚度与保持框102的厚度相比非常小。例如，掩模主体100的厚度为1μm以上10μm以下，保持框102的厚度为10μm以上2000μm以下。因此，为了增大掩模主体100与保持框102的粘接强度，优选连接部件104设置在掩模主体100的侧面的整个面。

2.部分构造

图2表示将图1所示的框118放大后的俯视图。图2表示框118的俯视图，具体而言，表示2个基准框112和包围基准框112的第3区域110的俯视图。

如图2所示，在基准框112内配置第1区域106和第2区域108。此外，在基准框112配置1个第1区域106。如上所述，第1区域106设置有第1图案部114，第1图案部114设置有多个第1开口图案116p。基准框112相当于后述的被蒸镀基板中的切割框。此外，在基准框112，表示了作为配置第1区域106和第2区域108的基准的框，因此没有用于对被蒸镀基板进行蒸镀的开口图案。

包围第1区域106的第2区域108具有第2图案部120。在第2区域108，也可以设置有多个第2图案部120。多个第2图案部120优选以相互隔开间隔的方式配置。此外，第2图案部120优选以与第1区域106或第1图案部114隔开间隔的方式配置。图2表示第2图案部120为矩形的例子，不过第2图案部120的形状没有限定，也可以为圆形等形状。

第2图案部120具有多个第2开口图案116d。第2图案部120的第2开口图案116d贯通掩模主体100。通过这样在第1区域106的其他区域具有贯通掩模主体的第2开口图案116d，能够在蒸镀时降低(减少)被蒸镀基板与蒸镀掩模10的接触面积。

此外，第2图案部120的第2开口图案116d也可以具有与第1图案部114的第1开口图案116p相同的形状。进一步，第2图案部120的第2开口图案116d既可以为与第1图案部114的第1开口图案116p相同的大小，或者，也可以比第1图案部114的第1开口图案116p小。通过使第2图案部120的第2开口图案116d为与第1图案部114的第1开口图案116p相同的大小，或者比第1图案部114的第1开口图案116p小，能够维持蒸镀掩模10与被蒸镀基板的高对位精度。此处，第1开口图案116p或第2开口图案116d的大小是指第1开口图案116p或第2开口图案116d的面积。

第2图案部120的面积小于第1图案部114的面积，为第1图案部114的面积的5％以上40％以下。此外，第2图案部120的面积优选为第1图案部114的面积的10％以上40％以下。此时，第2图案部120的面积在第2图案部120有多个的情况下，为多个第2图案部120合计的面积。这样，蒸镀掩模10通过使第2图案部120的面积为第1图案部114的面积的10％以上，与使其为第1图案部114的面积的5％以上的情况相比，能够降低与被蒸镀基板的贴合程度。此外，蒸镀掩模10通过使第2图案部120的面积为第1图案部114的面积的40％以下，能够维持蒸镀掩模10自身的强度。

如上所述，第2图案部120配置在与被蒸镀基板的非蒸镀区域相当的第2区域108，第1图案部114配置在与被蒸镀基板的蒸镀区域相当的第1区域106。因此，第2图案部120具有的第2开口图案116d能够称为第1图案部114的虚设开口图案116d。

接着，第3区域110没有开口图案。第3区域110与被蒸镀基板的非蒸镀区域相当。在与被蒸镀基板的第3区域110相当的区域，例如在掩模主体设置有多个基准框112的情况下，由于是在配置于多个基准框112间的第3区域110上切下，所以优选没有蒸镀物的沉积。

3.变形例

3-1.变形例1

参照图3，说明第2图案部120的变形例。与图2所示的第2图案部120不同之处在于第2区域108的第2图案部120的配置和形状。另外，对于与图2所示的第2图案部120相同或类似的结构，有时会略去其说明。

图3表示将图1所示的框118放大后的俯视图。第2图案部120能够配置在第2区域108的至少一端(外缘)或其附近。在第2区域108设置有多个第2图案部120的情况下，能够配置在第2区域108的四个角或其附近。进一步，多个第2图案部120能够分别配置在第2区域108-1和第2区域108-2，能够夹着第1区域106配置。通过以夹着第1区域106的方式设置或在该区域内也隔开间隔地设置第2图案部120，第2开口图案116d分布在基准框112内，能够抑制蒸镀掩模10与被蒸镀基板的贴合。

第2图案部120能够沿第2区域108的内侧或基准框112配置，与基准框112部分接触。因此，第2图案部120能够以与第2区域108的外形重叠的方式配置。

3-2.变形例2

参照图4说明第2图案部120的变形例。与图3所示的第2图案部120不同之处在于第2图案部120的配置和形状。另外，对于与图3所示的第2图案部120相同或类似的结构，有时会略去其说明。

图4表示将图1所示的框118放大后的俯视图。第2图案部120配置在第2区域108-1和第2区域108-2中的至少一个区域。第2图案部120能够配置在第2区域108的四个角的任一个角或配置在其附近。此外，第2图案部120能够为图3所示的多个第2图案部120中，例如设置在第2区域108-1的多个第2图案部120相互结合那样的形状。

进一步，在第2区域108设置有多个第2图案部120的情况下，能够夹着第1区域106配置。

3-3.变形例3

参照图5说明第2图案部的变形例。与图2～4所示的第2图案部120不同之处在于第2图案部120的配置和形状。另外，对于与图2～4所示的第2图案部120相同或类似的结构，有时会略去其说明。

第2图案部120配置在包围第1区域106的第4区域122。第4区域122与第1区域106隔开间隔，在第4区域122与第1区域106之间设置有第5区域124。第5区域124以包围第1区域106的方式配置。由于配置在基准框112的第1区域106外接于第2区域108，因此包围第1区域106的第4区域122和第5区域124部分地配置在基准框112的外侧。因此，包围第5区域124的第4区域122被第2区域108或第3区域110所围。

第4区域122配置有第2图案部120。在第2图案部120设置有第2开口图案116d。因此，第4区域122能够包含第2开口图案116d。由于第5区域124配置在第1区域106与第4区域122之间，因此没有开口。通过这样使得第5区域124没有开口，即使第4区域122以包围第1区域106的方式配置，与第1区域106相当的掩模主体100的部分也不会脱落，能够保持掩模主体100的强度。

进一步，第2图案部120能够同时设置由第4区域122和第2区域108。不过，在多个区域设置第2图案部120的情况下，第2图案部120的面积为上述的设置在多个区域的第2图案部120的总面积。

如以上说明的那样，蒸镀掩模10能够提供一种蒸镀掩模，其通过在薄膜状的掩模主体设置与被蒸镀基板的蒸镀区域相当的第1区域106、包围第1区域106的第2区域108和包围第2区域108的第3区域110，并在第1区域106和第2区域108具有开口，从而降低了与被蒸镀基板的接触面积。此外，能够提供可通过降低与被蒸镀基板的接触面积，防止可能在与被蒸镀基板之间产生的摩擦带电，从而抑制静电的产生的蒸镀掩模10。进一步，能够提供通过降低与被蒸镀基板的接触面积而降低了与被蒸镀基板的贴合程度的蒸镀掩模10。此外，能够提供通过降低与被蒸镀基板的贴合程度而降低了蒸镀工序中的破损率的蒸镀掩模10。

4.制造方法

＜第2实施方式＞

参照图6A～图15，说明本发明的一个实施方式的蒸镀掩模10的制造方法。

图6A～图15是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模10的制造方法的截面图。此外，图15所示的截面图是沿图1所示的A1-A2线切割的蒸镀掩模10的截面图。

图6A表示在第1支承基板130的第1面形成第1抗蚀剂掩模132的步骤。第1支承基板130为金属制，由玻璃、石英、陶瓷、塑料等绝缘物，或者铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)、铁(Fe)、镍(Ni)、钴(Co)、铬(Cr)、钼(Mo)、锰(Mn)等金属或它们的合金形成。作为合金，例如也可以为含铁(Fe)和铬(Cr)的合金、铁(Fe)、镍(Ni)和锰(Mn)的合金，在合金中也可以含有碳(C)。例如，第1支承基板130例如也可以由以铁(Fe)为主成分，含有铬(Cr)、镍(Ni)的不锈钢形成。

第1抗蚀剂掩模132使用感光性的树脂材料，通过光刻形成。作为感光性的树脂材料，能够使用涂敷型的光致抗蚀剂或干膜抗蚀剂(DFR)。第1抗蚀剂掩模132在图1中表示的蒸镀掩模10中配置多个掩模主体100时，具有包围它们(多个掩模主体100的全部)的框状的形态。

图6B表示形成剥离层134的步骤。剥离层134在形成有第1抗蚀剂掩模132的第1支承基板130的第1面，在从框状的第1抗蚀剂掩模132露出的区域形成。剥离层134例如以与形成掩模主体100的金属材料相同的金属材料形成。剥离层134例如以镍(Ni)、铜(Cu)、钛(Ti)、铬(Cr)等0价的金属材料形成。以这样的金属材料形成的剥离层134能够利用镀层法制作。例如，剥离层134在第1支承基板130上通过镀镍制作。在利用镀层法形成剥离层134时，也可以清洗第1支承基板130，在第1面涂敷脱模剂。

图6C表示除去第1抗蚀剂掩模132的步骤。第1抗蚀剂掩模132通过剥离液除去。在除去第1抗蚀剂掩模132后的区域形成开口部136。换言之，通过从第1支承基板130上除去第1抗蚀剂掩模132，剥离层134夹着开口部136分离成内侧区域138和外侧区域140。剥离层134以20μm以上200μm以下，例如40μm以上150μm以下的厚度形成。剥离层134在第1支承基板130上，利用镀层法、溅射法或化学气相沉积(CVD)法形成。在第1支承基板130上形成的剥离层134有时膜厚的均匀性在外周部会下降。在这样的情况下，也能够通过在第1支承基板130上设置第1抗蚀剂掩模132，将剥离层134分离成内侧的区域和外侧的区域。

图7A表示在剥离层134上设置粘接层142的步骤。粘接层142优选使用在未曝光的状态具有规定的粘接力或粘着力的抗蚀剂膜。作为这样的抗蚀剂膜，例如能够使用干膜抗蚀剂。粘接层142优选具有覆盖剥离层134的内侧区域138的整个面且端部扩展到剥离层134的外侧的大小。粘接层142的端部也可以扩展至剥离层134的外侧区域140。作为膜状的部件提供的剥离层134通过具有这样的大小，能够可靠地覆盖剥离层134的内侧区域。

如图7B所示，也可以进行令粘接层142的外周部未曝光、令内侧区域138曝光的处理。具体而言，也可以在粘接层142，进行以包含与剥离层134的端部重叠的区域的外周部144为未曝光区域，以使得比外周部144靠内侧的区域成为曝光区域的方式曝光，使曝光面固化的处理。外侧区域140(被曝光处理的区域)优选至少一部分与剥离层134重叠。粘接层142的有选择的曝光能够使用光掩模。在作为粘接层142使用的感光性的干膜抗蚀剂为正型的情况下，使用以包围透光部141的方式形成有遮光部145的第1光掩模126。

图8A表示使粘接层142与第2支承基板146的第1面紧密相接，使剥离层134按每个第1支承基板130贴合的步骤。如图8A所示，使第2支承基板146与粘接层142紧密相接，使第2支承基板146固定于粘接层142。在该贴合后，也可以对它们进行烘焙处理，作为这种情况下的烘焙处理的条件，作为一个例子能够列举60℃、1小时。

图8B表示将剥离层134从第1支承基板130剥离的步骤。剥离层134能够通过在第1支承基板130的界面施加物理的力而从第1支承基板130剥离。例如通过将具有锐利的前端的夹具按于第1支承基板130与剥离层134的界面形成成为剥离的起头的部分，之后以撕下第1支承基板130的方式施加外力，能够将剥离层134从第1支承基板130剥离。

进一步，在将剥离层134从第1支承基板130剥离后，也可以进行第2支承基板146残留的剥离层134的药液处理。具体而言，利用光致抗蚀剂的显影液进行处理(显影)即可，药液中不仅有显影液，也可以使用碱性溶液进行处理。或者，也可以对第2支承基板146残留的剥离层134进行曝光处理。

图9A表示在设置有剥离层134的第2支承基板146上形成第2抗蚀剂掩模152的步骤。第2抗蚀剂掩模152以规定的图案形成。即，在形成多个第1开口图案116p和第2开口图案116d或后述的伪图案部154的区域有选择地形成。例如，在剥离层134上涂敷负型的光致抗蚀剂，以有选择地曝光形成多个第1开口图案116p和第2开口图案116d以及伪图案部154的区域的方式，隔着光掩模进行曝光。此外，在剥离层134上涂敷正型的光致抗蚀剂，以有选择地曝光非开口部的方式，隔着光掩模进行曝光。之后，能够通过进行显影，获得图案形成后的第2抗蚀剂掩模152。

图9B表示利用镀层法，在未被第2抗蚀剂掩模152覆盖的区域形成镀层图案，形成掩模主体100的步骤。镀层图案的形成既可以一步进行，也可以分多步进行。在以多个步骤进行的情况下，也可以以在多个步骤形成不同的金属的方式进行镀层。此外，镀层既可以以使得镀层图案的上表面比第2抗蚀剂掩模152的上表面低的方式进行，也可以以更高的方式进行。在后者的情况下，也可以通过对表面进行研磨来进行镀层图案上表面的平坦化。之后，能够如图9C所示那样，将第2抗蚀剂掩模152通过利用剥离液的蚀刻和/或灰化除去，由此制作在剥离层134上由多个第1图案部114形成蒸镀图案的掩模主体100。此外，第2图案部120也与第1图案部114同样地在掩模主体100形成。

另外，如图9B和图9C所示那样，在形成掩模主体100时，形成与掩模主体100隔开间隔的伪图案部154。伪图案部154以在平面视图中包围多个掩模主体100的方式构成。由于伪图案部154与掩模主体100同时形成，所以它们能够具有彼此相同的组成和厚度。

图10A表示用于保护掩模主体100的第1图案部114的保护膜156的一个方式。作为保护膜156，能够使用干膜抗蚀剂。保护膜156例如具有光固化性树脂膜158被剥离膜160和保护膜162夹持的构造。在光固化性树脂膜158中含有负型的光固化性树脂。即，含有通过光固化的高分子或低聚物。光固化性树脂膜158的厚度能够任意地选择，例如能够从20μm以上500μm以下、50μm以上200μm以下或50μm以上120μm以下的范围选择。保护膜162含有高分子材料。作为高分子材料，例如能够从聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯纤维、聚苯乙烯或含氟聚烯烃等选择。

图10B表示在掩模主体100上配置有保护膜156的状态。保护膜156以在将剥离膜160剥离之后光固化性树脂膜158被掩模主体100和保护膜162夹持的方式配置。保护膜156以至少覆盖所有第1图案部114的方式设置。

接着，对光固化性树脂膜158进行曝光。具体而言，如图11所示那样，将具有遮光部145和透光部141的第2光掩模164以透光部141与第1图案部114重叠的方式配置，隔着第2光掩模164进行曝光。由此，曝光后的部分相对于显影液的溶解性下降。

图12A表示对光固化性树脂膜158进行曝光后，剥离保护膜162进行显影，在第1图案部114上形成了第3抗蚀剂掩模168的状态。在剥离层134上形成多个第1图案部114的情况下，如图所示那样，按各个第1图案部114分别设置第3抗蚀剂掩模168。另外，由于在伪图案部154上要在之后的工序中形成保持框102，所以不设置第3抗蚀剂掩模168。

图12B表示在伪图案部154上配置保持框102的步骤。保持框102在形成多个第1图案部114时配置在各个蒸镀图案之间。保持框102也可以具有外轮廓图案宽度大且在外轮廓图案的内侧形成的图案(在第1图案部114之间形成的图案)宽度小的形态。

图13表示使用真空压接法来将保持框102与伪图案部154压接在一起的步骤。如图13所示，以覆盖第2支承基板146、粘接层142、剥离层134、第1图案部114、掩模主体100、伪图案部154和保持框102的方式，在保持框102的上方配置膜166。然后，将第2支承基板146与膜166之间的空气排出(真空排气)，降低膜166的下方侧的压力。由于膜166的上方侧与下方侧的压力差，膜166被拉向第2支承基板146侧。进一步降低膜166的下方侧的压力，膜166按压保持框102。受到来自膜166的按压，保持框102与伪图案部154更强地粘接。

膜166的下方侧的真空度在以大气压为0kPa的表压中，为-50kPa以下，优选为-70kPa以下，进一步优选为-90kPa。

真空压接后，除去膜166。

图14A表示使用镀层法形成连接部件104的步骤。连接部件104主要由掩模主体100的表面中未被保持框102和第3抗蚀剂掩模168覆盖的部分生长而成。其结果是，如图14A所示那样，形成与掩模主体100的上表面和保持框102的侧面相接的连接部件104。通过该连接部件104，掩模主体100与保持框102固定在一起。

连接部件104也可以以其厚度与第3抗蚀剂掩模168的厚度相同的方式形成。或者连接部件104既可以以厚度比第3抗蚀剂掩模168的厚度小的方式形成，也可以如图14A所示那样，以更大的方式形成。

通过使用剥离液将第3抗蚀剂掩模168剥离，能够如图14B所示那样，在第2支承基板146上形成蒸镀掩模10。之后，通过将剥离层134从第2支承基板146剥离，并进一步将剥离层134从掩模主体100剥离，能够获得图15所示的蒸镀掩模10。

如以上说明的那样，制造蒸镀掩模10。

即使是与通过上述的各实施方式获得的作用效果不同的其他作用效果，由本说明书的记载明确的或者对本领域技术人员而言能够容易地预测的，当然也理解为由本发明获得。

附图标记的说明

10：蒸镀掩模，100：掩模主体，102：保持框，104：连接部件，106：第1区域，108：第2区域，108-1：第2区域，108-2：第2区域，110：第3区域，112：基准框，114：第1图案部，116p：第1开口图案，116d：第2开口图案，118：框，120：第2图案部，122：第4区域，124：第5区域，126：第1光掩模，130：第1支承基板，132：第1抗蚀剂掩模，134：剥离层，136：开口部，138：内侧区域，140：外侧区域，140：伪图案，141：透光部，142：粘接层，144：外周部，145：遮光部，146：第2支承基板，148：内侧部，150：曝光区域，152：第2抗蚀剂掩模，154：伪图案部，156：保护膜，158：光固化性树脂膜，160：剥离膜，162：保护膜，164：第2光掩模，166：膜，168：第3抗蚀剂掩模。

Claims (16)

1.一种蒸镀掩模，其特征在于，包括：

薄膜状的掩模主体；

设置在所述掩模主体的周围的保持框；和

连接所述掩模主体与所述保持框的连接部件，

所述掩模主体具有配置在基准框的第1区域和第2区域，以及包围所述基准框的第3区域，

所述第1区域具有第1图案部，

所述第2区域具有第2图案部。

2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第1区域与所述第2图案部隔开间隔。

3.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第2区域外接于所述第1区域的外形。

4.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第1图案部具有第1开口图案，

所述第2图案部具有第2开口图案，

所述第1开口图案与所述第2开口图案大小相同。

5.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第2区域具有多个所述第2图案部，

多个所述第2图案部相互隔开间隔。

6.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第2图案部沿所述第2区域的内侧配置。

7.如权利要求6所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第2区域具有多个所述第2图案部。

8.如权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于：

多个所述第2图案部相互隔开间隔。

9.如权利要求8所述的蒸镀掩模，其特征在于：

多个所述第2图案部中的至少两个相结合。

10.如权利要求4所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述掩模主体具有包围所述第1区域的第4区域，

所述第4区域具有第3图案部。

11.如权利要求10所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述掩模主体在所述第1区域与所述第4区域之间具有第5区域，

所述第5区域没有开口。

12.如权利要求10所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第3图案部具有第3开口图案，

所述第1开口图案与所述第3开口图案大小相同。

13.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第2图案部的面积为所述第1图案部的面积的5％以上40％以下。

14.如权利要求13所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述第2图案部的面积为所述第1图案部的面积的10％以上40％以下。

15.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述掩模主体具有多个基准框，

所述第3区域包围所述多个基准框。

16.如权利要求15所述的蒸镀掩模，其特征在于：

所述掩模主体具有多个。