CN117467932A - 蒸镀掩模 - Google Patents
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Abstract
本发明要解决的技术问题之一是提供一种能够使蒸镀不均匀降低的蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模具有：薄膜状的掩模主体；包围掩模主体的保持框；和位于掩模主体与所述保持框之间的连接部件，掩模主体具有：与所述连接部件重叠的第一区域；被第一区域包围的第二区域；和位于第一区域与第二区域之间的第三区域，连接部件具有将第一直线分隔开的伸出部，所述第一直线是将第一区域与第三区域的第一边界线上的第一点和远离第一点的第二点连结的直线。而且，伸出部能够相对于第一边界线向掩模主体的内侧伸出。
Description
技术领域
本发明的实施方式之一涉及蒸镀掩模。另外，本发明涉及蒸镀掩模的制造方法。本发明的实施方式之一特别涉及在掩模框架上具有薄膜状的掩模主体的蒸镀掩模。另外，本发明的实施方式之一特别涉及在掩模框架上具有薄膜状的掩模主体的蒸镀掩模的制造方法。
背景技术
作为平板型显示装置的一个例子，可以举出液晶显示装置和有机EL(Electroluminescence：电致发光)显示装置等。这些显示装置是在基板上层叠包括绝缘体、半导体、导电体等各种材料的薄膜而得到的结构体。通过将这些薄膜适当进行图案化并连接，能够实现作为显示装置的功能。
形成薄膜的方法大致可以分为气相法、液相法、固相法。气相法可以分为物理气相法和化学气相法。作为物理气相法的代表性例子，已知有蒸镀法。蒸镀法中最简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法通过在高真空下对材料进行加热，使材料升华或蒸发而生成材料的蒸气(下面，将这些统称为气化)。在用于使该材料沉积的区域(下面，称为蒸镀区域)，气化了的材料固化并沉积，从而得到材料的薄膜。为了有选择地在蒸镀区域形成薄膜，而在蒸镀区域以外的区域(下面，称为非蒸镀区域)不沉积材料，使用掩模(蒸镀掩模)进行真空蒸镀(参照专利文献1和2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-087840号公报
专利文献2：日本特开2013-209710号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
在使用蒸镀掩模制造的显示装置中，存在显示区域发生蒸镀不均匀，显示装置的成品率下降的问题。已知晓该显示区域的不均匀是因蒸镀掩模的破损而产生的，而且破损部位会因蒸镀掩模的使用次数增加而扩大。
鉴于上述问题，本发明要解决的技术问题之一是提供一种能够使蒸镀不均匀降低的蒸镀掩模。此外，本发明要解决的技术问题之一是提供一种能够使蒸镀不均匀降低的蒸镀掩模的制造方法。
用于解决技术问题的手段
本发明的一个实施方式的蒸镀掩模具有：薄膜状的掩模主体；包围掩模主体的保持框；和位于掩模主体与保持框之间的连接部件，掩模主体具有：与连接部件重叠的第一区域；被第一区域包围的第二区域；和位于第一区域与第二区域之间的第三区域，连接部件具有将第一直线分隔开的伸出部，第一直线是将第一区域与第三区域的第一边界线上的第一点和远离第一点的第二点连结的直线。
附图说明
图1是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性平面图。
图2是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性平面图。
图3是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性平面图。
图4中，(A)是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性截面图，(B)是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性截面图。
图5是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性平面图。
图6A是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性平面图。
图6B是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性平面图。
图7A是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性截面图。
图7B是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性截面图。
图8A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图8B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图8C是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图9A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图9B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图10A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图10B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图11A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图11B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图11C是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图12A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图12B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图13是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图14A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图14B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图15是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图16A是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图16B是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法的示意性截面图。
图17是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的示意性截面图。
附图标记说明
100：蒸镀掩模，102：掩模主体，104：保持框，106：连接部件，108：第一区域，110：第二区域，112：第三区域，114：开口图案，114：第一图案部，116：框，118：第一点，120：第二点，122：第一直线，124：第一边界线，126：第一部分，128：框，130：伸出部，132：顶点，140：第二边界线，142：第二直线，144：开口，146：框，148：第一支承基板，150：第一抗蚀剂掩模，152：剥离层，154：开口部，156：内侧区域，158：外侧区域，160：透光部，162：粘接层，164：第一光掩模，166：外周部，168：遮光部，170：第二支承基板，172：内侧部，174：曝光区域，176：第二抗蚀剂掩模，178：虚设图案部，180：保护膜，182：光固性树脂膜，184：剥离膜，186：保护膜，188：第二光掩模，190：薄膜，192：第三抗蚀剂掩模。
具体实施方式
下面，参照附图等对本发明的各实施方式进行说明。但是，本发明可以在不脱离其主旨的范围内以各种方式实施，并不是限定于下面例示的实施方式的记载内容来解释。
为了使说明更明确，有时附图与实际的方式相比，示意性地表示各部分的宽度、厚度、形状等。但是，附图所示的例子只不过是一个例子，并不是对本发明的解释进行限定。在本说明书和各图中，对于与关于已经出现的图在前面说明过的构成要素相同的构成要素，有时标注相同的附图标记而适当省略详细说明。
在本发明中，在通过对某一个膜进行蚀刻或光照射等而形成多个膜的情况下，存在该多个膜具有不同的功能、作用的情况。但是，该多个膜来自在同一工序中作为同一层形成的膜，具有相同的层结构和相同的材料。因此，将该多个膜定义为存在于同一层的膜。
在本说明书和权利要求书中，在表达在某个结构体上配置有另一个结构体的方式时，在仅记载为“在……上”的情况下，只要没有特别说明，就定义为包含下述两种情况：以与某个结构体接触的方式，在该结构体的正上方配置另一个结构体的情况；和在某个结构体的上方，隔着其它结构体配置另一个结构体的情况。
＜第一实施方式＞
参照图1，对本发明的一个实施方式的蒸镀掩模100的结构进行说明。
1.整体结构
图1是本发明的一个实施方式的蒸镀掩模100的平面图。另外，图1表示蒸镀掩模100的与被蒸镀基板相对的第一面的相反侧的第二面。蒸镀掩模100具有薄膜状的掩模主体102、保持框104和连接部件106。掩模主体102通过连接部件106与保持框104连接。
图1表示多个掩模主体102与保持框104连接的结构。保持框104具有包围多个掩模主体102各自的周缘部的结构。保持框104具有：形成蒸镀掩模100的外廓的框体部分；和架设在框体部分的相当于隔档(中隔档)的部分。此外，虽然图1表示出了8个掩模主体102与保持框104连接的结构，但是蒸镀掩模100中的掩模主体102的数量并没有限定，可以根据蒸镀基板的大小和蒸镀图案适当决定。另外，保持框104的结构也可以根据掩模主体102的数量和配置适当改变。
如上所述，保持框104包括位于外侧的框部和位于内侧的隔档部。隔档部能够对框部赋予刚性，防止框部翘曲。隔档部可以是将多个部件组合而构成。例如，隔档部的1个部件从框部的一个边向相对的另一个边延伸。此外，隔档部的部件优选设置在纵向(蒸镀掩模100的短边方向)和横向(蒸镀掩模100的长边方向)上。即，隔档部优选为在纵向上延伸的部件与在横向上延伸的部件交叉的井字形结构。但是，隔档部的结构并不限定于此。也可以是隔档部的部件仅设置在纵向或横向上。此外，框部的宽度和隔档部(或隔档部的部件)的宽度可以根据蒸镀掩模100的大小适当地决定。另外，为了使后述的第二区域110那样的蒸镀图案的区域尽可能宽广，优选隔档部的宽度小于框部的宽度。
如图1所示，连接部件106沿着保持框104设置。而且，连接部件106配置在掩模主体102与保持框104的框部和隔档部的间隙，与掩模主体102的侧面以及保持框104的框部和隔档部的侧面接触。即，在俯视时，掩模主体102与保持框104不重叠。此外，在后述的从截面看时，掩模主体102与保持框104可以重叠。
连接部件106只要能够将掩模主体102与保持框104连接即可，因此，连接部件106可以不设置在保持框104的框部和隔档部的侧面的整个面。连接部件106只要设置在保持框104的框部和隔档部的侧面的至少一部分即可。另一方面，掩模主体102的厚度与保持框104的厚度相比非常小。例如，掩模主体102的厚度为1μm以上10μm以下，保持框104的厚度为10μm以上2000μm以下。因此，为了增大掩模主体102与保持框104的粘接强度，优选连接部件106设置在掩模主体102的侧面的整个面。
掩模主体102能够区分为第一区域108、第二区域110和第三区域112。第一区域108是沿着掩模主体102的外形134配置的区域，与连接部件106重叠。因此，第一区域108位于掩模主体102的外形134和掩模主体102与连接部件106的第一边界线124之间。第二区域110是位于第一区域108的内侧的区域。第三区域112是第一区域108与第二区域110之间的区域，位于第二区域的外侧。因此，如图1所示，具有第二区域110被第三区域112包围，第三区域112被第一区域108包围的位置关系。
第一区域108和第三区域112相当于蒸镀对象的被蒸镀基板中的非蒸镀区域。因此，优选第一区域108和第三区域112不具有开口图案。
第二区域110具有多个开口图案114。该多个开口图案114贯穿掩模主体102。具体而言，在掩模主体102形成从第一面起贯穿第二面的开口图案。在蒸镀时，以蒸镀对象的被蒸镀基板的蒸镀区域与第二区域110重叠的方式将蒸镀掩模100与被蒸镀基板进行对位。蒸镀材料的蒸气通过第二区域110的开口图案114，蒸镀材料沉积在被蒸镀基板的蒸镀区域。
在被蒸镀基板为显示装置的基板的情况下，第二区域110的开口图案114与显示装置的像素的排列对应地排列。显示装置的像素的排列在x方向和y方向上排列成矩阵状时，开口图案114的排列也同样地排列成矩阵状。
另外，在图1中，对于具有开口图案114的第二区域110，以具有圆角矩形的形状为例进行了说明，但是也可以适当改变为圆形等形状。
2.掩模主体周边部
图2表示将图1所示的点划线包围的框116放大的平面图。此外，图2与图1同样地表示在蒸镀时与被蒸镀基板接触或相对的面的相反侧的面的平面图。
掩模主体102在连接部件106与掩模主体102的第一边界线124上具有任意的第一点118和远离第一点118的第二点120，第一直线122将该第一点118和第二点120连结。换言之，掩模主体102在第一区域108与第三区域112的第一边界线124上具有第一点118和第二点120，第一直线122将这两点连结。第一点118和第二点120配置在第一边界线124上的直线的两端。例如，如图2所示的那样，第一边界线124沿着连接部件106设置，4条第一直线122与掩模主体102的长边和短边大致平行地配置。第一点118和第二点120分别配置在这些第一直线122的端部或端部周边。
另外，当在掩模主体102上，沿着第一边界线124上的第一直线122设置多个第二区域110时，可以在不同的第二区域110的附近分别设置第一点118和第二点120。因此，第一点118和第二点120以第一直线122不跨第二区域110和第三区域112的方式配置。
第一直线122由作为连接部件106的部分结构的第一部分126分隔成多条直线。如图2所示，例如，第一直线122由3个第一部分126分隔成4条直线。通过这样利用第一部分126将掩模主体102的第一直线122分隔成多条直线，当在使用蒸镀掩模100时在第一边界线124附近发生了掩模主体102的破损的情况下，能够将该破损限制在被分隔的各直线部内。此外，能够利用第一部分126抑制该破损的扩大。
第一部分126的数量没有特别限制，可以是设置1个第一部分126，将第一直线122分隔成2个直线部。此外，也可以是设置比如图2所示的3个第一部分126更多的第一部分126，将第一直线122分隔成更多的直线部。此外，在设置比图2中所例示的数量以上的多个第一部分126的情况下，例如，可以是连续地设置多个第一部分126。此时，连续的第一部分126可以适当改变形状而形成为沿着第一边界线124的闪电状等。
单个或多个第一部分126可以将第一直线122以等间隔进行分隔。但是，只要当在使用蒸镀掩模100时在第一边界线124附近发生了掩模主体102的破损的情况下，第一部分126能够抑制该破损的扩大即可，可以不是以等间隔配置，而是以任意的间隔配置。第一部分126可以是沿着保持框104离散地配置，第一直线122可以是被不连续地分隔开。
如图2所示，第一部分126是相对于第一直线122向掩模主体102的内侧伸出的伸出部130。伸出部130配置在第一直线122与第二区域110之间，与第二区域110隔开间隔。另外，伸出部130与第三区域112重叠。
接着，参照图3对第一部分126(伸出部130)的详细情况进行说明。图3表示将图2所示的点划线包围的框128放大的平面图。
在通过伸出部130的外形上的任意1点的第二直线142中，第一边界线124与第二区域110之间的距离(长度)L1大于第一边界线124与伸出部130的任意1点之间的距离(长度)L2。在此，图3中，将任意1点表示为伸出部130的顶点132。
此外，伸出部130处的连接部件106的宽度大于不具有伸出部130的连接部件106的宽度。而且，连接部件106与保持框104之间的第二边界线140与第一边界线124之间的连接部件106的宽度L4，小于第二边界线140与伸出部130的顶点132之间的连接部件106的宽度L3。
3.截面结构
参照图4的(A)和图4的(B)，对具有伸出部130的连接部件106和不具有伸出部130的连接部件106以及它们的周边结构的截面结构进行说明。图4的(A)是沿着图2所示的B1-B2线截断而得到的蒸镀掩模100的截面图，图4的(B)是沿着图2所示的C1-C2线截断而得到的蒸镀掩模100的截面图。
对图4的(A)和图4的(B)所示的蒸镀掩模100与被蒸镀基板的位置关系进行说明。图4的(A)和图4的(B)所示的蒸镀掩模100，在蒸镀时被蒸镀基板设置在掩模主体102的图面上方(z方向)，被加热了的材料从图面下方(z方向)通过第二区域110的开口图案114而沉积在被蒸镀基板上。
如图4的(A)和图4的(B)所示，掩模主体102配置在连接部件106上。因此，掩模主体102的第二面的周缘部具有与连接部件106接触的接触面。该接触面如图4的(A)和图4的(B)所示，部分地向掩模主体102的内侧扩展，成为连接部件106的伸出部130。
另外，掩模主体102的两端与连接部件106并排配置。掩模主体102被连接部件106的在厚度方向上延伸的部分夹持，被连接部件106的重叠的部分和延伸的部分固定。掩模主体102在第一区域108与连接部件106重叠，在第三区域112与连接部件106的伸出部130重叠。因此，如图4的(A)和图4的(B)所示，在从截面看时，掩模主体102，相比于图4的(B)所示的连接部件106，与图4的(A)所示的具有伸出部130的连接部件106具有更大的重叠的部分。另外，图4的(A)所示的连接部件106的宽度L3大于图4的(B)所示的连接部件106的宽度L4。
在图4的(A)、图4的(B)和图2中，给出了仅在蒸镀掩模100的两个短边中的一个短边上设置有作为第一部分126的伸出部130的例子，但也可以是在两个短边上设置作为第一部分126的伸出部130。此外，也可以是在蒸镀掩模100的长边上设置第一部分126，还可以是在蒸镀掩模100的所有边上设置第一部分126。但是，掩模主体102的破损大多发生在短边上，因此，优选至少在一个短边上设置第一部分126。
保持框104以夹持连接部件106两端的方式并列配置。通过这样配置保持框104，连接部件106被固定在保持框104上。在图4的(A)和图4的(B)中，为方便起见，在x方向上，保持框104的宽度表示成小于连接部件106的宽度，但是优选保持框104的宽度大于连接部件106的宽度。
4.变形例
4-1.掩模周边结构
接着，参照图5、图6A和图6B，对第一部分126的变形例进行说明。与图2～图3所示的第一部分126的不同点在于，第一部分126是在掩模主体102上形成的开口。此外，对于与图2～图3所示的蒸镀掩模100相同或类似的构成要素，有时省略说明。
图5表示将图1所示的点划线包围的框116放大的平面图。掩模主体102在与第一边界线124重叠的第一直线122上具有开口144。另外，开口144以跨第一区域108和第三区域112的方式配置。开口144部分地与连接部件106重叠。掩模主体102可以具有多个开口144，优选设置大量开口144。但是，优选限制为不会引发掩模主体102的沿着第一边界线124或第一直线122的破损的程度的数量。因此，多个开口144优选彼此以某个一定的距离隔开间隔，不能连续地配置。
接着，参照图6A和图6B，对第一部分126(开口144)的详细情况进行说明。图6A和图6B表示将图5所示的点划线包围的框146放大的平面图。
图6A与图5同样地表示掩模主体102的设置被蒸镀基板的面的相反侧的面。开口144与第二区域110隔开间隔地设置。与多个开口144不能连续地配置同样地，通过与配置在第二区域110的开口图案114隔开间隔地设置，能够不引发掩模主体102的破损，保持强度。此外，当将开口144以隔开某个一定距离以下的方式靠近第二区域110配置时，被加热了的材料会通过开口144而沉积在被蒸镀基板上，因此，优选以隔开某个一定距离以上的距离的方式配置。
图6B表示掩模主体102的设置被蒸镀基板的面。开口144与连接部件106重叠地配置，因此，连接部件106的一部分配置在开口144内。因此，如图6B所示，在俯视时，连接部件106以夹持掩模主体102的方式配置。具体而言，掩模主体102的第一区域108配置在连接部件106之间。在图6A和图6B中，以开口144的一半与连接部件106重叠的方式配置，但是只要开口144部分地与连接部件106重叠即可。但是，开口144相当于被蒸镀基板中的非蒸镀区域，因此，优选开口144的与连接部件106重叠的部分的面积大于不重叠的部分的面积。
开口144的大小小于第二区域110的开口图案114的大小。具体而言，开口144的面积大于开口图案114的面积。在掩模主体102中，设置被蒸镀基板的面的开口144的大小大于其相反侧的面的开口144的大小。另外，开口144的形状可以与开口图案114的形状不同，优选具有圆形的形状。在开口图案114具有圆形的形状的情况下，掩模主体102的由弯曲和拉伸等引起的形状的变化少，能够保持掩模主体102的强度，因此优选。
4-2.截面结构
参照图7A和图7B，对包括具有开口144的部分的掩模主体102和不具有开口144的部分的掩模主体102的蒸镀掩模100的截面结构进行说明。图7B是沿着图5所示的C1-C2线截断而得到的蒸镀掩模100的截面图，图7A是沿着图5所示的D1-D2线截断而得到的蒸镀掩模100的截面图。此外，对于与图4所示的蒸镀掩模100相同或类似的构成要素，有时省略说明。
开口144贯穿掩模主体102并具有侧壁。开口144具有柱状的形状，优选为圆柱的形状。另外，开口144优选为直圆柱形，但也可以是侧壁具有斜度(taper)。
如上所述，蒸镀掩模100在薄膜状的掩模主体102与连接部件106的边界具有第一边界线124，掩模主体102具有与第一边界线124重叠的第一直线122。掩模主体102或连接部件106具有将掩模主体102的第一直线122分隔成多个直线部的第一部分126。通过第一部分126将掩模主体102的第一直线122分隔开，能够抑制掩模主体102的主要发生在第一直线122的破损的范围的扩大。通过该抑制，能够抑制被蒸镀基板的蒸镀不均匀的扩大，能够提高被蒸镀基板的成品率。
＜第二实施方式＞
参照图8A～图17对本发明的一个实施方式的蒸镀掩模100的制造方法进行说明。
图8A～图17是表示本发明的一个实施方式的蒸镀掩模100的制造方法的截面图。另外，图17所示的截面图是沿着图1所示的A1-A2线截断而得到的蒸镀掩模100的截面图。
图8A表示在第一支承基板148的第一面上形成第一抗蚀剂掩模150的阶段。第一支承基板148为金属制，由玻璃、石英、陶瓷、塑料等绝缘物、或铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)、铁(Fe)、镍(Ni)、钴(Co)、铬(Cr)、钼(Mo)、锰(Mn)等金属、或者它们的合金形成。作为合金，例如可以是含有铁(Fe)和铬(Cr)的合金，铁(Fe)、镍(Ni)和锰(Mn)的合金，合金中可以含有碳(C)。例如，第一支承基板148例如可以由以铁(Fe)为主要成分且含有铬(Cr)、镍(Ni)的不锈钢形成。
第一抗蚀剂掩模150使用感光性的树脂材料通过光刻法形成。作为感光性的树脂材料，可以使用涂敷型的光致抗蚀剂或干膜抗蚀剂(DFR)。第一抗蚀剂掩模150当在图1所示的蒸镀掩模100中配置多个掩模主体102时，具有将它们(多个掩模主体102全部)包围的框状的形态。
图8B表示形成剥离层152的阶段。剥离层152形成在形成有第一抗蚀剂掩模150的第一支承基板148的第一面中的、从框状的第一抗蚀剂掩模150露出的区域。剥离层152例如由与形成掩模主体102的金属材料相同的金属材料形成。剥离层152例如由镍(Ni)、铜(Cu)、钛(Ti)、铬(Cr)等0价的金属材料形成。由这样的金属材料形成的剥离层152，可以通过镀敷法制作。例如，剥离层152可以通过在第一支承基板148上镀镍来制作。当通过镀敷法形成剥离层152时，可以对第一支承基板148进行清洗，在第一面上涂敷脱模剂。
图8C表示除去第一抗蚀剂掩模150的阶段。第一抗蚀剂掩模150可以利用剥离液除去。在除去了第一抗蚀剂掩模150的区域形成开口部154。换言之，通过从第一支承基板148上除去第一抗蚀剂掩模150，剥离层152隔着开口部154分离成内侧区域156和外侧区域158。剥离层152以20μm以上200μm以下、例如40μm以上150μm以下的厚度形成。剥离层152可以利用镀敷法、溅射法或化学气相沉积(CVD)法形成在第一支承基板148上。在第一支承基板148上形成的剥离层152，存在膜厚的均匀性在外周部降低的情况。即使在这样的情况下，通过预先在第一支承基板148上设置第一抗蚀剂掩模150，也能够将剥离层152分离成内侧区域和外侧区域。
图9A表示在剥离层152上设置粘接层162的阶段。粘接层162优选使用在未曝光的状态具有规定的粘接力或粘合力的抗蚀剂膜。作为这样的抗蚀剂膜，例如可以使用干膜抗蚀剂。粘接层162优选具有覆盖剥离层152的内侧区域156的整个面，并且端部扩展至剥离层152的外侧的大小。粘接层162的端部可以扩展至剥离层152的外侧区域158。通过作为薄膜状的部件被供给的剥离层152具有这样的大小，能够可靠地覆盖剥离层152的内侧区域。
可以如图9B所示的那样，进行使粘接层162的外周部不曝光，使内侧区域156曝光的处理。具体而言，在粘接层162中，可以将包含与剥离层152的端部重叠的区域的外周部166作为不曝光区域，以比外周部166靠内侧的区域成为曝光区域的方式进行曝光，进行使曝光面固化的处理。外侧区域158(被曝光处理的区域)优选至少一部分与剥离层152重叠。粘接层162的选择性曝光可以使用光掩模进行。当作为粘接层162使用的感光性的干膜抗蚀剂为正型的情况下，可以使用以包围透光部160的方式形成有遮光部168的第一光掩模164。
图10A表示使粘接层162与第二支承基板170的第一面紧密接合，将剥离层152与第一支承基板148一起粘贴的阶段。如图10A所示，使第二支承基板170与粘接层162紧密接合，使第二支承基板170固定在粘接层162上。在该粘贴后，可以对它们进行烘烤处理，作为该情况下的烘烤处理的条件，可以举出60℃、1小时作为一个例子。
图10B表示将剥离层152从第一支承基板148剥离的阶段。可以通过对剥离层152与第一支承基板148的界面作用物理的力，将剥离层152从第一支承基板148剥离。例如，可以将具有锐利的前端的治具按压在第一支承基板148与剥离层152的界面而形成作为剥离的触发的部分，然后，施加外力将第一支承基板148剥去，从而将剥离层152从第一支承基板148剥离。
另外，可以在将剥离层152从第一支承基板148剥离之后，对残留在第二支承基板170上的剥离层152进行药液处理。具体而言，利用光致抗蚀剂的显影液进行处理(显影)即可，药液不仅可以使用显影液，而且可以使用碱性溶液来进行处理。或者，也可以对残留在第二支承基板170上的剥离层152进行曝光处理。
图11A表示在设置有剥离层152的第二支承基板170上形成第二抗蚀剂掩模176的阶段。第二抗蚀剂掩模176以规定的图案形成。即，选择性地形成在要形成多个开口图案114或后述的虚设图案部178的区域。例如，在剥离层152上涂敷负型的光致抗蚀剂，隔着光掩模进行曝光，以使得要形成多个开口图案114和虚设图案部178的区域被选择性地曝光。另外，在剥离层152上涂敷正型的光致抗蚀剂，隔着光掩模进行曝光，以使得非开口部被选择性地曝光。然后，通过进行显影，能够得到图案化了的第二抗蚀剂掩模176。
图11B表示利用镀敷法在未被第二抗蚀剂掩模176覆盖的区域形成镀敷图案从而形成掩模主体102的阶段。镀敷图案的形成可以是以一个阶段进行，也可以是分多个阶段进行。在以多个阶段进行的情况下，可以按照在不同的阶段形成不同的金属的方式进行镀敷。另外，镀敷可以是按照镀敷图案的上表面低于第二抗蚀剂掩模176的上表面的方式进行，也可以是按照镀敷图案的上表面高于第二抗蚀剂掩模176的上表面的方式进行。在后者的情况下，可以通过对表面进行研磨来进行镀敷图案上表面的平坦化。此后，如图11C所示，通过利用剥离液的蚀刻和/或灰化将第二抗蚀剂掩模176除去，能够制作在剥离层152上利用多个开口图案114形成蒸镀图案的掩模主体102。
此外，如图11B和图11C所示，在形成掩模主体102时，形成与掩模主体102隔开间隔的虚设图案部178。虚设图案部178构成为在俯视时包围多个掩模主体102。虚设图案部178与掩模主体102同时形成，因此，它们能够具有彼此相同的组成和厚度。
图12A表示用于对掩模主体102的开口图案114进行保护的保护膜180的一个方式。作为保护膜180，可以使用干膜抗蚀剂。保护膜180例如具有光固性树脂膜182由剥离膜184和保护膜186夹着的结构。光固性树脂膜182中包含负型的光固性树脂。即，包含能够通过光而固化的高分子或低聚物。光固性树脂膜182的厚度可以任意选择，例如可以从20μm以上500μm以下，50μm以上200μm以下，或者50μm以上120μm以下的范围中选择。保护膜186包含高分子材料。作为高分子材料，可以从例如聚烯烃、聚酰亚胺、聚酯、聚苯乙烯或含氟聚烯烃等中选择。
图12B表示在掩模主体102上配置有保护膜180的状态。保护膜180按照在将剥离膜184剥离之后，光固性树脂膜182由掩模主体102和保护膜186夹着的方式配置。保护膜180以至少覆盖全部的开口图案114的方式设置。
接着，对光固性树脂膜182进行曝光。具体而言，如图13所示，将具有遮光部168和透光部160的第二光掩模188，以透光部160与开口图案114重叠但遮光部168不与开口图案114重叠的方式配置，隔着第二光掩模188进行曝光。由此，被曝光的部分相对于显影液的溶解性降低。
图14A表示在对光固性树脂膜182进行曝光之后，将保护膜186剥离进行显影，在开口图案114上形成有第三抗蚀剂掩模192的状态。当在剥离层152上形成多个开口图案114的情况下，如图示的那样，对每个开口图案114设置第三抗蚀剂掩模192。此外，在虚设图案部178上，会在后面的工序中形成保持框104，因此，可以不设置第三抗蚀剂掩模192。
图14B表示在虚设图案部178上配置保持框104的阶段。保持框104在形成多个开口图案114时，配置在各个蒸镀图案之间。保持框104可以具有外廓的图案为宽幅，在外廓的图案的内侧形成的图案(在开口图案114之间形成的图案)为窄幅的形态。
图15表示使用真空压接法对保持框104和虚设图案部178进行压接的阶段。如图15所示，以覆盖第二支承基板170、粘接层162、剥离层152、开口图案114、掩模主体102、虚设图案部178和保持框104的方式，在保持框104的上方配置薄膜190。接着，对第二支承基板170与薄膜190之间的空气进行排气(真空排气)，使薄膜190的下方侧的压力降低。利用薄膜190的上方侧与下方侧的压力差，将薄膜190拉到第二支承基板170侧。当使薄膜190的下方侧的压力进一步降低时，薄膜190按压保持框104。保持框104受到来自薄膜190的按压，与虚设图案部178更牢固地粘接。
薄膜190的下方侧的真空度，在以大气压为0kPa的表压下，为-50kPa以下、优选为-70kPa以下，更优选为-90kPa以下。
在真空压接后，将薄膜190除去。
图16A表示使用镀敷法形成连接部件106的阶段。连接部件106主要从掩模主体102的表面中的没有被保持框104和第三抗蚀剂掩模192覆盖的部分生长。其结果是，如图16A所示，形成与掩模主体102的上表面和保持框104的侧面接触的连接部件106。利用该连接部件106将掩模主体102与保持框104固定。
连接部件106可以形成为其厚度与第三抗蚀剂掩模192的厚度相同。或者，连接部件106也可以形成为其厚度小于第三抗蚀剂掩模192的厚度，还可以如图16A所示的那样，形成为其厚度大于第三抗蚀剂掩模192的厚度。
通过使用剥离液将第三抗蚀剂掩模192剥离，如图16B所示，能够在第二支承基板170上形成蒸镀掩模100。此后，通过将剥离层152从第二支承基板170剥离，进一步将剥离层152从掩模主体102剥离，能够得到图17所示的蒸镀掩模100。
如上所述，能够制作蒸镀掩模100。
即使是与由上述各实施方式的技术方案带来的作用效果不同的其它作用效果，只要是根据本说明书的记载可知的作用效果、或者本领域技术人员根据本说明书的记载能够容易地预料的作用效果，当然可以理解为是由本发明带来的作用效果。
Claims (12)
1.一种蒸镀掩模，其特征在于，具有：
薄膜状的掩模主体；
包围所述掩模主体的保持框；和
位于所述掩模主体与所述保持框之间的连接部件，
所述掩模主体具有：与所述连接部件重叠的第一区域；被所述第一区域包围的第二区域；和位于所述第一区域与所述第二区域之间的第三区域，
所述连接部件具有将第一直线分隔开的伸出部，所述第一直线是将所述第一区域与所述第三区域的第一边界线上的第一点和远离所述第一点的第二点连结的直线。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述伸出部相对于所述第一边界线向所述掩模主体的内侧伸出。
3.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述伸出部与所述第三区域重叠。
4.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述第一边界线与所述第二区域之间的距离L1大于所述伸出部与所述第二区域之间的距离L2。
5.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述连接部件具有多个所述伸出部。
6.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述连接部件具有短边和长边，
所述伸出部配置在所述短边。
7.一种蒸镀掩模，其特征在于，具有：
薄膜状的掩模主体；
包围所述掩模主体的保持框；和
位于所述掩模主体与所述保持框之间的连接部件，
所述掩模主体具有：与所述连接部件重叠的第一区域；被所述第一区域包围的第二区域；和位于所述第一区域与所述第二区域之间的第三区域，
所述掩模主体具有将第一直线分隔开的第一开口，所述第一直线是将所述第一区域与所述第三区域的第一边界线上的第一点和远离所述第一点的第二点连结的直线。
8.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述第二区域具有第二开口，
所述第一开口比所述第二开口大。
9.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述第一开口至少与所述第一区域或所述第三区域重叠。
10.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述掩模主体具有与所述连接部件接触的第一面和所述第一面的相反侧的第二面，
在所述第二面，在所述第一开口内具有所述连接部件。
11.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述掩模主体具有多个所述第一开口。
12.根据权利要求7所述的蒸镀掩模，其特征在于：
所述掩模主体在其与所述连接部件的边界具有短边和长边，
所述第一开口配置在所述短边。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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