CN113493894B - 蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。

Description

蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法

技术领域

本发明涉及蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法。尤其是，本发明涉及在掩膜框架具备薄膜状的掩膜主体的蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法。

背景技术

作为平板型显示装置的一例，可举出液晶显示装置、有机EL(Eectroluminescence，电致发光)显示装置。这些显示装置是包含绝缘体、半导体、导体等各种材料的薄膜层叠于基板上而成的结构体。这些薄膜被适当地图案化并进行连接，从而实现作为显示装置的功能。

形成薄膜的方法大体分为气相法、液相法、以及固相法。气相法分类为物理气相法以及化学气相法。作为物理气相法的代表性例子例已知有蒸镀法。蒸镀法中作为简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法通过在高真空下对材料进行加热，从而使材料升华或蒸发而形成材料的蒸气(以下将这些总称为气化)。在用于使该材料沉积的区域(以下称为蒸镀区域)中，气化了的材料固化并沉积从而得到材料的薄膜。为了对蒸镀区域选择性地形成薄膜、而在除此之外的区域(以下称为非蒸镀区域)不沉积材料，使用掩膜(蒸镀掩膜)进行真空蒸镀(参照专利文献1以及专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009－87840号公报

专利文献2：日本特开2013－209710号公报

发明内容

发明所要解决的课题

蒸镀掩膜中，在形成有蒸镀图案的掩膜主体接合有用于固定掩膜主体的掩膜框架。使用镀敷处理而将掩膜主体形成在金属层上，但是在将掩膜主体与掩膜框架接合之后，需要从掩膜主体将金属层剥离。就金属层的剥离而言，多是通过作业者的手工作业来进行，由于作业者的熟练度的不同而蒸镀掩膜的品质参差不均。具体而言，由于金属层的不均匀的剥离，出现薄膜状的掩膜主体产生变形、蒸镀掩膜的蒸镀图案的位置发生偏离的问题。另外，作业时间因作业者而异，但也存在手工作业的金属层剥离比较而言作业时间长这一问题。

本发明鉴于上述问题，以提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置为课题之一。另外，以提升作业者的作业效率为课题之一。

用于解决课题的手段

本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造装置包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。

本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊对金属层进行卷绕，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。

附图说明

图1A是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的俯视图。

图1B是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的剖视图。

图2A是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2B是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2C是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2D是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2E是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2F是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2G是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图2H是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造方法的剖视图。

图3A是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造装置的上表面示意图。

图3B是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造装置的剖视上表面示意图。

图3C是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造装置的使用形态的剖视示意图。

图4是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜的制造装置的使用形态的剖视示意图。

附图标记说明

10：蒸镀掩膜、20、20A：制造装置、30：结构体、110：掩膜主体、111：开口区域、112：非开口区域、113：开口、120：掩膜框架、130：连接构件、210：支承基板、220：金属层、230：光刻胶层、240：第1镀敷层、250：粘接层、260：掩膜框架、260：掩膜框架、280：膜、290：第2镀敷层、310：工作台、320、320A：旋转辊、330：按压辊、340：第1固定辊、350：第2固定辊、360：传感器、370：弯曲部

具体实施方式

以下，参照附图等对本发明的各实施方式进行说明。不过，本发明能够在不脱离其要旨的范围内以各种各样的形态来实施，并不限定于以下例示的实施方式的记载内容加以解释。

就附图而言，为了使说明更加清楚，与实际的形态相比，有时对各部分的宽度、厚度、形状等示意性地加以示出。但附图所示的例子始终只是一例，并不对本发明的解释进行限定。在本说明书和各图中，关于对与既有的图所述的构成相同的构成，标注同一附图标记并适省略详细的说明。

在本发明中，在对某一个膜进行蚀刻、光照射从而形成了多个膜的情况下，有时这些多个膜有具备不同的功能、作用。然而，这些多个膜来自于通过同一步骤作为同一层所形成的膜，具有同一层构造、同一材料。因此，这些多个膜定义为存在于同一层。

在本说明书以及权利要求书中，在表达在某一结构体之上配置有其他结构体的形态时，在只表记有“在……上”的情况下，除非另有说明，定义为包括以与某一结构体相接触的方式在该结构体的紧上方配置有其他结构体的情况、和在某一结构体的上方还隔着又一结构体地配置有其他结构体的情况这两方。

＜第1实施方式＞

参照图1A及图1B对本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的构成进行说明。

图1A是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的俯视图。另外，图1B是本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的剖视图。具体而言，图1B是沿着图1所示的A-A’线剖切的蒸镀掩膜10的剖视图。

蒸镀掩膜10包括掩膜主体110、掩膜框架120、以及连接构件130。掩膜主体110经由连接构件130连接于掩膜框架120。

掩膜框架120具有开口部，以与掩膜框架120的开口部重叠的方式设置有掩膜主体110。图1A中，掩膜框架120具有12个开口部，与各开口部重叠地设置有掩膜主体110。此外，设置于掩膜框架120的开口部的数量不限于此。设置于掩膜框架120的开口部的数量可以配合被蒸镀基板的大小、蒸镀图案适当决定。

在掩膜主体110设置有贯通掩膜主体110的多个开口113。以下，为了便于说明，将在掩膜主体110设置有开口113的区域作为开口区域111、将在掩膜主体未设置开口113的区域作为非开口区域112进行说明。开口区域111与非开口区域112的边界未必一定要清楚，但可以根据至少在非开口区域112未设置开口113这一点进行区别。

在蒸镀时，以使得蒸镀对象的被蒸镀基板中的蒸镀区域与开口区域111重叠、被蒸镀基板中的非蒸镀区域与非开口区域112重叠的方式，对蒸镀掩膜10与被蒸镀基板进行对位。蒸镀材料的蒸气经过开口区域111的开口113，蒸镀材料沉积于被蒸镀基板的蒸镀区域。

在被蒸镀基板是显示装置的基板的情况下，可以与显示装置的像素排列相对应地对开口区域111的开口113进行排列。开口113的排列例如为矩阵状。

掩膜框架120能够对掩膜主体110进行支承。如上述那样，掩膜框架120包括开口部，换言之，掩膜框架120也可以包括位于外侧的框部和位于内侧的横档部。横档部对框部赋予刚性，能够防止框部翻翘。横档部也可以是多个构件组合而构成的。例如，横档部的1个构件从框部的一个边朝向相对向的另一边延伸。另外，横档部的构件优选设置于纵向(蒸镀掩膜10的短边方向)以及横向(蒸镀掩膜10的长边方向)。即，横档部优选为沿纵向延伸的构件与沿横向延伸的构件交叉的井梁构造。不过，横档部的构成不限于此。横档部的构件也可以设置为仅沿纵向或仅沿横向。另外，框部的宽度以及横档部(或横档部的构件)的宽度可以配合蒸镀掩膜10的大小适当决定。需要说明的是，为了尽可能地拓宽蒸镀图案的区域，优选是横档部的宽度比框部的宽度小。

如图1B所示，连接构件130设置于掩膜主体110与掩膜框架120的开口部的间隙，并与掩膜主体110的侧面以及掩膜框架120的开口部的侧面相接。即，在俯视下，掩膜主体110与掩膜框架120不重叠。需要说明的是，也可以是在俯视下，掩膜主体110与掩膜框架120重叠。

连接构件130只要将掩膜主体110与掩膜框架120连接即可，因此连接构件130也可以不设置于掩膜框架120的开口部的侧面的整个面。连接构件130只要设置于掩膜框架120的开口部的侧面的至少一部分即可。另一方面，掩膜主体110的厚度与掩膜框架的厚度相比非常小。例如，掩膜主体110的厚度为1μm以上且20μm以下，掩膜框架120的厚度为10μm以上且2000μm以下。因此，为了增大掩膜主体110与掩膜框架120的粘接强度，连接构件130优选设置于掩膜主体110的侧面的整个面。

另外，连接构件130也可以在掩膜主体110与掩膜框架120之间形成为阶梯状。

在连接构件130之间的未设置掩膜主体110的区域、即与掩膜框架120的横档部重叠的区域，设置有槽部140。换言之，就槽部140而言，也可以是，槽部140的侧面由连接构件130形成，槽部140的底面则由掩膜框架120形成。

在与掩膜框架120的框部重叠的区域，一个侧面由连接构件130形成、另一侧面敞开，在构造上严密地进行区别的话，可以说并不是槽。然而，在突起141的形成中，与上述的槽部140同样。因此，以下，为了便于说明，有时设为在与掩膜框架120的框部重叠的区域形成的突起141形成于槽部140而进行说明。

关于掩膜主体110的形成方法将后述，但就蒸镀掩膜10而言，可以从通过镀敷处理而形成的掩膜主体均匀地将金属层剥离，因此掩膜主体110的蒸镀图案的错位得到抑制。

以上，通过本实施方式的蒸镀掩膜10，掩膜主体110与掩膜框架120经由连接构件130连接。另外，从掩膜主体110将金属层均匀地剥离，因此蒸镀掩膜10的蒸镀图案的错位得到抑制。因此，使用蒸镀掩膜10蒸镀出的制品的品质稳定。

＜第2实施方式＞

参照图2A～图2H对本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的制造方法进行说明。

图2A～图2G是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的制造方法的剖视图。

首先，如图2A所示，在支承基板210上形成金属层220，在金属层220上形成具有规定图案的光刻胶层230。

支承基板210是在蒸镀掩膜10的制造步骤中对各层进行支承的基板。因此，支承基板210优选为刚性基板。另外，蒸镀掩膜10优选热膨胀系数小。在蒸镀掩膜10的制造工序中，支承基板210被加热。当支承基板210因加热处理而膨胀或缩小时，蒸镀掩膜10的蒸镀图案会产生偏差。因此，为了使蒸镀掩膜10的制造工序稳定化，支承基板210优选为热膨胀系数小的刚性基板。作为支承基板210的材料，例如为不锈钢(SUS304或SUS430等)、42合金、殷钢、超殷钢或不锈钢殷钢等。

金属层220可以作为后述的电铸(或电解镀敷)的基质金属发挥功能。作为金属层220的材料，例如为镍(Ni)或镍合金。金属层220可以通过溅射等来形成。

蒸镀掩膜10也可以不使用电铸，而使用无电解镀敷来制造。该情况下，也可以取代金属层220而使用绝缘层。

光刻胶层230可以作为后述的电铸的母型来发挥功能。作为一例，光刻胶层230以具有规定的膜厚的方式而通过在金属层220上配置1个或多个感光性干膜抗蚀剂，利用热压接来形成。感光性干膜抗蚀剂可以为正型和负型中的任一型。需要说明的是，以下，设为感光性干膜为负型而进行说明。

光刻胶层230具有用于形成蒸镀掩膜10的蒸镀图案的规定的图案。光刻胶层230的规定的图案可以通过光刻技术来形成。即，规定的图案可以通过使掩膜紧贴干膜抗蚀剂、照射紫外线使干膜曝光、并对未曝光部分进行溶解去除从而形成。

需要说明的是，虽然未图示，也可以在支承基板210与金属层220之间、或者金属层220与光刻胶层230之间，涂布脱模剂形成脱模层。通过形成脱模层，从而支承基板210与金属层220、或金属层220与后述的第1镀敷层240变得容易剥离。

接着，如图2B所示，将光刻胶层230作为掩膜来形成第1镀敷层240。第1镀敷层240与蒸镀掩膜10的掩膜主体110相对应。第1镀敷层240可以通过电铸来形成。具体而言，将金属层220以及光刻胶层230放入按规定的条件配置的电铸槽，从未被光刻胶层230覆盖的金属层220的表面形成金属镀敷物至光刻胶层230的高度。作为第1镀敷层240的材料，例如为镍(Ni)或镍(Ni)－钴(Co)合金等。

接着，如图2C所示，将光刻胶层230剥离(去除)。光刻胶层230例如可以通过胺系的剥离液进行剥离。通过将光刻胶层230剥离，形成具有蒸镀图案的第1镀敷层240。

需要说明的是，在将光刻胶层230剥离之前，也可以对通过电铸形成的第1镀敷层240进行研磨。通过对第1镀敷层240进行研磨，能够使第1镀敷层240的表面平坦化。

接着，如图2D所示，在第1镀敷层240上配置设置有粘接层250的掩膜框架260。即，经由粘接层250，第1镀敷层240与掩膜框架260粘接。需要说明的是，在此处的工序中，无需将第1镀敷层240与掩膜框架260完全粘接。因此，粘接层250也可以不完全硬化。

掩膜框架260具有开口。掩膜框架260以与第1镀敷层240的蒸镀图案的开口不重叠的方式进行对位并进行粘接。换言之，掩膜框架260的开口与第1镀敷层240的蒸镀图案的开口重叠。

粘接层250因为在后续的工序中会被去除所以优选为易去除的材料。作为粘接层250的材料，例如可以使用醋酸乙烯酯树脂、乙烯醋酸乙烯酯树脂、环氧树脂、氰基丙烯酸酯树脂或丙烯酸树脂等。另外，作为粘接层250的材料，也可以使用干膜抗蚀剂。在作为粘接层250的材料使用干膜抗蚀剂的情况下，也可以预先将干膜抗蚀剂微弱曝光至在其表面残留弱粘合性的程度。通过预先将干膜抗蚀剂曝光，在后续的工序中容易将干膜抗蚀剂去除。

需要说明的是，在该后续的工序中，为了保护第1镀敷层240的蒸镀图案(例如、进行保护使得不会由于因工序而产生的颗粒导致蒸镀图案的开口堵塞)，也可以在第1镀敷层240的蒸镀图案的区域设置干膜抗蚀剂。

接着，如图2E所示，以覆盖支承基板210、金属层220、第1镀敷层240、粘接层250、以及掩膜框架260的方式，在掩膜框架260的上方配置膜280。接着，对支承基板210与膜280之间的空气进行排气(真空排气)，降低膜280的下方侧的压力。由于膜280的上方侧与下方侧的压力差，膜280被向支承基板210侧牵拉。若进一步降低膜280的下方侧的压力，则膜280按压掩膜框架260。承受来自膜280的按压，掩膜框架260经由粘接层250与第1镀敷层240更强烈地粘接。该工序为被称为所谓真空压接的工序。

在将大气压设为0kPa的表压下，膜280的下方侧的真空度为－50kPa以下，优选为－70kPa以下，更优选为－90kPa。

真空压接后将膜280去除。

接着，如图2F所示，形成将第1镀敷层240与掩膜框架260连接的第2镀敷层290。第2镀敷层290可以通过对金属层220或第1镀敷层240进行通电的电铸来形成。第2镀敷层290与蒸镀掩膜10的连接构件130相对应。第2镀敷层290与金属层220、第1镀敷层240、粘接层250以及掩膜框架260相接。具体而言，第2镀敷层290形成为与第1镀敷层240的槽部的一部分以及掩膜框架260的侧面(蒸镀掩膜10的框部以及横档部的侧面)相接。

第2镀敷层290可以通过与第1镀敷层240相同的方法来形成。

第2镀敷层290未设置于与第1镀敷层240的开口区域111相对应的区域。在与第1镀敷层240的开口区域111相对应的区域上，例如可以形成干膜抗蚀剂，防止与第1镀敷层240的开口区域111相对应的区域被镀敷。干膜抗蚀剂可以在第2镀敷层290的形成后进行剥离。

接着，如图2G所示，将支承基板210从金属层220剥离。

接着，如图2H所示，通过将金属层220以及粘接层250剥离，形成掩膜主体110、掩膜框架120、以及连接构件130。通过将粘接层250剥离，第1镀敷层240的与粘接层250粘接的一部分(第1镀敷层240内的与掩膜框架260重叠的区域)也被剥离，形成槽部140。另外，槽部140的侧面以及底面分别由第2镀敷层290以及掩膜框架260构成。即，如图2H所示，在掩膜框架120的下方未设置掩膜主体110而形成有槽部140。

关于从第1镀敷层240剥离金属层220的方法，将与后述的制造装置的构成一并进行说明，但因为能够从第1镀敷层240将金属层220均匀地剥离，所以掩膜主体110的蒸镀图案的错位得到抑制。

以上，根据本实施方式的蒸镀掩膜10的制造方法，从第1镀敷层240将金属层220均匀地剥离，因此蒸镀掩膜10的蒸镀图案的错位得到抑制。因此，蒸镀掩膜10的品质稳定。另外，使用蒸镀掩膜10蒸镀出的制品的品质也稳定。

＜第3实施方式＞

参照图3A～图3C对本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的制造装置20的构成进行说明。

图3A以及图3B分别为本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的制造装置20的上表面示意图以及剖视示意图。具体而言，图3A以及图3B是第2实施方式中说明了的从第1镀敷层240剥离金属层220的装置的示意图。需要说明的是，图3B是按图3A所示的B-B’线剖切的制造装置20的剖视示意图。另外，图3C是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的制造装置20的使用形态的剖视示意图。

如图3A以及图3B所示，制造装置20包括工作台310、旋转辊320、按压辊330、第1固定辊340、第2固定辊350、以及传感器360。旋转辊320、按压辊330、第1固定辊340、第2固定辊350、以及传感器360设置于工作台310上。第1固定辊340设置于旋转辊320附近，第2固定辊350设置于按压辊330附近。需要说明的是，在图3B以及后述的图3C中，以可以理解旋转辊320、按压辊330、第1固定辊340、第2固定辊350、以及传感器360的各个的位置关系的方式进行记载，各个支承构件省略。

另外，如图3C所示，制造装置20中，从结构体30的第1镀敷层240将金属层220剥离，在剥离区域附近由按压辊330按压被剥离了的金属层220，由旋转辊320对被剥离了的金属层220进行卷绕。另外，旋转辊320以及按压辊330一边在与工作台310的一个边大致平行的第1方向上移动，一边将金属层220剥离。

工作台310上可以设置结构体30，所述结构体30的金属层220上形成有将第1镀敷层240、掩膜框架260以及第1镀敷层240与掩膜框架260连接的第2镀敷层290。如图3C所示，结构体30以金属层220成为上方的方式设置于工作台310。因此，优选工作台310的上表面平坦。

工作台310可以将结构体30固定。工作台310可以将固定销抵接于结构体30的侧面来对结构体30的位置进行固定。该情况下，固定销既可以设置于工作台310，也可以设置于工作台310以外。工作台310也可以通过真空吸附对结构体30进行固定。该情况下，在工作台310设置能够对掩膜框架260进行吸附的吸附孔。吸附孔优选能够对掩膜框架260的框部的四角附近进行真空吸附。掩膜框架260的框部可以增大宽度，因此刚性高，所以掩膜框架260的固定稳定。

工作台310的材质例如可以使用碳素钢或不锈钢等。

虽然未图示，工作台310也可以设置有升降机构，能够在垂直于工作台310的表面的方向上移动。通过升降机构能够对结构体30与旋转辊320或按压辊330的距离进行调整。

旋转辊320能够将结构体30的第1镀敷层240将金属层220剥离，并对被剥离了的金属层220进行卷绕。旋转辊320包括旋转部以及轴部。旋转部能够以轴部的中心为中心轴旋转并对金属层220进行卷绕。虽然未图示，在轴部的至少一方的端部安装有移动机构，未图示。移动机构能够使轴部沿着与工作台310的一边(或结构体30的一边)大致平行的第1方向移动。换言之，旋转辊320能够沿着第1方向相对于工作台310相对地进行移动。因此，旋转辊320能够一边对金属层220进行卷绕一边沿着第1方向移动。

旋转辊320既可以设为仅旋转部旋转(即，轴部不旋转)，也可以设为轴部与旋转部一体化，通过使轴部旋转从而旋转部旋转。旋转辊320的旋转速度可以配合旋转辊320向第1方向的移动进行控制。例如，可以在结构体30的端部减慢旋转辊320的移动速度。通过减慢旋转辊320的移动速度，从而能够在结构体30的端部防止金属层220的跳出。

旋转辊320的旋转方向没有特别限定，但优选的是，以使金属层220的被剥离面(设置有第1镀敷层240一侧的面)成为内侧地进行卷绕的方式进行旋转。对金属层220进行卷绕的位置成为旋转辊320的下方，即使在旋转辊320移动时，也能够使在金属层220的剥离区域形成的弯曲部370稳定。

旋转辊320的材质例如可以使用碳素钢或不锈钢等。另外，旋转辊320的旋转部优选是被实施研磨处理或镀敷处理等，表面粗糙度小。通过减小旋转部的表面粗糙度，被卷绕的金属层220不会钩挂于旋转部，由旋转辊320进行的卷绕稳定。

需要说明的是，在利用旋转辊320对金属层220进行卷绕之前，可以预先在旋转辊320安装金属层220的端部。金属层220端部向旋转辊320的安装，既可以通过作业者的手工作业来进行，也可以自动地进行。例如，也可以利用胶带将旋转辊320与金属层220连接。该情况下，当旋转辊320旋转时，胶带先被卷绕，接着被剥离了的金属层220被卷绕。为了使金属层220容易剥离，也可以在端部，在第1镀敷层240与金属层之间预先植入缺口。

制造装置20中，也可以在旋转辊320附近设置第1固定辊340。第1固定辊340能够防止由旋转辊320进行的金属层220卷绕的浮起。即，通过设置第1固定辊340，能够使金属层220的卷绕更稳定化。第1固定辊340设置为在第1固定辊340与旋转辊320之间具有规定的间隔。规定的间隔可以考虑金属层220的卷绕厚度来决定。进而，优选第1固定辊340的中心轴位于比旋转辊320的中心轴靠上方的位置。通过设为这样的构成，防止金属层220卷绕的浮起的效果提高。

第1固定辊340既可以能够自由地旋转，也可以被固定使得不旋转。需要说明的是，第1固定辊340优选是安装于移动机构，以便于能够配合旋转辊320的移动地进行移动。

第1固定辊340的材质例如可以使用碳素钢或不锈钢等。另外，第1固定辊340的旋转部优选是被实施研磨处理或镀敷处理等，表面粗糙度小。

按压辊330也可以从结构体30的第1镀敷层240将金属层220剥离、并按压被剥离了的金属层220。按压辊330包括旋转部以及轴部。旋转部能够以轴部的中心为中心轴而自由地旋转。虽然未图示，按压辊330的轴部的至少一方的端部也安装于移动机构。即，按压辊330的轴部可以通过移动机构的移动而配合旋转辊320地沿着第1方向移动。因此，按压辊330能够一边按压金属层220一边沿着第1方向移动。

按压辊330既可以设为仅旋转部旋转(即，轴部被固定于移动机构)，也可以设为轴部与旋转部一体化，旋转部配合轴部的旋转而旋转。按压辊330的旋转能够配合旋转辊320的卷绕以及通过移动机构的移动所剥离的金属层220的移动地自由地进行旋转。

另外，按压辊330可以在金属层220的剥离区域以使被剥离了的金属层220形成圆弧状的弯曲部370的方式按压金属层220。为此，按压辊330设置于金属层220的剥离区域附近。需要说明的是，就按压辊330而言，优选是对金属层220进行按压使得被剥离了的金属层220的弯曲部370形成中心角θ为180°以上的圆弧。金属层220的弯曲部370变得接近大致圆形或大致椭圆形，从而即使在通过由旋转辊320所进行的卷绕、或者由移动机构所进行的移动而剥离的金属层220移动时，金属层220的弯曲部370也稳定。

需要说明的是，弯曲部370的中心角θ是指从金属层220自第1镀敷层240被剥离的部分、至被剥离了的金属层220与按压辊330相接为止的角度。中心角θ例如为180°以上且300°以下，优选为210°以上且290°以下，特别优选为240°以上且280°以下。

按压辊330优选位于比旋转辊320靠下方的位置。换言之，按压辊330的中心轴优选位于比旋转辊320的中心轴靠下方的位置。即，按压辊330优选比旋转辊320靠近工作台。按压辊330位于比旋转辊320靠下方的位置，从而金属层220的弯曲部370更稳定化。

按压辊330的材质例如可以使用碳素钢或不锈钢等。另外，按压辊330的旋转部优选是被实施研磨处理或镀敷处理等，表面粗糙度小。通过减小旋转部的表面粗糙度，从而被剥离了的金属层220不会钩挂于旋转部，由按压辊330进行的按压稳定。

虽然未图示，按压辊330也可以设有升降机构而能够在垂直于工作台310的表面的方向上移动。通过升降机构，能够对工作台310与按压辊330的距离进行调整。

制造装置20中，可以在按压辊330附近设置第2固定辊350。第2固定辊350能够在剥离区域防止金属层220剥离的跳出。即，通过设置第2固定辊350，能够使金属层220的弯曲部370更稳定化。第2固定辊350隔着金属层220的弯曲部370设置于按压辊330的相反侧。进而，第2固定辊350的中心轴优选位于比按压辊330的中心轴靠下方的位置。通过设为这样的构成，防止金属层220剥离的跳出的效果提高。

第2固定辊350既可以能够自由地旋转，也可以被固定使得不旋转。需要说明的是，第2固定辊350优选是安装于移动机构，以便于能够配合按压辊330的移动而移动。

第2固定辊350的材质例如可以使用碳素钢或不锈钢等。另外，第2固定辊350的旋转部优选是被实施研磨处理或镀敷处理等，表面粗糙度小。

根据按压辊330与第2固定辊350的位置关系，决定金属层的弯曲部370的曲率半径R。该半径R根据金属层220的材质、膜厚、膜应力等而决定。若增大该曲率半径R，则自金属层220从镀敷层240进行剥离的部位P起的金属层220的立起变得平缓，能够减小剥离压力。金属层220的膜厚小的情况下，若增大半径R，则在弯曲部370处金属层220不保持圆弧状的截面，这成为松弛的原因，所以若减小半径R则为宜。

传感器360能够对所述工作台310与被剥离了的金属层220的弯曲部370的弯曲面的距离进行测定。传感器360优选能够对从工作台310到离得最远的弯曲部370的弯曲面的距离进行测定。通过对离得最远的弯曲部370的弯曲面的距离进行测定，从而能够算出被剥离了的金属层220的弯曲部370的曲率半径R。

另外，被剥离了的金属层220的弯曲部370的曲率半径R也依存于工作台310与按压辊330的距离H。因此，通过设置传感器360，从而能够根据从传感器360的测定算出的曲率半径R，对工作台310与按压辊330的距离H进行调整。相反，也能够以工作台310与按压辊330的距离H为基础，对金属层220的弯曲部370的曲率半径R进行调整。另外，旋转辊320的旋转速度与旋转辊320向第1方向的移动速度不一致的情况下，金属层220的弯曲部370不稳定。该情况下，能够根据从传感器360的测定算出的曲率半径R，对旋转辊320的旋转速度或移动机构的移动速度进行调整。需要说明的是，该调整也可以设为能够使用控制机构自动地进行。

工作台310与按压辊330的距离H例如为0.5mm以上且50mm以下，优选为0.8mm以上且20mm以下，特别优选为1mm以上且15mm以下。弯曲部370的曲率半径R例如为1mm以上，优选为3mm以上且50mm以下，特别优选为5mm以上且20mm以下。

另外，对于金属层220的弯曲部370的调整可以考虑金属层220的膜厚。例如，在金属层220的膜厚为60μm的情况下，可以将工作台310与按压辊330的距离H设为15mm，将金属层220的弯曲部370的曲率半径R调整为10mm。

传感器360例如可以使用激光传感器等。传感器360既可以利用激光的出射光和来自金属层220的反射光的光量，也可以利用从激光的出射到自金属层220的反射的时间差。传感器360不限于此，可以使用能够对距离进行测定的传感器。

以上，根据本实施方式的蒸镀掩膜10的制造装置20，能够从结构体30的第1镀敷层240将金属层220均匀地剥离，因此蒸镀掩膜10的品质稳定。因此，使用蒸镀掩膜10蒸镀出的制品的品质也稳定。进而，通过使用自动化的制造装置20，作业者的负担减轻，因此作业效率提升。

＜变形例＞

参照图4，对作为蒸镀掩膜10的制造装置20的变形例的制造装置20A的构成进行说明。需要说明的是，以下，在制造装置20A中，有时针对与制造装置20同样的构成省略说明。

图4是示出本发明的一实施方式的蒸镀掩膜10的制造装置20A的使用形态的剖视示意图。

图4所示，制造装置20A包括工作台310、旋转辊320A、第1固定辊340、第2固定辊350、以及传感器360。旋转辊320A以及传感器360设置于工作台310上。

旋转辊320A能够从结构体30的第1镀敷层240将金属层220剥离、并对被剥离了的金属层220进行卷绕。另外，旋转辊320A能够从结构体30的第1镀敷层240将金属层220剥离、并按压被剥离了的金属层220。进而，旋转辊320A能够在金属层220的剥离区域以使被剥离了的金属层220形成圆弧状的弯曲部的方式按压金属层220。因此，旋转辊320A设置于金属层220的剥离区域附近。

旋转辊320A包括旋转部以及轴部。旋转部能够以轴部的中心为中心轴旋转，一边按压金属层220一边进行卷绕。虽然未图示，在轴部的至少一方的端部安装有移动机构。移动机构能够使轴部沿着以工作台310的一边大致平行的第1方向移动。换言之，旋转辊320A能够沿着第1方向相对于工作台310相对地移动。因此，旋转辊320A能够一边按压金属层220一边进行卷绕，同时沿着第1方向移动。

以上，根据本变形例的蒸镀掩膜10的制造装置20A，旋转辊320A能够一边按压被剥离了的金属层220一边进行卷绕。因此，无需另行设置按压辊。因此，制造装置20A能够简化移动机构，因此能够抑制制造装置20A的制造成本。

作为本发明的实施方式的上述的各实施方式只要不相互矛盾就能够适当地组合实施。另外，以各实施方式为基础、本领域技术人员适当进行了构成要素的追加、削除或设计变更后的方式、或者进行了工序的追加、省略或条件变更后的方式只要也具备本发明的要旨，也就包含于本发明的范围。

应理解为，即使是与通过上述的各实施方式的形态所带来的作用效果不同的其他的作用效果，关于根据本说明书的记载明确的作用效果、或者对于本领域技术人员而言能够容易地预测到的作用效果，当然也是能够由本发明带来的。

Claims (15)

1.蒸镀掩膜的制造装置，包括：

设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与所述蒸镀掩膜相接的金属层；

从所述蒸镀掩膜将所述金属层剥离并进行卷绕的旋转辊；和

对被从所述蒸镀掩膜剥离了的所述金属层进行按压的按压辊。

2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述旋转辊沿着与所述工作台的一边大致平行的第1方向、相对于所述工作台相对地移动而对所述金属层进行卷绕。

3.根据权利要求2所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述旋转辊以使所述金属层的被剥离面成为内侧地进行卷绕的方式旋转。

4.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述蒸镀掩膜的制造装置构成为使得所述旋转辊与所述按压辊的彼此的轴距可变。

5.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述按压辊以形成中心角为180°以上的圆弧地弯曲的方式对被剥离了的所述金属层进行按压。

6.根据权利要求5所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述蒸镀掩膜的制造装置还包括对所述工作台与被剥离了的所述金属层的弯曲面的距离进行测定的传感器。

7.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述按压辊配合所述旋转辊而相对于所述工作台相对地移动。

8.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述按压辊的中心轴位于比所述旋转辊的中心轴靠下方的位置。

9.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述蒸镀掩膜的制造装置还包括用于防止所述金属层的卷绕的浮起的第1固定辊。

10.根据权利要求9所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述第1固定辊的中心轴位于比所述旋转辊的中心轴靠上方的位置。

11.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述蒸镀掩膜的制造装置还包括用于防止所述金属层的剥离的跳出的第2固定辊。

12.根据权利要求11所述的蒸镀掩膜的制造装置，其中，

所述第2固定辊的中心轴位于比所述按压辊的中心轴靠下方的位置。

13.蒸镀掩膜的制造方法，包括：

在设有蒸镀掩膜和与所述蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕所述金属层，一边使所述旋转辊沿着与所述结构体的一边大致平行的第1方向移动，从所述蒸镀掩膜将所述金属层剥离，

以形成中心角为180°以上的圆弧地弯曲的方式，使对被剥离了的所述金属层进行按压的按压辊沿着所述第1方向移动。

14.根据权利要求13所述的蒸镀掩膜的制造方法，其中，

所述旋转辊以使所述金属层的被剥离面成为内侧地进行卷绕的方式旋转。

15.根据权利要求13所述的蒸镀掩膜的制造方法，其中，

根据所述金属层，使所述旋转辊与所述按压辊的彼此的轴距变化。