JP6142388B2 - 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6142388B2 JP6142388B2 JP2013081096A JP2013081096A JP6142388B2 JP 6142388 B2 JP6142388 B2 JP 6142388B2 JP 2013081096 A JP2013081096 A JP 2013081096A JP 2013081096 A JP2013081096 A JP 2013081096A JP 6142388 B2 JP6142388 B2 JP 6142388B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- deposition mask
- base film
- magnetic layer
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 83
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 135
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 68
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 45
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 44
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 2
- 229960001716 benzalkonium Drugs 0.000 claims 1
- CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N benzododecinium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 1-palmitoyl-2-arachidonoyl-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)OC(=O)CCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCC IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 239000000787 lecithin Substances 0.000 description 1
- 229940067606 lecithin Drugs 0.000 description 1
- 235000010445 lecithin Nutrition 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
先ず、ステップS1においては、粒径が3μm以下、望ましくは1μ以下の軟磁性体の粉末を溶剤、バインダー、分散剤等の添加剤等の接着・粘着性のある物質と混合し、混練・分散させた磁性分散塗布材を準備する。ここで、上記軟磁性体粉末は、特に限定されるものではないが、例えばFe,Ni,Fe−Ni合金,Fe−Co合金又はFe−Ni−Co合金等が挙げられる。また、上記分散剤の成分は、特に限定されるものではないが、例えばアルキルベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸塩やレシチン等が挙げられる。さらに、バインダーについても特に限定されるものではないが、例えばシロキサンポリマーが挙げられる。そして、溶剤も特に限定されるものではないが、例えばプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGP)等である。
本発明による第2の実施形態は、複数の開口パターン4を形成した積層フィルム8を枠状の例えばインバー、又はインバー合金(特に、これに限定されない)等からなる金属フレーム14で支持した構造を有するものである。この場合、積層フィルム8と金属フレーム14とを有機接着剤を使用して接着してもよいが、蒸着時の熱によるアウトガスの発生により薄膜パターンが汚染されるおそれがある。特に、薄膜パターンとしての有機EL層を形成する際には、上記アウトガスは有機EL層の特性劣化を招くため、極力排除しなければならない。
先ず、図10(a)に示すように、第1の実施形態と同様にしてベースフィルム1の一面1aに磁性層2を形成した後、同図(b)に示すように、該磁性層2上に保護層3となる樹脂液16を塗布する。さらに、同図(c)に示すように、該樹脂液16が乾燥する前に、磁性層2上に金属プレート15を配置する。そして、同図(d)に示すように、上記樹脂液16を乾燥して保護層3を形成するのと同時に、保護層3によって金属プレート15を磁性層2上に密着固定する。次に、同図(e)に示すように、上記第1の実施形態と同様にして、積層フィルム8を金属プレート15の外周縁に沿って裁断し、金属プレート付き積層フィルム17を形成する。なお、枠状の金属プレート15ではなく、金属片を枠状に配置してもよい。
この第3の実施形態おいて、上記第1及び第2の実施形態と異なる点は、上記ステップS2で形成される磁性層2が、磁性体粒子を含有するインク(例えば、ポリイミドインク)をベースフィルム1の一面1aにスクリーン印刷し、又はインクジェットにより塗布した後、180℃〜400℃、望ましくは180℃〜200℃の温度で硬化させて形成されるものであり、複数の開口18を有するパターン状に形成される点である。
1a…ベースフィルの一面
1b…ベースフィルムの他面
2…磁性層
3…保護層
4…開口パターン
11…基板
12…密着面
13…金属膜
16…樹脂液
18…開口
Claims (15)
- 蒸着して基板上に複数の薄膜パターンを形成するための蒸着マスクであって、
一面に磁性体粉末を含む磁性層を備えると共に、該磁性層上に樹脂製の保護層を設けた樹脂製のベースフィルムに、前記複数の薄膜パターンに対応して貫通する複数の開口パターンを形成したことを特徴とする蒸着マスク。 - 前記保護層は、前記ベースフィルムと熱膨張係数が同等の材料により形成されたものであることを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク。
- 前記開口パターンは、開口面積が前記ベースフィルムの他面側から前記一面側に向かって暫時狭くなるように形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の蒸着マスク。
- 前記磁性層側の最表面を前記基板との密着面としたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の蒸着マスク。
- 前記ベースフィルムの他面に金属膜をコーティングして備えたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の蒸着マスク。
- 基板上に蒸着して複数の薄膜パターンを形成するための蒸着マスクの製造方法であって、
樹脂製のベースフィルムの一面に磁性体粉末を含む磁性層を形成した後、該磁性層上に樹脂製の保護層を形成する第1ステップと、
前記ベースフィルムにレーザ光を照射して前記複数の薄膜パターンに対応した位置に貫通する複数の開口パターンを形成する第2ステップと、
を含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記磁性層は、複数の開口を有するパターン状に形成されたものであることを特徴とする請求項6記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記磁性層は、磁性体粒子を含有するインクを前記ベースフィルムの一面にスクリーン印刷して形成されることを特徴とする請求項7記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記磁性層は、磁性体粒子を含有するインクを前記ベースフィルムの一面にインクジェットにより塗布して形成されることを特徴とする請求項7記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第1ステップにおいては、前記磁性層を形成した後、該磁性層の表面を平滑化処理することを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第1ステップにおいては、前記磁性層上に樹脂液を塗布して保護層を形成することを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記保護層は、前記ベースフィルムと熱膨張係数が同等の材料により形成されたものであることを特徴とする請求項11記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第1ステップにおいては、磁性体粉末と接着剤を混練したペースト樹脂を前記ベースフィルムの一面に塗布して前記磁性層を形成した後、前記ベースフィルムと線膨張係数が同等の材料からなるフィルムをラミネートして前記保護層を形成することを特徴とする請求項6記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記開口パターンは、開口面積が前記ベースフィルムの他面側から前記一面側に向かって暫時狭くなるように形成されることを特徴とする請求項6〜13のいずれか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第2ステップの後に、前記ベースフィルムの前記他面に金属膜をコーティングするステップをさらに含むことを特徴とする請求項6〜14のいずれか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013081096A JP6142388B2 (ja) | 2013-04-09 | 2013-04-09 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013081096A JP6142388B2 (ja) | 2013-04-09 | 2013-04-09 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014201819A JP2014201819A (ja) | 2014-10-27 |
JP6142388B2 true JP6142388B2 (ja) | 2017-06-07 |
Family
ID=52352538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013081096A Active JP6142388B2 (ja) | 2013-04-09 | 2013-04-09 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6142388B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11653554B2 (en) | 2020-01-13 | 2023-05-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing display panel |
US11696486B2 (en) | 2020-01-13 | 2023-07-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask, method for manufacturing the same, and method for manufacturing display panel |
US11773478B2 (en) | 2020-08-14 | 2023-10-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same |
US11937492B2 (en) | 2020-10-26 | 2024-03-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask assembly and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6394879B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2018-09-26 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 |
US10615344B2 (en) | 2016-01-26 | 2020-04-07 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Vapor deposition mask, method of manufacturing the same and method of manufacturing organic light emitting diode using the vapor deposition mask |
JP6681739B2 (ja) * | 2016-02-25 | 2020-04-15 | 株式会社ジャパンディスプレイ | シャドーマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 |
JP6906652B2 (ja) * | 2016-02-25 | 2021-07-21 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
JP6461423B2 (ja) * | 2016-03-18 | 2019-01-30 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司Hon Hai Precision Industry Co.,Ltd. | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および有機半導体素子の製造方法 |
US10927443B2 (en) | 2016-03-29 | 2021-02-23 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device |
TWI678824B (zh) * | 2016-07-29 | 2019-12-01 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 掩膜及其製備方法 |
JP6410247B1 (ja) * | 2017-01-31 | 2018-10-24 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法 |
CN107170910A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-09-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板的制备方法、显示基板母板 |
JP6658790B2 (ja) * | 2018-04-19 | 2020-03-04 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、有機elディスプレイの製造方法、及びパターンの形成方法 |
KR102497695B1 (ko) * | 2020-05-19 | 2023-02-10 | 주식회사 오플렉스 | 대면적 증착 마스크, 마스크 프레임 어셈블리, 및 이를 이용하여 제조된 유기 발광 다이오드 소자 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6379958A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 蒸着用マスクとその製造法 |
JPH0551729A (ja) * | 1991-08-22 | 1993-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 合成樹脂薄膜のパターン作成方法 |
JP4635348B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2011-02-23 | 凸版印刷株式会社 | パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 |
US6897164B2 (en) * | 2002-02-14 | 2005-05-24 | 3M Innovative Properties Company | Aperture masks for circuit fabrication |
-
2013
- 2013-04-09 JP JP2013081096A patent/JP6142388B2/ja active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11653554B2 (en) | 2020-01-13 | 2023-05-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing display panel |
US11696486B2 (en) | 2020-01-13 | 2023-07-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask, method for manufacturing the same, and method for manufacturing display panel |
US11773478B2 (en) | 2020-08-14 | 2023-10-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask, method of providing mask, and method of providing display panel using the same |
US11937492B2 (en) | 2020-10-26 | 2024-03-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask assembly and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014201819A (ja) | 2014-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6142388B2 (ja) | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 | |
CN112030102B (zh) | 蒸镀掩模的制造方法 | |
KR102109071B1 (ko) | 성막 마스크 | |
JP5958804B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機el表示装置の製造方法 | |
JP6410247B1 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法 | |
TWI825149B (zh) | 框架一體型遮罩的製造方法及框架 | |
WO2015002129A1 (ja) | 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法 | |
WO2014069049A1 (ja) | 成膜マスク | |
WO2019009050A1 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク装置の製造方法 | |
JP6468480B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク | |
KR102202530B1 (ko) | 마스크의 제조 방법, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
JP6588125B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法 | |
CN112534080B (zh) | 蒸镀掩模的制造方法和有机el显示装置的制造方法 | |
JP2021161522A (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、有機el表示装置の製造方法及び蒸着方法 | |
TW202032833A (zh) | 遮罩的製造方法,遮罩支撐模板的製造方法及框架一體型遮罩的製造方法 | |
TWI826497B (zh) | 遮罩支撑模板與其製造方法及框架一體型遮罩的製造方法 | |
US20230220534A1 (en) | Mask-integrated frame and method of manufacturing the same | |
TWI771976B (zh) | 掩模支撐模板及其製造方法、掩模製造方法及框架一體型掩模的製造方法 | |
CN116511842B (zh) | 一种精密金属掩模板的制作方法及精密金属掩模板 | |
JP2022047909A (ja) | 蒸着マスク装置、蒸着マスク装置用の支持体、蒸着マスク装置の製造方法、有機半導体素子の製造方法、有機el表示装置の製造方法及び蒸着方法 | |
KR102188948B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
KR100795802B1 (ko) | 평판 표시 장치의 제조방법 | |
KR20230108495A (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크 | |
KR20230112952A (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크 | |
KR20230069406A (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170417 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6142388 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |