CN116162894A - 掩膜版及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了掩膜版及其制作方法。所述掩膜版包括：金属框架主体，所述金属框架主体具有多个第一镂空区域；粘性框架，所述粘性框架设置在所述金属框架主体的一侧，所述粘性框架具有多个第二镂空区域，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。由此，通过在金属框架主体的一侧设置粘性框架，可以提高掩膜版蒸镀面的粘性，在使用该掩膜版进行蒸镀过程中，附着在粘性框架表面的蒸镀材料与粘性框架的粘结强度较高，使得蒸镀材料不易脱落，从而降低掩膜版的清洗频率，有利于减少备用掩膜版的数量，有利于提高产品良率、降低生产运营成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体的，涉及掩膜版及其制作方法。
背景技术
OLED器件(有机发光显示器件)具有响应时间短、可视角度大、对比度高、重量轻、功耗低等优点，被认为是最有发展潜力的平板显示器件，同时被认为是最有可能制作成柔性显示器件的显示技术。
目前，OLED中很多的膜层结构均是采用掩膜版蒸镀的方式形成的，但是，目前的掩膜版存在与蒸镀材料结合力差等技术问题。
因此，目前的掩膜版及其制作方法仍有待改进。
发明内容
本发明是基于发明人对以下事实和问题的发现和认识做出的：
OLED显示屏中公共层材料主要通过掩膜版蒸镀至玻璃基板上，蒸镀过程中材料会附着在掩膜版底部，当附着一定量的蒸镀材料后，需要对掩膜版进行替换和清洗，否则附着在掩膜版底部的蒸镀材料会脱落进蒸镀机，从而污染蒸镀环境，影响产品良率。并且，蒸镀材料需要特定溶剂(例如NMP(N-甲基吡咯烷酮)、HC(环戊酮类)等)并配备相应的清洗设备才可清洗干净，因此，公共层的掩膜版清洗成本高、清洗周期长。为确保掩膜版清洗过程中生产继续稳定进行，需备用一定量的掩膜版进行替换使用，而掩膜版制作成本高，当备用较多掩膜版时，不利于产品量产盈利。为了至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一，发明人通过大量实验发现，可以在掩膜版的蒸镀面设置粘性胶层，从而提高蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的粘结强度，进而至少在一定程度上避免蒸镀材料脱落导致污染蒸镀环境的问题，还可以减少备用掩膜版的数量；还可以进一步在粘性框架表面形成粘性胶层，从而进一步提高蒸镀材料与蒸镀面的粘结强度。
有鉴于此，在本发明的一方面，本发明提出了一种掩膜版。根据本发明的实施例，所述掩膜版包括：金属框架主体，所述金属框架主体具有多个第一镂空区域；粘性框架，所述粘性框架设置在所述金属框架主体的一侧，所述粘性框架具有多个第二镂空区域，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。由此，通过在金属框架主体的一侧设置粘性框架，可以提高掩膜版蒸镀面的粘性，在使用该掩膜版进行蒸镀过程中，附着在粘性框架表面的蒸镀材料与粘性框架的粘结强度较高，使得蒸镀材料不易脱落，从而降低掩膜版的清洗频率，有利于减少备用掩膜版的数量，有利于提高产品良率、降低生产运营成本。
根据本发明的实施例，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影与所述第一镂空区域基本重合。由此，掩膜版蒸镀面的非镂空区域均具有较好的粘性，有利于进一步提高掩膜版的使用性能。
根据本发明的实施例，所述掩膜版进一步包括：胶层，所述胶层设置在所述粘性框架远离所述金属框架主体的至少部分表面上。由此，在粘性框架上设置胶层，可以进一步提高掩膜版蒸镀面非镂空区域的粘性，从而进一步提高蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的粘结强度，使得蒸镀材料更不易脱落，有利于进一步降低掩膜版的清洗频率。
根据本发明的实施例，所述金属框架主体包括：第一金属框架，所述第一金属框架具有第三镂空区域；第二金属框架，所述第二金属框架设置在所述第一金属框架和所述粘性框架之间，所述第二金属框架具有多个所述第一镂空区域，所述第三镂空区域覆盖多个所述第一镂空区域在所述第一金属框架上的正投影。由此，第一金属框架可以作为金属母框，第二金属框架起到遮挡条的作用。
根据本发明的实施例，所述第一金属框架的材质包括不锈钢和铟钢中的至少之一；和/或，所述第二金属框架的材质包括不锈钢和铟钢中的至少之一。由此，第一金属框架和/或第二金属框架具有较高的强度，在蒸镀过程中可以保持良好的稳定性。
根据本发明的实施例，所述掩膜版满足以下条件中的至少之一：所述粘性框架的材质包括环氧树脂；所述粘性框架是可拆卸的；所述粘性框架远离所述金属框架主体的表面具有多个凸起；所述粘性框架的表面的粗糙度大于所述金属框架主体的表面的粗糙度；所述粘性框架远离所述金属框架主体的表面的粗糙度大于所述粘性框架靠近所述金属框架主体的表面的粗糙度；多个所述第一镂空区域的形状包括圆形、椭圆形、矩形、菱形、五边形和六边形中的至少之一；所述第二镂空区域的形状和与所述第二镂空区域对应的所述第一镂空区域的形状相同。由此，有利于进一步提高掩膜版的使用性能。
根据本发明的实施例，所述环氧树脂包括双酚A型环氧树脂；和/或，所述环氧树脂含有羟基和醚键。由此，有利于进一步提高粘性框架在高真空度条件下的粘性，从而有利于进一步提高蒸镀材料与粘性框架的结合强度。
根据本发明的实施例，所述金属框架主体包括连接处，所述连接处设置有激光焊点和/或螺纹孔。由此，金属框架主体可以通过激光焊接和/或螺纹连接与粘性框架牢固结合，在使用过程中掩膜版可以保持良好的结构稳定性；通过上述方法将金属框架主体和粘性框架结合起来，粘性框架可拆卸。
在本发明的另一方面，本发明提出了一种制作前面所述的掩膜版的方法。制作前面所述的掩膜版的方法包括：形成金属框架主体，所述金属框架主体具有多个第一镂空区域；在所述金属框架主体的一侧设置粘性框架，所述粘性框架具有多个第二镂空区域，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。由此，利用上述方法制作得到的掩膜版具有前面所述的掩膜版所具有的全部特征以及优点，在此不再赘述。
根据本发明的实施例，形成所述金属框架主体包括：提供第一金属框架，所述第一金属框架具有第三镂空区域；提供第二金属框架，所述第二金属框架具有多个所述第一镂空区域；通过激光焊接和/或螺纹连接将所述第二金属框架固定在所述第一金属框架的一侧，使所述第三镂空区域覆盖多个所述第一镂空区域在所述第一金属框架上的正投影；将所述第二金属框架固定在所述第一金属框架的一侧之后，通过激光焊接和/或螺纹连接将所述粘性框架固定在所述第二金属框架远离所述第一金属框架的一侧。由此，可以通过上述方法制作掩膜版，该方法步骤简单，易操作，有利于提高制作掩膜版的良率。
根据本发明的实施例，制作前面所述的掩膜版的方法可以进一步包括：对所述粘性框架的一侧表面进行粗糙化处理，粗糙化处理后的表面远离所述金属框架主体设置。由此，粗糙化处理后的表面与蒸镀材料的接触面积进一步提高，有利于提高蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的粘结强度。
根据本发明的实施例，制作前面所述掩膜版的方法进一步包括：在所述粘性框架远离所述金属框架主体的至少部分表面上形成胶层。由此，可以通过在粘性框架上形成胶层进一步提高掩膜版蒸镀面的粘性，从而进一步提高蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的结合强度。
附图说明
图1显示了根据本发明一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图2显示了图1中掩膜版沿AA’的截面图；
图3显示了根据本发明另一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图4显示了根据本发明又一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图5显示了相关技术中蒸镀材料脱落的示意图；
图6显示了根据本发明又一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图7显示了图6中掩膜版沿BB’的截面图；
图8显示了根据本发明又一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图9显示了图8中掩膜版沿CC’的截面图；
图10显示了根据本发明又一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图11显示了根据本发明又一个实施例的掩膜版的结构示意图；
图12显示了根据本发明一个实施例制作掩膜版的方法流程图；
图13显示了根据本发明另一个实施例制作掩膜版的方法流程图；
图14显示了根据本发明又一个实施例制作掩膜版的方法流程图；
图15显示了根据本发明又一个实施例制作掩膜版的方法流程图；
图16显示了根据本发明又一个实施例制作掩膜版的方法流程图。
附图标记说明：
100：金属框架主体；101：第一螺纹孔；102：第一镂空区域；110：第一金属框架；111：第三镂空区域；120：第二金属框架；121：第三螺纹孔；200：粘性框架；210：第二镂空区域；220：第二螺纹孔；230：凸起；300：胶层；1：蒸镀源；2：金属掩膜版；3：蒸镀材料；4：基板。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。
在本发明的一方面，本发明提出了一种掩膜版。根据本发明的一些实施例，参考图1至图4，掩膜版可以包括金属框架主体100和粘性框架200，其中，金属框架主体100具有多个第一镂空区域102，粘性框架200设置在金属框架主体100的一侧，粘性框架200具有多个第二镂空区域210，第二镂空区域210在金属框架主体100上的正投影覆盖第一镂空区域102。在使用该掩膜版进行蒸镀时，设置有粘性框架的一侧朝向蒸镀源放置，粘性框架具有较好的粘性，可以提高蒸镀材料与掩膜版的结合强度，使得蒸镀材料不易脱落，从而至少在一定程度上避免蒸镀材料脱落污染蒸镀腔室等问题，有利于提高蒸镀腔室的洁净度，进而有利于提升产品的良率；另外，蒸镀材料与掩膜版的结合强度较高，有利于降低掩膜版的清洗和替换频率，减少备用掩膜版的数量，从而有利于降低显示器件的生产成本和运营成本。
参考图5，蒸镀源1将蒸镀材料通过金属掩膜版2的镂空部分蒸镀在基板4上，部分蒸镀材料会附着在金属掩膜版2的蒸镀面上，相关技术中，金属掩膜版2的蒸镀面为光滑平整的金属材质，蒸镀材料3附着性不好，当蒸镀一定量的基板4(例如玻璃基板)后存在蒸镀材料3脱落的情况，脱落的蒸镀材料会污染蒸镀腔室，因此，需要定期替换掩膜版。另外，不同的公共层(例如阳极、电子传输层、空穴阻挡层、电子阻挡层、空穴传输层等)蒸镀厚度不一致，材料粘附性也具有一定差异，导致不同蒸镀腔室掩膜版的替换周期存在差异，因此需要的备用掩膜版数量较多，而公共层掩膜版的制作成本较高，备用大量掩膜版会导致投资成本较大，增加盈利难度；而且，替换的公共层掩膜版需要送至特定清洗设备，并配备相应的溶剂(例如NMP、HC等)，存在清洗设备、溶剂等投资成本高，清洗周期长等不利因素，会进一步提高显示器件的生产成本和运营成本。而本发明的掩膜版在金属框架主体100的一侧设置了粘性框架200，在使用过程中，蒸镀材料可以较为牢固的附着在掩膜版的蒸镀面，附着在掩膜版蒸镀面的蒸镀材料不易脱落，从而可以至少在一定程度上避免对蒸镀腔室造成污染，有利于提高产品的良率；并且，可以大幅度提高掩膜版的使用效率，减少掩膜版的清洗频次，降低清洗掩膜版的设备和溶剂成本，还可以减少备用掩膜版的数量，从而有利于降低显示器件的生产成本和运营成本。
需要说明的是，第二镂空区域210在金属框架主体100上的正投影覆盖第一镂空区域102，可以包括以下两种情况：根据本发明的一些实施例，参考图3，第二镂空区域210的尺寸可以大于第一镂空区域102的的尺寸，粘性框架200可以覆盖金属框架主体100的部分表面，可以在一定程度上提高掩膜版蒸镀面与蒸镀材料的粘结强度，使蒸镀材料不易脱落。根据本发明的另一些实施例，参考图1、图2(图2为图1中掩膜版沿AA’的截面图)和图4，第二镂空区域210在金属框架主体100上的正投影与第一镂空区域102基本重合，也即是说，第二镂空区域210的尺寸和第一镂空区域102的尺寸基本一致，其中，基本重合或基本一致指的是在制作过程中，很难保证第二镂空区域210在金属框架主体100上的正投影和第一镂空区域102完全重合。
根据本发明的实施例，多个第一镂空区域102的形状可以包括圆形(如图4所示出的)、椭圆形、矩形(如图1所示出的)、菱形、五边形和六边形等中的至少之一，由此，掩膜版可以适用于显示面板不同形状的公共层的制作。需要说明的是，多个第一镂空区域102的形状可以相同也可以不同，本领域技术人员可以根据实际需求进行设置和调整。当然，本领域技术人员也可以根据实际需要将第一镂空区域102设置为其他规则形状或者异形。
根据本发明的实施例，第二镂空区域210的形状和与第二镂空区域210对应的第一镂空区域102的形状相同，由此，更有利于提高第二镂空区域和第一镂空区域的匹配程度，使得第二镂空区域和与其相对应的第一镂空区域的重合度更高，从而有利于进一步提高掩膜版的整体性能。
根据本发明的一些实施例，参考图1、图3和图4，金属框架主体100上可以设置第一螺纹孔101，以便通过螺纹连接的方式将掩膜版固定在蒸镀腔室中。当然，本领域技术人员也可以根据具体情况采用其他方式将掩膜版固定在蒸镀腔室中。
根据本发明的一些实施例，参考图6和图7，图7为图6中掩膜版沿BB’的截面图，金属框架主体100可以包括第一金属框架110和第二金属框架120，其中，第一金属框架110具有第三镂空区域111，第二金属框架120设置在第一金属框架110和粘性框架200之间，第二金属框架120具有多个第一镂空区域102，第三镂空区域111覆盖多个第一镂空区域102在第一金属框架110上的正投影。由此，以第一金属框架为金属母框架，第二金属框架可以起到遮挡条的作用，将第二金属框架固定在第一金属框架的一侧，再将粘性框架固定在第二金属框架远离第一金属框架的一侧，则可以形成性能优异的掩膜版。
根据本发明的一些实施例，第一金属框架110的材质可以包括不锈钢和铟钢等中的至少之一，例如，第一金属框架110可以由不锈钢(具体可以为304不锈钢)构成，也可以由铟钢构成，由此，第一金属框架具有较高的强度和较好的耐腐蚀性能，有利于进一步提高掩膜版的使用性能，并且，有利于延长掩膜版的使用寿命。
根据本发明的一些实施例，第二金属框架120的材质可以包括不锈钢和铟钢等中的至少之一，例如，第二金属框架120可以由不锈钢构成，也可以由铟钢构成。由此，第二金属框架具有较高的强度和良好的耐腐蚀性能，从而有利于进一步提高掩膜版的整体性能。
根据本发明的一些实施例，金属框架主体100可以包括连接处，连接处设置有激光焊点和/或螺纹孔，由此，金属框架主体可以与粘性框架通过激光焊接和/或螺纹连接牢固结合，有利于提高掩膜版的整体稳定性。根据本发明的一些具体实施例，金属框架主体的连接处可以仅设置有螺纹孔或激光焊点。根据本发明的另一些具体实施例，金属框架主体的连接处可以同时设置有螺纹孔和激光焊点，由此，可以通过激光焊接和螺纹连接将粘性框架固定在金属框架主体的一侧，从而有利于进一步提高掩膜版的整体稳定性。
根据本发明的一些实施例，参考图8至图10，其中，图9为图8中掩膜版沿CC’的截面图，掩膜版可以进一步包括胶层300，胶层300设置在粘性框架200远离金属框架主体100的至少部分表面上。由此，可以通过在粘性框架上形成胶层来进一步提高掩膜版蒸镀面的粘性，从而进一步提高蒸镀材料与粘性框架的结合强度。对于胶层200的具体材质，本发明中不做特别限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行选择和调整，只要胶层200具有较好的粘性以及耐高温性能即可。
根据本发明的实施例，粘性框架200的材质可以包括环氧树脂(EP)，由此，粘性框架可以具有较好的粘性，有利于提高蒸镀材料与粘性框架的结合强度，从而使得附着在掩膜版蒸镀面上的蒸镀材料不易脱落；并且，粘性框架具有良好的电绝缘性能和耐高温性能(工作温度可达100℃)以及耐高真空度性能，有利于进一步提高掩膜版使用过程中的整体稳定性。根据本发明的一些实施例，环氧树脂可以包括双酚A型环氧树脂，双酚A型环氧树脂中含有羟基和醚键，有利于进一步提高蒸镀材料与粘性框架的粘结强度。根据本发明的另一些实施例，环氧树脂可以含有羟基和醚键，从而有利于提高粘性框架对蒸镀材料的粘结强度。
根据本发明的一些实施例，粘性框架200的材质可以为双酚A型EP，双酚A型EP的分子结构中含有羟基和醚键，对多种常用真空材料的粘结力较大，可以提高蒸镀材料与粘性框架的粘结强度；并且，由该材料形成的粘性框架具有优良的力学强度，有利于提高掩膜版的结构稳定性，该材料耐高温、耐高真空度，有利于进一步提高掩膜版在使用过程中的稳定性。
根据本发明的一些实施例，粘性框架200是可拆卸的，由此，可以根据蒸镀情况对粘性框架进行拆卸和替换，从而确保掩膜版的洁净度，减少掩膜版的清洗频率，可以大幅度降低生产运营成本；粘性框架具备可拆卸性，待蒸镀一定数量的玻璃基板后，可取出掩膜版更换干净的粘性框架，该过程相较于清洗金属掩膜版更为节省时间和成本，相对于清洗金属掩膜版需要配备特定设备和溶剂而言，可以减少清洗设备投资成本和清洗溶剂(清洗药液)投资成本，更有助于实现产品盈利，掩膜版循环使用率更高；另外，在蒸镀结束后，粘性框架上会附着较多的蒸镀材料，可以通过一些技术手段对蒸镀材料进行回收、提纯和再利用，进一步降低生产成本和运营成本；粘性框架也可以通过清洗和重新涂抹粘性胶反复使用，从而进一步降低生产运营成本。
根据本发明的一些实施例，粘性框架200的表面的粗糙度可以大于金属框架主体100的表面的粗糙度，由此，粘性框架具有相对粗糙的表面，有利于增大掩膜版蒸镀面的表面积，从而增大蒸镀材料与粘性框架的接触面积，进而有利于增大蒸镀材料与粘性框架的结合力。
根据本发明的一些实施例，粘性框架200远离金属框架主体100的表面的粗糙度可以大于粘性框架200靠近金属框架主体100的表面的粗糙度，由此，有利于增大粘性框架与蒸镀材料的接触面积，从而有利于提高蒸镀材料与粘性框架的结合强度。
根据本发明的一些实施例，参考图10，粘性框架200远离金属框架主体100的表面可以具有多个凸起230，由此，可以增大蒸镀材料与粘性框架的接触面积，从而有利于进一步提高蒸镀材料与粘性框架的结合强度，使附着在粘性框架上的蒸镀材料更不易脱落。
根据本发明的一些实施例，参考图10，当粘性框架200远离金属框架主体100的表面具有多个凸起230时，胶层300也可以具有凹凸结构，由此，可以增大胶层与蒸镀材料的接触面积，从而进一步提高蒸镀材料与粘性框架的结合强度。
根据本发明的一些实施例，参考图11，粘性框架200上可以设置第二螺纹孔220，由此，可以通过螺纹连接的方式将粘性框架固定在金属框架主体的一侧，有利于提高掩膜版的整体稳定性。
在本发明的另一方面，本发明提出了一种制作前面所述的掩膜版的方法。根据本发明的一些实施例，参考图12，制作前面所述的掩膜版的方法可以包括以下步骤：
S100：形成金属框架主体。
在该步骤中，形成金属框架主体100，金属框架主体100具有多个第一镂空区域102。关于第一镂空区域的形状，已在前面进行了详细说明，在此不再赘述。
根据本发明的一些实施例，参考图13至图16，形成金属框架主体可以包括以下步骤：
S110：提供第一金属框架。
在该步骤中，提供第一金属框架110，其中，第一金属框架110具有第三镂空区域111。根据本发明的一些实施例，参考图13至图16，第三镂空区域111的形状可以为矩形。当然，第三镂空区域也可以为其他形状，本领域技术人员可以根据实际情况进行设置和选择。关于第一金属框架的材质，前面已经进行了说明，在此不再赘述。另外，第一金属框架的尺寸可以根据蒸镀机世代线的尺寸进行设计，本发明中不做具体限定。
S120：提供第二金属框架。
在该步骤中，提供第二金属框架120，其中，第二金属框架120具有多个第一镂空区域102。关于第二金属框架的材质、第一镂空区域的形状等，均已在前面进行了详细描述，在此不再赘述。另外需要说明的是，第二金属框架的具体形状可以根据实际产品需求进行设计，本发明中不做具体限定。
S130：通过激光焊接和/或螺纹连接将第二金属框架固定在第一金属框架的一侧。
根据本发明的实施例，可以通过激光焊接和/或螺纹连接将第二金属框架120固定在第一金属框架110的一侧，使第三镂空区域111覆盖多个第一镂空区域102在第一金属框架110上的正投影，由此，可以使得第一金属框架和第二金属框架牢固结合，从而有利于提高掩膜版的结构稳定性。根据本发明的一些具体实施例，可以仅通过激光焊接或螺纹连接的方式将第二金属框架120固定在第一金属框架110的一侧。根据本发明的另一些具体实施例，可以通过激光焊接和螺纹连接进行固定，从而进一步提高第一金属框架和第二金属框架的结合强度，进而有利于提高掩膜版的结构稳定性。
S200：在金属框架主体的一侧设置粘性框架。
根据本发明的实施例，参考图12至图14，在金属框架主体100的一侧设置粘性框架200，粘性框架200具有多个第二镂空区域210，第二镂空区域210在金属框架主体100上的正投影覆盖第一镂空区域102。
根据本发明的一些实施例，可以通过激光焊接和/或螺纹连接的方式将粘性框架200固定在金属框架主体100的一侧，由此，粘性框架可以与金属框架主体紧密配合，使得掩膜版的蒸镀面具有一定的粘性，从而提升蒸镀过程中蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的结合强度，可以至少在一定程度上避免蒸镀材料脱落污染蒸镀腔室，有利于提升蒸镀腔室的洁净度，从而提高产品良率。
根据本发明的一些具体实施例，当金属框架主体100包括第一金属框架110和第二金属框架120时，将第二金属框架120固定在第一金属框架110的一侧之后，可以通过激光焊接和/或螺纹连接将粘性框架200固定在第二金属框架120远离第一金属框架110的一侧。根据本发明的一些具体实施例，参考图15和图16，粘性框架200上可以设置第二螺纹孔220，第二金属框架120上可以设置第三螺纹孔121，可以通过螺纹连接将粘性框架200固定在第二金属框架120远离第一金属框架110的一侧。
根据本发明的一些实施例，制作前面所述的掩膜版的方法可以进一步包括：对粘性框架200的一侧表面进行粗糙化处理，粗糙化处理后的表面远离金属框架主体100设置。通过对粘性框架的表面进行粗糙化处理，可以增大粘性框架与蒸镀材料的接触面积，从而有利于提高蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的结合强度，进一步避免蒸镀材料的脱落，确保蒸镀腔室的洁净度。需要说明的是，上述粗糙化处理可以在金属框架主体100的一侧设置粘性框架200之前进行，也可以在将金属框架主体100的一侧设置粘性框架200之后进行。
根据本发明的一些实施例，粗糙化处理可以包括打磨、条纹处理、凹凸处理等方法中的一种或多种，通过上述粗糙化处理后，可以增大粘性框架与蒸镀材料的接触面积，从而进一步提高蒸镀材料与掩膜版蒸镀面的结合强度。
根据本发明的一些实施例，参考图15和图16，制作前面所述的掩膜版的方法可以进一步包括：在粘性框架200远离金属框架主体100的至少部分表面上形成胶层300。由此，可以进一步提高掩膜版蒸镀面的粘性，从而进一步提高蒸镀材料与掩膜版的结合强度，使得蒸镀材料更不易脱落。
根据本发明的一些实施例，参考图15，可以在将粘性框架200固定在金属框架主体100的一侧之后，再在粘性框架200远离金属框架主体100的表面上形成胶层300。根据本发明的另一些实施例，参考图16，可以先在粘性框架200的表面形成胶层300，之后，再将表面形成有胶层300的粘性框架200固定在金属框架主体100的一侧，胶层300远离金属框架主体100设置。
根据本发明的实施例，可以通过涂覆粘性胶的方式在粘性框架200的表面形成胶层300。本发明中对涂覆粘性胶的具体方式不做限定，本领域技术人员可以根据实际情况选择刷涂、喷涂、旋涂等方式涂覆粘性胶。
总的来说，利用上述方法制作掩膜版，步骤简便，不会造成掩膜版制作成本的显著提高；该方法可控性强，产品良率高。
文中术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”、“又一个实施例”、“一些实施例”、“一些具体实施例”或“另一些具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (11)
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
金属框架主体，所述金属框架主体具有多个第一镂空区域；
粘性框架，所述粘性框架设置在所述金属框架主体的一侧，所述粘性框架具有多个第二镂空区域，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影与所述第一镂空区域基本重合。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，进一步包括：
胶层，所述胶层设置在所述粘性框架远离所述金属框架主体的至少部分表面上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述金属框架主体包括：
第一金属框架，所述第一金属框架具有第三镂空区域；
第二金属框架，所述第二金属框架设置在所述第一金属框架和所述粘性框架之间，所述第二金属框架具有多个所述第一镂空区域，所述第三镂空区域覆盖多个所述第一镂空区域在所述第一金属框架上的正投影。
5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一金属框架的材质包括不锈钢和铟钢中的至少之一；
和/或，所述第二金属框架的材质包括不锈钢和铟钢中的至少之一。
6.根据权利要求1～3和5中任一项所述的掩膜版，其特征在于，满足以下条件中的至少之一：
所述粘性框架的材质包括环氧树脂；
所述粘性框架是可拆卸的；
所述粘性框架远离所述金属框架主体的表面具有多个凸起；
所述粘性框架的表面的粗糙度大于所述金属框架主体的表面的粗糙度；
所述粘性框架远离所述金属框架主体的表面的粗糙度大于所述粘性框架靠近所述金属框架主体的表面的粗糙度；
多个所述第一镂空区域的形状包括圆形、椭圆形、矩形、菱形、五边形和六边形中的至少之一；
所述第二镂空区域的形状和与所述第二镂空区域对应的所述第一镂空区域的形状相同。
7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述环氧树脂包括双酚A型环氧树脂；和/或，所述环氧树脂含有羟基和醚键。
8.根据权利要求1～3和5中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述金属框架主体包括连接处，所述连接处设置有激光焊点和/或螺纹孔。
9.一种制作权利要求1～8中任一项所述的掩膜版的方法，其特征在于，包括：
形成金属框架主体，所述金属框架主体具有多个第一镂空区域；
在所述金属框架主体的一侧设置粘性框架，所述粘性框架具有多个第二镂空区域，所述第二镂空区域在所述金属框架主体上的正投影覆盖所述第一镂空区域。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，形成所述金属框架主体包括：
提供第一金属框架，所述第一金属框架具有第三镂空区域；
提供第二金属框架，所述第二金属框架具有多个所述第一镂空区域；
通过激光焊接和/或螺纹连接将所述第二金属框架固定在所述第一金属框架的一侧，使所述第三镂空区域覆盖多个所述第一镂空区域在所述第一金属框架上的正投影；
将所述第二金属框架固定在所述第一金属框架的一侧之后，通过激光焊接和/或螺纹连接将所述粘性框架固定在所述第二金属框架远离所述第一金属框架的一侧。
11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于，进一步包括：对所述粘性框架的一侧表面进行粗糙化处理，粗糙化处理后的表面远离所述金属框架主体设置；
和/或，在所述粘性框架远离所述金属框架主体的至少部分表面上形成胶层。
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Citations (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3082805U (ja) * | 2001-06-20 | 2002-01-11 | 株式会社オプトニクス精密 | 蒸着用マスク |
| JP2002371349A (ja) * | 2001-06-19 | 2002-12-26 | Optonix Seimitsu:Kk | 蒸着用マスク |
| JP2005105328A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Canon Inc | マスク構造体の製造方法およびマスク構造体ならびに蒸着装置 |
| JP2005163111A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Sony Corp | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
| JP2010222687A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Seiko Epson Corp | 成膜用マスク |
| JP2012111195A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法 |
| CN203999787U (zh) * | 2014-08-12 | 2014-12-10 | 北京维信诺科技有限公司 | 一种蒸镀掩膜版 |
| US20150050767A1 (en) * | 2013-08-14 | 2015-02-19 | Sony Corporation | Evaporation mask and method of manufacturing display unit |
| KR101792667B1 (ko) * | 2017-04-07 | 2017-11-02 | 크레아퓨쳐 주식회사 | 파인 메탈 마스크 제조방법 |
| CN107419217A (zh) * | 2016-05-23 | 2017-12-01 | 日立麦克赛尔株式会社 | 蒸镀掩膜及其制造方法 |
| CN206736346U (zh) * | 2017-05-09 | 2017-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版 |
| CN108198956A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-06-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀用掩模板 |
| CN108546914A (zh) * | 2018-05-07 | 2018-09-18 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀用的掩膜版及掩膜版装置 |
| CN108559945A (zh) * | 2018-04-25 | 2018-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀用掩膜板 |
| CN108611598A (zh) * | 2018-07-27 | 2018-10-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种框架结构 |
| CN109402559A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-03-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及其制造方法、蒸镀装置、显示装置 |
| WO2019054718A2 (ko) * | 2017-09-18 | 2019-03-21 | 주식회사 티지오테크 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| KR101986528B1 (ko) * | 2018-10-11 | 2019-06-07 | 주식회사 티지오테크 | 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| CN110055498A (zh) * | 2018-01-19 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 面蒸镀源及其制作方法、蒸镀方法、蒸镀装置 |
| CN110158026A (zh) * | 2019-04-19 | 2019-08-23 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版和掩膜版的张网方法 |
| WO2019200723A1 (zh) * | 2018-04-19 | 2019-10-24 | 中芯集成电路（宁波）有限公司 | 一种掩膜版及其制造方法 |
| KR20200006346A (ko) * | 2018-07-10 | 2020-01-20 | 주식회사 티지오테크 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 oled 화소 형성용 마스크 |
| CN211057217U (zh) * | 2019-09-18 | 2020-07-21 | 昆山维信诺科技有限公司 | 一种掩膜版及其蒸镀装置 |
| JP2020158826A (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
| CN111876726A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-11-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 金属掩膜板和蒸镀方法，显示面板和显示装置 |
| CN112011757A (zh) * | 2020-08-26 | 2020-12-01 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版和蒸镀装置 |
| CN214327855U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-10-01 | 福建华佳彩有限公司 | 一种掩膜板 |
| KR20220046362A (ko) * | 2020-10-07 | 2022-04-14 | (주)더숨 | 마스크의 제조 방법 및 마스크 |
-
2023
- 2023-02-28 CN CN202310183758.2A patent/CN116162894B/zh active Active
Patent Citations (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002371349A (ja) * | 2001-06-19 | 2002-12-26 | Optonix Seimitsu:Kk | 蒸着用マスク |
| JP3082805U (ja) * | 2001-06-20 | 2002-01-11 | 株式会社オプトニクス精密 | 蒸着用マスク |
| JP2005105328A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Canon Inc | マスク構造体の製造方法およびマスク構造体ならびに蒸着装置 |
| JP2005163111A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Sony Corp | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
| JP2010222687A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-10-07 | Seiko Epson Corp | 成膜用マスク |
| JP2012111195A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法 |
| US20150050767A1 (en) * | 2013-08-14 | 2015-02-19 | Sony Corporation | Evaporation mask and method of manufacturing display unit |
| CN203999787U (zh) * | 2014-08-12 | 2014-12-10 | 北京维信诺科技有限公司 | 一种蒸镀掩膜版 |
| CN107419217A (zh) * | 2016-05-23 | 2017-12-01 | 日立麦克赛尔株式会社 | 蒸镀掩膜及其制造方法 |
| KR101792667B1 (ko) * | 2017-04-07 | 2017-11-02 | 크레아퓨쳐 주식회사 | 파인 메탈 마스크 제조방법 |
| CN206736346U (zh) * | 2017-05-09 | 2017-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版 |
| WO2019054718A2 (ko) * | 2017-09-18 | 2019-03-21 | 주식회사 티지오테크 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| CN108198956A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-06-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀用掩模板 |
| CN110055498A (zh) * | 2018-01-19 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 面蒸镀源及其制作方法、蒸镀方法、蒸镀装置 |
| WO2019200723A1 (zh) * | 2018-04-19 | 2019-10-24 | 中芯集成电路（宁波）有限公司 | 一种掩膜版及其制造方法 |
| CN108559945A (zh) * | 2018-04-25 | 2018-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀用掩膜板 |
| CN108546914A (zh) * | 2018-05-07 | 2018-09-18 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀用的掩膜版及掩膜版装置 |
| KR20200006346A (ko) * | 2018-07-10 | 2020-01-20 | 주식회사 티지오테크 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 oled 화소 형성용 마스크 |
| CN108611598A (zh) * | 2018-07-27 | 2018-10-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种框架结构 |
| KR101986528B1 (ko) * | 2018-10-11 | 2019-06-07 | 주식회사 티지오테크 | 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| CN109402559A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-03-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及其制造方法、蒸镀装置、显示装置 |
| JP2020158826A (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
| CN110158026A (zh) * | 2019-04-19 | 2019-08-23 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版和掩膜版的张网方法 |
| CN211057217U (zh) * | 2019-09-18 | 2020-07-21 | 昆山维信诺科技有限公司 | 一种掩膜版及其蒸镀装置 |
| CN111876726A (zh) * | 2020-08-04 | 2020-11-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 金属掩膜板和蒸镀方法，显示面板和显示装置 |
| CN112011757A (zh) * | 2020-08-26 | 2020-12-01 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版和蒸镀装置 |
| KR20220046362A (ko) * | 2020-10-07 | 2022-04-14 | (주)더숨 | 마스크의 제조 방법 및 마스크 |
| CN214327855U (zh) * | 2020-12-30 | 2021-10-01 | 福建华佳彩有限公司 | 一种掩膜板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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