CN203999787U - 一种蒸镀掩膜版 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种蒸镀掩膜版,所述掩膜版上成型一蒸镀开口区域,所述蒸镀开口区域与基板的待蒸镀区相对应,所述掩膜版上还成型有凹陷的遮盖区域,所述蒸镀开口区域设置于所述遮盖区域内,所述遮盖区域与待蒸镀的基板的待蒸镀区相对应,所述遮盖区域与待蒸镀的基板之间具有一间隙L。本实用新型通过在掩膜版上设置凹陷的遮盖区域,将掩膜版的遮盖区域接触基板发光面一侧,使得掩膜版遮盖区域与玻璃基板的发光区域由接触变为非接触,两者具有一定间隙,从而避免了掩膜版与基板之间在蒸镀过程中所发生的蹭伤或划伤,提高了基板蒸镀的成品率,使区域多色发光屏体的缺陷发生率由原来的50%降低至10%。
Description
技术领域
本实用新型涉及OLED区域多色技术领域,特别涉及一种降低区域多色OLED缺陷发生率的蒸镀掩膜版,这里所说的基板指的是带有电极的玻璃基板或柔性基板。
背景技术
OLED区域多色的实现一般是通过区域蒸镀不同的有机材料膜层来实现,而蒸镀制作通过掩膜的方式进行,那么区域蒸镀就需要掩膜版区域遮挡。如图1所示,在掩膜版2’上成型有蒸镀开口区域21,在区域遮挡时会出现掩膜版和基板的发光区膜层直接接触的情况,这样就对掩膜版的洁净度要求会很高,掩膜版上的Particle(颗粒)会直接粘附在基板的发光面,形成缺陷,掩膜版与基板产生摩擦,不仅会对基板产生划伤,还会产生对有机层的划伤所导致的缺陷,严重影响成品率。
实用新型内容
为了降低区域多色发光屏体的缺陷发生率,提高屏体的成品率,本实用新型提供了一种蒸镀掩膜版。
所述技术方案如下:
一种蒸镀掩膜版,所述掩膜版上成型一蒸镀开口区域,所述蒸镀开口区域与基板的待蒸镀区相对应,其特征在于,所述掩膜版上还成型有凹陷的遮盖区域,所述蒸镀开口区域设置于所述遮盖区域内,所述遮盖区域与待蒸镀的基板的待蒸镀区相对应,所述遮盖区域与待蒸镀的基板之间具有一间隙L。
所述间隙L为5um~A/tanαum;其中:A为区域色之间的暗区设计宽度um,α为蒸镀角度。
所述的区域色之间的暗区设计宽度A至少为5um;所述的蒸镀角度α为20°~40°。
所述蒸镀开口区域位于所述遮盖区域内的任一位置。。
本实用新型所提供的技术方案带来的有益效果是:
本实用新型通过在掩膜版上设置凹陷的遮盖区域,将掩膜版的遮盖区域接触基板发光面一侧,使得掩膜版遮盖区域与玻璃基板的发光区域由接触变为非接触,两者具有一定间隙,从而避免了掩膜版与基板之间在蒸镀过程中所发生的蹭伤或划伤,提高了基板蒸镀的成品率;同时,由于掩膜版的遮盖区域与接触基板发光面之间存在一定间隙,蒸镀过程中掩膜版不接触基板的发光面,这样对掩膜版的洁净度要求也就大大降低,节省大量的工作量,使区域多色发光屏体的缺陷发生率由原来的50%降低至10%。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中掩膜版与基板的蒸镀示意图;
图2是本实用新型掩膜版与基板的蒸镀示意图;
图3是图2中的最大间隙的计算图;
图4是图2中的掩膜版平面结构示意图;
图5是图4中的掩膜版A-A截面示意图;
图6是本实用新型提供的另一种掩膜版平面结构示意图;
图7是图6中的掩膜版B-B截面示意图。
图中:1-基板,11-区域色间的暗区;2、2’-掩膜版,21-蒸镀开口区域,22-遮盖区域。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
如图2所示,本实用新型提供了一种蒸镀掩膜版,掩膜版上成型有一与待蒸镀基板的待蒸镀区相对应的蒸镀开口区域,掩膜版上成型有凹陷的遮盖区域,遮盖区域与待蒸镀基板的待蒸镀区相对应,遮盖区域与待蒸镀的基板之间具有一间隙L。间隙L可根据掩膜版的厚度最小设定为5um,L的最大间隙可根据区域色间的暗区11进行设计,所述间隙L最大值为A/tanαum;其中:A为区域色间的暗区设计宽度um,A值的大小可根据具体设计而定,通常至少为5um,α为蒸镀角度,通常蒸镀角度a为20度-40度之间,一般为30度,如图2所示。
其中的蒸镀开口区域位于遮盖区域内的任一位置,根据基板的蒸镀要求设定多块蒸镀区域,根据各块蒸镀区域的位置设置每块掩膜版中蒸镀开口的位置。如图4和图5所示,其中的蒸镀开口区域位于遮盖区域的一侧。
图6和图7中,蒸镀开口区域位于遮盖区域的中部。当然蒸镀开口也可以位于遮盖区域的其它位置,这里不再赘述。
具体蒸镀操作步骤如下:
将待蒸镀基板传递进入真空腔室,第一块区域蒸镀掩模版也传递进入此真空腔室,将基板和掩模版紧密贴合,此时,第一块蒸镀区域进行有机材料的蒸镀,基板上其他待蒸镀区域没有直接和掩模版贴合,而是有间隙L,第一块区域蒸镀完毕后,更换掩模版,进行第二块区域的蒸镀,依次类推,直到所有待蒸区域全部蒸镀完毕,如图2所示。
上述本实用新型实施例序号仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种蒸镀掩膜版,所述掩膜版(2)上成型一蒸镀开口区域(21),所述蒸镀开口区域(21)与基板的待蒸镀区相对应,其特征在于,所述掩膜版(2)上还成型有凹陷的遮盖区域(22),所述蒸镀开口区域(21)设置于所述遮盖区域(22)内,所述遮盖区域(22)与待蒸镀的基板(1)的待蒸镀区相对应,所述遮盖区域(22)与待蒸镀的基板(1)之间具有一间隙L。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜版,其特征在于,所述间隙L为5um~A/tanαum;其中:A为区域色之间的暗区设计宽度um,α为蒸镀角度。
3.根据权利要求2所述的蒸镀掩膜版,其特征在于,所述的区域色之间的暗区设计宽度A至少为5um;所述的蒸镀角度α为20°~40°。
4.根据权利要求1-3任一所述的蒸镀掩膜版,其特征在于,所述蒸镀开口区域(21)位于所述遮盖区域(22)内的任一位置。
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2014
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