CN100552860C - 隔离子及场致发射显示器件的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及场发射器件的生产工艺，尤其是隔离子及场致发射显示器件的制造方法，其特征在于，包括下列步骤，a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；b、以权利要求1至4中任意一种方法在玻璃表面上制作隔离子；c、在形成隔离子的玻璃上制作阴极电极接触面；d、在玻璃上制作形成阴极电极和栅极电极；e、在阴极电极上制作出发射材料，与涂敷有荧光粉、黑条、和阳极电极的另一玻璃基板进行封接。本发明避免了制作隔离子时的复杂安装工艺，解决了隔离子放置存在对位不准的问题及隔离子会画质造成的影响，并且使原来分立的隔离子装配问题得到了解决，降低了工艺难度，使得器件的性能更加可靠。
Description
技术领域
本发明涉及场发射器件的生产工艺，尤其是隔离子及场致发射显示器件的制造方法。
背景技术
场致电子发射也称冷阴极电子发射，是靠强的外加电场来降低物体的表面势垒，发射体内的大量电子由于隧道效应穿透表面势垒逸出形成场致电子发射。而且它没有时间延迟、功耗低，因而场致发射是一种非常有效的电子发射方式。在LCD、PDP等平板显示日渐替代CRT的市场之时，作为发光原理类似CRT，性能更加优异，批量生产的成本比目前平板更低的场发射显示器件现在越来越多的受到人们的关注。
但场发射器件的制造还存在着一些难以解决的问题，如隔离子的制作就是其中较为重要而且还制作复杂的一项。普通的场致发射显示器件，阴极板上有场致发射器、栅极、阴极，带有荧光粉和黑条的阳极板，以及使阴、阳极板均匀隔开的多个隔离子，使阴、阳极板间维持真空并沿周边密封的封接材料，阴极为场发射器提供电流，栅极引导电子发射并被吸引到阳极荧光粉轰击发光。这种结构的FED(field emission display场致发射显示器件)，其隔离子的放置需要在电极完成的情况下使用隔离子对准设备放置或使用对准粘结设备来完成，这样会使得器件的制作过程较为复杂，隔离子的对准存在一定难度，并会对显示画面造成一定的影响且成本也会上升。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种场致发射显示器件生产工艺中隔离子的制造方法，能够在制作电极之前将阴、栅极间的绝缘层和隔离子制作完成，解决了隔离子的对准问题，还避免了绝缘层的印刷步骤；
本发明的目的之二是提供一种场致发射显示器件的制造方法，采用本发明提供的隔离子制造方法，能够降低工艺难度，消除隔离子所影响画质的问题，减少成本，并使得到的器件性能更加可靠。
一种隔离子的制造方法，其特别之处在于，包括如下步骤：
a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；b、在玻璃上涂覆一层感光胶，感光胶不受玻璃刻蚀液的刻蚀；通过曝光去除多余的感光胶，并进行刻蚀，形成隔离子并剥离剩余的感光胶；c、在此结构上再涂覆一层感光胶，通过掩模版进行第二次曝光，经过曝光刻蚀后，剥离剩余的感光胶。
步骤a中采用超声波、纯水或二流体清洗方法。
步骤b中使用玻璃刻蚀液进行刻蚀。
步骤b中刻蚀前通过曝光去除多余的感光胶。
一种场致发射显示器件的制造方法，其特别之处在于，包括如下步骤：
a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；b、以权利要求1至4中任意一种方法在玻璃表面上制作隔离子；c、在形成隔离子的玻璃上制作阴极电极接触面；d、在玻璃上制作形成阴极电极和栅极电极；e、在阴极电极上制作出发射材料，与涂敷有荧光粉、黑条和阳极电极的另一玻璃基板进行封接。
步骤e中保持隔离子与黑条一一对应。
步骤d中采用真空蒸镀或磁控溅射方法。
本发明避免了制作隔离子时的复杂安装工艺，解决了隔离子放置存在对位不准的问题，解决了隔离子对画质所带来的影响。由于隔离子是FED的一个关键技术，使用这一方法，在材料上不会改变太多，也解决了隔离的一个关键技术，使用这一方法，在材料上不会改变太多，也解决了隔离子的正确放置问题，优化了结构。
本发明还涉及一种场致发射显示器件的制造方法，使用在绝缘体上直接加工制作隔离子的方法，使保持真空间隙的隔离子与基板成为一体，并且使原来分立的隔离子装配问题得到了解决，降低了工艺难度，解决了隔离子在安装过程中的对准困难的问题及对画质的影响，使得器件的性能更加可靠。
具体实施方式
实施例1：
(1)、首先对要制作阴极电极的平板玻璃进行清洁处理，得到清洁的基底表面；
(2)、在清洗好的基底上贴敷一层感光膜，通过掩模版进行曝光、显影形成图形，对所形成具有感光图形的基板进行刻蚀，之后剥离剩余的感光胶，形成隔离子；
(3)、在形成的图形上在印刷一层感光性浆料，通过第二张掩模版进行曝光，显影，对所形成具有感光图形的基板再进行刻蚀，之后剥离剩余的感光胶，形成图形；
(4)、接着需要对所形成带有隔离子结构的基底进行阴极电极和栅极电极的制作；
(5)、通过两次蒸镀或溅射金属的工艺完成阴极电极和栅极电极，再使用感光胶，经过曝光、显影、刻蚀和剥离一系列的工艺从而形成阴极电极和栅极电极；
(6)、在阴极电极上通过印刷或使用部分遮挡的磁控溅射的方法制作出发射材料。
(7)、在另一平板玻璃上制作形成三色荧光粉，黑色矩阵。
实施例2：
一种隔离子的制造方法，包括如下步骤：
制备具有两层不同高度的平板玻璃，将较高层结构作为隔离子。
a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；采用超声波、纯水、二流体等清洗方法。
b、在玻璃上涂覆一层感光胶，要求此感光胶不受玻璃刻蚀液的刻蚀。通过曝光去除多余的感光胶，并进行刻蚀，要求使用玻璃刻蚀液进行刻蚀，形成隔离子并剥离剩余的感光胶；
c、在此结构上再涂覆一层感光胶，通过掩模版进行第二次曝光，经过曝光刻蚀后，剥离剩余的感光胶。
一种场致发射显示器件的制造方法，包括下列步骤：
制作具有阴极电极、隔离子的下基板玻璃和具有荧光粉、黑矩阵的上基板玻璃，并对合形成的场致发射显示器件。
a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；采用超声波、纯水、二流体等清洗方法。
b、在玻璃表面上制作形成隔离子。特征在于采用可刻蚀玻璃的刻蚀液及不受玻璃刻蚀液刻蚀的光刻胶。
c、在形成隔离子的玻璃上在此制作阴极电极接触面。特征与步骤b相同。
d、在玻璃上制作形成阴极电极和栅极电极；特征在于采用真空蒸镀或磁控溅射的方法使用金属材质形成。
e、在阴极电极上制作出发射材料，与涂敷有荧光粉、黑条、和阳极电极的另一玻璃基板进行封接即可完成。
Claims (7)
1、一种隔离子的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；
b、在玻璃上涂覆一层感光胶，感光胶不受玻璃刻蚀液的刻蚀；通过曝光去除多余的感光胶，并进行刻蚀，形成隔离子并剥离剩余的感光胶；
c、在此结构上再涂覆一层感光胶，通过掩模版进行第二次曝光，经过曝光刻蚀后，剥离剩余的感光胶。
2、如权利要求1所述的隔离子的制造方法，其特征在于：
步骤a中采用超声波、纯水或二流体清洗方法。
3、如权利要求1所述的隔离子的制造方法，其特征在于：
步骤b中使用玻璃刻蚀液进行刻蚀。
4、如权利要求1所述的隔离子的制造方法，其特征在于：
步骤b中刻蚀前通过曝光去除多余的感光胶。
5、一种场致发射显示器件的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；
b、以权利要求1至4中任意一种方法在玻璃表面上制作隔离子；
c、在形成隔离子的玻璃上制作阴极电极接触面；
d、在玻璃上制作形成阴极电极和栅极电极；
e、在阴极电极上制作出发射材料，与涂敷有荧光粉、黑条和阳极电极的另一玻璃基板进行封接。
6、如权利要求5所述的场致发射显示器件的制造方法，其特征在于：
步骤e中保持隔离子与黑条一一对应。
7、如权利要求5所述的场致发射显示器件的制造方法，其特征在于：
步骤d中采用真空蒸镀或磁控溅射方法。
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Publications (2)
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| JP2999526B2 (ja) * | 1990-08-22 | 2000-01-17 | 沖電気工業株式会社 | バリアリブ形成方法 |
| CN100341105C (zh) * | 2004-12-16 | 2007-10-03 | 中原工学院 | 用玻璃条阵列为隔离柱的三极场发射显示器及制作工艺 |
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- 2007-12-28 CN CNB2007103007341A patent/CN100552860C/zh not_active Expired - Fee Related
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