CN112662993B - 一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法，掩模版包括：掩膜框架；支撑结构，固定于所述掩膜框架上；至少一掩膜片，设于所述支撑结构上；至少两根遮挡条，所述遮挡条具有长度方向和宽度方向，在所述宽度方向，所述遮挡条包括位于其中部的凸部以及连接在所述凸部两侧的边翼；所述遮挡条固定于所述支撑结构上，每一所述掩膜片的边侧弹性抵压在所述遮挡条的边翼，所述遮挡条能够向具有凸部的反向弯曲使得所述掩膜片和所述遮挡条之间无缝相接。在遮挡条的中间位置设置凸部，掩模版与玻璃基板贴合时，玻璃基板压合凸部使得遮挡条向具有凸部的反向弯曲，使所述掩膜片和遮挡条之间无缝相接，掩膜片得以完全伸展，避免出现混色不良的问题，提高良率。
Description
技术领域
本申请涉及掩模版领域，尤其地涉及一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法。
背景技术
随着显示技术的不断发展，通常的显示器包括液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)、有机电致发光显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)、等离子显示器(Plasma Display Panel，PDP)以及电子墨水(Electronic Ink)显示器等。因其具有功耗低、轻薄、高色域、显示亮度高、可视角度宽以及响应速度快等优点，有机电致发光显示器显示器越来越受到市场的欢迎。
有机发光二极管的生产制程中，通常采用掩模蒸镀的方法在玻璃基板上形成有机发光功能层(包括阴极、阳极、电子传输层、电子阻挡层、空穴传输层、空穴阻挡层、有机发光层，或者其他功能膜层)。为使玻璃基板与掩模版之间贴合良好，通常在玻璃基板远离金属掩模板的一侧设置磁板。当磁板靠近掩模版时，通过磁铁吸附的作用，掩模版托举玻璃基板，从而保证掩模版与玻璃基板之间贴合良好。
掩模版(Mask)是由掩膜框架(Frame)、遮挡条(Cover)、支撑结构(Howling)以及掩模片(Sheet)焊接组合而成。掩模片是一种将沉积材料或蒸镀材料沉积或蒸镀到基板上并形成精细图案的掩模片。通常，掩模片包括多个允许沉积材料通过的开口，以将沉积材料或蒸镀材料沉积或蒸镀到玻璃基板上并形成精细图案的掩模。
请参阅图1和图2，现有技术中提供一种蒸镀装置1，包括掩模版100、玻璃基板200和磁板300，掩模版100包括掩膜片10和遮挡条20，掩膜片10包括主体11和侧边形成的具有弹性的褶皱部12，褶皱部12抵压在遮挡条20的边侧。
在蒸镀掩膜过程中，由于遮挡条20是具有弹性的，掩模版100与玻璃基板200贴合时，遮挡条20会出现凸部或凹部。如图1所示，当遮挡条20出现凹部时，掩膜片10的主体11与遮挡条20之间的缝隙小，所有掩膜片10与玻璃基板贴合的面是个弯曲面10’；如图2所示，当遮挡条20出现凸部时，掩膜片10的主体11与遮挡条20之间的缝隙大，从而使得所有掩膜片10与玻璃基板贴合的面并不是一个平面，而是不规则的更弯曲的弯曲面10’，这样就造成了大部分掩膜片10之间不能完全展开，易出现混色不良，影响良率。
因此，确有必要来开发一种新型的掩模版，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种掩模版，其能够解决现有技术中蒸镀时，掩膜片无法完全伸展，导致出现混色不良影响良率的问题。
为实现上述目的，本发明提供一种掩模版，包括：掩膜框架；支撑结构，固定于所述掩膜框架上；至少一掩膜片，设于所述支撑结构上；至少两根遮挡条，所述遮挡条具有长度方向和宽度方向，在所述宽度方向，所述遮挡条包括位于其中部的凸部以及连接在所述凸部两侧的边翼；所述遮挡条固定于所述支撑结构上，每一所述掩膜片的边侧弹性抵压在所述遮挡条的边翼，所述遮挡条能够向具有凸部的反向弯曲使得所述掩膜片和所述遮挡条之间无缝相接。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述支撑结构用于支撑所述掩膜片，避免所述掩膜片发生弯曲变形，从而提高蒸镀形成的膜层的位置精度。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述凸部为半球形或圆台形或棱台形。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述凸部的宽度小于相邻的所述掩膜片之间的距离。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述掩膜片包括主体和朝向所述遮挡条侧边形成的具有弹性的褶皱部，所述具有弹性的褶皱部抵压在所述遮挡条的边翼。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述掩膜片为条状，当所述掩膜片具有两个或以上时，所述掩膜片相互平行地且相间地设置在所述支撑结构上，任意两个掩膜片之间均压持着一个所述遮挡条，所述遮挡条用于对相邻所述掩膜片之间的缝隙进行遮挡，以阻挡沉积或蒸镀材料在相邻的所述掩模片之间的区域的沉积或蒸镀。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述掩膜片具有至少一个开口区，当所述掩膜片具有两个或以上时，所有开口区成阵列排布。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述支撑结构具有一长度方向，所述支撑结构的长度方向与所述遮挡条的长度方向相垂直，所述支撑结构与所述遮挡条相交设置且形成多个子区域。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述子区域与所述开口区一一对应，所述开口区位于对应的所述子区域内。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述遮挡条的材料采用铁镍合金(Invar)，所述支撑结构的材料采用铁镍合金(Invar)或不锈钢(SUS)。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述凸部的厚度大于所述掩模片的厚度。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述掩模片与所述凸部的水平距离大于20μm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述支撑结构与所述掩膜框架一体成型。
为实现上述目的，本发明还提供一种蒸镀装置，包括：磁板；玻璃基板，设于所述磁板的一侧；本发明涉及的所述掩模版，设于所述玻璃基板远离所述磁板的一侧。
为实现上述目的，本发明还提供一种蒸镀方法，包括以下步骤：提供磁板、玻璃基板和本发明涉及的所述掩模版，所述掩模版设于所述玻璃基板远离所述磁板的一侧；通过所述磁板吸附所述掩模版，将所述掩模版的所述开口区与所述玻璃基板进行对位，使得所述掩模版与所述玻璃基板贴合，所述玻璃基板压合所述凸部使得所述遮挡条向具有凸部的反向弯曲，使得所述掩膜片和所述遮挡条之间无缝相接。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法，在遮挡条的中间位置设置凸部，掩模版与玻璃基板贴合时，玻璃基板压合凸部使得遮挡条向具有凸部的反向弯曲，使得所述掩膜片和所述遮挡条之间无缝相接，此时，所有掩膜片之间通过遮挡条相互挤压低靠，掩膜片与遮挡条之间间隙消除，遮挡条能够给予掩膜片一个向上的且用以抵消掩膜片自身重力的力，如此，使得所有掩膜片与玻璃基板贴合的面形成一个平展的面，掩膜片得以完全伸展，避免出现混色不良的问题，提高良率。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有技术提供的蒸镀装置中当遮挡条出现凹部时的结构示意图；
图2为现有技术提供的蒸镀装置中当遮挡条出现凸部时的结构示意图；
图3为本发明实施例1提供的掩模版的俯视结构示意图；
图4为本发明实施例1提供的掩模版的剖视结构示意图；
图5为本发明实施例1提供的蒸镀装置的结构示意图；
图6为本发明实施例1提供的蒸镀方法的流程图；
图7为本发明实施例2提供的掩模版的剖视结构示意图。
附图说明：
蒸镀装置-1；
掩模版-100； 玻璃基板-200；
磁板-300； 掩膜片-10；
遮挡条-20； 支撑结构-30；
掩膜框架-40； 主体-11；
褶皱部-12； 凸部-21；
边翼-22； 开口区-13；
子区域-50； 弯曲面-10’；
平面-20’。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中都属于本申请保护的范围。
本发明实施例提供一种掩模版，请参阅图3和图4，图3和图4分别为本发明实施例提供的掩模版100的俯视结构示意图以及剖视结构示意图。掩模版100包括掩膜片10、遮挡条20、支撑结构30和掩膜框架40。
支撑结构30固定于掩膜框架40上，遮挡条20固定于支撑结构30上，遮挡条20、支撑结构30与掩膜框架40一体成型。支撑结构30用于支撑掩膜片10，避免掩膜片10发生弯曲变形，从而提高蒸镀形成的膜层的位置精度。
支撑结构30具有一长度方向，遮挡条20具有长度方向和宽度方向，支撑结构30的长度方向与遮挡条20的长度方向相垂直，支撑结构30与遮挡条20相交设置且形成多个子区域50。
掩膜片10设于支撑结构30上，掩膜片10为条状，相互平行地且相间地设置在支撑结构30上。掩膜片10具有多个开口区13，所有开口区13成阵列排布，子区域50与开口区13一一对应，开口区13位于对应的子区域50内。
本实施方式中，掩模片10为精细金属掩模片(Fine Metal Mask Sheet，FMMSheet)，用于制作OLED掩模版的发光结构层；在其他实施方式中，掩模片10也可以是通用金属掩膜片(Common Metal Mask Sheet)，用于制作OLED掩模版的其他膜层，例如阴极和阳极。
任意两个掩膜片10之间均压持着一个遮挡条20，遮挡条20用于对相邻掩膜片10之间的缝隙进行遮挡，以阻挡沉积或蒸镀材料在相邻的掩模片之间的区域的沉积或蒸镀。
遮挡条20在其宽度方向，遮挡条20包括位于其中部的凸部21以及连接在凸部21两侧的边翼22，凸部21为圆台形或棱台形。
掩膜片10包括主体11和朝向遮挡条20侧边形成的具有弹性的褶皱部12，具有弹性的褶皱部12抵压在遮挡条20的边翼22。遮挡条20能够向具有凸部21的反向弯曲使得掩膜片10的主体11和遮挡条20的边翼22之间无缝相接。
在本实施例中，为了在蒸镀过程中使掩膜片完全伸展，掩膜片10和遮挡条20之间的缝隙更小，所以本发明中设置边翼22的厚度与掩膜片10的厚度相同，凸部21的厚度B大于掩模片10的厚度A。
凸部21的宽度小于相邻的掩膜片10之间的距离，掩模片10与凸部21的水平距离C大于20μm。
在本实施例中，遮挡条20的材料采用铁镍合金，支撑结构30的材料采用铁镍合金或不锈钢，掩膜片的材料采用铁镍合金。
本发明还提供一种蒸镀装置，请参阅图5，图5为本发明实施例提供的蒸镀装置的结构示意图。蒸镀装置1包括掩模版100、玻璃基板200和磁板300。
玻璃基板200设于磁板300的一侧，掩模版100设于玻璃基板200远离磁板300的一侧。当掩模版100与玻璃基板200贴合时，玻璃基板200压合凸部21使得遮挡条20向具有凸部21的反向弯曲，褶皱部12抵压在遮挡条20的边翼22，使得掩膜片10的主体11和遮挡条20的边翼22之间无缝相接。此时，所有掩膜片之间通过遮挡条相互挤压低靠，掩膜片与遮挡条之间间隙消除，遮挡条能够给予掩膜片一个向上的且用以抵消掩膜片自身重力的力，如此，使得所有掩膜片与玻璃基板贴合的面形成一个平面20’。
本发明还提供一种蒸镀方法，请参阅图6，图6为本发明实施例提供的蒸镀方法的流程图，蒸镀方法包括步骤1-步骤2。
步骤1：提供磁板300、玻璃基板200和本发明涉及的掩模版100，掩模版100设于玻璃基板200远离磁板300的一侧。
步骤2：通过磁板300吸附掩模版100，将掩模版100的开口区13与玻璃基板200进行对位，使得掩模版100与玻璃基板200贴合，玻璃基板200压合凸部21使得遮挡条20向具有凸部21的反向弯曲，使得掩膜片10和遮挡条20之间无缝相接。
此时，所有掩膜片之间通过遮挡条相互挤压低靠，掩膜片与遮挡条之间间隙消除，遮挡条能够给予掩膜片一个向上的且用以抵消掩膜片自身重力的力，如此，使得所有掩膜片与玻璃基板贴合的面形成一个平展的面，掩膜片10得以完全伸展，避免出现混色不良的问题，提高良率。
实施例2
本实施例中的掩模版结构，其包括的遮挡条与实施例1中相似，也具有凸部21和连接在凸部21两侧的边翼22，其与实施例1中的对应结构大致相同，其相同的结构可参照实施例1中的对应描述，此处不再赘述。其中两者的主要不同之处在于，凸部21为半球形，请参阅图7，图7为本发明实施例提供的掩模版100的剖视结构示意图。
本发明的有益效果在于：本发明提供一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法，在遮挡条20的中间位置设置凸部21，掩模版100与玻璃基板200贴合时，玻璃基板200压合凸部21使得遮挡条20向具有凸部21的反向弯曲，使得掩膜片10和遮挡条20之间无缝相接，此时，所有掩膜片之间通过遮挡条相互挤压低靠，掩膜片与遮挡条之间间隙消除，遮挡条能够给予掩膜片一个向上的且用以抵消掩膜片自身重力的力，如此，使得所有掩膜片与玻璃基板贴合的面形成一个平展的面，掩膜片10得以完全伸展，避免出现混色不良的问题，提高良率。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种柔性曲面显示屏进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (9)
1.一种掩模版，其特征在于，包括：
掩膜框架；
支撑结构，固定于所述掩膜框架上；
至少一掩膜片，设于所述支撑结构上，所述掩膜片具有至少一个开口区；
至少两根遮挡条，所述遮挡条具有长度方向和宽度方向，在所述宽度方向，所述遮挡条包括位于其中部的凸部以及连接在所述凸部两侧的边翼；所述遮挡条固定于所述支撑结构上，每一所述掩膜片的边侧弹性抵压在所述遮挡条的边翼，所述遮挡条能够向具有凸部的反向弯曲使得所述掩膜片和所述遮挡条之间无缝相接；
所述掩膜片包括主体和朝向所述遮挡条侧边形成的具有弹性的褶皱部，所述具有弹性的褶皱部抵压在所述遮挡条的边翼。
2.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述凸部为半球形或圆台形或棱台形。
3.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述凸部的宽度小于相邻的所述掩膜片之间的距离。
4.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述掩膜片为条状，当所述掩膜片具有两个或以上时，所述掩膜片相互平行地且相间地设置在所述支撑结构上，任意两个掩膜片之间均压持着一个所述遮挡条，所述遮挡条用于对相邻所述掩膜片之间的缝隙进行遮挡。
5.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，当所述掩膜片具有两个或以上时，所有开口区成阵列排布。
6.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述遮挡条的材料采用铁镍合金。
7.根据权利要求1所述的掩模版，其特征在于，所述凸部的厚度大于所述掩膜 片的厚度，所述掩模片与所述凸部的水平距离大于20μm。
8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：
磁板；
玻璃基板，设于所述磁板的一侧；
如权利要求1-7任一项所述掩模版，设于所述玻璃基板远离所述磁板的一侧。
9.一种蒸镀方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供磁板、玻璃基板和如权利要求1-7任一项所述掩模版，所述掩模版设于所述玻璃基板远离所述磁板的一侧；
通过所述磁板吸附所述掩模版；将所述掩模版的所述开口区与所述玻璃基板进行对位，使得所述掩模版与所述玻璃基板贴合，所述玻璃基板压合所述凸部使得所述遮挡条向具有凸部的反向弯曲，使得所述掩膜片和所述遮挡条之间无缝相接，使得所有掩膜片与玻璃基板贴合的面形成一个平展的面。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011405770.6A CN112662993B (zh) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | 一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011405770.6A CN112662993B (zh) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | 一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112662993A CN112662993A (zh) | 2021-04-16 |
| CN112662993B true CN112662993B (zh) | 2022-04-26 |
Family
ID=75401226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011405770.6A Active CN112662993B (zh) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | 一种掩模版、蒸镀装置及蒸镀方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112662993B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114107896A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩模版的制作方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL77934C (zh) * | 1945-10-06 | |||
| CN104611669B (zh) * | 2015-03-04 | 2017-05-10 | 信利（惠州）智能显示有限公司 | 一种掩膜板的制作方法 |
| KR101659948B1 (ko) * | 2016-07-25 | 2016-10-10 | 주식회사 엠더블유와이 | 살대형 서포트 시트, 이를 이용한 파인 메탈 마스크 조립체 제조 방법, 제조 장치 및 파인 메탈 마스크 조립체 |
| CN106544638B (zh) * | 2016-12-09 | 2018-12-18 | 中国科学院半导体研究所 | 一种拼装型的掩模板装置 |
| CN206692716U (zh) * | 2017-05-02 | 2017-12-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置 |
| CN109943805B (zh) * | 2019-03-29 | 2021-04-30 | 云谷（固安）科技有限公司 | 掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件 |
| CN110284107A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-09-27 | 武汉天马微电子有限公司 | 用于显示面板的支撑条、支撑装置及显示面板的蒸镀方法 |
| CN110541144B (zh) * | 2019-09-29 | 2022-05-17 | 昆山国显光电有限公司 | 掩模框架、掩模板以及掩模结构 |
-
2020
- 2020-12-03 CN CN202011405770.6A patent/CN112662993B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN112662993A (zh) | 2021-04-16 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |