CN109943805B - 掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件，基于所提供的掩膜组件组装方法，所得到的掩模组件中被不同掩膜支撑条支撑的同一掩膜片在掩膜支撑条分布方向上的不同位置处具有相同的水平高度，如此在真空蒸镀时能够提高掩膜片上表面与蒸镀基板之间的贴合度，降低沉积于蒸镀基板上有机材料的位置偏离，使得像素图形的阴影(shadow)更加均匀，可有效避免显示屏产生混色、亮度不均等问题。

Description

掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件

技术领域

本申请涉及OLED制造领域，更具体地说，涉及一种掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件。

背景技术

目前，有机电致发光显示器件(Organic Electroluminesecent Display，OLED)凭借其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，已经逐渐成为显示领域的主流。OLED显示器件的全彩显示一般包括红(R)绿(G)蓝(B)子像素独立发光或白光OLED结合彩色滤光片等方式，当OLED显示器件的RGB子像素采用并置像素排列方式时，真空蒸镀用的掩膜组件是至关重要的部件。具体而言，在真空蒸镀过程中，需要通过掩膜组件将有机发光材料按照预定程序蒸镀到蒸镀基板上，从而在蒸镀基板上形成与掩膜组件上掩膜图案相应的像素图形。基于此，提供高精度的掩膜组件是提高有机材料蒸镀效果的一个关键因素。

掩膜组件主要包括掩膜框及若干并列设置于掩膜框上的掩膜片，其中掩膜片具有用以在蒸镀时于蒸镀基板上形成像素图形的掩膜图案，现有一些设计中还在掩膜框上设置有用以对掩膜片形成支撑的掩膜支撑条，掩膜支撑条的设置可有效降低掩膜片中间区域的下垂量，从而提升在蒸镀过程中掩膜片与蒸镀基板的贴合效果，进而提高产品蒸镀效果。然现有技术中掩膜支撑条的设置方式对提高产品蒸镀效果还是比较有限，在应用于真空蒸镀过程中还是会出现有机材料沉积位置产生偏离、像素图形阴影(shadow)不均匀等问题，如此会使得显示屏产生混色、亮度不均等不良现象。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种不同于现有技术的掩膜组件组装方案，以进一步提升掩膜片在蒸镀过程中与蒸镀基板的贴合效果，进而达到提高产品蒸镀效果的目的。为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：

一种掩膜组件组装方法，其特征在于，包括：

提供掩膜框，所述掩膜框具有两个相对设置的第一边及两个相对设置的第二边；

拉伸张紧掩膜支撑条并将所述掩膜支撑条的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第一边，于所述第一边的长度方向上，若干掩膜支撑条间隔分布，且靠近所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度小于远离所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度；

于所述掩膜框的两个所述第二边施加用以挤压所述掩膜框的第一对顶力，拉伸张紧具有掩膜图案的掩膜片并将所述掩膜片的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第二边，所述掩膜组件至少具有一条所述掩膜片且每条所述掩膜片均由若干所述掩膜支撑条支撑。

进一步，所述组装方法在所述掩膜支撑条固定至所述掩膜框之前还包括：于所述掩膜框的两个所述第一边施加用以挤压所述掩膜框的第二对顶力。

进一步，所述组装方法在每一所述掩膜支撑条固定完成后还包括：撤销用以在固定前拉伸张紧该所述掩膜支撑条的拉伸力，并释放部分所述第二对顶力以平衡该所述掩膜支撑条的收缩力。

进一步，所述组装方法在每一所述掩膜片固定完成后还包括：撤销用以在固定前拉伸张紧该所述掩膜片的拉伸力，并释放部分所述第一对顶力以平衡该所述掩膜片的收缩力。

进一步，所述掩膜组件至少具有两条并列设置的所述掩膜片，每两相邻的两所述的掩膜片之间形成有狭缝，所述掩膜组件于每一所述狭缝位置处均具有一条用以遮挡该所述狭缝的掩膜遮挡条；所述组装方法在固定所述掩膜片之前还包括：拉伸张紧所述掩膜遮挡条并将所述掩膜遮挡条的两端分别固定至两个所述第二边，所述掩膜遮挡条的设置位置与所述狭缝的形成位置相对应。

进一步，所述掩膜遮挡条的两端延伸形成有凸伸超出两个所述第二边外侧供拉伸张紧所述掩膜遮挡条的第一延伸部，所述组装方法在完成所述掩膜遮挡条固定后还包括：去除所述第一延伸部。

进一步，所述掩膜支撑条的两端延伸形成有凸伸超出两个所述第一边外侧供拉伸张紧所述掩膜支撑条的第二延伸部，所述组装方法在完成所述掩膜遮挡条固定后还包括：去除所述第二延伸部。

进一步，所述掩膜片的两端延伸形成有凸伸超出两个所述第一边外侧供拉伸张紧所述掩膜片的第三延伸部，所述组装方法在完成所述掩膜片固定后还包括：去除所述第三延伸部。

进一步，所述第一边的长度小于所述第二边的长度。

本发明还提供了一种掩膜组件，该掩膜组件包括掩膜框、若干张紧固定于所述掩膜框上的掩膜支撑条、以及至少一条张紧固定于所述掩膜框上的掩膜片；所述掩膜框具有两个相对设置的第一边及两个相对设置的第二边；每一所述掩膜支撑条的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第一边，于所述第一边的长度方向上，若干掩膜支撑条间隔分布，且靠近所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度小于远离所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度；每一所述掩膜片的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第二边，且每条所述掩膜片均由若干所述掩膜支撑条支撑。

有益效果：基于本发明所提供的掩膜组件组装方法，所得到的掩模组件中被不同掩膜支撑条支撑的同一掩膜片在掩膜支撑条分布方向上的不同位置处具有相同的水平高度，如此在真空蒸镀时能够提高掩膜片上表面与蒸镀基板之间的贴合度，降低沉积于蒸镀基板上有机材料的位置偏离，使得像素图形的阴影(shadow)更加均匀，可有效避免显示屏产生混色、亮度不均等不良现象。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1所示为对顶掩膜框两个第二边的平面示意图；

图2所示为将掩膜片固定至掩膜框两个第二边的示意图；

图3所示为现有技术中对顶掩膜框两个第二边的横截面示意图；

图4所示为掩膜框在对顶力作用下的形变示意图；

图5所示为现有技术中掩膜支撑条的固定过程示意图；

图6所示为本发明中对顶掩膜框两个第二边的横截面示意图；

图7所示为本发明中对顶掩膜框两个第一边的平面示意图；

图8所示为本发明中掩膜支撑条的固定过程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

正如背景技术所述，现有技术中掩膜组件对提高产品蒸镀效果还是比较有限，经发明人研究发现，主要原因如下所述：

结合图1、图2所示，掩膜组件一般包括掩膜框11以及固定于掩膜框11上的掩膜支撑条12、掩膜遮挡条13以及掩膜片200；其中，掩膜支撑条12用于对掩膜片200形成支撑以降低掩膜片200的下垂量，掩膜遮挡条13用以遮挡相邻两掩膜片200之间形成的狭缝，掩膜片200具有用以在蒸镀基板上形成像素图形的蒸镀图案21。

通常，掩膜组件的组装过程依次包括有以下步骤：拉伸张紧掩膜支撑条12并将每一掩膜支撑条12的两端分别固定至掩膜框11两个相对设置的第一边111，拉伸张紧掩膜片200并将每一掩膜片200的两端分别固定至掩膜框11两个相对设置的第二边112。通常掩膜支撑条12的设置方向与掩膜片200的设置方向相互垂直。

在具体实施过程中，在固定掩膜片200时，还需要通过采用对顶装置300预先对掩膜框11两个相对设置的第二边112施加用以挤压掩膜框11的对顶力F，如此可在后期固定掩膜片200时通过释放对顶力F来平衡掩膜片200的收缩力，从而使得每块掩膜片200的中间段具有较小的下垂量。

然在现有技术的具体实施过程中：

参考图4(图4中未展示掩膜遮挡条13)所示，在固定掩膜片200时，预先对掩膜框11两个相对设置的第二边112施加用以挤压掩膜框11的对顶力F为F0，对顶力F0由对顶装置300分布于两相对第二边112外的第一侧顶压头31、第二侧顶压头32对顶提供，由于对顶力F0的作用，掩膜框11两第二边112的中间区域相对端部区域具有更大的形变。具体形变可参考图4所示，如此使得掩膜框11中间位置掩膜支撑条12张紧程度大于掩膜框侧边位置掩膜支撑条12的张紧程度，即在对顶力F0的作用下，靠近掩膜框11中间位置的掩膜支撑条12整体具有更小的下垂量。然现有技术中固定于第二边112上的掩膜支撑条12均具有相同的厚度，如此使得固定于掩膜框11上多个掩膜支撑条12的上表面具有不同的水平高度。

具体结合图3中所示，现有技术中远离掩膜框11中心位置的掩膜支撑条121与靠近掩膜框11中心位置的掩膜支撑条122均具有相同的厚度，由于掩膜支撑条122的下垂量小于掩膜支撑条121的下垂量，使得远离掩膜框11中心位置的掩膜支撑条121上表面水平高度低于靠近掩膜框11中心位置的掩膜支撑条122上表面水平高(可以理解的是，图3目的在于展示掩膜框11上多个掩膜支撑条12上表面具有不同的水平高度，并不能展示掩膜框11实际受到对顶力F0后的实际形变)。相应的，由于掩膜片200被掩膜支撑条121支撑，在掩膜支撑条12的分布方向上(对应于图3中X轴方向)，被不同掩膜支撑条12支撑的同一掩膜片200在不同位置处亦具有不同下垂量。这不利于在真空蒸镀时掩膜片200上表面与蒸镀基板之间的贴合，进而影响产品蒸镀效果，即真空蒸镀时沉积于蒸镀基板上有机材料位置会发生偏离，并且像素图形的阴影(shadow)不均匀，使得显示屏产生混色、亮度不均等不良现象。

此外，在掩膜支撑条12固定至掩膜框11的过程中，通常采用张网装置400实现掩膜支撑条12的拉伸张紧。于现有技术中，参考图5所示，掩膜支撑条12固定至掩膜框11的具体过程为：张网装置400的第一夹头41、第二夹头42分别夹持于掩膜支撑条12的两端并对掩膜支撑条12进行拉伸张紧，在掩膜支撑条12的两端固定至掩膜框11的两个第一边111上后，拉伸装置400的第一夹头41、第二夹头42会释放对掩膜支撑条12两端的拉伸力。现有技术中，在第一夹头41、第二夹头42释放后，掩膜支撑条12在自身收缩力的作用下会驱使掩膜框11变形从而使得掩膜支撑条12中间区域形成较大的下垂量。如此在掩膜支撑条12的长度方向上(对应于图5中Y轴方向)，被同一掩膜支撑条12不同位置支撑的多个掩膜片200具有不同下垂量，这也不利于在真空蒸镀时掩膜片200上表面与蒸镀基板之间的贴合，并进一步影响产品蒸镀效果。

基于以上原因，本发明提供了一种不同于现有技术方案的掩膜组件组装方法，具体方案如下详述：

本发明所涉及的掩膜组件组装方法包括：

提供掩膜框11，参考图1中所示，掩膜框11具有两个相对设置的第一边111及两个相对设置的第二边112。较为容易知晓，两个相对设置的第一边111及两个相对设置的第二边112围设形成有一供有机材料通过的矩形窗口。

拉伸张紧掩膜支撑条12并将掩膜支撑条12的两端分别固定至掩膜框11两个第一边111。参考图1中所示，于第一边111的长度方向上(即X轴方向)，若干掩膜支撑条12间隔分布；结合图6中所示，靠近掩膜框11中心位置掩膜支撑条12的厚度小于远离掩膜框11中心位置掩膜支撑条12的厚度，于具体实施过程中，掩膜支撑条12的长度方向垂直于第一边111的长度方向。于本实施例中，掩膜组件具有第一掩膜支撑条123与第二掩膜支撑条124，其中，第一掩膜支撑条123与掩膜框11中心之间的距离大于第二掩膜支撑条124与掩膜框11中心之间的距离，且第一掩膜支撑条123的厚度大于第二掩膜支撑条124。

完成全部掩膜支撑条12的固定后，于掩膜框11的两个第二边112施加用以挤压掩膜框11的第一对顶力F，结合图6所示，本具体实施例中的第一对顶力F为F1，对顶力F1由对顶装置300分布于两相对第二边112外的第一侧顶压头31、第二侧顶压头32对顶提供；进一步结合图2中所示，拉伸张紧具有掩膜图案21的掩膜片200并将掩膜片200的两端分别固定至掩膜框11两个第二边112，掩膜组件至少具有一条掩膜片200且每条掩膜片200均由若干掩膜支撑条12支撑。于具体实施过程中，掩膜片200的长度方向垂直于第二边112的长度方向。

在本发明中，由于靠近掩膜框11中心位置掩膜支撑条12的厚度小于远离掩膜框11中心位置掩膜支撑条12的厚度，参考图6所示，在掩膜框11的两个第二边112施加第一对顶力F1后，固定于掩膜框11上多个掩膜支撑条12的上表面可具有相同的水平高度。如此所得到的掩模组件中被不同掩膜支撑条12支撑的同一掩膜片200在掩膜支撑条12分布方向(对应于图6中X轴方向)上的不同位置处具有相同的水平高度，从而在真空蒸镀时能够提高掩膜片200上表面与蒸镀基板之间的贴合度，并优化产品的蒸镀效果。具体地，在真空蒸镀时，可降低沉积于蒸镀基板上有机材料的位置偏离，使得像素图形的阴影(shadow)更加均匀，有效避免显示屏产生混色、亮度不均等不良现象的出现。

作为本发明的一种优选实施方式，参考图7、图8所示，本发明的掩膜组件组装方法在掩膜支撑条12固定至掩膜框11之前还包括：于掩膜框11的两个第一边111施加用以挤压掩膜框11的第二对顶力F2。具体实施过程中，对顶装置300还具有分布于两相对第一边111外的第三侧顶压头33、第四侧顶压头34，本具体实施例中所涉及的第二对顶力F2即由第三侧顶压头33、第四侧顶压头34对顶提供。由于掩膜框11的两个第一边111施加有第二对顶力F2，可使得掩膜框11产生一定的形变，如此在掩膜支撑条12固定完成且第一夹头41、第二夹头42释放后，变形的掩膜框11可对掩膜支撑条12提供一个用于张紧掩膜支撑条12的拉力，如此可以避免出现现有技术中掩膜支撑条12中间区域产生较大下垂量的问题。从而在掩膜支撑条12的长度方向上(对应于图8中Y轴方向)，被同一掩膜支撑条12不同位置处支撑的多个掩膜片200具有相同的水平高度，进而可进一步提高真空蒸镀时掩膜片200上表面与蒸镀基板之间的贴合度。

在具体实施过程中，本发明所涉及的掩膜组件组装方法在每一掩膜支撑条12固定完成后还包括：撤销用以在固定前拉伸张紧该掩膜支撑条12的拉伸力，并释放部分第二对顶力F2以平衡该掩膜支撑条12的收缩力。通常，每固定完成一条掩膜支撑条12并释放部分第二对顶力F2后，再进行下一条掩膜支撑条12的固定，在全部掩膜支撑条12固定完成后，第二对顶力F2释放完全。

本发明所涉及的掩膜组件组装方法在每一掩膜片200固定完成后还包括：撤销用以在固定前拉伸张紧该掩膜片200的拉伸力，并释放部分第一对顶力F1以平衡该掩膜片200的收缩力。通常，每固定完成一条掩膜片200并释放部分第一对顶力F1后，再进行下一条掩膜片200的固定，在全部掩膜片200固定完成后，第一对顶力F1释放完全。

可以理解的是，在本发明中，第一对顶力F1与第二对顶力F2的大小可根据掩膜框11、掩膜支撑条12、掩膜片200等部件的具体尺寸、材质等因素进行调整。且在具体施加第一对顶力F1与第二对顶力F2时，施力位置均可以分散于掩膜框11多个位置。参考图1、图7所示，掩膜框11的每条第一边111上具有两个用于施加第一对顶力F1的位置，每条第二边112上具有两个用于施加第二对顶力F2的位置；在本发明的其它实施例中，施加第一对顶力F1、第二对顶力F2的位置可以不限于图1、图7所示的实施方式，具体在此不做进一步展开。

结合图1、图2所示，本发明中所涉及的掩膜组件至少具有两条并列设置的掩膜片22，每两相邻的两的掩膜片22之间形成有狭缝201，掩膜组件于每一狭缝201位置处均具有一条用以遮挡该狭缝201的掩膜遮挡条13。本发明所涉及的组装方法在固定掩膜片200之前还包括：拉伸张紧掩膜遮挡条13并将掩膜遮挡条13的两端分别固定至两个第二边112，其中，掩膜遮挡条13的设置位置与狭缝201的形成位置相对应。

具体于本实施例中，在掩膜支撑条12固定之前即实现掩膜遮挡条13的固定，参考1中所示，即掩膜组件自下而上以上次包括：掩膜框11、掩膜遮挡条13、掩膜支撑条12以及掩膜片200。在本发明的另一些实施例中，掩膜遮挡条13的固定也可以在掩膜支撑条12固定之后完成(图中未展示)，即掩膜组件自下而上以上次包括：掩膜框11、掩膜支撑条12、掩膜遮挡条13以及掩膜片200。

另外，参考图8中所示，掩膜支撑条12的两端延伸形成有凸伸超出两个第一边111外侧供拉伸张紧掩膜支撑条12的第二延伸部120，具体而言，张网装置400的第一夹头41、第二夹头42分别夹持于掩膜支撑条12两端的的第二延伸部120并对掩膜支撑条12进行拉伸张紧。本发明所涉及的掩膜组件组装方法在完成掩膜遮挡条12固定后还包括：去除第二延伸部120。第二延伸部120与掩膜遮挡条12位于掩膜框11中间区域的部分通常一体成型，一般采用激光切割或机械裁切的方式实现第二延伸部120的去除。

参考图2中所示，掩膜片200的两端延伸形成有凸伸超出两个第一边111外侧供拉伸张紧掩膜片200的第三延伸部22，张网装置400位于掩膜框11两第二边外侧的夹头(图中未展示)分别夹持于掩膜片200的两端的的第三延伸部22并对掩膜片200进行拉伸张紧。本发明所涉及掩膜组件的组装方法在完成掩膜片200固定后还包括：去除第三延伸部22。第三延伸部22与掩膜片200位于掩膜框11中间区域的部分通常一体成型，一般采用激光切割或机械裁切的方式实现第三延伸部22的去除。

此外，参考掩膜支撑条12与掩膜片200的设计结构，本发明中所涉及掩膜遮挡条13的两端延伸形成有凸伸超出两个第二边112外侧供拉伸张紧掩膜遮挡条112的第一延伸部(图中未展示)。本发明所涉及掩膜组件组装方法在完成掩膜遮挡条112固定后还包括：去除第一延伸部。第一延伸部与掩膜遮挡条13位于掩膜框11中间区域的部分通常一体成型，一般采用激光切割或机械裁切的方式实现第一延伸部的去除。

本发明中通过对第一延伸部、第二延伸部120、第三延伸部22的去除，可避免最终掩膜组件于掩膜框11的周边具有多余部件，确保组装完成的掩膜组件能够应用于真空蒸镀环节。

在本发明的具体实施过程中，作为一中优选实施方式，通常第一边111的长度小于第二边112的长度。换而言之，掩膜支撑条12的两端固定于掩膜框11一对相对设置的短边上，掩膜片200的两端固定于掩膜框11一对相对设置的长边上。

此外，在本发明中，掩膜支撑条12、掩膜遮挡条13、掩膜片200均优选采用激光焊接的方式固定于掩膜框11上；构成掩膜组件的掩膜支撑条12、掩膜遮挡条13、掩膜片200、掩膜框11各构件的材质优选为因瓦合金，当然也可以是其它具有低膨胀系数的铁磁性材料，具体在此不做一一展开。

本发明还提供了一种掩膜组件，该掩膜组件由以上的掩膜组件组装方法组装成型。具体而言，结合图2、图6所示，本发明中所涉及的掩膜组件包括掩膜框11、若干张紧固定于掩膜框11上的掩膜支撑条12、以及至少一条张紧固定于掩膜框11上的掩膜片200。掩膜框11具有两个相对设置的第一边111及两个相对设置的第二边112。每一掩膜支撑条12的两端分别固定至掩膜框11两个所述第一边111，于第一边111的长度方向上，若干掩膜支撑条12间隔分布，且靠近掩膜框11中心位置处掩膜支撑条12的厚度小于远离掩膜框11中心位置处掩膜支撑条12的厚度。每一掩膜片200的两端分别固定至掩膜框11两个第二边112，且每条掩膜片200均由若干掩膜支撑条12支撑。

此外，结合图1、图2所示，可以理解的是，本具体实施例中所涉及内的掩膜组件还具有张紧固定于掩膜框11上掩膜遮挡条13。具体而言，本具体实施例中的掩膜组件至少具有两条并列设置的掩膜片200，每两相邻的两掩膜片200之间形成有狭缝201，掩膜组件于每一狭缝201所在位置处均具有一条用以遮挡该狭缝201的掩膜遮挡条13。

可以理解的是，本发明所涉及掩模组件中的掩膜支撑条12、掩膜遮挡条13均不会对掩膜片200上用以在蒸镀基板上形成像素图形的蒸镀图案21形成遮挡。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种掩膜组件组装方法，其特征在于，包括：

提供掩膜框，所述掩膜框具有两个相对设置的第一边及两个相对设置的第二边；

拉伸张紧掩膜支撑条并将所述掩膜支撑条的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第一边，于所述第一边的长度方向上，若干掩膜支撑条间隔分布，且靠近所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度小于远离所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度；

于所述掩膜框的两个所述第二边施加用以挤压所述掩膜框的第一对顶力，拉伸张紧具有掩膜图案的掩膜片并将所述掩膜片的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第二边，所述掩膜组件至少具有一条所述掩膜片且每条所述掩膜片均由若干所述掩膜支撑条支撑。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述组装方法在所述掩膜支撑条固定至所述掩膜框之前还包括：于所述掩膜框的两个所述第一边施加用以挤压所述掩膜框的第二对顶力。

3.根据权利要求2所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述组装方法在每一所述掩膜支撑条固定完成后还包括：撤销用以在固定前拉伸张紧该所述掩膜支撑条的拉伸力，并释放部分所述第二对顶力以平衡该所述掩膜支撑条的收缩力。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述组装方法在每一所述掩膜片固定完成后还包括：撤销用以在固定前拉伸张紧该所述掩膜片的拉伸力，并释放部分所述第一对顶力以平衡该所述掩膜片的收缩力。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述掩膜组件至少具有两条并列设置的所述掩膜片，每两相邻的两所述的掩膜片之间形成有狭缝，所述掩膜组件于每一所述狭缝位置处均具有一条用以遮挡该所述狭缝的掩膜遮挡条；所述组装方法在固定所述掩膜片之前还包括：拉伸张紧所述掩膜遮挡条并将所述掩膜遮挡条的两端分别固定至两个所述第二边，所述掩膜遮挡条的设置位置与所述狭缝的形成位置相对应。

6.根据权利要求5所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述掩膜遮挡条的两端延伸形成有凸伸超出两个所述第二边外侧供拉伸张紧所述掩膜遮挡条的第一延伸部，所述组装方法在完成所述掩膜遮挡条固定后还包括：去除所述第一延伸部。

7.根据权利要求5所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述掩膜支撑条的两端延伸形成有凸伸超出两个所述第一边外侧供拉伸张紧所述掩膜支撑条的第二延伸部，所述组装方法在完成所述掩膜遮挡条固定后还包括：去除所述第二延伸部。

8.根据权利要求1-3任意一项所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述掩膜片的两端延伸形成有凸伸超出两个所述第一边外侧供拉伸张紧所述掩膜片的第三延伸部，所述组装方法在完成所述掩膜片固定后还包括：去除所述第三延伸部。

9.根据权利要求1-3任意一项所述的掩膜组件组装方法，其特征在于，所述第一边的长度小于所述第二边的长度。

10.一种掩膜组件，其特征在于，由权利要求1-9任意一项所述的掩膜组件组装方法组装成型，包括掩膜框、若干张紧固定于所述掩膜框上的掩膜支撑条、以及至少一条张紧固定于所述掩膜框上的掩膜片；所述掩膜框具有两个相对设置的第一边及两个相对设置的第二边；每一所述掩膜支撑条的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第一边，于所述第一边的长度方向上，若干掩膜支撑条间隔分布，且靠近所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度小于远离所述掩膜框中心位置所述掩膜支撑条的厚度；每一所述掩膜片的两端分别固定至所述掩膜框两个所述第二边，且每条所述掩膜片均由若干所述掩膜支撑条支撑。

Images