CN113684444B - 支撑条及张网方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 34
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 29
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 abstract description 41
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 18
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 18
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- 101100294681 Banna virus (strain Indonesia/JKT-6423/1980) Segment-12 gene Proteins 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 101150071434 BAR1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K31/00—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups
- B23K31/02—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups relating to soldering or welding
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D43/00—Feeding, positioning or storing devices combined with, or arranged in, or specially adapted for use in connection with, apparatus for working or processing sheet metal, metal tubes or metal profiles; Associations therewith of cutting devices
- B21D43/02—Advancing work in relation to the stroke of the die or tool
- B21D43/04—Advancing work in relation to the stroke of the die or tool by means in mechanical engagement with the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D43/00—Feeding, positioning or storing devices combined with, or arranged in, or specially adapted for use in connection with, apparatus for working or processing sheet metal, metal tubes or metal profiles; Associations therewith of cutting devices
- B21D43/28—Associations of cutting devices therewith
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K33/00—Specially-profiled edge portions of workpieces for making soldering or welding connections; Filling the seams formed thereby
- B23K33/004—Filling of continuous seams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D25/00—Working sheet metal of limited length by stretching, e.g. for straightening
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23P—METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; COMBINED OPERATIONS; UNIVERSAL MACHINE TOOLS
- B23P15/00—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass
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- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
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- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02A40/00—Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production
- Y02A40/80—Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production in fisheries management
- Y02A40/81—Aquaculture, e.g. of fish
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
本申请实施例提供一种支撑条及张网方法。本申请实施例第一方面提供一种支撑条,支撑条包括支撑段和预切割段,预切割段在支撑条的长度方向上与支撑段的两端连接分布;支撑段包括支撑主体和遮盖部,支撑主体沿长度方向延伸,遮盖部位于支撑主体的第一侧,在与长度方向相垂直的宽度方向上,支撑主体的第二侧与第一侧相对;预切割段包括偏移补偿部,偏移补偿部的第一侧边自第一侧向预切割段的自由端直线延伸,偏移补偿部的第二侧边自第二侧向第一侧倾斜,以使至少部分偏移补偿部的宽度自支撑主体向自由端递减。提高蒸镀精度,避免功能集成区沉积蒸镀材料,提升显示面板整体显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀设备技术领域,具体涉及一种支撑条及张网方法。
背景技术
在OLED显示面板制备过程中,蒸镀为常用的工艺方法。在蒸镀过程中一般使得蒸镀材料通过掩膜板蒸镀到待蒸镀基板上。在制备具有功能集成区的显示面板时,采用特制的支撑条对待蒸镀基板的部分待蒸镀区域进行遮挡的同时对掩膜条进行支撑。上述特制的支撑条在张网过程中容易产生非拉伸向偏位,使得功能集成区存在蒸镀异常,蒸镀精度低等问题,影响显示面板的整体显示效果。
因此,急需一种新的支撑条及张网方法。
发明内容
本申请实施例第一方面提供一种支撑条,支撑条包括支撑段和预切割段,预切割段在支撑条的长度方向上与支撑段的两端连接分布;支撑段包括支撑主体和遮盖部,支撑主体沿长度方向延伸,遮盖部位于支撑主体的第一侧,在与长度方向相垂直的宽度方向上,支撑主体的第二侧与第一侧相对;预切割段包括偏移补偿部,偏移补偿部的第一侧边自第一侧向预切割段的自由端直线延伸,偏移补偿部的第二侧边自第二侧向第一侧倾斜,以使至少部分偏移补偿部的宽度自支撑主体向自由端递减。
本申请实施例第一方面提供的用于掩膜板的支撑条,在支撑条的预切割段设置有偏移补偿部,使得非拉伸向偏移值降低,进一步提高了支撑条的张网精度,确保遮盖部与待蒸镀基板上预设功能集成区对位精度,提高蒸镀精度,避免功能集成区沉积蒸镀材料,提升显示面板整体显示效果。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,第二侧边为直线型侧边;或者,
第二侧边为弧线型侧边。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,偏移补偿部的最大宽度L1与偏移补偿部最小宽度L2满足以下关系式1:
优选的,偏移补偿部的最大宽度L1与偏移补偿部最小宽度L2满足以下关系式2:
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,在长度方向上,支撑段与预切割段相继设置,支撑段与预切割段之间具有预切割线,经由预切割线划分支撑段和预切割段;
优选的,多个所述遮盖部在所述支撑主体的第一侧沿所述长度方向间隔分布,所述支撑主体还包括焊接槽,所述焊接槽位于所述预设切割线与最靠近所述预切割段的所述遮盖部之间。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,在长度方向上,预切割段还包括:
缓冲部,位于支撑段与偏移补偿部之间,缓冲部包括过渡侧边,过渡侧边自支撑主体的第二侧向第二侧边直线延伸,在宽度方向上第一侧边与过渡侧边相对且相互平行;
优选的,在长度方向上,过渡侧边的长度d1的取值范围是20mm~25mm。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,预切割段还包括:
配重部,与遮盖部同侧设置,且配重部凸起设置于第一侧边。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,配重部的形状与遮盖部的形状相同;
优选的,配重部为类矩形片状结构,配重部与第一侧边连接处形成有倒圆角,配重部的拐角为圆角;
优选的,倒圆角的半径R1的取值范围在2.0mm~2.5mm;
拐角的半径R2的取值范围在1.0mm~1.5mm;
优选的,在宽度方向上,配重部包括与宽度方向平行的直边,直边位于上述的倒圆角以及拐角之间;
优选的,直边的长度L的取值范围是1.0mm~1.2mm。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,在长度方向上,预切割线与配重部之间的最短距离d2的取值范围是4mm~5mm。
在本申请实施例第一方面一种可能的实施方式中,在长度方向上,过渡侧边的长度d1和预切割线与配重部之间的最短距离d2之比为1:5~6。
本申请实施例第二方面提供一种张网方法,用于对本申请第一方面的支撑条进行张网处理,包括:
对长度方向上相对的两个偏移补偿部沿长度方向进行拉伸处理,以获得张网后的支撑条;
焊接张网后的支撑条在掩膜板框架上;
将预切割段去除。
本申请实施例第二方面提供的张网方法,使得张网后的支撑条非拉伸向偏移减少,提升张网后掩膜板上支撑条的张网精度,进而提升遮盖部对预设功能集成区的遮挡精度,提高显示面板的显示效果。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显,其中,相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征,附图并未按照实际的比例绘制。
图1是一般的包含遮盖部的支撑条处于张网状态示意图;
图2是本申请第一方面一实施例中的支撑条结构示意图;
图3是本申请第一方面另一实施例中的支撑条结构示意图;
图4是本申请第一方面还一实施例中的支撑条结构示意图;
图5是本申请第一方面又一实施例中的支撑条结构示意图;
图6是本申请第一方面再一实施例中的支撑条结构示意图;
图7是本申请第一方面一实施例中的支撑条处于张网状态示意图;
图8是本申请第一方面再一实施例中的支撑条结构示意图;
图9是本申请第一方面再一实施例中的支撑条结构示意图;
图10是本申请第一方面再一实施例中的支撑条结构示意图;
图10a是图10中局部A的放大示意图;
图10b是图10中局部B的放大示意图;
图11是本申请第一方面一实施例中的支撑条处于张网状态示意图;
图12是本申请第二方面中一种张网方法的流程图;
图中:
支撑条-1;
支撑段-11;支撑主体-111;第一侧-111a;第二侧-111b;遮盖部-112;遮挡条配合部-113;焊接槽-114;
预切割段-12;偏移补偿部-121;第一侧边-122;第二侧边-123;第一直线段-123a;第二直线段-123b;过渡侧边-124;缓冲部-125;配重部-126;
长度方向-X;宽度方向-Y;预切割线-q。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本发明进行进一步详细描述。应理解,此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明,并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说,本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
发明人在长期深入研究发现,在OLED显示面板制备过程中,蒸镀为常用的工艺方法。在蒸镀过程中一般使得蒸镀材料通过掩膜板蒸镀到待蒸镀基板上。在制备具有功能集成区的显示面板时,采用特制的支撑条对待蒸镀基板的部分待蒸镀区域进行遮挡的同时对掩膜条进行支撑。一般的特制的支撑条的一侧设置有遮盖部。遮盖部用于遮挡蒸镀材料,使得待蒸镀基板上的预设功能集成区中不沉积有蒸镀材料,从而使得制备完成后显示面板的功能集成区不进行发光显示。功能集成区一般集成有摄像头,人脸识别传感器以及其他功能模组,该功能集成区不能沉积蒸镀材料。
在制备掩膜板时,需要对设置有遮盖部的支撑条沿其自身长度方向拉伸,以对支撑条进行张网处理后再焊接到掩膜框架上。往往在张网过程中,由于遮盖部一般集中设置在支撑条的一侧,张网拉力作用下支撑条设置遮盖部的一侧与另一侧(该另一侧与设置遮盖部112的一侧在支撑条的宽度方向上相对)均向内收缩变形。在收缩变形时,由于设置遮盖部1的一侧中遮盖部在张网拉力作用下收缩,在支撑条设置遮盖部的一侧产生了叠加的收缩效应。
如图1所示,因此,支撑条张网过程中设置遮盖部的一侧对另一侧的挤压作用大于该另一侧对设置遮盖部的一侧的挤压作用,最终使得整个支撑条产生出朝向另一侧的凸起变形,形成非拉伸向偏位。发明人还发现,一般支撑条发生非拉伸向偏位时,位于支撑条中间部分的非拉伸向偏移值大于支撑条两侧的非拉伸向偏移值。本申请实施例中,非拉伸向偏移值h的定义为,在垂直于拉伸方向(支撑条的长度方向)的宽度方向上,支撑条中任一部分到拉拉伸方向所在直线的距离。
鉴于对上述问题的发现与分析,提出本申请。
如图2所示,本申请实施例第一方面提供一种用于掩膜板的支撑条1,支撑条1包括支撑段11和预切割段12,预切割段12在支撑条1的长度方向X上与支撑段11的两端连接分布;
支撑段11包括支撑主体111和遮盖部112,支撑主体111沿支撑条1的长度方向X延伸,遮盖部112位于支撑主体111的第一侧111a,在与支撑条1的长度方向X相垂直的宽度方向Y上,支撑主体111的第二侧111b与支撑主体111的第一侧111a相对。
预切割段12包括偏移补偿部121,偏移补偿部121的第一侧边122自支撑主体111的第一侧111a向预切割段12的自由端直线延伸。偏移补偿部121的第二侧边123自支撑主体111的第二侧111b向支撑主体111的第一侧111a倾斜,以使至少部分偏移补偿部121的宽度自支撑主体111向自由端递减。在支撑条的长度方向X上,预切割段12的自由端为预切割段远离支撑段11的一端。
在一些实施例中,多个遮盖部112在支撑主体111的第一侧111a沿支撑条1的长度方向X间隔分布。
本申请实施例第一方面提供的用于掩膜板的支撑条1,在支撑条1的预切割段12设置有偏移补偿部121。在对支撑条1张网过程中,张网机构夹持支撑条1偏移补偿部121,并沿支撑条1的长度方向X对支撑条1进行张网拉伸处理。由于至少部分偏移补偿部121的宽度自支撑主体111向自由端递减,且朝向支撑主体111的第一侧111a递减,使得夹持机构的夹持中心线朝向第一侧111a偏移。夹持中心线的偏移使得张网拉力作用也朝向第一侧111a偏移,减少了张网过程中位于支撑主体111第一侧111a的遮盖部112对朝向支撑主体111的第二侧111b的挤压作用,从而使得支撑条1朝向支撑主体111的第二侧111b的非拉伸向偏移值降低。非拉伸向偏移值降低,进一步提高了支撑条1的张网精度,确保遮盖部112与待蒸镀基板上预设功能集成区对位精度,提高蒸镀精度,避免功能集成区沉积蒸镀材料,提升显示面板整体显示效果。
在一些实施例中,支撑条1中支撑段11的支撑主体111以及预切割段12为全厚结构,即不再进行刻蚀等减薄处理,以利于支撑主体111实现支撑作用以及实现预切割段12在张网过程中保持夹持稳固性。而遮盖部112采用半刻蚀处理,以在保证遮盖部112对预设功能集成区的遮盖作用的同时,减轻支撑主体111的第一侧111a的整体重量负荷,进一步地避免出现非拉伸向偏移。
如图3所示,在一些实施例中,支撑段11的支撑主体111上还间隔布设有遮挡条配合部113。每两个相邻的遮盖部112之间设置有遮挡条配合部113,遮挡条配合部113为半刻蚀结构,以利于形成掩膜板过程中相互交叠设置的支撑条1和遮挡条之间的配合。在宽度方向Y上,遮挡条配合部113在宽度方向Y上延伸,且遮挡条配合部113的宽度大于支撑主体111的宽度,遮挡条配合部113与支撑主体111的连接处倒圆角。
在一些可选的实施例中,第二侧边123为直线型侧边且第二侧边123全段为处于同一水平线的直线型侧边,第二侧边123无弯折点。还请参照图2及图3,在一些示例中,第二侧边123自支撑主体11的第二侧111b向第一侧111a倾斜,第二侧边123自支撑主体111的第二侧111b开始延伸至偏移补偿部121的自由端。
如图4所示,在一些示例中,第二侧边123为直线型侧边且第二侧边由至少两段直线段组成的多段弯折直线型侧边。在这些示例中,第二侧边123包括第一直线段123a和第二直线段123b。第一直线段123a自支撑主体11的第二侧111b向第一侧111a倾斜延伸,第一直线段123a延伸至偏移补偿部121的中部与第二直线段123b临接。第二直线段123b延伸至偏移补偿部121的自由端且第二直线段123b与第一侧边122相对平行设置。
如图5所示,在一些实施例中,第二侧边123为弧线型侧边。
如图6所示,在一些可选的实施例中,偏移补偿部121的最大宽度L1与偏移补偿部121最小宽度L2满足以下关系式1:
在一些示例中,偏移补偿部121的最大的宽度为支撑主体111的宽度。在实验过程中,一般的带有遮盖部112的支撑条1的最大非拉伸向偏移值约在330μm~340μm之间。发明人在多次实验后得出当偏移补偿部121的最大宽度L1与偏移补偿部121最小宽度L2满足以上关系式1时,在对支撑条1张网过程中的支撑条1的非拉伸向偏移值有明显的下降,最大非拉伸向偏移值下降到了100μm~60μm之间。
进一步的,在一些可选的实施例中,偏移补偿部121的最大宽度L1与偏移补偿部121最小宽度L2满足以下关系式2:
在这些实施例中,当偏移补偿部121的最大宽度L1与偏移补偿部121最小宽度L2满足以上关系式2时,在对支撑条1张网过程中的支撑条1的非拉伸向偏移值有进一步的明显下降,最大非拉伸向偏移值下降到了80μm~60μm之间。
在一些可选的实施例中,在长度方向X上,支撑段11与预切割段12相继设置,支撑段11与预切割段12之间具有预切割线q,经由预切割线划分支撑段11和预切割段12。在一些示例中,支撑段11与预切割段12采用同一材料一体形成。在制备精密掩膜板的过程中,在对支撑条1张网后,将支撑段11焊接在掩膜板框架上,继而沿预切割线q对预切割段12进行切割去除。
在还一些实施例中,多个遮盖部112在支撑主体111的第一侧111a沿长度方向X间隔分布,支撑主体111还包括焊接槽114,焊接槽114位于最靠近预切割段12的遮盖部112与预切割线之间。在焊接过程中,将焊接槽114与掩膜板框架对位,通过将焊接槽114焊接到掩膜板框架上以实现支撑段11与掩膜板框架的固定连接。
在本申请实施例中,支撑条包括预切割线q和焊接槽114,为简要示意在以下实施例对应的附图中未完整示出预切割线q和焊接槽114。
如图7所示,在一些可选的实施例中,预切割段还包括缓冲部125,缓冲部125位于支撑段11与偏移补偿部121之间,预切割段12还包括过渡侧边124,过渡侧边124自支撑主体111的第二侧111b向第二侧边123直线延伸,在宽度方向Y上第一侧边122与过渡侧边124相对且相互平行。
在这些实施例中,与过渡侧边124对应的部分第一侧边122和过渡侧边124之间形成缓冲部125。缓冲部125保护支撑段11在张网及后续焊接、切割去除预切割段12的过程不受干扰,提高制成掩膜板的质量,以提升蒸镀精度。
在一些实施例中,在长度方向X上,过渡侧边124的长度d1的取值范围是20mm~25mm。
在一些实施例中,在长度方向X上,过渡侧边124的长度d1的取值范围是24mm~25mm。
在一些实施例中,预切割段12还包括配重部126,与所述遮盖部112同侧设置,且所述配重部126凸起设置于所述第一侧边122。
在一些可选的实施例中,在长度方向X上,过渡侧边124的长度d1的取值范围是20mm~25mm。
在另一些可选的实施例中,在长度方向X上,过渡侧边124的长度d1的取值范围是24mm~25mm。
图8为一示例中具有偏移补偿部121的支撑条1在张网过程中的形态图。如图8所示,发明人进一步发现具有偏移补偿部121的支撑条1在张网过程中最大非拉伸向偏移值有明显的降低。但是,支撑条1的的支撑段11形成了图8中A、B及C三段,A段和C段靠近预切割段12,A段和C段的非拉伸向偏移值在80μm~60μm之间,非拉伸向偏移程度较大,且有朝向支撑主体111的第一侧111a偏移的趋势。B段位于支撑段11的中部,B段的非拉伸向偏移值小于等于5μm。经上述实验分析,设置偏移补偿部121对支撑条1整体的非拉伸向偏移值的降低有较好的效果,对于支撑段11的中部尤其有利。在设置偏移补偿部121的基础上还需要进一步对支撑条1的结构进行优化,以进一步减小支撑段11中靠近预切割段12的两段(A段和B段)的非拉伸向偏移补偿值。
如图9所示,在一些实施例中,为了进一步减小支撑段11中靠近预切割段12部分的非拉伸向偏移补偿值,在一般的支撑条1中增添新的配重设计。在这些实施例中,在支撑条1的预切割段12增设一配重部126。配重部126与遮盖部112同侧设置,且配重部126凸起设置于第一侧边122。在一些示例中,配重部126的形状与遮盖部112的形状相同,配重部126的尺寸与遮盖部112的尺寸可不同。在一些具体例子中,配重部126的尺寸大于遮盖部112的尺寸。配重部126为类矩形片状结构,配重部126自支撑主体111的第一侧111a向背离支撑主体111的第二侧111b方向延伸的片状结构。配重部126与第一侧边122连接处形成有倒圆角,配重部126的拐角为圆角。在一些具体的例子中,配重部126为全厚结构,不采用半刻蚀工艺处理。
如图10至图10b所示,在一些实施例中,为了进一减小支撑段11中靠近预切割段12部分的非拉伸向偏移补偿值,在本申请实施例中具有补偿偏移部的支撑条1的基础上再设置配重部126。在支撑条1的预切割段12增设一配重部126。配重部126与遮盖部112同侧设置,且配重部126凸起设置于第一侧边122。在一些示例中,配重部126的形状与遮盖部112的形状相同,配重部126的尺寸与遮盖部112的尺寸可不同。在一些实施例中,配重部126的尺寸大于遮盖部112的尺寸。配重部126为类矩形片状结构,配重部126自支撑主体111的第一侧111a向背离支撑主体111的第二侧111b方向延伸的片状结构。配重部126与第一侧边122连接处形成有倒圆角,配重部126的拐角为圆角。
在这些实施例中,配重部126为全厚结构,不采用半刻蚀工艺处理。配重部126的全厚结构可以增加预切割段12的第一侧111a(与支撑主体111的第一侧111a同侧)的配重,进一步减小支撑段11中靠近预切割段12部分的非拉伸向偏移补偿值。
在这些实施例中,预切割段12还包括过渡侧边124,过渡侧边124自支撑主体111的第二侧111b向第二侧边123直线延伸,在宽度方向Y上第一侧边122与过渡侧边124相对且相互平行。在长度方向X上,配重部126对应部分的过渡侧边124及部分的第二侧边123设置。在长度方向X上,预切割段12中过渡侧边124对应的部分位于支撑段11与偏移补偿部121之间。过渡侧边124对应的部分保护支撑段11在张网及后续焊接、切割去除预切割段12的过程不受干扰,提高制成掩膜板的质量,以提升蒸镀精度。
在一些具体的例子中,在一些具体例子中,配重部126的尺寸大于遮盖部112的尺寸。配重部126为类矩形片状结构,配重部126自支撑主体111的第一侧111a向背离支撑主体111的第二侧111b方向延伸的片状结构。配重部126与第一侧边122连接处形成有倒圆角。倒圆角的半径R1的取值范围在2.0mm~2.5mm。进一步的,倒圆角的半径R1的取值范围在2.1mm~2.2mm。配重部126的拐角为圆角,该拐角的半径R2的取值范围在1.0mm~1.5mm。进一步的,该拐角的半径R2的取值范围在1.1mm~1.2mm。在宽度方向Y上,配重部126包括与宽度方向Y平行的直边。直边位于上述的倒圆角以及拐角之间。直边的长度L的取值范围是1.0mm~1.2mm。进一步的,直边的长度L的取值范围是1.10mm~1.15mm。
在一些可选的实施例中,在长度方向X上,预切割线q与配重部126之间的最短距离d2的取值范围是4mm~5mm。在这些实施例中,预切割线q与配重部126之间的最短距离也为支撑段11与配重部126之间的最短距离。
在一些可选的实施例中,在长度方向X上,预切割线q与配重部126之间的最短距离d2和过渡侧边124的长度d1之比为1:5~6。在一些示例中,过渡侧边124的长度d1为偏移补偿部121到支撑段11的最短距离。预切割线q与配重部126之间的最短距离d2和偏移补偿部121到支撑段11的最短距离与之比处于上述范围,在保证支撑段11中部的非拉伸偏移补偿值减少到许可范围的同时,也确保支撑段11靠近预切割段12的部分的非拉伸偏移补偿值减少到许可范围,且支撑段11中部的非拉伸偏移补偿值与支撑段11靠近预切割段12的部分的非拉伸偏移补偿值之间的差距缩小,提高了张网精度,进而保证功能集成区蒸镀精度,提高显示面板的显示效果。
在一个具体的例子中,具有补偿偏移部的支撑条1的基础上再设置配重部126。补偿偏移部的第二侧边123为直线型侧边。偏移补偿部121的最大宽度L1与所述偏移补偿部121最小宽度L2满足上述关系式2。长度方向X上,支撑段11与预切割段12相继设置,支撑段11与预切割段12之间具有预切割线q。预切割段12还包括过渡侧边124,过渡侧边124自支撑主体111的第二侧111b向第二侧边123直线延伸,在宽度方向Y上第一侧边122与过渡侧边124相对且相互平行。在长度方向X上,配重部126对应部分的过渡侧边124及部分的第二侧边123设置。支撑主体111还包括焊接槽114,焊接槽114位于最靠近预切割段12的遮盖部112与预设割线之间,且该焊接槽114还位于靠近预切割段12的遮挡条配合部113与预切割线之间。配重部126为类矩形片状结构,配重部126自支撑主体111的第一侧111a向背离支撑主体111的第二侧111b方向延伸的片状结构。配重部126与第一侧边122连接处形成有倒圆角。倒圆角的半径R1的取值范围在2.1mm~2.2mm。配重部126的拐角为圆角,该拐角的半径R2的取值范围在1.1mm~1.2mm。在宽度方向Y上,配重部126包括与宽度方向Y平行的直边。直边的长度L的取值范围是1.10mm~1.15mm。在长度方向X上,预切割线q与配重部126之间的最短距离d2的取值范围是4mm~5mm。在长度方向X上,预切割线q与配重部126之间的最短距离d2和过渡侧边124的长度d1之比为1:5~6。。
如图11所示,对上述例子进行张网实验,得到在支撑段11中部(B段)的非拉伸向偏位值小于或等于4μm,支撑段11中靠近预切割段12的两段(A段和B段)的非拉伸向偏移补偿值也小于或等于4μm。根据实验结果可知,在同时对支撑条1设置补偿偏移部和配重部126可以大大减小支撑段11整体的非拉伸向偏位程度,保证支撑条1张网精度同时提高遮盖部112对预设功能集成区遮挡精度,进而提高待蒸镀基板的预设功能集成区附近的蒸镀精度,优化显示面板的显示效果。
如图12所示,本申请实施例第二方面提供一种张网方法,用于对本申请实施例第一方面中的支撑条进行张网处理,包括:
S10,对长度方向上相对的两个偏移补偿部沿长度方向进行拉伸处理,以获得张网后的支撑条;
S20,焊接张网后的支撑条在掩膜板框架上;
S30,将预切割段去除。
在一些可选的实施例中,采用张网机构对支撑条张网时,加持部件夹持至少部分的偏移补偿部,使得夹持中心线朝向支撑段的第一侧偏移。张网机构对对长度方向上相对的两个偏移补偿部沿长度方向进行拉伸处理,使得支撑条在长度方向上被拉伸,形成张网后的支撑条。
本申请实施例第二方面提供的张网方法,使得张网后的支撑条非拉伸向偏移减少,提升张网后掩膜板上支撑条的张网精度,进而提升遮盖部112对预设功能集成区的遮挡精度,提高显示面板的显示效果。
依照本发明如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (17)
1.一种支撑条,其特征在于,所述支撑条包括支撑段和预切割段,所述预切割段在所述支撑条的长度方向上与所述支撑段的两端连接分布;
所述支撑段包括支撑主体和遮盖部,所述支撑主体沿所述长度方向延伸, 所述遮盖部位于所述支撑主体的第一侧,在与所述长度方向相垂直的宽度方向上,所述支撑主体的第二侧与所述第一侧相对;
所述预切割段包括偏移补偿部,所述偏移补偿部的第一侧边自所述第一侧向所述预切割段的自由端直线延伸,所述偏移补偿部的第二侧边自所述第二侧向所述第一侧倾斜,以使至少部分所述偏移补偿部的宽度自所述支撑主体向所述自由端递减。
2.根据权利要求1所述的支撑条,其特征在于,所述第二侧边为直线型侧边;或者,
所述第二侧边为弧线型侧边。
3.根据权利要求1所述的支撑条,其特征在于,所述偏移补偿部的最大宽度L1与所述偏移补偿部最小宽度L2满足以下关系式1:
。
4.根据权利要求3所述的支撑条,其特征在于,所述偏移补偿部的最大宽度L1与所述偏移补偿部最小宽度L2满足以下关系式2:
。
5.根据权利要求1所述的支撑条,其特征在于,在所述长度方向上,所述支撑段与所述预切割段相继设置,所述支撑段与所述预切割段之间具有预切割线,经由所述预切割线划分所述支撑段和所述预切割段。
6.根据权利要求5所述的支撑条,其特征在于,多个所述遮盖部在所述支撑主体的第一侧沿所述长度方向间隔分布,所述支撑主体还包括焊接槽,所述焊接槽位于所述预切割线与最靠近所述预切割段的所述遮盖部之间。
7.根据权利要求5所述的支撑条,其特征在于,在所述长度方向上,所述预切割段还包括:
缓冲部,位于所述支撑段与所述偏移补偿部之间,所述缓冲部包括过渡侧边,所述过渡侧边自所述支撑主体的第二侧向所述第二侧边直线延伸,在所述宽度方向上所述第一侧边与所述过渡侧边相对且相互平行。
8.根据权利要求7所述的支撑条,其特征在于,在所述长度方向上,所述过渡侧边的长度d1的取值范围是20mm ~ 25mm。
9.根据权利要求1至8任意一项所述的支撑条,其特征在于,所述预切割段还包括:
配重部,与所述遮盖部同侧设置,且所述配重部凸起设置于所述第一侧边。
10.根据权利要求9所述的支撑条,其特征在于,所述配重部的形状与所述遮盖部的形状相同。
11.根据权利要求10所述的支撑条,其特征在于,所述配重部为类矩形片状结构,所述配重部与所述第一侧边连接处形成有倒圆角,所述配重部的拐角为圆角。
12.根据权利要求11所述的支撑条,其特征在于,倒圆角的半径R1的取值范围在2.0mm ~2.5mm;
所述拐角的半径R2的取值范围在1.0mm ~ 1.5mm。
13.根据权利要求11所述的支撑条,其特征在于,在所述宽度方向上,所述配重部包括与所述宽度方向平行的直边,所述直边位于上述的倒圆角以及拐角之间。
14.根据权利要求13所述的支撑条,其特征在于,所述直边的长度L的取值范围是1.0mm~ 1.2mm。
15.根据权利要求9所述的支撑条,其特征在于,在所述长度方向上,预切割线与所述配重部之间的最短距离d2的取值范围是4mm ~ 5mm。
16.根据权利要求9所述的支撑条,其特征在于,在所述长度方向上,过渡侧边的长度d1和预切割线与所述配重部之间的最短距离d2之比为1: 5~6。
17.一种张网方法,其特征在于,用于对如权利要求1至16任意一项所述的支撑条进行张网处理,包括:
对所述长度方向上相对的两个所述偏移补偿部沿所述长度方向进行拉伸处理,以获得张网后的所述支撑条;
焊接所述张网后的支撑条在掩膜板框架上;
将所述预切割段去除。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110903244.0A CN113684444B (zh) | 2021-08-06 | 2021-08-06 | 支撑条及张网方法 |
KR1020237024955A KR20230117459A (ko) | 2021-08-06 | 2022-04-21 | 지지바 및 텐션 방법 |
JP2023544161A JP2024505640A (ja) | 2021-08-06 | 2022-04-21 | 支持バー及び張架方法 |
PCT/CN2022/088129 WO2023010893A1 (zh) | 2021-08-06 | 2022-04-21 | 支撑条及张网方法 |
US18/358,445 US20230366076A1 (en) | 2021-08-06 | 2023-07-25 | Support strip and net-tensioning method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110903244.0A CN113684444B (zh) | 2021-08-06 | 2021-08-06 | 支撑条及张网方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113684444A CN113684444A (zh) | 2021-11-23 |
CN113684444B true CN113684444B (zh) | 2023-08-04 |
Family
ID=78579200
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110903244.0A Active CN113684444B (zh) | 2021-08-06 | 2021-08-06 | 支撑条及张网方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230366076A1 (zh) |
JP (1) | JP2024505640A (zh) |
KR (1) | KR20230117459A (zh) |
CN (1) | CN113684444B (zh) |
WO (1) | WO2023010893A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113684444B (zh) * | 2021-08-06 | 2023-08-04 | 昆山国显光电有限公司 | 支撑条及张网方法 |
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- 2022-04-21 JP JP2023544161A patent/JP2024505640A/ja active Pending
- 2022-04-21 WO PCT/CN2022/088129 patent/WO2023010893A1/zh active Application Filing
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CN113684444A (zh) | 2021-11-23 |
KR20230117459A (ko) | 2023-08-08 |
WO2023010893A1 (zh) | 2023-02-09 |
JP2024505640A (ja) | 2024-02-07 |
US20230366076A1 (en) | 2023-11-16 |
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