CN108517490A - 掩膜板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种掩膜板及其制造方法，掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；第一掩膜条和第二掩膜条相互交错；第一掩膜条、第二掩膜条以及掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，蒸镀调整结构设置在第一掩膜条上和/或第二掩膜条上。上述掩膜板，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程。

Description

掩膜板及其制造方法

技术领域

本发明涉及显示装置制作领域，特别是涉及一种掩膜板及其制造方法。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板由于具有主动发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，已经开始广泛应用于手机等各种智能设备上。

但目前，随着人们对智能设备(特别是智能手机)的屏占比要求的不断提高，具有超高屏占比的超窄边框甚至无边框设计成为目前的发展趋势，因此用于实现摄像、人脸识别等功能的电子器件通常被安装于显示屏范围内以避免占用显示屏边缘外侧的空间而增大边框宽度，从而导致需要在屏体上预留安装孔以安装摄像头等电子器件。

而现有技术中，通常对屏体采用异形切割以形成摄像头等电子器件的安装空间，而异形切割的切割过程复杂、良品率低且切割后容易造成屏体受到水氧入侵而降低屏体的使用寿命。

发明内容

基于此，有必要针对异形屏体切割困难、良品率低的问题，提供一种可解决上述问题的掩膜板及其制造方法。

一种掩膜板，所述掩膜板包括：

掩膜框架，围合形成蒸镀区；

若干间隔排布设置在所述蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；

所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错；

所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；

若干用于调整所述蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，设置在所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。

上述掩膜板，当掩膜板应用于蒸镀过程中时，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程，提高了通过该掩膜板蒸镀的异形屏体的良品率。

在其中一个实施例中，若干所述蒸镀调整结构间隔排布设置在所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。

在其中一个实施例中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条形成交叠区，所述蒸镀调整结构设置在位于非交叠区的所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。

在其中一个实施例中，所述蒸镀调整结构与所述蒸镀调整结构所在的所述第一掩膜条或第二掩膜条一体成型。

在其中一个实施例中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条围成至少一个蒸镀单元，围成一个所述蒸镀单元的所述第一掩膜条和所述第二掩膜条上设置至少一个蒸镀调整结构。

在其中一个实施例中，所述蒸镀调整结构延伸至相邻的所述蒸镀单元内。

在其中一个实施例中，所述蒸镀调整结构、所述第一掩膜条与所述第二掩膜条的材料均相同。

一种掩膜板的制造方法，包括以下步骤：

提供一形成有蒸镀区的掩膜框架；

在所述蒸镀区的第一方向上设置若干间隔排布的第一掩膜条；

在所述蒸镀区的第二方向上设置若干间隔排布的第二掩膜条；

其中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错，所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成若干蒸镀单元，所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上形成有若干蒸镀调整结构。

在其中一个实施例中，所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上形成有若干蒸镀调整结构具体包括：所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错形成交叠区和非交叠区，所述若干蒸镀调整结构形成在所述非交叠区的所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。

在其中一个实施例中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错围成所述至少一个蒸镀单元，所述蒸镀调整结构向相邻的所述蒸镀单元延伸。

附图说明

图1为第一实施例的掩膜板的结构示意图；

图2为第二实施例的掩膜板的结构示意图；

图3为第三实施例的掩膜板的结构示意图；

图4为第四实施例的掩膜板的结构示意图；

图5为另一实施例的掩膜板的结构示意图；

图6为一实施方式的掩模板的制造方法的流程示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1-图4所示，本较佳实施方式的一种掩膜板100，包括掩膜框架120、第一掩膜条130、第二掩模条140及若干蒸镀调整结构150。

其中，掩膜框架120围合形成蒸镀区。若干第一掩膜条130间隔排布设置在蒸镀区的第一方向上，若干第二掩膜条140间隔排布设置在蒸镀区的第二方向上，第一掩膜条130和第二掩膜条140相互交错，第一掩膜条130、第二掩膜条140以及掩膜框架120围合形成若干蒸镀单元110。若干蒸镀调整结构150设置在第一掩膜条130上和/或第二掩膜条140上，用于调节蒸镀单元110的蒸镀面积。

上述掩膜板100，当掩膜板100应用于蒸镀过程中时，第一掩膜条130、第二掩膜条140、掩膜框架120蒸镀调整结构150可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构150对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元110形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程，提高了通过该掩膜板100蒸镀的异形屏体的良品率。

请继续参阅图1-图4，掩膜框架120大致呈矩形框架结构，从而形成大致呈矩形的蒸镀区，掩膜板100的长度方向(即蒸镀区的长度方向)为第一方向，掩膜板100的宽度方向(即蒸镀区的宽度方向)为第二方向，第一方向与第二方向相互垂直。第一掩膜条130在第一方向上间隔的两端均焊接于掩膜框架120 的长度方向的两端，第二掩膜条140在第二方向上间隔的两端均焊接于掩膜框架120的宽度方向上的两端。可以理解，第一方向与第二方向不限于掩膜板100 的长度或宽度方向，第一方向与第二方向也可仅相交而不垂直，从而形成若干形状不同的蒸镀单元110。

具体地，如图1及图2所示，蒸镀单元110可由第一掩膜条130、第二掩膜条140以及掩膜框架120三者共同围合形成。如图3及图4所示，蒸镀单元110 也可仅由第一掩膜条130与第二掩膜条140两者围合形成，第一掩膜条130与第二掩膜条140围成至少一个蒸镀单元110，掩膜框架120与第一掩膜条130和 /或第二掩膜条140共同围合形成无效区域，从而具有更高的蒸镀精度。

进一步在本实施方式中，用于围合形成一个蒸镀单元110的第一掩膜条130 和第二掩膜条140上设置至少一个蒸镀调整结构150，且蒸镀调整结构150延伸至相邻的蒸镀单元110内(即，当用于围成一个蒸镀单元110的第一掩膜条130 上未设置有蒸镀调整结构150时，用于围成该蒸镀单元110的第二掩膜条140 上设置有至少一个蒸镀调整结构150。当用于围成一个蒸镀单元110的第二掩膜条140上未设置有蒸镀调整结构150时，用于围成该蒸镀单元110的第一掩膜条130上设置有至少一个蒸镀调整结构150)。如此，一个蒸镀单元110对应于一个被蒸镀屏体，每个蒸镀单元110内至少有一个蒸镀调整结构150，从而在对蒸镀屏体上形成异形的覆盖蒸镀材料的蒸镀区。

进一步地，如图1-图4所示，第一掩膜条130和第二掩膜条140相互交错而形成交叠区，多组蒸镀调整结构150沿第一方向间隔排布设置在位于非交叠区的第一掩膜条130上(如图2及图4所示)，或者沿第二方向间隔排布设置在位于非交叠区的第二掩膜条140上(如图1及图3所示)。

具体地，每组蒸镀调整结构150包括两个蒸镀调整结构150，每组中的两个蒸镀调整结构150以第一掩膜条130在第一方向上的中心轴线为对称轴线对称设置，或者以第二掩膜条140在第二方向上的中心轴线为对称轴线对称设置。且每个蒸镀调整结构150均位于相应的蒸镀单元110一端的中部，从而在被蒸镀屏体一端的中部形成无蒸镀材料的遮挡区域以安装电子器件。可以理解，蒸镀调整结构150设置的位置可根据需要设置以形成具有不同显示显示区域显示屏。

如图2及图4所示，当蒸镀调整结构150位于第一掩膜条130上时，蒸镀调整结构150在第一方向上的尺寸自连接第一掩膜条130一端向远离第一掩膜条130一端逐渐减小而大致呈梯形。如图1及图3所示，当蒸镀调整结构150 位于第二掩膜条140上时，蒸镀调整结构150在第二方向上的尺寸自连接第二掩膜条140一端向远离第二掩膜条140一端逐渐减小而大致呈梯形。如此，该蒸镀调整结构150可在被蒸镀的屏体上形成梯形的无蒸镀材料区域。可以理解，蒸镀调整结构150的形状不限于此，可根据需要形成不同形状以使被蒸镀屏体上形成不同形状的无蒸镀材料遮挡区域。

在一实施例中，蒸镀调整结构150与蒸镀调整结构150所在的第一掩膜条 130或第二掩膜条140一体成型，且蒸镀调整结构150、第一掩膜条130以及第二掩膜条140的材料均相同，例如可为铁镍合金等。因此，蒸镀调整结构150 可跟随第一掩膜条130固定于掩膜框架120上，优化了掩膜板100的制造工序，并且提高了遮挡件的位置精度。可以理解，形成蒸镀调整结构150、第一掩膜条 130以及第二掩膜条140的材料不限，可根据需要设置。

如图1所示，具体在第一实施例中，掩膜板100包括沿两条第一掩膜条130 与一条第二掩膜条140，两条第一掩膜条130沿第二方向(即掩膜板100的宽度方向)间隔设置将蒸镀区平均分成三个纵向区域，且每个纵向区域的尺寸与形状均相等。第二掩膜条140沿第二方向延伸并穿过第一掩膜条130的中心点而将上述每个纵向区域分别平均分成两个横向区域。如此，该掩膜板100包括六个尺寸与形状均相同的蒸镀单元110，且六个蒸镀单元110呈三行两列排列，从而可同时蒸镀六个屏体。可以理解，第一掩膜条130与第二掩膜条140的数量不限于此，因此可同时蒸镀不同数量与形状的屏体以具有较高的生产效率。

进一步地，第二掩膜条140上沿第二方向间隔设有三组蒸镀调整结构150，每组中的两个蒸镀调整结构150分别位于第二掩膜条140两侧的两个蒸镀单元 110内，且每个蒸镀调整结构150均位于相应的蒸镀单元110靠近第二掩膜条 140一端的中部，从而在被蒸镀屏体一端的中部形成无蒸镀材料的遮挡区域。

如图2所示，在第二实施例中，与第一实施例的主要不同之处在于，蒸镀调整结构150沿第一方向间隔设置于第一掩膜条130上，从而使被蒸镀屏体上形成不同位置的无蒸镀材料的遮挡区域。

如图3所示，在第三实施例中，与第一实施例的主要不同之处在于，掩膜板100包括沿三条第一掩膜条130与三条第二掩膜条140，三条第一掩膜条130 沿第二方向(即掩膜板100的宽度方向)间隔设置将蒸镀区平均分成四个纵向区域，中间两个纵向区域的尺寸与形状相等。三条第二掩膜条140沿第二方向延伸并穿过第一掩膜条130的中心点而将上述每个纵向区域分别分成四个横向区域，中间两个横向区域的尺寸与形状相等。如此，该掩膜板100包括四个尺寸与形状均相同的蒸镀单元110，且六个蒸镀单元110呈两行两列排列，从而可同时蒸镀四个屏体。

如图4所示，在第四实施例中，与第三实施例的主要不同之处在于，蒸镀调整结构150沿第一方向间隔设置于第一掩膜条130上，从而使被蒸镀屏体上形成不同位置的无蒸镀材料的遮挡区域。

可以理解，第一掩膜条130、第二掩膜条140及蒸镀单元110的数量不限于上述实施例，可根据需要设置不同数量的第一掩膜条130与第二掩膜条140以形成不同数量的蒸镀单元110以同时蒸镀数量不同的被蒸镀屏体。

如图5所示，在一实施例中，掩膜板100还包括第三掩膜条160，第三掩膜条160覆盖蒸镀区，第三掩膜条160上开设有多个呈矩阵排列的通孔，通过具有该第三掩膜条160的掩膜板100进行蒸镀的屏体上可形成呈矩阵排的像素点。具体在该实施例中，三条第三掩膜条160沿第一方向延伸并沿第二方向间隔排列，第三掩膜条160的边缘由掩膜框架120与第一掩膜条130固定，且相邻两条第三掩膜条160之间的缝隙由第一掩膜条130遮蔽。

如此，第一掩膜条130与第二掩膜条140可作为支撑结构对第三掩膜条160 进行支撑以防止第三掩膜条160变形，同时蒸镀调整结构150可对第三掩膜条 160的部分区域进行遮挡而避免被蒸镀屏体对应区域被蒸镀材料附着，而无需在第三掩膜条160上设置相应区域以阻挡蒸镀材料，从而避免第三掩膜条160在张网过程中发生形变，提高了精确度的同时简化了蒸镀工艺。

具体在本实施例中，第三掩膜条160为精密掩膜条，设有该第三掩膜条160 的掩膜板100形成精密金属掩膜板100(fine metal mask，FMM)，用于在屏体上蒸镀形成彩色化层。而当未设有第三掩膜条160时，设有第一掩膜条130与第二掩膜条140的掩膜板100形成通用金属掩膜板100(common metal mask，CMM)，用于在被蒸镀屏体上蒸镀形成共通层。

进一步地，第一掩膜条130、第二掩膜条140及第三掩膜条160依次形成于掩膜框架120上，而不同与现有技术中，掩膜条被整体拉伸以整体固定于掩膜框架120上。如此，分条固定的第一掩膜条130、第二掩膜条140及第三掩膜条 160可限定出具有更高精度的蒸镀单元110，并使得蒸镀调整结构150的位置精度更高而实现了更精准的遮挡。

上述掩膜板100，第一掩膜条130与第二掩膜条140依次设于掩膜框架120 上，若干蒸镀调整结构150可对蒸镀材料进行阻挡以使被蒸镀屏体与蒸镀调整结构150的对应区域不被蒸镀材料附着，因此无需在后续加工中对该位置进行蒸镀材料去除，从而简化了加工工艺，提高了屏体的良品率。而且，由于第一掩膜条130与第二掩膜条140逐条设于掩膜框架120上，因此具有较高的精确度，保证蒸镀调整结构150位于预设位置。此外，当该掩膜板100设置有第三掩膜条160以在屏体上蒸镀彩色化层时，可无需在第三掩膜条160上设置遮挡区域，因此避免第三掩膜条160因为张网过程中应力发生变化而产生变形。

如图6所示，一种掩膜板100的制造方法，包括以下步骤：

S110：提供一形成有蒸镀区的掩膜框架120。

具体地，该蒸镀区大致呈矩形框架结构，并形成大致呈矩形的蒸镀区。

S120：在蒸镀区的第一方向上设置若干间隔排布的第一掩膜条130。

具体地，将若干第一掩膜条130同时或依次沿第一方向延伸并对准掩膜框架120，然后将第一掩膜条130在第一方向上的两端与掩膜框架120在第一方向上的两端进行焊接以使若干第一掩膜条130固定于掩膜框架120上。

S130：在蒸镀区的第二方向上设置若干间隔排布的第二掩膜条140。

具体地，将若干第二掩膜条140同时或依次沿第二方向延伸并对准掩膜框架120，然后将第二掩膜条140在第二方向上的两端与掩膜框架120在第二方向上的两端进行焊接以使若干第二掩膜条140固定于掩膜框架120。

其中，第一掩膜条130和第二掩膜条140相互交错，第一掩膜条130、第二掩膜条140以及掩膜框架120围合形成若干蒸镀单元110，第一掩膜条130和/ 或第二掩膜条140上形成有若干蒸镀调整结构150。

进一步地，第一掩膜条130和/或第二掩膜条140上形成有若干蒸镀调整结构150具体包括：第一掩膜条130和第二掩膜条140相互交错形成交叠区和非交叠区，若干蒸镀调整结构150形成在非交叠区的第一掩膜条130和/或第二掩膜条140上，第一掩膜条130和第二掩膜条140相互交错围成至少一个蒸镀单元110，蒸镀调整结构150向相邻的蒸镀单元110延伸。

步骤S130：在掩膜框架120的第二方向上固定第二掩膜条140之后，还包括以下步骤；

S140：在蒸镀区的第一方向上固定第三掩膜条160。

具体地，将第三掩膜条160沿第一方向延伸并对准掩膜框架120，然后将第三掩膜条160在第一方向上的两端与掩膜框架120在第一方向上的两端进行焊接以使第三掩膜条160固定于掩膜框架120上。第三掩膜条160与蒸镀单元110 对应以形成具有多个像素孔的蒸镀单元110，相邻两条第三掩膜条160之间的缝隙由第一掩膜条130遮蔽。

上述掩膜板100的制造方法，由于将第一掩膜条130与第二掩膜条140依次固定，相较于现有技术将掩膜条整体张网于掩膜框架120上，具有较高的精度，更加契合屏体设置容纳电子器件的空间的高精度要求。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：

掩膜框架，围合形成蒸镀区；

若干间隔排布设置在所述蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；

若干间隔排布设置在所述蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；

所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错；

所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；

若干用于调整所述蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，设置在所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，若干所述蒸镀调整结构间隔排布设置在所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条形成交叠区，所述蒸镀调整结构设置在位于非交叠区的所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述蒸镀调整结构与所述蒸镀调整结构所在的所述第一掩膜条或第二掩膜条一体成型。

5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条围成至少一个蒸镀单元，围成一个所述蒸镀单元的所述第一掩膜条和所述第二掩膜条上设置至少一个蒸镀调整结构。

6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述蒸镀调整结构延伸至相邻的所述蒸镀单元内。

7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述蒸镀调整结构、所述第一掩膜条与所述第二掩膜条的材料均相同。

8.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一形成有蒸镀区的掩膜框架；

在所述蒸镀区的第一方向上设置若干间隔排布的第一掩膜条；

在所述蒸镀区的第二方向上设置若干间隔排布的第二掩膜条；

其中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错，所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成若干蒸镀单元，所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上形成有若干蒸镀调整结构。

9.根据权利要求8所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上形成有若干蒸镀调整结构具体包括：所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错形成交叠区和非交叠区，所述若干蒸镀调整结构形成在所述非交叠区的所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。

10.根据权利要求9所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错围成所述至少一个蒸镀单元，所述蒸镀调整结构向相邻的所述蒸镀单元延伸。