CN104428439B - 掩模单元和蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

掩模单元在俯视时Y方向上没有被梁部覆盖的开口部的开口长度总和在X方向的任意位置均相等，梁部的与蒸镀掩模接触的部分不沿着Y方向架在框部上，而连续或断续地横切Y方向。

Description

掩模单元和蒸镀装置

技术领域

本发明涉及包括掩模单元的蒸镀装置，该掩模单元包括蒸镀掩模和用于保持蒸镀掩模的蒸镀掩模保持部件。

背景技术

近年来，在各种商品和领域有效利用平板显示器，要求平板显示器的进一步的大型化、高画质化、低消耗电力化。

这种状况下，具有利用有机材料的电致发光(Electroluminescence，以下记作“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为在全固体型且低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优秀的平板显示器，备受瞩目。

有机EL显示装置例如具有以下结构：在由设置有TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板构成的基板上，设置有与TFT连接的有机EL元件。

有机EL元件，是能够利用低电压直流驱动的高亮度发光的发光元件，具有依次层叠第一电极、有机EL层和第二电极的结构。其中，第一电极与TFT连接。另外，在第一电极与第二电极之间，作为上述有机EL层，设置有层叠了空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等的有机层。

全彩的有机EL显示装置，一般将红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各色的有机EL元件作为子像素在基板上排列形成，利用TFT使这些有机EL元件有选择地以期望的亮度发光，由此进行图像显示。

这种有机EL显示装置的发光部中的有机EL元件，一般由有机膜的层叠蒸镀形成。有机EL显示装置的制造中，至少由发出各色光的有机发光材料构成的发光层，按每个作为发光元件的有机EL元件以规定的图案成膜。

层叠蒸镀的规定图案的成膜中，除了能够使用例如被称为荫罩(Shadow mask)的蒸镀掩模的蒸镀法以外，还能够使用喷墨法、激光 转印法等。其中，当前使用蒸镀掩模的真空蒸镀法是最常用的(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开专利公报《特开2006-164815号公报(公开日：2006年6月22)》

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，像这样在使用蒸镀掩模进行蒸镀的情况下，当基板尺寸变大时，随之蒸镀掩模也变大。

其结果是，因蒸镀掩模的自重导致的挠曲和延伸，会发生蒸镀掩模的翘曲现象，在蒸镀所使用的被成膜基板与蒸镀掩模之间产生间隙。

图13是表示现有的蒸镀掩模的挠曲导致的问题点的截面图。图13示意性地表示现有的蒸镀装置内部的主要构成要素的概略结构。

如图13所示，使用蒸镀掩模301的蒸镀中，在与被成膜基板200相反的一侧配置有蒸镀源310，蒸镀源310与被成膜基板200之间隔着蒸镀掩模301。

有机发光材料等蒸镀材料，在高真空下加热、升华，由此作为蒸镀颗粒从蒸镀源310出射。

在使用了蒸镀掩模301的蒸镀中，如图13所示，在蒸镀掩模301设置有与蒸镀区域的一部分的图案对应的开口部302，经由该开口部302使蒸镀颗粒蒸镀到被成膜基板200上由此进行图案形成，以使得作为目标的蒸镀区域以外的区域不附着蒸镀颗粒。

作为蒸镀颗粒从蒸镀源310出射的蒸镀材料，通过设置于蒸镀掩模301的开口部302被蒸镀到被成膜基板200。

由此，仅在与开口部302对应的被成膜基板200的规定的位置，蒸镀形成具有期望的成膜图案的有机膜作为蒸镀膜。另外，有机EL蒸镀工艺的发光层的蒸镀，按发光层的每个颜色进行(将之称为“分别涂敷蒸镀”)。

在这样的蒸镀工艺中，在被成膜基板200使用大型基板的情况下， 伴随被成膜基板200的大型化蒸镀掩模301也大型化，由此如图13的二点划线所示，在蒸镀掩模301发生自重导致的挠曲。

从蒸镀源310射出的蒸镀颗粒，呈放射状地飞散而蒸镀到被成膜基板200。此时，蒸镀颗粒从蒸镀源310具有角度地飞散，所以蒸镀掩模301的挠曲导致的高度方向的位置偏移，呈现横向的位置偏移。

因此，当蒸镀掩模301发生挠曲时，如图13的二点划线所示，在蒸镀源310的正上方的位置P1不发生蒸镀位置的偏移，而在从蒸镀源310离开的位置P2、P3蒸镀位置发生偏移。

因此，在例如如上所述RGB分别涂敷方式的大型有机EL蒸镀工艺中，当蒸镀掩模301发生挠曲时，蒸镀位置精度降低，不能进行位置精度高的图案形成，会发生蒸镀位置偏移或混色，难以实现高精细化。

另外，这样的问题在使用与被成膜基板200同等尺寸的蒸镀掩模作为蒸镀掩模301的情况下显得更加显著。

另外，图14是表示现有的包括蒸镀掩模301和蒸镀掩模保持部件303的掩模单元300的概略结构的平面图。其中，图14中省略了蒸镀掩模301的开口部302的图示。

如图14所示，在蒸镀掩模301的背后设置有用于保持蒸镀掩模301的、被称为掩模框(mask frame)或掩模架(mask holder)的蒸镀掩模保持部件303。

在这样的掩模单元中，蒸镀掩模保持部件303一般形成为框状，包括开口部304和包围该开口部304并保持蒸镀掩模301的框部305。

蒸镀掩模301，以其开口部302位于蒸镀掩模保持部件303的开口部304内的方式，用激光等将其周缘部分通过熔接到蒸镀掩模保持部件303的框部305而固定到蒸镀掩模保持部件303(例如参照专利文献1)。

因此，现有技术中，将蒸镀掩模301以预先充分拉伸的状态熔接到蒸镀掩模保持部件303，以使得所熔接的蒸镀掩模301不发生挠曲。

像这样拉伸熔接的蒸镀掩模301，如图14的二点划线所示，将蒸镀掩模保持部件303的框部305向蒸镀掩模301的中央强力拉伸。因此，现有的蒸镀掩模保持部件303，具有框部305的边的部分、特别是 如图14所示在长边部分容易产生变形的问题点。

其中，专利文献1中公开了，为了防止这样的蒸镀掩模的翘曲导致的掩模单元的翘曲，将蒸镀掩模熔接到蒸镀掩模保持部件的框部之后，将施加了张力的金属带(tape)以与施加于蒸镀掩模的张力(tension)的方向平行的方式熔接到该框部的背面。

但是，在被成膜基板200使用大型基板的情况下，随之蒸镀掩模的大小变大时，仅通过对蒸镀掩模施加张力，很难说足以消除蒸镀掩模的挠曲和翘曲。

本发明鉴于上述问题点，其目的在于提供一种能够进行没有蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀的掩模单元和蒸镀装置。

用于解决课题的方法

为了解决上述课题，本发明的一个方式的掩模单元包括：具有开口部的蒸镀掩模；和保持上述蒸镀掩模的蒸镀掩模保持部件，上述蒸镀掩模保持部件的一部分与上述蒸镀掩模的下表面接触，并且，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向上的没有被上述蒸镀掩模保持部件覆盖的开口部的开口长度总和均相等，并且，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切上述第二方向地与上述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，另一方面，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分不具有从上述蒸镀掩模中的上述第二方向的一端至另一端连续的接触部。

另外，本发明的方式的蒸镀装置，包括：上述掩模单元；蒸镀源，其与上述掩模单元中的蒸镀掩模相对配置，且与上述蒸镀掩模的相对位置被固定；和移动机构，其在上述掩模单元中的蒸镀掩模和被成膜基板相对配置的状态下，使上述掩模单元和蒸镀源、与上述被成膜基板中的任一方以第二方向为扫描方向的方式相对移动，上述蒸镀掩模的第二方向的宽度小于第二方向的被成膜基板的宽度，一边沿着上述第二方向扫描，一边使从上述蒸镀源出射的蒸镀颗粒经由上述蒸镀掩模的开口部蒸镀到上述被成膜基板上。

发明的效果

根据上述各结构，即使不使用刚性高、粗(重)的框部，也能够抑制蒸镀掩模保持部件的歪曲等变形。另外，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切上述第二方向地与上述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，由此，能够抑制蒸镀掩模的自重挠曲等挠曲。

另外，上述掩模单元中，上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模接触的接触部连续或断续地横切第二方向，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分不具有从上述蒸镀掩模中的上述第二方向的一端至另一端连续的接触部，所以通过以上述第二方向为扫描方向进行扫描蒸镀，上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模的接触部不与扫描方向平行。

因此，使用上述掩模单元以上述第二方向为扫描方向进行扫描蒸镀，由此，即使在上述蒸镀掩模保持部件设置了上述接触部，在有该接触部的区域也能够进行与没有该接触部的区域同样的蒸镀。因此，如果将上述掩模单元作为扫描蒸镀用的掩模单元使用，则能够进行没有因蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀。

另外，上述掩模单元，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在上述蒸镀掩模的开口部的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向上的没有被上述梁部覆盖的开口部的开口长度总和均相等，所以上述第一方向上相邻的开口部间不发生蒸镀量的偏差，在具有上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模的接触部的显示区域也能够均匀地进行蒸镀。

因此，根据上述结构，能够提供一种掩模单元和蒸镀装置，上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模接触的接触部不会妨碍蒸镀，利用該接触部能够抑制蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移，还能够进行均匀的蒸镀。

附图说明

图1(a)～(d)是表示实施方式1的掩模单元的概略结构的图。

图2是示意性地表示实施方式1的蒸镀装置的重要部位的概略结构的截面图。

图3是表示实施方式1的蒸镀装置中的从斜上方看真空腔室内的主要构成要素时的关系的俯视图。

图4是表示具有格子状的梁构造的掩模框的概略结构的平面图。

图5是表示实施方式1的另一掩模单元的概略结构的截面图。

图6(a)～(d)是表示实施方式2的掩模单元的概略结构的图。

图7(a)是表示实施方式3的掩模单元的蒸镀掩模保持部件的概略结构的平面图，(b)是表示(a)所示的掩模单元的蒸镀掩模的概略结构的平面图。

图8(a)是表示实施方式4的掩模单元的蒸镀掩模保持部件的概略结构的平面图，(b)是表示(a)所示的掩模单元的蒸镀掩模的概略结构的平面图。

图9(a)是表示实施方式5的掩模单元的蒸镀掩模保持部件的概略结构的平面图，(b)是表示(a)所示的掩模单元的蒸镀掩模的概略结构的平面图。

图10(a)～(c)是表示实施方式6的掩模单元的概略结构的图。

图11是表示图10(a)所示的掩模单元的另一蒸镀掩模的概略结构的平面图。

图12是表示实施方式6的掩模单元的另一蒸镀掩模保持部件的概略结构的平面图。

图13是表示现有的蒸镀掩模的挠曲导致的问题点的截面图。

图14是表示现有的包括蒸镀掩模和蒸镀掩模保持部件的掩模单元的概略结构的平面图。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。

[实施方式1]

基于图1(a)(b)～图5对本发明的一个实施方式进行说明如下。

本实施方式的掩模单元，是使用比被成膜基板(被成膜对象物)尺寸小的蒸镀掩模，一边使被成膜基板与掩模单元和蒸镀源相对移动地进行扫描一边进行蒸镀的、采用扫描(scanning)方式的蒸镀(扫描蒸镀)所使用的掩模单元。

其中，以下以扫描方向和与扫描方向平行的方向(第二方向)作为Y方向(Y轴方向)，以与扫描方向垂直的方向(第一方向)作为X方向(X轴方向)进行说明。

<掩模单元1的整体结构>

图1(a)～(d)是表示本实施方式的掩模单元的概略结构的图。图1(a)是表示本实施方式的掩模单元的概略结构的平面图，图1(b)是图1(a)所示的掩模单元的I-I线矢视截面图，图1(c)是表示图1(a)所示的掩模单元的蒸镀掩模保持部件的概略结构的平面图，图1(d)是表示图1(a)所示的掩模单元的蒸镀掩模的概略结构的平面图。

本实施方式的掩模单元1，如图1(a)～(d)所示，包括被称为荫罩的蒸镀掩模10，和用于保持蒸镀掩模10的、被称为掩模框或掩模架的蒸镀掩模保持部件20。

<蒸镀掩模保持部件20>

本实施方式的蒸镀掩模保持部件20，如图1(a)～(c)和图3所示，具有中央开口的框形状。

蒸镀掩模保持部件20包括框部21、梁部22、和由被梁部22分隔开的开口部H1、H2构成的开口部H(开口区域)。

框部21由俯视时呈矩形状的框部件构成，在蒸镀掩模10的外缘部保持该蒸镀掩模10。

框部21，如图1(a)所示，以包围由蒸镀掩模10的开口部S组构成的开口区域11(参照图1(d))的方式形成，蒸镀掩模10的开口部S位于由框部21围成的开口部H内。

在由框部21围成的开口部H内，如图1(b)所示，具有与框部21相同厚度的板状的梁部22形成为其上表面22a与框部21中的与蒸镀掩模10接触的接触面21a为同一面。

由此，梁部22的上表面22a与蒸镀掩模10的下表面10c接触，蒸镀掩模保持部件20通过框部21和梁部22来支承蒸镀掩模10。

另外，如图1(a)所示，梁部22以将由框部21围成的开口部H斜向二分的方式设置在框部21的一个对角线上。其中，梁部22俯视时具有均等的宽度。

由此，由框部21围成的开口部H，被梁部22分割为开口部H1和开口部H2，俯视时Y方向的开口部H1与开口部H2的开口长度总和(即俯视时在Y方向位于同一直线上的开口部H1与开口部H2的开口长度总和)在X方向的任意位置均相等。

<蒸镀掩模10>

在蒸镀掩模10，与上述蒸镀区域的一部分的图案对应地设置有用于使蒸镀时的蒸镀颗粒通过的多个开口部S(贯通口)，以使得被成膜基板的作为目标的蒸镀区域以外的区域上不附着蒸镀颗粒。

作为蒸镀颗粒从蒸镀源出射的蒸镀材料，通过蒸镀掩模保持部件20的开口部H(开口部H1、H2)和蒸镀掩模10的开口部S被蒸镀到被成膜基板。

由此，仅在与开口部S对应的被成膜基板的规定的位置，形成具有规定的成膜图案的蒸镀膜。其中，在上述蒸镀材料为有机EL显示装置的发光层的材料的情况下，有机EL蒸镀工艺的发光层的蒸镀按发光层的每个颜色进行。

如图1(a)、(d)所示，在蒸镀掩模10，在Y方向上延伸设置的狭缝状的开口部S在X方向上呈条纹状地排列设置有多个。

梁部22和开口部S形成为俯视时与开口部H1重叠的开口部S的开口长度和与开口部H2重叠的开口部S的开口长度的开口长度总和在X方向的任意位置均相等。

本实施方式中，如图1(a)、(d)所示，各开口部S形成于不与梁部22重叠的部分，俯视时以避开梁部22的方式在Y方向上连续或在Y方向上断续地形成。

因此，本实施方式中，蒸镀掩模10的开口部S本身形成为俯视时该开口部S的Y方向的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等。

例如，如图1(a)所示，在蒸镀掩模10在X方向上形成有N个(N为3以上的整数)的开口部S的情况下，设图1(a)中最左侧的开口部为开口部S1，最右侧的开口部S为开口部SN，它们之间的任意的开口部S为开口部SM(M为1<M<N的整数)，与开口部H1重叠的开口部S1的开口长度为d1，与开口部H1重叠的开口部SM的开口长度为d2，与开口部H2重叠的开口部SM的开口长度为d3，与开口 部H2重叠的开口部SN的开口长度为d4时，以d1＝d2+d3＝d4的方式形成各开口部S。

其中，作为上述蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20的材料，能够使用例如不锈钢等各种具有耐热性的与现有技术同样的材料。

另外，蒸镀掩模10向蒸镀掩模保持部件20的固定能够采用熔接、粘接、螺丝固定等公知的各种固定方法。

另外，在蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20的至少一者，沿着作为被成膜基板的扫描方向(基板扫描方向)的方向设置有用于进行被成膜基板与蒸镀掩模10的位置对准(对齐)的未图示的对准标记。

另一方面，在被成膜基板也在蒸镀区域的外侧，沿着被成膜基板的扫描方向设置有用于进行被成膜基板与蒸镀掩模10的位置对准的对准标记。

本实施方式中，以Y方向作为扫描方向的方式在蒸镀装置配置掩模单元1使被成膜基板与掩模单元1和蒸镀源相对地移动，由此，能够使俯视时扫描方向上的与开口部H1重叠的开口部S的开口长度和与开口部H2重叠的开口部S的开口长度的开口长度总和在与扫描方向垂直的任意位置均相等，能够在具有梁部22的区域和不具有梁部22的区域均进行同样的蒸镀。

接着，参照图2和图3对使用上述掩模单元1的蒸镀装置的一例进行说明。

<蒸镀装置的整体结构>

另外，图2是示意性地表示本实施方式的蒸镀装置的重要部位的概略结构的截面图。另外，图2表示与扫描方向平行地将本实施方式的蒸镀装置截断时的截面。

图3是表示本实施方式的蒸镀装置中的从斜上方看真空腔室内的主要构成要素时的关系的俯视图。

如图2所示，本实施方式的蒸镀装置50包括：真空腔室51(成膜腔室)、作为保持被成膜基板200的基板保持部件的基板保持件52、使被成膜基板200移动的基板移动机构53(移动机构)、蒸镀单元54、使蒸镀单元54移动的蒸镀单元移动机构55(移动单元)、图像传感器等未图示的对准观测单元、和未图示的控制电路等。

另外，蒸镀单元54包括上述掩模单元1、蒸镀源70、掩模单元固定部件80、和未图示的遮板(shutter)。

其中，基板保持件52、基板移动机构53、蒸镀单元54、蒸镀单元移动机构55，设置在真空腔室51内。

另外，在真空腔室51设置有未图示的真空泵，为了在蒸镀时将该真空腔室51内保持为真空状态，经由设置于该真空腔室51的未图示的排气口对真空腔室51进行真空排气。

<基板保持件52>

基板保持件52，将由TFT基板等构成的被成膜基板200以其被成膜面201(蒸镀面)面向蒸镀单元54的蒸镀掩模10的方式保持。

被成膜基板200与蒸镀掩模10离开一定距离地相对配置，在被成膜基板200与蒸镀掩模10之间设置有一定高度的空隙。

基板保持件52优选使用例如静电卡盘等。通过用静电卡盘等方法将被成膜基板200固定于基板保持件52，能够将被成膜基板200以没有因自重而产生的挠曲的状态保持于基板保持件52。

<基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55>

本实施方式中，如图2和图3所示，利用基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55的至少一者使被成膜基板200和蒸镀单元54(掩模单元1和蒸镀源70)以Y方向成为扫描方向的方式相对移动地进行扫描蒸镀。

基板移动机构53，具有未图示的电机，通过未图示的电机驱动控制部驱动电机，由此使被保持于基板保持件52的被成膜基板200移动。

另外，蒸镀单元移动机构55，具有未图示的电机，通过未图示的电机驱动控制部驱动电机使电机驱动，由此在照原样保持蒸镀掩模10与蒸镀源70的相对位置的状态下，使蒸镀单元54相对于被成膜基板200相对移动。

另外，该基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55，通过驱动未图示的电机，利用未图示的对准标记，以消除蒸镀掩模10与被成膜基板200的位置偏移的方式进行位置修正。

该基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55，例如可以为辊式的移动机构，也可以为油压式的移动机构。

该基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55，也可以包括由例如步进电机(脉冲电机)等电机(XYθ驱动电机)、辊和齿轮等构成的驱动部、和电机驱动控制部等驱动控制部，利用驱动控制部驱动驱动部，由此使被成膜基板200或蒸镀单元54移动。另外，该基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55，包括由XYZ载置台等构成的驱动部，可以在X方向、Y方向、Z方向(Z轴方向)的任意方向都移动自如地设置。

其中，被成膜基板200和蒸镀单元54只要其至少一者设置成能够相对移动即可。换言之，基板移动机构53和蒸镀单元移动机构55只要至少设置有一者即可。

例如被成膜基板200设定成能够移动的情况下，蒸镀单元54可以固定于真空腔室51的内壁。相反地，在蒸镀单元移动机构55设定成能够移动的情况下，基板保持件52可以固定于真空腔室51的内壁。

<蒸镀源70>

蒸镀源70是例如在内部收纳蒸镀材料的容器。蒸镀源70可以是在容器内部直接收纳蒸镀材料的容器，也可以具有负载制动式的配管，形成为从外部供给蒸镀材料。

蒸镀源70如图3所示例如形成为矩形状。在蒸镀源70的与蒸镀掩模10的相对面，例如设置有多个使蒸镀材料作为蒸镀颗粒射出(飞散)的射出口71。

上述蒸镀单元54中，蒸镀掩模10与蒸镀源70的位置相对固定。即，蒸镀掩模10与蒸镀源70的射出口71的形成面之间的空隙g1总是保持为一定。

射出口71如图3所示，沿蒸镀掩模10的开口部S的排列设置方向排列设置。

另外，射出口71的间距与开口部S的间距可以不一致。另外，射出口71的大小也可以与开口部S的大小不一致。

例如，如图3所示在蒸镀掩模10设置有条纹状的开口部S的情况下，射出口71的开口径既可以比开口部S的短边的宽度大也可以比开口部S的短边的宽度小。

另外，可以对于一个开口部S设置多个射出口71，也可以对于多个开口部S设置一个射出口71。另外，多个射出口71中的一部分(至 少一个)射出口71或射出口71的一部分区域可以与蒸镀掩模10的非开口部(例如相邻的开口部S间)相对地设置。

但是，出于减少在蒸镀掩模10的非开口部附着蒸镀颗粒的量，尽可能提高材料利用效率的观点，优选以各射出口71的至少一部分与一个或多个开口部S重叠的方式将各射出口71与各开口部S相对地设置。

而且，更优选各射出口71以俯视时位于某个开口部S的方式将射出口71与开口部S相对地设置。

另外，出于提高材料利用效率的观点，优选开口部S与射出口71一对一对应。

<遮板的结构>

在蒸镀掩模10与蒸镀源70之间，为了控制蒸镀颗粒到达蒸镀掩模10，可以根据需要将上述的未图示的遮板能够基于蒸镀关闭(OFF)信号或蒸镀开启(ON)信号进退(能够插拔)地设置。

上述遮板通过插入到蒸镀掩模10与蒸镀源70之间来封闭蒸镀掩模10的开口部S。像这样，在蒸镀掩模10与蒸镀源70之间适当插入遮板，由此能够防止向不进行蒸镀的非蒸镀区域的蒸镀。

其中，上述遮板可以与蒸镀源70设置成一体，也可以与蒸镀源70分开设置。

另外，在上述蒸镀装置50中，也可以采用如下结构：从蒸镀源70飞散的蒸镀颗粒被调整成在蒸镀掩模10内飞散，飞散到蒸镀掩模10外的蒸镀颗粒，用防附着板(遮蔽板)等适当除去。

<掩模单元固定部件80>

掩模单元固定部件80是载置掩模单元1并将其保持、固定的载置台。

如图2所示，掩模单元1被掩模单元固定部件80保持、固定，在该掩模单元1的下方配置有蒸镀源70。

其中，掩模单元固定部件80的形状没有特别限定，只要能够将掩模单元1从蒸镀源70离开一定距离地保持、固定即可。

掩模单元1和蒸镀源70例如由掩模单元固定部件80保持为一体，掩模单元1的蒸镀掩模10与蒸镀源70的相对位置固定。

即，蒸镀掩模10与蒸镀源70的射出口71的形成面之间的空隙的高度(垂直距离)保持为一定，并且蒸镀掩模10的开口部S与蒸镀源70的射出口71的相对位置也保持为一定。

但是，在将蒸镀单元54固定而使被成膜基板200相对于蒸镀单元54相对移动的情况下，只要掩模单元1与蒸镀源70的相对位置固定即可，并不一定需要像上述那样一体化。

也可以例如通过将蒸镀源70与掩模单元固定部件80分别固定于真空腔室51的内壁，来将掩模单元1与蒸镀源70的相对位置、即蒸镀掩模10与蒸镀源70的相对位置固定。

另外，也可以例如与真空腔室2的内壁相邻地设置具有架板的保持件作为防附着板兼真空腔室内构成物保持机构，在该保持件的架板载置掩模单元1。即，上述支架的架板也可以作为掩模单元固定部件80使用。

蒸镀掩模10与蒸镀源70以该蒸镀掩模10与蒸镀源70之间具有一定的高度的空隙g1的方式彼此离开一定距离地相对配置。

另外，上述空隙g1能够任意设定，没有特别限定。但是，为了提高蒸镀材料的利用效率，优选上述空隙g1尽可能小。

另外，蒸镀掩模10与被成膜基板200以该蒸镀掩模10与被成膜基板200之间具有一定的高度的空隙g2的方式彼此离开一定距离地相对配置。

蒸镀掩模10与被成膜基板200之间的空隙的高度(垂直距离)优选为50μm以上、1mm以下的范围内，更优选为200～500μm程度。

在上述空隙g2的高度低于50μm的情况下，被成膜基板200与蒸镀掩模10接触的风险变高。

另一方面，当上述空隙g2的高度超过1mm时，通过蒸镀掩模10的开口部S的蒸镀颗粒扩散，形成的蒸镀膜的图案宽度变得过大。例如在上述蒸镀膜为有机EL显示装置中使用的红色的发光层的情况下，当上述空隙超过1mm时，有可能导致在作为相邻子像素的绿色或蓝色等子像素中也蒸镀有红色的发光材料。

另外，只要上述空隙g2的高度为200～500μm程度，则被成膜基板200没有与蒸镀掩模10接触的风险，另外，蒸镀膜的图案宽度的范围也能够充分变小。

<效果>

根据本实施方式，如上所述，通过在框部21设置梁部22，即使不使用刚性高、粗(重)的框部，也能够抑制框部21的歪曲等变形。另外，通过使上述梁部22在由框部21围成的开口部H内以与蒸镀掩模10接触的方式形成，能够抑制蒸镀掩模10的自重挠曲等挠曲。

另外，本实施方式中，通过以上述梁部22横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模10的中央部附近的方式形成，能够直接地抑制蒸镀掩模10的挠曲。

像这样，根据本实施方式，在进行扫描蒸镀时，通过令掩模单元1的框构造采用最佳的梁(栈)构造，能够实现没有挠曲的蒸镀掩模10。

另外，在使用与被成膜基板几乎相同大小的蒸镀掩模进行蒸镀的不是扫描蒸镀方式的现有的蒸镀法中，如果在掩模框设置梁构造，则有梁的区域变得无法蒸镀，所以不能设置梁构造。

另外，在采用扫描蒸镀法的情况下也如图4所示，如果在框部21设置格子状的梁部22，则在被成膜基板中，在与蒸镀掩模保持部件20的设置有与扫描方向平行的梁部22的区域R重叠的区域，蒸镀颗粒不通过蒸镀掩模10，蒸镀颗粒不被蒸镀。因此，不能在被成膜基板的被成膜区域(蒸镀区域)设置这样的梁构造。

但是，本实施方式中，如上所述，将梁部22形成为横切作为开口部S的排列方向的X方向，以与该X方向垂直的Y方向作为扫描方向进行扫描蒸镀，由此，梁部22与扫描方向不平行。

像这样，根据本实施方式，梁部22以横切作为扫描方向的Y方向的方式倾斜地设置，而不是沿着上述Y方向横架在上述框部21上。

即，本实施方式的掩模单元1，不具有从由框部21围成的区域内的一端至另一端平行于Y方向地设置的梁部。

因此，有梁部22的区域也能够与没有梁部22的区域进行同样的蒸镀。由此，能够进行没有因蒸镀掩模10的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀。

另外，根据本实施方式，如上所述，俯视时与开口部H1重叠的开口部S的开口长度和与开口部H2重叠的开口部S的开口长度的开口长 度总和在X方向的任意位置均相等，由此在各开口部S、即X方向上相邻的开口部S之间不发生蒸镀量偏差，能够在有梁部22的显示区域也均匀地进行蒸镀。因此，根据本实施方式，上述梁部22不会妨碍蒸镀，能够利用上述梁部22抑制蒸镀掩模10的挠曲导致的蒸镀位置偏移，且能够进行均匀的蒸镀。由此，能够实现例如没有混色的有机EL显示装置。

另外，如上所述，现有技术中，为了不使熔接后的蒸镀掩模挠曲，将蒸镀掩模在预先充分拉伸的状态下熔接到蒸镀掩模保持部件，因为由被拉伸熔接的蒸镀掩模拉伸的框容易变形，所以需要用刚性高、粗(重)的框来形成框部。

但是，本实施方式中，如上所述，通过以横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模10的中央附近的方式形成梁部22，直接地抑制蒸镀掩模10的挠曲，由此相比现有技术，能够减低拉伸蒸镀掩模10的张力。特别是，本实施方式中，梁部22形成在框部21的对角线上，所以上述梁部22作为支撑条起作用。

因此，不需要刚性高、粗(重)的框部，相比现有技术能够使框部21薄型化、轻量化。因此，即使形成有梁部22，也能够相比现有技术使蒸镀掩模保持部件20轻量化。

作为一例，本实施方式中，框部21的外形采用X方向的长度750mm×Y方向的长度365mm，框部21采用俯视时的宽度为30mm、厚度为20mm的框体。另外，梁部22使用俯视时的宽度为5mm、厚度为20mm的板状部件。

另外，开口部H1的Y方向的距离(开口长度)设计成300mm～0mm。即，图1(b)中，开口部H1设计成最左侧端的部分的开口长度为300mm、最右侧端的部分的开口长度为0mm，随着向右侧去开口长度变小。

另一方面，开口部H2的Y方向的距离(开口长度)设计成0mm～300mm。即，图1(b)中，开口部H2设计成最左侧端的部分的开口长度为0mm、最右侧端的部分的开口长度为300mm，随着向右侧去开口长度变大。

但是，这些值都是一例，并不仅限定于上述值，能够任意地设计。

<变形例>

(梁部22的厚度)

图5是表示本实施方式的另一掩模单元1的概略结构的截面图。

图1(b)中，以在由框部21围成的开口部H内形成有具有与框部21相同厚度的板状的梁部22的情况举例进行图示。

与之相对地，图5所示的掩模单元1中，梁部22的厚度形成得比框部21薄，这一点与图1(a)、(b)所示的掩模单元1不同。

其中，本实施方式中，梁部22也以其上表面22a成为与框部21的与蒸镀掩模10接触的接触面21a为同一面的方式形成。

如上所述，根据本实施方式，不需要刚性高、粗(重)的框部。

因此，如图5所示，通过使梁部22形成得比外周的框部21薄，相比图1(a)、(b)所示的掩模单元1能够进一步轻量化。

(开口形状)

另外，图1(a)、(d)和图3中，以在蒸镀掩模10在Y方向上延伸设置的狭缝状的开口部S在X方向上呈条纹状地排列设置有多个的情况举例进行说明。

但是，上述开口部S的形状可以任意，例如在X方向排列多个槽状的开口部，也可以为这样的槽状的开口部在X方向和Y方向上排列为交错状。

另外，上述蒸镀掩模10可以例如为按每个像素形成有开口部S的精细式掩模(finemask)，也可以为与被成膜基板200的X方向的显示区域的大小对应的区域整体开口的开放式掩模(open mask)。

其中自不必说，上述掩模单元1在使用在蒸镀掩模10的容易发生挠曲的区域、特别是最容易发生挠曲的蒸镀掩模10的中央部存在掩模部(即，相邻的开口部S间的非开口区域)的蒸镀掩模10的情况下发挥特别大的效果。

不论在哪种情况下，本实施方式中，在将蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20组合的情况下、即作为掩模单元1使用的情况下，只要以俯视时使蒸镀掩模10的开口部S的、Y方向上的不与梁部22重叠(即不被梁部22覆盖)的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等的方式形成开口部H的梁部22和开口部S即可。

即，本实施方式的掩模单元1，以俯视时使与开口部H1重叠的开 口部S的开口长度和与开口部H2重叠的开口部S的开口长度的开口长度总和在成为与扫描方向垂直的方向的X方向的任意位置均相等的方式形成开口部H的梁部22和开口部S，俯视时使成为开口部H的扫描方向的Y方向上的实质上的开口长度的总和在与开口部H的扫描方向垂直的X方向上均相等即可。

(蒸镀掩模的大小)

另外，掩模单元1，为了将该掩模单元1小型化，如图1(a)和图3所示，以使蒸镀掩模10的较短方向(短边方向)成为扫描方向的方式进行设计、设置。

本实施方式中，如图3所示，使用蒸镀掩模10的长边10a的宽度大于与该长边10a平行的被成膜基板200的短边200b的宽度，蒸镀掩模10的短边10b的宽度小于与该短边10b平行的被成膜基板200的长边200a的宽度的矩形状的蒸镀掩模10。

但是，被成膜基板200相对于蒸镀掩模10的长边200a的方向并不限定于此，当然也可以根据被成膜基板200的大小，配置蒸镀掩模10和被成膜基板200以使得被成膜基板200的长边200a与蒸镀掩模10的长边10a平行。

另外，本实施方式中，俯视时作为矩形状的蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20使用俯视为长方形状的蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20，但当然作为上述蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20也可以使用俯视为正方形状的蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20。

(框部的大小)

另外，图1(a)、(b)中，以蒸镀掩模10为矩形状、蒸镀掩模保持部件20的框部21形成为俯视时比蒸镀掩模10大一圈的矩形状的情况举例进行了图示。

但是，框部21俯视时也可以具有与蒸镀掩模10相同的大小。另外，也可以蒸镀掩模10的开口区域11的外周部分形成得比框部21大，蒸镀掩模10以卷绕于框部21的方式固定。

[实施方式2]

基于图6(a)～(d)对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式1的不同点进行说明， 对具有与在上述实施方式1中说明过的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的编号，省略其说明。

图6(a)～(d)是表示本实施方式的掩模单元1的概略结构的图。图6(a)是表示本实施方式的掩模单元1的概略结构的平面图，图6(b)是图6(a)所示的掩模单元1的II-II线矢视截面图，图6(c)是表示图6(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模保持部件20的概略结构的平面图，图6(d)是表示图6(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模10的概略结构的平面图。

本实施方式的掩模单元1，除了变更了蒸镀掩模保持部件20的梁部22的平面形状(换言之，开口部H的开口形状)和蒸镀掩模10的开口部S的开口形状以外，具有与实施方式1的掩模单元1同样的结构。

<蒸镀掩模保持部件20>

本实施方式的蒸镀掩模保持部件20，如图6(a)、(c)和图所示，在矩形状的框部21的各对角线上分别设置有梁部22。由此，本实施方式中，由框部21围成的开口部H，被相对于Y方向倾斜交叉的梁部22分隔为4个开口部H11～H14。

另外，本实施方式中，如图6(b)所示，梁部22与实施方式1同样具有与框部21相同的厚度，以其上表面22a成为与框部21的与蒸镀掩模10接触的接触面21a为同一面的方式形成。由此，本实施方式的蒸镀掩模保持部件20由框部21和相对于Y方向倾斜地交叉的梁部22支承蒸镀掩模10。

另外，本实施方式中，如图6(a)、(c)所示，俯视时梁部22的交叉部(梁部交叉区域22b)及其附近的梁部22的Y方向的宽度，形成为其他区域的梁部22的Y方向的宽度的2倍的宽度。

由此，俯视时由梁部22分割而成的开口部H11～H14的Y方向的开口长度总和(即开口部H11～H14中的俯视时在Y方向位于同一直线上的开口部的开口长度总和)在X方向的任意位置均相等。

<蒸镀掩模10>

另外，图6(a)、(d)中，以在蒸镀掩模10在Y方向上延伸设置的狭缝状的开口部S在X方向上呈条纹状地排列设置有多个的情况举 例进行说明。其中，上述开口形状为一例，并不限定于此，如实施方式1中说明的那样。

本实施方式中，如图6(a)、(d)所示，各开口部S形成于不与梁部22重叠的部分，俯视时以避开梁部22的方式在Y方向上连续或在Y方向上断续地形成。

因此，本实施方式中，蒸镀掩模10的开口部S本身也形成为俯视时该开口部S的Y方向的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等，与开口部H11～H14中的在Y方向位于同一直线上的开口部重叠的开口部S的开口长度在X方向的任意位置均相等。

<效果>

因此，本实施方式中，与实施方式1同样，以Y方向作为扫描方向的方式在蒸镀装置50配置掩模单元1使被成膜基板200与掩模单元1和蒸镀源70相对地移动，由此，能够使俯视时扫描方向上的与开口部H11～H14重叠的开口部S的开口长度总和在与扫描方向垂直的任意位置均相等，能够在具有梁部22的区域和不具有梁部22的区域都进行同样的蒸镀。

由此，能够进行没有因蒸镀掩模10的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀，并且能够在各开口部S、即X方向相邻的开口部S间蒸镀量不发生偏差，在有梁部22的显示区域也均匀地进行蒸镀。由此，能够实现例如没有混色的有机EL显示装置。

另外，本实施方式中，也如上所述，通过在框部21设置梁部22能够抑制框部21的歪曲等变形，并且通过使上述梁部22在由框部21围成的开口部H内以与蒸镀掩模10接触的方式形成，能够抑制蒸镀掩模10的自重挠曲等挠曲。

另外，本实施方式中，也通过以上述梁部22横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模10的中央部附近的方式形成，能够直接地抑制蒸镀掩模10的挠曲。

而且，根据本实施方式，上述梁部22交叉地设置，具有分支部，由此能够获得比实施方式1高的抑制蒸镀掩模10的挠曲的效果。

因此，本实施方式也能够相比现有技术减少拉伸蒸镀掩模10的张力。因此，不需要刚性高、粗(重)的框部，相比现有技术能够使框 部21薄型化、轻量化。因此，即使形成有梁部22，也能够相比现有技术使蒸镀掩模保持部件20轻量化。

另外，图6(b)中，以在由框部21围成的开口部H内形成具有与框部21相同厚度的板状的梁部22的情况举例进行图示。

但是，本实施方式中也如图5所示，梁部22的厚度也可以形成得比框部21薄。

其他自不必说本实施方式也能够进行与实施方式1同样的变形。

<变形例>

另外，本实施方式中，以俯视时梁部交叉区域22b及其附近的梁部22的Y方向的宽度，形成为其他区域的梁部22的Y方向的宽度的2倍的宽度的情况举例进行图示，但也可以根据开口部S的开口图案(形状和间距等)，使俯视时仅在梁部交叉区域22b，该梁部交叉区域22b的梁部22的Y方向的宽度(换言之、梁部交叉区域22b的Y方向的宽度)形成为梁部交叉区域22b以外的梁部22的Y方向的宽度的2倍的宽度。

[实施方式3]

基于图7(a)、(b)对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式2的不同点进行说明，对具有与在上述实施方式1中说明过的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的编号，省略其说明。

图7(a)是表示本实施方式的掩模单元1的蒸镀掩模保持部件20的概略结构的平面图，图7(b)是表示图7(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模10的概略结构的平面图。

本实施方式的掩模单元1，除了变更了蒸镀掩模保持部件20的梁部22的平面形状(换言之，开口部H的开口形状)和蒸镀掩模10的开口部S的开口形状以外，具有与实施方式2的掩模单元1同样的结构。因此，以下仅对上述形状进行说明。

<蒸镀掩模保持部件20>

本实施方式的蒸镀掩模保持部件20，如图7(a)所示，在矩形状的框部21的各对角线上分别设置有梁部22。由此，本实施方式中，由框部21围成的开口部H，由相对于Y方向倾斜地交叉的梁部22分隔 为4个开口部H21～H24。

本实施方式中，俯视时梁部22均具有均等的宽度。因此，本实施方式中，在由框部21围成的开口部H内的梁部22交叉的梁部交叉区域22b以外的部分，梁部22分支，由此，梁部交叉区域22b相比该开口部H内的其他区域，Y方向的开口长度的总和较长。

<蒸镀掩模10>

本实施方式中，如上所述，梁部交叉区域22b相比开口部H内的其他区域Y方向的开口长度的总和较长，所以在X方向上，在Y方向设置有梁部交叉区域22b的部分，相比开口部H的其他区域，蒸镀掩模10的Y方向的开口长度较短，以使得俯视时与开口部H重叠的开口部S的Y方向的开口长度在X方向排列的任意开口部S均相等。

即，为了防止X方向相邻的开口部S间的蒸镀量的偏差，只要俯视时成为开口部H的扫描方向的Y方向上的实质上的开口长度的总和在与开口部H的扫描方向垂直的X方向上均相等即可。

根据本实施方式，如上所述，当组合蒸镀掩模保持部件20和蒸镀掩模10做成掩模单元1时，通过设计开口部S，使俯视时与开口部H21～H24中的Y方向上位于同一直线上的开口部重叠的开口部S的开口长度在X方向的任意位置均相等，从而能够获得与实施方式2同样的效果。

<变形例>

另外，图7(a)、(b)中，以梁部22与开口部S部分重叠的情况举例进行了图示，但本实施方式并不限定于此，也可以例如构成为如图7(b)的开口部S的与梁部22重叠的区域不开口(即，在与梁部22重叠的区域不形成开口部S)。在这种情况下，做成掩模单元1时的俯视时的Y方向的实质上的开口长度也与使用图7(b)所示的蒸镀掩模10的情况相同，能够获得与上述相同的效果。

[实施方式4]

基于图8(a)、(b)对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式1～3的不同点进行说明，对具有与在上述实施方式1～3中说明过的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的编号，省略其说明。

图8(a)是表示本实施方式的掩模单元1的蒸镀掩模保持部件20的概略结构的平面图，图8(b)是表示图8(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模10的概略结构的平面图。

本实施方式的掩模单元1，除了变更了蒸镀掩模保持部件20的梁部22的平面形状(换言之，开口部H的开口形状)和蒸镀掩模10的开口部S的开口形状以外，具有与实施方式1的掩模单元1同样的结构。因此，以下仅对上述形状进行说明。

另外，本实施方式中，图8(b)中，以在蒸镀掩模10，在Y方向上延伸设置的狭缝状的开口部S在X方向上呈条纹状排列设置有多个的情况举例进行说明，但当然本实施方式中也能够进行与实施方式1同样的变形。

<蒸镀掩模保持部件20>

本实施方式的蒸镀掩模保持部件20，如图8(a)所示，梁部22形成在容易发生挠曲的蒸镀掩模10的中央部附近，特别是在本实施方式中，以横贯蒸镀掩模10的Y方向的中央线(即，在X方向延伸的中央线)的方式形成为曲折状(图8(a)中，作为一例为M字状)。另外，本实施方式中，梁部22也都具有均等的宽度。

由此，本实施方式中，由框部21围成的开口部H，被上述梁部22分割为5个开口部H31～H35，俯视时由上述梁部22分割而成的开口部H31～H35的Y方向的开口长度总和(即开口部H31～H35中的俯视时在Y方向位于同一直线上的开口部的开口长度总和)在X方向的任意位置均相等。

<蒸镀掩模10>

本实施方式中，也如图8(b)所示，各开口部S形成于不与梁部22重叠的部分，俯视时以避开梁部22的方式在Y方向上连续或在Y方向上断续地形成。

因此，本实施方式中，蒸镀掩模10的开口部S本身也形成为俯视时该开口部S的Y方向的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等，与开口部H31～H35中的在Y方向位于同一直线上的开口部重叠的开口部S的开口长度在X方向的任意位置均相等。

由此，本实施方式也能够得到与实施方式1同样的效果。

另外，本实施方式中，如上所述，梁部22以横贯蒸镀掩模10的Y方向的中央线的方式形成为曲折状，由此遍布多处地直接支承蒸镀掩模10的容易发生挠曲的上述中央线上的区域。因此，能够得到比实施方式1～3高的抑制蒸镀掩模10的挠曲的效果。

另外，如图14所示，蒸镀掩模保持部件因将被拉伸熔接的蒸镀掩模向该蒸镀掩模的中央强力拉伸，框部的边的部分、特别是长边部分容易发生变形。

但是，根据本实施方式，如图8(a)所示，通过在框部21、特别是容易发生变形的框部21的长边间呈曲折状地设置梁部22，能够对于由安装于框部21的蒸镀掩模10拉伸而将框部21向中央拉伸的力给予反向的作用力，所以能够有效地抑制被拉伸熔接的蒸镀掩模10的拉伸力导致的框部21的变形。

[实施方式5]

基于图9(a)、(b)对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式1～4的不同点进行说明，对具有与在上述实施方式1～4中说明过的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的编号，省略其说明。

图9(a)是表示本实施方式的掩模单元1的蒸镀掩模保持部件20的概略结构的平面图，图9(b)是表示图9(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模10的概略结构的平面图。

本实施方式的掩模单元1，除了变更了蒸镀掩模保持部件20的梁部22的平面形状(换言之，开口部H的开口形状)和蒸镀掩模10的开口部S的开口形状以外，具有与实施方式1的图5所示的掩模单元1同样的结构。因此，以下仅对上述形状进行说明。

<蒸镀掩模保持部件20>

在本实施方式的蒸镀掩模保持部件20，如图9(a)所示，以俯视时在由框部21围成的区域内呈交错状地形成有多个矩形状的小径的开口部HA的方式设置梁部22。

上述梁部22由具有交错状形成的多个开口部HA、和在Y方向的框部21的边缘部之间相连接的非开口区域的板状部件构成，俯视时遍及由框部21围成的区域整体设置。

上述开口部HA均具有相同的大小，在X方向和Y方向，框部21的从一端数第偶数列的开口部HA均位于第奇数列的开口部HA间，并且开口部HA间的非开口区域仅在横切Y方向的方向(即，X方向或X方向与Y方向之间的倾斜方向)上连续，而不在Y方向上连续。

由此，上述蒸镀掩模保持部件20中，俯视时由梁部22分割而成的开口部HA的Y方向的开口长度总和(即，俯视时在Y方向位于同一直线上的开口部HA的开口长度总和)在X方向的任意的开口部HA的位置均相等，并且不存在不能进行蒸镀的、Y方向上连续的梁部(非开口区域)。

<蒸镀掩模10>

上述蒸镀掩模10中，各开口部S如图9(b)所示，俯视时以避开梁部22(即，由框部21围成的区域的非开口区域)的方式与开口部HA对应地(重叠地)形成。

因此，本实施方式中，如图9(b)所示，在蒸镀掩模10，狭缝状的开口部S每隔多个地在X方向和Y方向上断续且错开位置地排列。

因此，本实施方式中，蒸镀掩模10的开口部S本身也形成为俯视时该开口部S的Y方向的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等，与在Y方向位于同一直线上的开口部HA重叠的开口部S的开口长度在X方向的任意位置均相等。

由此，本实施方式也能够得到与实施方式1～4同样的效果。

另外，根据本实施方式，如上所述，上述掩模单元1中，各开口部S与开口部HA对应地形成，由此，遍及蒸镀掩模10的掩模部、即开口区域11的非开口区域的整个面地设置有由横梁构成的梁部22。

因此，蒸镀掩模10，在开口区域11中的除开口部S以外的区域全部由设置在其下表面侧的梁部22直接支承，除开口部S以外的全部区域由蒸镀掩模保持部件20直接保持(支承)。因此，根据本实施方式，能够获得与实施方式1同样的效果，并且能够实现不发生蒸镀掩模10的挠曲的掩模单元1。

<开口部S的变形例>

另外，图9(b)中，以蒸镀掩模10的开口部S俯视时以避开梁部22的方式与开口部HA对应地形成，狭缝状的开口部S每隔多个地在 X方向和Y方向上断续且错开位置地排列的情况举例进行了说明。但是，本发明并不限定于此。

如上所述，为了防止X方向相邻的开口部S间的蒸镀量的偏差，只要俯视时掩模单元1的Y方向上的实质上的开口长度的总和在X方向的开口部均相等即可。

因此，如实施方式3所示，开口部S可以不与梁部22重合。本实施方式中，俯视时在Y方向位于同一直线上的开口部HA的开口长度总和在X方向的任何的开口部HA的位置均相等，所以只要与各开口部HA重叠的开口部S的形状相同，就能够获得相同的效果。因此，与在Y方向相邻的开口部HA重叠的开口部S，也可以彼此连续地形成。

<蒸镀掩模保持部件20的变形例>

另外，上述说明中，掩模单元1除了变更了开口部H的开口形状和蒸镀掩模10的开口部S的开口形状以外，具有与图5所示的掩模单元1同样的结构。

但是，掩模单元1也可以具有框部21与梁部22形成为一体的结构。

例如，也可以通过使框部21与板状的梁部22以相同的厚度、且做薄并一体化，使框部21与梁部22的边界消失的形状(即，一块板的形状)。

通常，框部21需要能够耐受蒸镀掩模10的张力的强度，所以必然变厚。

与之相对地，梁部22(掩模支承部)，只要有用于支承蒸镀掩模10所需的、不会因自重而挠曲的厚度即可。

如本实施方式的梁部22所示，当增大梁部22的面积时，施加于蒸镀掩模10的张力能够减小到极限，不需要像现有技术这样用于保持张力的刚性。因此，根据本实施方式，能够使框部21的厚度尽可能地接近梁部22的厚度。其结果是，如上所述，能够将蒸镀掩模保持部件20做成一块板那样的结构。

像这样如果使蒸镀掩模保持部件20的框部21与梁部22为相同的厚度，则仅需要在确保了平坦性的板上开任意的开口就能够容易地制 作蒸镀掩模保持部件20。

另外，在该情况下，上述蒸镀掩模保持部件20的厚度，即设置有上述开口部HA的板状部件的厚度，只要能够根据该蒸镀掩模保持部件20的材质或蒸镀掩模10的掩模尺寸等而稳定地保持蒸镀掩模10，并且适当设定以使之不发生自重挠曲即可。像这样，上述蒸镀掩模保持部件20的厚度，例如根据蒸镀掩模10的掩模尺寸而不同，例如设定为2mm～15mm程度。

[实施方式6]

基于图10(a)～(c)至图12对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式1～5的不同点进行说明，对具有与在上述实施方式1～5中说明过的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的编号，省略其说明。

图10(a)～(c)是表示本实施方式的掩模单元1的概略结构的图。其中，图10(a)是表示本实施方式的掩模单元1的概略结构的分解立体图，图10(b)是表示图10(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模保持部件20的概略结构的平面图，图10(c)是表示图10(a)所示的掩模单元1的蒸镀掩模10的概略结构的平面图。其中，图10(a)中为了便于图示，省略了蒸镀掩模10的开口图案的图示。

以下，对与实施方式1～5的不同点进行说明。

<蒸镀掩模保持部件20>

本实施方式的蒸镀掩模保持部件20，如图10(a)、(b)所示，在由框部21围成的区域(开口部H)内设置有框(frame)状的梁部22，该梁部22具有立体的骨架(立体结构)，梁部22的与蒸镀掩模10接触的接触部22A形成为岛状。

上述梁部22，作为梁构件，设置有以与蒸镀掩模10接触的接触部22A为顶点在纵向(上下方向、Z方向)、更具体地说在上下间倾斜的方向上配设的纵梁22B，该纵梁22B直接或间接地与框部21的下端21b连结。

上述纵梁22B，从强度上考虑优选以上述接触部22A为顶点形成为放射状。其中，图10(a)、(b)中，以纵梁22B架设为四角锥状的情况举例进行了图示，但上述纵梁22B也可以架设为三角锥状、也可 以形成为四角锥以上的多角锥状。

作为上述纵梁22B，能够使用例如金属缆线。其中，纵梁22B的直径，可以根据接触部22A的数量、换言之、纵梁22B的配设密度或立体形状等适当设定，只要具有足以保持蒸镀掩模10的强度，就没有特别限定。

另外，在与上述蒸镀掩模10的接触部22A，为了更稳定地支承蒸镀掩模10，并且缓和因蒸镀掩模10的自重而在蒸镀掩模10的与上述梁部22接触的接触部22A的接触部位的应力集中，如图10(a)、(b)所示，优选设置有作为具有缓冲作用的岛状部件的垫(pat)部。即，上述接触部22A优选为具有缓冲作用的垫部。

构成上述接触部22A的垫部，可以由金属材料等与蒸镀掩模10和纵梁22B等相同的材料形成，也可以由具有耐热性的橡胶、发泡材料等与梁构件不同的材料形成。

另外，图10(a)、(b)中，以上述接触部22A做成矩形状的情况为例进行图示，但上述垫部的形状并不限定于此。

另外，上述接触部22A为了更稳定地支承蒸镀掩模10并且提高抑制挠曲的效果，优选以等间隔均匀地分散形成，例如形成为单位面积的密度一定。

因此，图10(b)所示的例子中，在由框部21围成的开口部H内，由在X方向上排列在一直线上的多个接触部22A构成的列在Y方向上并列设置有多列(图10(b)中为2列)，且Y方向上相邻的接触部22A分别在Y方向排列在一直线上。

<蒸镀掩模10>

另外，图10(c)中，以在蒸镀掩模10，在Y方向上延伸设置的狭缝状的开口部S在X方向上呈条纹状地排列设置有多个的情况举例进行说明。另外，上述开口形状为一例，并不限定于此，如实施方式1中说明的那样。

本实施方式中，如图10(c)所示，各开口部S形成不与梁部22的接触部22A重叠的部分。

另外，本实施方式中，梁部22的接触部22A不与外周的框部21直接连结，而在俯视时形成为岛状，由此在X方向上的、在Y方向设 置有接触部22A的部分，相比Y方向上没有设置接触部22A的部分，开口部H的Y方向的开口长度的总和较长。

因此，图10(c)中，俯视时以覆盖在X方向上排列的接触部22A的方式设置有在X方向上连接的带状的非开口区域，各开口部S俯视时以避开梁部22的方式在Y方向上断续地形成。

由此，本实施方式中，蒸镀掩模10的开口部S本身也形成为俯视时该开口部S的Y方向的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等，与在Y方向位于同一直线上的开口部H重叠的开口部S的开口长度在X方向的任意位置均相等。

另外，本实施方式中，如图10(a)、(b)所示，通过在开口部H设置纵梁22B，俯视时不仅上述接触部22A而且纵梁22B也与蒸镀掩模10重叠。

但是，纵梁22B如上所述，具有立体梁结构，形成为框状，由此，从蒸镀源70出射的蒸镀颗粒通过纵梁22B间的空间，飞散(扩散)到由框部21围成的开口部H内。

因此，纵梁22B虽然俯视时与开口部S重叠，但是实质上不覆盖开口部S，不会妨碍均匀蒸镀。

由此，本实施方式也能够得到与实施方式1同样的效果。

另外，根据本实施方式，梁部22的接触部22A不与外周的框部21直接连结，俯视时形成为岛状，由此能够增大由框部21围成的区域的开口部H的总面积。因此，根据本实施方式，能够直接抑制蒸镀掩模10的挠曲，并且能够增大蒸镀掩模10的开口部S的总开口面积并提高开口部S的开口图案的布局的自由度。

像这样，上述梁部22特别是上述梁部22的接触部22A可以断续地横切Y方向。

另外，本实施方式中，俯视时纵梁22B也以横切Y方向的方式使纵梁22B形成为放射状，但如上所述，在梁部22具有立体梁结构，形成为框状的情况下，纵梁22B不会妨碍均匀蒸镀。

因此，掩模单元1中，梁部22的与蒸镀掩模10接触的部分(本实施方式中为接触区域22A)横切Y方向，不沿着Y方向架在框部21上即可，可以在梁部22的不与蒸镀掩模10接触的部分例如框部21的 下端部分，设置在Y方向连结框部21的梁构件。

另外，根据本实施方式，如上所述，通过使梁部22为立体梁结构，能够实现轻量化。

<蒸镀掩模10和蒸镀掩模保持部件20的变形例>

图11是表示图10(a)所示的掩模单元1的另一蒸镀掩模10的概略结构的平面图。

图11中，各开口部S也俯视时以避开梁部22的方式在Y方向上断续地形成。但是，图11中，俯视时以覆盖X方向上排列的接触部22A的方式设置有矩形状的非开口区域，并且蒸镀掩模10的开口部S以俯视时该开口部S的Y方向的开口部S的开口长度总和在X方向的任意位置均相等的方式，在覆盖上述接触部22A的矩形状的非开口区域间设置有用于使Y方向的开口部S的开口长度总和相等的非开口区域。

由此，图11中，与在Y方向位于同一直线上的开口部H重叠的开口部S的开口长度也在X方向的任意位置相等。

另外，图10(a)、(b)中，上述接触部22A做成矩形状(例如正方形)，图11中，覆盖上述接触部22A的非开口区域做成覆盖接触部22A程度的大小的矩形状(图11中为长方形)，但是上述接触部22A和覆盖该接触部22A的蒸镀掩模10的非开口区域，只要在上述框部21不与Y方向平行地连结即可，只要与外周的框部21之间存在间隙(即，在Y方向上存在用于蒸镀蒸镀颗粒的没有被梁部22覆盖的开口部S)，Y方向的实质上的开口长度在X方向的任意位置均相等即可，Y方向上例如可以形成为带状。

<蒸镀掩模保持部件20的变形例>

图12是表示本实施方式的掩模单元1的另一蒸镀掩模保持部件20的概略结构的平面图。

上述实施方式1～4中，以在相对于Y方向倾斜的方向设置梁部22，并且图10(a)、(b)所示的例子中，在相对于Y方向倾斜的方向上设置纵梁22B的情况举例进行了图示。但是，上述梁部22只要在被成膜基板200的与蒸镀区域相对的区域不与Y方向平行地形成即可，例如在使用图10(c)所示的那样的蒸镀掩模10的情况下，可以与该蒸镀 掩模10的非开口区域的形状配合地，如图12所示，例如板状的梁部22具有与X方向平行地形成的结构。

另外，图12中，以梁部22在X方向上平行地形成有2根的情况举例表示，但是根据蒸镀掩模10的形状，梁部22可以在X方向上只形成1根，或者形成3根以上，另外，当然其中的几个也可以倾斜地形成。

[总结]

本发明的方式1的掩模单元包括：具有开口部的蒸镀掩模；和保持上述蒸镀掩模的蒸镀掩模保持部件，上述蒸镀掩模保持部件的一部分与上述蒸镀掩模的下表面接触，并且，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向上的没有被上述蒸镀掩模保持部件覆盖的开口部的开口长度总和均相等，并且，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切上述第二方向地与上述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，另一方面，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分不具有从上述蒸镀掩模中的上述第二方向的一端至另一端连续的接触部。

根据上述结构，通过从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切上述第二方向地与上述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，能够抑制蒸镀掩模保持部件的歪曲等变形。另外，通过上述蒸镀掩模保持部件在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切上述第二方向地与上述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，能够抑制蒸镀掩模的自重挠曲等挠曲。

另外，根据上述结构，上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模接触的接触部连续或断续地横切第二方向，在上述蒸镀掩模的边缘部以外的部分，不具有从上述蒸镀掩模中的上述第二方向的一端至另一端连续的接触部，所以通过以上述第二方向为扫描方向进行扫描蒸镀，上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模接触的接触部不与扫描方向平行。

因此，如果使用上述掩模单元以上述第二方向为扫描方向进行扫 描蒸镀，则即使在上述蒸镀掩模保持部件设置了上述接触部，在有该接触部的区域也能够进行与没有该接触部的区域同样的蒸镀。因此，如果将上述掩模单元作为扫描蒸镀用的掩模单元使用，则能够进行没有因蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀。

另外，上述掩模单元，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向上的没有被上述梁部覆盖的开口部的开口长度总和均相等，所以上述第一方向上相邻的开口部间不发生蒸镀量的偏差，在具有上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模接触的接触部的显示区域，也能够均匀地进行蒸镀。因此，根据上述结构，上述蒸镀掩模保持部件的与上述蒸镀掩模接触的接触部不会妨碍蒸镀，能够利用該接触部抑制蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移，且能够进行均匀的蒸镀。由此，能够实现例如没有混色的有机EL显示装置。

本发明的方式2的掩模单元，在上述方式1中，优选上述蒸镀掩模保持部件包括框部和与该框部连结且设置在由该框部围成的区域内的梁部，上述接触部是上述梁部的一部分，上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的部分，不沿着上述第二方向架在上述框部上，而连续或断续地横切上述第二方向。

根据上述结构，通过在框部设置梁部，即使不使用刚性高、粗(重)的框部，也能够抑制框部的歪曲等变形。另外，通过以上述梁部在由框部围成的开口区域内以与蒸镀掩模下表面接触的方式设置，能够抑制蒸镀掩模的自重挠曲等挠曲。

另外，根据上述结构，上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的部分连续或断续地横切第二方向，不沿着第二方向架在上述框部上，所以通过以上述第二方向为扫描方向进行扫描蒸镀，梁部不与扫描方向平行。

因此，如果使用上述掩模单元以上述第二方向为扫描方向进行扫描蒸镀，则即使在有梁部的区域也能够进行与没有梁部的区域同样的蒸镀。因此，如果将上述掩模单元作为扫描蒸镀用的掩模单元使用，则能够进行没有因蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀。

另外，上述掩模单元，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方 向正交的第二方向上的没有被上述梁部覆盖的开口部的开口长度总和均相等，所以上述第一方向上相邻的开口部间不发生蒸镀量的偏差，有梁部的显示区域也能够均匀地进行蒸镀。因此，根据上述结构，上述梁部不会妨碍蒸镀，能够利用上述梁部抑制蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移，且能够进行均匀的蒸镀。由此，如上所述，能够实现例如没有混色的有机EL显示装置。

本发明的方式3的掩模单元，在上述方式2中，优选上述蒸镀掩模的开口部以避开上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的部分的方式设置，并且，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，上述第二方向上的上述开口部的开口长度总和均相等。

根据上述结构，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，不论上述蒸镀掩模保持部件的由上述框部围成的区域内没有设置上述梁部的开口区域的第二方向的开口长度总和是否在第一方向的任意位置均相等，都能够使上述蒸镀掩模的开口部的第二方向的没有被上述梁部覆盖的蒸镀掩模的开口部的开口长度总和在第一方向的任意位置均相等。

本发明的方式4的掩模单元，在上述方式3中，优选从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述蒸镀掩模保持部件中的由上述框部围成的区域内的没有设置上述梁部的开口区域的第二方向的开口长度总和，在第一方向的任意位置均相等。

根据上述结构，使上述蒸镀掩模的开口部避开上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的部分，以覆盖上述梁部的方式设置非开口区域，由此能够容易地使上述蒸镀掩模的开口部的第二方向的没有被上述梁部覆盖的蒸镀掩模的开口部的开口长度总和在第一方向的任意位置均相等。

本发明的方式5的掩模单元，在上述方式2～4的任一个中，优选上述框部为矩形状，上述梁部设置在上述框部的至少一条对角线上。

根据上述结构，上述梁部设置在上述框部的至少一条对角线上，由此上述梁部横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模的中央附近。因此，能够直接抑制蒸镀掩模的挠曲。另外，由此，相比现有技术，在将蒸镀掩 模固定到蒸镀掩模保持部件时能够减少拉伸蒸镀掩模的张力。而且，根据上述结构，上述梁部形成在框部的对角线上，所以上述梁部作为支撑条起作用，因此能够更强地防止框部的变形。因此，不需要刚性高、粗(重)的框部，相比现有技术能够使框部薄型化、轻量化。

本发明的方式6的掩模单元，在上述方式5中，优选上述梁部分别设置在上述框部的各对角线上，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部的交叉部的上述梁部的第二方向的宽度，形成为上述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的宽度的2倍的宽度。

根据上述结构，上述梁部分别设置在上述框部各对角线上，由此上述梁部横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模的中央附近。因此，能够直接抑制蒸镀掩模的挠曲。另外，由此，相比现有技术，在将蒸镀掩模固定到蒸镀掩模保持部件时能够减少拉伸蒸镀掩模的张力。另外，上述结构中上述梁部也形成在框部的对角线上，所以上述梁部作为支撑条起作用，因此能够更强地防止框部的变形。因此，不需要刚性高、粗(重)的框部，相比现有技术能够使框部薄型化、轻量化。

根据上述结构，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部的交叉部中的上述梁部的第二方向的宽度，形成为上述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的宽度的2倍的宽度，由此，能够使蒸镀掩模保持部件中的由上述框部围成的区域内没有设置上述梁部的开口区域的第二方向的开口长度总和在第一方向的任意位置均相等。

本发明的方式7的掩模单元，在上述方式2中，优选上述框部为矩形状，上述梁部分别设置在上述框部的各对角线上，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部均具有均等的宽度，并且，在第一方向上的上述蒸镀掩模的开口部中，在第二方向设置有上述梁部的交叉部的部分，相比由上述框部围成的其他区域，上述蒸镀掩模的第二方向的开口长度较短，以使得在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向的没有被上述梁部覆盖的开口部的开口长度总和均相等。

上述结构中，上述梁部也分别设置在上述框部各对角线上，由此上述梁部横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模的中央附近。因此，能够直接抑制蒸镀掩模的挠曲。另外，由此，相比现有技术，在将蒸镀掩模固 定到蒸镀掩模保持部件时能够减少拉伸蒸镀掩模的张力。另外，上述结构中梁部也形在框部的对角线上，所以上述梁部作为支撑条起作用，因此能够更强地防止框部的变形。因此，不需要刚性高、粗(重)的框部，相比现有技术能够使框部薄型化、轻量化。

另外，根据上述结构，上述梁部分别设计在上述框部的各对角线上，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时上述梁部均具有均等的宽度，由此，上述蒸镀掩模保持部件中，在上述梁部交叉的区域，相比由上述框部围成的区域的其他区域，上述第二方向的开口长度的总和较长。

但是，根据上述结构，在第一方向的上述蒸镀掩模的开口部，在第二方向设置有上述梁部的交叉部的部分，相比由上述框部围成的其他区域，上述蒸镀掩模的第二方向的开口长度较短，以使得在上述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向的没有被上述梁部覆盖的开口部的开口长度总和均相等，所以在上述第一方向上相邻的开口部间蒸镀量不发生偏差，在具有梁部的显示区域也能够均匀地进行蒸镀。

本发明的方式8的掩模单元，在上述方式2～4的任一个中，优选在从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部形成为曲折状。

根据上述结构，在从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部形成为曲折状，由此上述梁部横贯容易发生挠曲的蒸镀掩模的中央附近。因此，根据上述结构，能够直接抑制上述蒸镀掩模的挠曲。

另外，蒸镀掩模保持部件中，在将蒸镀掩模固定于上述蒸镀掩模保持部件时被拉伸的蒸镀掩模向该蒸镀掩模的中央强力拉伸，由此，框部的边的部分容易发生变形。

但是，根据上述结构，在从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部形成为曲折状，由此能够有效地抑制上述框部的变形。

本发明的方式9的掩模单元，在上述方式2～4的任一个中，优选上述梁部由具有形成为交错状的多个开口区域的板状部件构成，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部遍及由上述框部围 成的区域的整个面设置。

根据上述结构，能够实现没有蒸镀掩模的挠曲的掩模单元。

本发明的方式10的掩模单元，在上述方式2～9的任一个中，优选上述梁部的厚度形成得比上述框部的厚度薄。

由此，能够进一步实现上述框部的轻量化。

本发明的方式11的掩模单元，在上述方式1中，优选上述蒸镀掩模保持部件由具有形成为交错状的多个开口区域的板状部件构成。

在这种情况下，也能够实现没有发生蒸镀掩模的挠曲的掩模单元。

本发明的方式12的掩模单元，在上述方式2或3中，优选上述梁部，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的接触部形成为岛状，具有以与上述蒸镀掩模接触的接触部为顶点形成为框状的立体的骨架。

本发明的方式13的掩模单元，在上述方式12中，优选上述梁部具有以与上述蒸镀掩模接触的接触部为顶点配置成放射状的纵梁。

另外，根据上述各结构，上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的接触部不与外周的框部直接连结，从与上述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时形成为岛状，由此能够增大由上述框部围成的区域的开口区域的总面积。因此，根据上述结构，能够直接抑制蒸镀掩模的挠曲，并且能够增大蒸镀掩模的开口部的总开口面积并提高开口部的开口图案的布局的自由度。

另外，上述梁部形成为框状，由此，上述纵梁不会妨碍均匀蒸镀。

本发明的方式14的掩模单元，在上述方式12或13中，优选在上述梁部的与上述蒸镀掩模接触的接触部设置有具有缓冲作用的岛状部件。

根据上述结构，能够更稳定地支承上述蒸镀掩模，并且能够缓和上述蒸镀掩模的自重导致的上述蒸镀掩模的与上述梁部的接触部位的应力集中。

本发明的方式15的蒸镀装置，包括：在上述方式1～14的任一个掩模单元；蒸镀源，其与上述掩模单元中的蒸镀掩模相对配置，且与上述蒸镀掩模的相对位置被固定；和移动机构，其在上述掩模单元中的蒸镀掩模和被成膜基板相对配置的状态下，使上述掩模单元和蒸镀 源与上述被成膜基板中的任一方以第二方向为扫描方向的方式相对移动，上述蒸镀掩模的第二方向的宽度小于第二方向的被成膜基板的宽度，一边沿着上述第二方向扫描，一边使从上述蒸镀源出射的蒸镀颗粒经由上述蒸镀掩模的开口部蒸镀到上述被成膜基板上。

在使用与被成膜基板几乎相同大小的蒸镀掩模进行蒸镀的不是扫描蒸镀方式的现有的蒸镀法中，如果在掩模框设置梁构造，则有梁的区域变得无法蒸镀，所以不能设置梁构造。

另外，在采用扫描蒸镀法的情况下，如果在框部设置格子状的梁部，则在被成膜基板中，在蒸镀掩模保持部件的设置有与扫描方向平行的梁部的区域所重叠的区域，蒸镀颗粒不通过蒸镀掩模，蒸镀颗粒不被蒸镀。

但是，根据上述结构，如果使用上述掩模单元以上述第二方向为扫描方向进行扫描蒸镀，则在有梁部的区域也能够进行与没有梁部的区域同样的蒸镀。因此，如果将上述掩模单元作为扫描蒸镀用的掩模单元使用，则即使蒸镀掩模保持部件不使用刚性高、粗(重)的框部，也能够进行没有因蒸镀掩模的挠曲导致的蒸镀位置偏移的蒸镀。

本发明并不限定于上述的各实施方式，能够在权利要求所示的范围内进行各种变更，将在不同实施方式中分别公开的技术手段适当组合而得到的实施方式也包含在本发明的技术范围内。

产业上的可利用性

本发明能够适用于采用一边使被成膜基板与掩模单元和蒸镀源相对移动进行扫描一边进行蒸镀的扫描方式的扫描蒸镀的掩模单元、以及使用这样的掩模单元以规定的图案成膜的蒸镀装置。

附图标记的说明

1 掩模单元

2 真空腔室

10 蒸镀掩模

10a 长边

10b 短边

10c 下表面

11 开口区域(蒸镀掩模的开口区域)

20 蒸镀掩模保持部件

21 框部(边缘部)

21a 接触面

21b 下端

22 梁部

22a 上表面(接触部)

22A 接触部

22B 纵梁

22a 上表面

22b 梁部交叉区域

50 蒸镀装置

51 真空腔室

52 基板保持件

53 基板移动机构(移动机构)

54 蒸镀单元

55 蒸镀单元移动机构(移动机构)

70 蒸镀源

71 射出口

80 掩模单元固定部件

200 被成膜基板

200a 长边

200b 短边

201 被成膜面

H、H1、H2、H11～H14、H21～H24、H31～H35、HA 开口部(开口区域)

S 开口部

g1、g2 空隙

Claims (14)

1.一种用于扫描蒸镀的掩模单元，在所述扫描蒸镀中，使被成膜基板、掩模单元和蒸镀源依次设置，一边使所述被成膜基板与所述掩模单元和蒸镀源相对移动地进行扫描一边进行蒸镀，该掩模单元的特征在于，包括：

具有开口部的蒸镀掩模；和

保持所述蒸镀掩模的蒸镀掩模保持部件，

所述蒸镀掩模保持部件的一部分与所述蒸镀掩模的作为所述蒸镀源侧的面的下表面接触，并且，

当令与扫描方向垂直的方向为第一方向，与扫描方向平行的方向为第二方向时，从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在所述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向上的没有被所述蒸镀掩模保持部件覆盖的开口部的开口长度总和均相等，并且，所述蒸镀掩模保持部件在所述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切所述第二方向地与所述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，另一方面，所述蒸镀掩模保持部件在所述蒸镀掩模的边缘部以外的部分不具有从所述蒸镀掩模中的所述第二方向的一端至另一端连续的接触部，

所述蒸镀掩模保持部件包括框部和与该框部连结且设置在由该框部围成的区域内的梁部，

所述接触部是所述梁部的一部分。

2.如权利要求1所述的掩模单元，其特征在于：

所述蒸镀掩模的开口部以避开所述梁部的与所述蒸镀掩模接触的部分的方式设置，并且，

从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在所述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，所述第二方向上的所述开口部的开口长度总和均相等。

3.如权利要求2所述的掩模单元，其特征在于：

从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，所述蒸镀掩模保持部件中的由所述框部围成的区域内的没有设置所述梁部的开口区域的第二方向的开口长度总和，在第一方向的任意位置均相等。

4.如权利要求1～3中任一项所述的掩模单元，其特征在于：

所述框部为矩形状，所述梁部设置在所述框部的至少一条对角线上。

5.如权利要求4所述的掩模单元，其特征在于：

所述梁部分别设置在所述框部的各对角线上，

从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，所述梁部的交叉部的所述梁部的第二方向的宽度，形成为所述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的宽度的2倍的宽度。

6.如权利要求1所述的掩模单元，其特征在于：

所述框部为矩形状，所述梁部分别设置在所述框部的各对角线上，

从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，所述梁部均具有均等的宽度，并且，在第一方向上的所述蒸镀掩模的开口部中，在第二方向设置有所述梁部的交叉部的部分，相比由所述框部围成的其他区域，所述蒸镀掩模的第二方向的开口长度较短，以使得在所述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向的没有被所述梁部覆盖的开口部的开口长度总和均相等。

7.如权利要求1～3中任一项所述的掩模单元，其特征在于：

在从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，所述梁部形成为曲折状。

8.如权利要求1～3中任一项所述的掩模单元，其特征在于：

所述梁部由具有形成为交错状的多个开口区域的板状部件构成，从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，所述梁部遍及由所述框部围成的区域的整个面设置。

9.如权利要求1～3中任一项所述的掩模单元，其特征在于：

所述梁部的厚度形成得比所述框部的厚度薄。

10.如权利要求1或2所述的掩模单元，其特征在于：

所述梁部，从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，所述梁部的与所述蒸镀掩模接触的接触部形成为岛状，具有以与所述蒸镀掩模接触的接触部为顶点形成为框状的立体的骨架。

11.如权利要求10所述的掩模单元，其特征在于：

所述梁部具有以与所述蒸镀掩模接触的接触部为顶点配置成放射状的纵梁。

12.如权利要求10所述的掩模单元，其特征在于：

在所述梁部的与所述蒸镀掩模接触的接触部设置有具有缓冲作用的岛状部件。

13.一种用于扫描蒸镀的掩模单元，在所述扫描蒸镀中，使被成膜基板、掩模单元和蒸镀源依次设置，一边使所述被成膜基板与所述掩模单元和蒸镀源相对移动地进行扫描一边进行蒸镀，该掩模单元的特征在于，包括：

具有开口部的蒸镀掩模；和

保持所述蒸镀掩模的蒸镀掩模保持部件，

所述蒸镀掩模保持部件的一部分与所述蒸镀掩模的作为所述蒸镀源侧的面的下表面接触，并且，

当令与扫描方向垂直的方向为第一方向，与扫描方向平行的方向为第二方向时，从与所述蒸镀掩模的掩模面垂直的方向看时，在所述蒸镀掩模的开口部中的第一方向的任意位置，与该第一方向正交的第二方向上的没有被所述蒸镀掩模保持部件覆盖的开口部的开口长度总和均相等，并且，所述蒸镀掩模保持部件在所述蒸镀掩模的边缘部以外的部分具有连续或断续地横切所述第二方向地与所述蒸镀掩模的下表面接触的接触部，另一方面，所述蒸镀掩模保持部件在所述蒸镀掩模的边缘部以外的部分不具有从所述蒸镀掩模中的所述第二方向的一端至另一端连续的接触部，

所述蒸镀掩模保持部件由具有形成为交错状的多个开口区域的板状部件构成。

14.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：

权利要求1～13中任一项所述的掩模单元；

蒸镀源，其与所述掩模单元中的蒸镀掩模相对配置，且与所述蒸镀掩模的相对位置被固定；和

移动机构，其在所述掩模单元中的蒸镀掩模和被成膜基板相对配置的状态下，使所述掩模单元和蒸镀源与所述被成膜基板中的任一方以第二方向为扫描方向的方式相对移动，

所述蒸镀掩模的第二方向的宽度小于第二方向的被成膜基板的宽度，

一边沿着所述第二方向扫描，一边使从所述蒸镀源出射的蒸镀颗粒经由所述蒸镀掩模的开口部蒸镀到所述被成膜基板上。