CN110343999A - 掩模装置及其制造方法、蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

一种掩模装置及其制造方法、蒸镀方法，该掩模装置包括掩模边框、第一掩模板、第二掩模板。第一掩模板固定在掩模边框上且包括至少一个第一掩模开口；第二掩模板层叠在第一掩模板上且直接固定在掩模边框上；第二掩模板包括至少一个第二掩模开口，第二掩模开口与第一掩模开口至少部分重叠。该掩模装置可用于蒸镀有机薄膜，可提高掩模装置的平坦度，并且可有效改善清洗药液残留在第一掩模板和第二掩模板之间的不良现象。

Description

掩模装置及其制造方法、蒸镀方法

技术领域

本发明的实施例涉及一种掩模装置及其制造方法、蒸镀方法。

背景技术

有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。有机发光显示装置可以采用喷墨打印、蒸镀等方法进行制备。蒸镀方法具有操作简单、膜厚容易控制以及易于实现掺杂等优点。在使用薄膜蒸镀制备有机发光显示装置的过程中，为了在像素区域等特定位置蒸镀特定的材料，通常需要使用蒸镀掩模板。蒸镀掩模板上通常包括多个掩模开口，在蒸镀时以蒸镀掩模板的多个掩模开口为掩模，可在蒸镀基板上形成具有相应图案的薄膜。

发明内容

本发明至少一个实施例提供一种掩模装置，该掩模装置包括掩模边框、第一掩模板、第二掩模板，所述第一掩模板固定在所述掩模边框上且包括至少一个第一掩模开口；所述第二掩模板层叠在所述第一掩模板上且直接固定在所述掩模边框上，所述第二掩模板包括至少一个第二掩模开口，所述第二掩模开口与所述第一掩模开口至少部分重叠。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述第一掩模板包括沿第一方向的多条掩模延伸条和沿第二方向的多条掩模延伸条，沿所述第一方向和第二方向的多条掩模延伸条彼此交叉限定所述第一掩模开口，其中，所述掩模边框的表面包括多个凹槽；沿所述第一方向和第二方向的多条掩模延伸条固定在所述掩模边框的所述多个凹槽内。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，每条掩模延伸条的两端均固定在对应的所述掩模边框的所述凹槽内。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，与所述掩模边框相邻的至少一个所述掩模延伸条与所述掩模边框之间具有间距以形成镂空区域。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述掩模边框具有平坦的主表面，所述第一掩模板与所述掩模边框非接触的板面与所述掩模边框的主表面基本上处于同一平面。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述第二掩模板固定在所述掩模边框的主表面上。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述掩模边框包括沿侧边缘的台阶部分，所述第一掩模板固定在所述掩模边框的所述台阶部分上。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述掩模边框具有平坦的主表面，所述第一掩模板背离所述掩模边框的板面与所述掩模边框的主表面基本上处于同一平面，所述第二掩模板固定在所述掩模边框的主表面上。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，在垂直于所述掩模边框的方向上，所述第一掩模板与所述第二掩模板之间具有间距。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述第一掩模板、所述第二掩模板分别焊接到所述掩模边框上。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述第一掩模板包括多个所述第一掩模开口，所述第二掩模板包括多个第二掩模开口区，所述第二掩模开口区与所述第一掩模开口重叠。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述第二掩模开口区包括阵列排布的多个第二掩模开口。

例如，在本发明一实施例提供的掩模装置中，所述第一掩模开口的平面形状包括不规则矩形，所述不规则矩形的形状包括四个倒圆角和/或位于一侧边缘中部的凹槽。

本发明至少一个实施例提供一种掩模装置的制造方法，该方法包括：将第一掩模板固定在掩模边框上，所述第一掩模板包括至少一个第一掩模开口；将第二掩模板直接固定在所述掩模边框上，所述第二掩模板层叠在所述第一掩模板上且包括至少一个第二掩模开口，所述第二掩模开口与所述第一掩模开口至少部分重叠。

本发明至少一个实施例提供一种蒸镀方法，该蒸镀方法包括使用本发明任一实施例的掩模装置对要蒸镀的对象进行蒸镀。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。

图1为一种掩模装置的平面结构示意图；

图2为本发明一实施例提供的一种掩模装置的平面结构示意图；

图3A为发明一实施例的第一示例提供的一种掩模边框的平面结构示意图；

图3B为发明一实施例的第二示例提供的一种掩模板的平面结构示意图；

图3C为发明一实施例的第三示例提供的一种掩模装置的平面结构示意图；

图3D为发明一实施例的第四示例提供的一种掩模板的部分平面结构示意图；

图3E为沿图2中的A-A’线剖取的掩模装置的剖面结构示意图；

图4为本发明另一实施例提供的一种掩模装置的平面结构示意图；

图5A为本发明另一实施例的第一示例提供的一种掩模边框的平面结构示意图；

图5B为本发明另一实施例的第二示例提供的一种掩模装置的平面结构示意图；

图6为本发明再一实施例提供的一种蒸镀方法的示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

蒸镀方法是薄膜沉积常用的方法之一，在薄膜蒸镀过程中，通常会使用掩模装置。有机发光二极管显示面板由于具有自主发光、功耗低、显示亮度高、宽视角、响应速度快等一系列的优点，越来越受到市场的欢迎。例如，有机发光二极管显示面板中的有机发光层，例如通常可以通过蒸镀的方法形成。随着市场的需求，有机发光二极管显示面板的应用已经从手机、电脑等扩展到可穿戴领域，而随之而来的便是对有机发光二极管显示面板的形状要求的多样化，显示面板形状从普通的矩形逐渐变成圆形或多边形等其它不规则的形状。显示面板形状的多样性，对制造显示面板所使用的蒸镀掩模板提出了较高的要求。

例如，目前一种手机的屏幕形状呈非规则矩形，该手机屏幕的显示区外表四角呈倒圆角形且手机屏幕的顶端中间设计成凹槽状，该凹槽对应位置例如通常可以用来设置前置摄像头等器件。这种非规则形状的显示面板，对掩模板尤其是显示面板中异形部分对应的掩模板提出了极大的挑战。

例如，为了在有机发光二极管显示面板的制造过程中，将有机薄膜蒸镀形成上述描述的非规则矩形的形状，例如，如图1所示，可以利用掩模装置40对待要蒸镀的对象进行掩模以形成所需形状的薄膜。在该掩模装置40中，第二掩模板30焊接到第一掩模板20上，而第一掩模板20固定在掩模边框10上。具体来讲，例如，第一掩模板20的掩模开口区21的形状为产品设计所需的非规则矩形形状，第二掩模板30的掩模开口区31的形状例如可以为规则矩形，且第二掩模板30的掩模开口区31的大小与第一掩模板20的掩模开口区21的大小相匹配，通过利用第二掩模板30的掩模开口区31和第一掩模板20的掩模开口区21的相互配合来限制蒸镀薄膜的蒸镀区域以形成上述所述的非规则矩形以及其中例如像素区域图案。例如，在使用掩模装置40时，通常需要对该掩模装置40进行夹持以固定、张紧该掩模装置40，如图1所示，可以通过掩模边框10上的多个夹持位置11用于对该掩模装置40进行夹持。

在上述提供的掩模装置40中，一方面，在将第二掩模板30直接焊接到第一掩模板20上的过程中，由于第一掩模板20和第二掩模板30的厚度通常很薄，因此很难保证第一掩模板20和第二掩模板30之间的对位精度以及第一掩模板20和第二掩模板30的表面平坦度。这很容易在第一掩模板20和第二掩模板30的表面上产生褶皱，造成第一掩模板20和第二掩模板30的像素开孔位置偏移，从而导致有机薄膜蒸镀位置的偏移，最终导致通过使用该掩模装置40蒸镀得到的产品，显示画面出现混色现象。另一方面，在将第二掩模板30直接焊接到第一掩模板20上的过程中，由于双层掩模板的焊接比较困难，很容易出现虚焊的现象，这会缩短第一掩模板20和第二掩模板30的使用寿命。

此外，由于第二掩模板30直接焊接到第一掩模板20上，因此第二掩模板30和第一掩模板20之间的间隙比较紧密，蒸镀过程使用的清洗药液等很容易残留在第一掩模板20和第二掩模板30之间的焊接区域，不利于后续对第一掩模板20和第二掩模板30的清洗，也容易导致对于第一掩模板20和第二掩模板30的腐蚀等。

本发明至少一个实施例提供一种掩模装置，该掩模装置包括掩模边框、第一掩模板、第二掩模板，第一掩模板固定在掩模边框上且包括至少一个第一掩模开口；第二掩模板层叠在第一掩模板上且直接固定在掩模边框上；第二掩模板包括至少一个第二掩模开口，第二掩模开口与第一掩模开口至少部分重叠。

在本发明至少一个实施例提供的掩模装置中，第一掩模板和层叠在第一掩模板上的第二掩模板均直接固定在掩模边框上，一方面，避免了两层掩膜板由于二者之间的焊接从而导致的力学变化，如上所述该力学变化例如会导致第一掩模板和第二掩模板产生变形或者表面产生褶皱。通过该掩模装置对待要蒸镀的对象例如蒸镀基板进行蒸镀，可以避免由于掩模装置的像素开孔位置的偏移从而导致的有机薄膜蒸镀位置的偏移，从而可以避免所制备的显示产品的显示画面出现混色的不良现象，提高了显示产品的质量。

另一方面，由于第一掩模板和层叠在第一掩模板上的第二掩模板均直接固定在掩模边框上，因此，第一掩模板和第二掩模板之间不会产生紧密的贴合，相比于图1所示的掩模装置40，在垂直于该掩模装置的方向上，第一掩模板和第二掩模板之间的间距得到了一定程度的增大，从而有利于蒸镀过程中清洗药液的流淌，因此可以有效改善蒸镀过程中清洗药液残留在第一掩模板和第二掩模板之间的不良现象。

下面通过几个具体的实施例对本公开进行说明。为了保持本发明实施例以下的说明清楚且简明，可省略已知功能和已知部件的详细说明。当本发明实施例的任一部件在一个以上的附图中出现时，该部件在每个附图中可以由相同的参考标号表示。

实施例一

本实施例提供一种掩模装置100，图2为该掩模装置100的平面结构示意图。参考图2，该掩模装置100包括掩模边框101、第一掩模板102、第二掩模板103等结构。第一掩模板102固定在掩模边框101上，第二掩模板103层叠在第一掩模板102上且直接固定在掩模边框101上。

图3A为图2所示的掩模装置100中的掩模边框101的平面结构示意图。例如，相对于掩模边框101的厚度，第一掩模板102和第二掩模板103的厚度通常较薄，第一掩模板102和第二掩模板103很容易产生变形，因此，在实际的使用过程中，通常需要使用掩模边框101对第一掩模板102和第二掩模板103进行固定。如图3A所示，该掩模边框101例如包括边框的主表面1011、位于掩模边框表面上的多个凹槽1012、夹持部位1013等结构。如图2和图3A所示，掩模边框101的主表面1011为平坦的表面，掩模边框101的多个凹槽1012用于固定第一掩模板102。例如，在使用掩模装置100对要蒸镀的对象进行蒸镀时，通常需要对掩模边框101的多个夹持部位1013进行夹持，从而对包括该掩模边框101的掩模装置100进行固定。

如图2和图3A所示，掩模边框101例如整体上可以是矩形框，当然，本实施例包括但不限于此，例如，掩模边框101例如还可以是正方形框等其它任意合适的形状，本实施例对此不作具体限定。掩模边框101的材料的示例包括因瓦合金、镍铁合金、不锈钢等任意适合的材料，本实施例对此不做具体的限定。

图3B为图2所示的掩模装置100中的第一掩模板102的平面结构示意图。如图2和图3B所示，第一掩模板102被固定在掩模边框101上且包括至少一个第一掩模开口1022。例如，第一掩模开口1022的平面形状包括不规则矩形，该不规则矩形的形状包括四个倒圆角和位于不规则矩形短边一侧中部的凹槽，例如该凹槽对应位置可以用来设置前置摄像头等器件。需要说明的是，在本实施例中，第一掩模开口1022的平面形状包括但不限于此，该第一掩模开口1022的平面形状是为了匹配产品所需形状而相应设计的，因此，相应地，例如当蒸镀对象所需的形状变为其它形状时，该第一掩模开口1022的平面形状也需要进行相应地调整。例如，该第一掩模开口1022的平面形状为任意规则形状或不规则形状，本实施例对此不做具体限定。

例如，如图3B所示，第一掩模板102包括沿第一方向L(长度方向)的多条掩模延伸条1021和沿第二方向W(宽度方向)的多条掩模延伸条1021，且沿第一方向和第二方向的多条掩模延伸条1021彼此交叉限定第一掩模开口1022。

图3C为将第一掩模板102固定在掩模边框101上的平面结构示意图。如图3C所示，第一掩模板102沿第一方向L和第二方向W的多条掩模延伸条1021固定在掩模边框101的多个凹槽1012内。例如，在一个示例中，掩模边框101的凹槽1012的位置和数量与第一掩模板102的掩模延伸条1021的位置和数量相匹配，即每条掩模延伸条1021的两端均固定在掩模边框101的对应位置处的凹槽1012内。例如，每条掩模延伸条1021的两端均可以焊接到掩模边框101的对应位置处的凹槽1012内。例如，在垂直于掩模边框101的主表面的方向上，凹槽1012的深度与第一掩模板102的掩模延伸条1021的厚度可以基本上相同或略大，从而当第一掩模板102的掩模延伸条1021固定在掩模边框101的凹槽1012内时，第一掩模板102背离掩模边框101的板面与掩模边框101的主表面1011基本上处于同一平面，从而有利于提高由掩模边框101和第一掩模板102构成的掩模装置100的整体平坦度。例如，在实际的制造过程中，掩模延伸条1021的尺寸和凹槽1012的尺寸均存在一定的误差精度，为了确保掩模延伸条1021能够完全固定在对应的凹槽1012内，在垂直于掩模延伸条1021的延伸方向上，每个凹槽1012的宽度均大于与之对应的掩模延伸条1021的宽度。例如，在一个示例中，在掩模延伸条1021的延伸方向上，每个凹槽1012的宽度比与之对应的掩模延伸条1021的宽度宽40微米～100微米。

例如，如图3C所示，与掩模边框101相邻的四个掩模延伸条1021均与掩模边框101之间具有一定间距以形成镂空区域。通过这些镂空区域，在清洗第一掩模板102和/或第二掩模板103时，清洗所用的药液会通过镂空区域流出，从而可以改善清洗药液残留在第一掩模板102和第二掩模板103之间的不良现象。需要说明的是，本实施例不限制镂空区域的位置和数量，例如，只要保证与掩模边框101相邻的至少有一个掩模延伸条1021与掩模边框101之间具有间距从而形成镂空区域即可。例如，如图3C所示，掩模边框101包括四个侧边框，与掩模边框101的四个侧边框分别相邻的掩模延伸条1021与对应的侧边框之间的间距分别为d1、d2、d3、d4，该示例中d1、d2、d3、d4的数值例如可以完全相同，也可以彼此不同，又或者可以部分相同。例如，在一个示例中，d1、d2、d3、d4的取值范围均在1毫米～5毫米。d1、d2、d3、d4的具体数值可以根据产品设计需求进行相应调整，本实施例对此不进行具体限定。

例如，第一掩模板102的材料的示例包括因瓦合金、镍铁合金等任意适合的材料，本实施例对此不做具体的限定。

第二掩模板103可以包括多个掩模条或掩模部分。图3D为第二掩模板103中的其中一个掩模条或掩模部分的平面结构示意图，参考图3D，第二掩模板103的掩模条整体上例如为矩形。例如，该掩模条可以包括至少两个(图中仅示出了两个)第二掩模开口区1031，每个第二掩模开口区1031包括阵列排布的多个第二掩模开口1032。第二掩模开口区1031的平面形状为矩形，该矩形的尺寸可以与第一掩模板102的第一掩模开口1022的尺寸基本上相同。每个第二掩模开口区1031与第一掩模开口1022相重叠，且第二掩模开口区1031内的第二掩模开口1032与第一掩模开口1022至少部分重叠。当然，每条掩模条包括的第二掩模开口区1031的数量包括但不限于两个，具体需要与第一掩模板102的第一掩模开口1022的布局相匹配。第二掩模板103的材料的示例包括因瓦合金、镍铁合金等任意适合的材料，本实施例对此不做具体的限定。

例如，在一个示例中，第二掩模板103为精细金属掩模板。由于第二掩模板103的掩模开口区1031的平面形状为常规矩形，因此第二掩模板103自身的张网精度和平坦度等会比较好，不易出现变形、褶皱、像素开口位置偏移等不良现象。

图3E为沿着图2中的A-A’线剖取的剖面结构示意图，如图3E所示，掩模边框101具有平坦的主表面1011，第一掩模板102的掩模延伸条1021固定在掩模边框101的凹槽1012内，且第一掩模板102背离掩模边框101的板面与掩模边框101的主表面1011基本上处于同一平面。

参考图2、图3D和图3E，第二掩模板103包括多个掩模条，第二掩模板103层叠在第一掩模板102上，且第二掩模板103的固定部位1033直接固定在掩模边框101的平坦的主表面1011上。如图2、图3D、图3E所示，第二掩模板103的固定部位1033通过焊点1034直接焊接到相邻两条掩模延伸条1021之间的掩模边框101的平坦的主表面1011上。相比于图1所示的将第二掩模板30直接焊接到第一掩模板20上，本实施例提供的第一掩模板102和第二掩模板103彼此相互独立，两个掩模板之间无直接连接关系。

另外，由于第一掩模板102和第二掩模板103均直接焊接到掩模边框101上，因此，在垂直于掩模边框101的方向上，第一掩模板102和第二掩模板103之间可以具有一定的间距。第一掩模板102和第二掩模板103之间具有间距，使得清洗所用的药液更容易从第一掩模板102和第二掩模板103之间流出，从而可以进一步改善清洗药液残留在第一掩模板102和第二掩模板103之间的不良现象。

例如，如图2所示，该掩模装置100整体上包括掩模开口区104和遮挡区105，第一掩模板102的第一掩模开口1022与第二掩模板103的第二掩模开口区1031及第二掩模开口区1031中阵列排布的多个第二掩模开口1032彼此相互限定，以形成限定薄膜形状的多个掩模开口区104；第一掩模板102的多条掩模延伸条1021和第二掩模板103中除第二掩模开口区1031以外的部分相互配合，以形成该掩模装置100的遮挡区105。该掩模开口区104的形状例如可以是任意规则形状或非规则形状，具体形状可以根据产品设计需求进行相应的调整，本实施例对此不做具体限定。

需要说明的是，为表示清楚起见，附图并没有给出该掩模装置100的全部结构。为实现掩模装置的必要功能，本领域技术人员可以根据具体应用场景进行设置其他未示出的结构，本发明的实施例对此不做限制。

在本发明至少一个实施例提供的掩模装置100中，该掩模装置100包括掩模边框101、第一掩模板102和第二掩模板103，第二掩模板103层叠在第一掩模板102上。第一掩模板102的多条掩模延伸条1021焊接到掩模边框101的对应位置处的凹槽1012中，第二掩模板103的固定部位1033直接焊接到掩模边框101的平坦的主表面1011上。

一方面，相比于图1所示的传统的掩模装置40，本实施例提供的掩模装置100的整体平坦度以及第一掩模板102和第二掩模板103之间的对位精度将会得到很好的改善，从而可以有效改善由该掩模装置100蒸镀得到的产品显示画面出现混色的不良现象。

另一方面，相比于第二掩模板103的厚度，掩模边框101的厚度较厚，将第二掩模板103直接焊接到掩模边框101的平坦的主表面1011上，有利于保证第二掩模板103在焊接过程中的平坦度以及稳定性。此外，由于第一掩模板102和第二掩模板103彼此无连接关系，因此，在制造过程中，如果第二掩模板103的某个掩模条发生损坏，只需将损坏的掩模条进行更换即可，不会影响到第一掩模板102的使用，从而有利于降低生产成本。

再一方面，在至少一个示例中，与掩模边框101相邻的至少一个掩模延伸条1021与掩模边框101之间具有间距从而形成镂空区域，在清洗第一掩模板102和/或第二掩模板103时，清洗所用的药液会通过镂空区域流出，从而可以改善清洗药液残留在第一掩模板102和第二掩模板103之间的不良现象。另外，由于第一掩模板102和层叠在第一掩模板102上的第二掩模板103均直接固定在掩模边框101上，因此，第一掩模板102和第二掩模板103之间无焊点，相比于传统的掩模装置40，在垂直于掩模边框101的方向上，第一掩模板102和第二掩模板103之间具的间距得到一定程度的增大，更有利于蒸镀过程中清洗药液的流出，从而可以进一步改善蒸镀过程中清洗药液残留在第一掩模板102和第二掩模板103之间的不良现象。

实施例二

本实施例提供一种掩模装置200，图4为本实施例提供的掩模装置200的平面结构示意图。参考图4，除了掩模边框201的平面结构外，该实施例的掩模装置200的结构与图2中描述的掩模装置100的结构可以基本上相同。

该掩模装置200包括掩模边框201、第一掩模板202、第二掩模板203等结构。图5A为该掩模装置200中掩模边框201的平面结构示意图，图5B为将掩模装置200中的第一掩模板202固定到掩模边框201上的平面结构示意图。

参考图4、图5A和图5B，掩模边框201包括沿侧边缘的台阶部分2011和平坦的主表面2012，且台阶部分2011与第二掩模板203之间的距离大于主表面2012与第二掩模板203之间的距离。第一掩模板202固定在掩模边框201的台阶部分2011上，且第一掩模板202背离掩模边框201的板面与掩模边框201的主表面2012基本上处于同一平面。第二掩模板203直接固定在掩模边框201的主表面2012上。例如，第一掩模板202和第二掩模板203可以分别通过焊接的方法固定到掩模边框201上。在垂直于掩模边框201的方向上，第一掩模板202和第二掩模板203之间可以具有一定间距。

在本实施例提供的掩模装置200中，一方面，第一掩模板202焊接在掩模边框201的台阶部分2011上，第二掩模板203直接焊接在掩模边框201的主表面2012上。相比于图1所示的掩模装置40，本实施例提供的掩模装置200的整体平坦度以及第一掩模板202和第二掩模板203之间的对位精度将会得到很好的改善，从而可以避免由该掩模装置200蒸镀得到的显示产品的显示画面出现混色的不良现象。且该掩模装置200中的掩模边框201无需设计凹槽，工艺简单，可以降低生产成本。

另一方面，由于第一掩模板202和层叠在第一掩模板202上的第二掩模板203均直接固定在掩模边框201上，因此，第一掩模板202和第二掩模板203之间无焊点，且在垂直于掩模边框201的方向上，第一掩模板202和第二掩模板203之间具有间距，有利于蒸镀过程中清洗药液的流出，从而可以改善蒸镀过程中清洗药液残留在第一掩模板202和第二掩模板203之间的不良现象。

实施例三

本实施例提供一种掩模装置的制造方法，该制造方法可适用于上述任一实施例描述的掩模装置。该制造方法包括如下步骤：

步骤S101：将第一掩模板固定在掩模边框上，第一掩模板包括至少一个第一掩模开口。

步骤S102：将第二掩模板直接固定在掩模边框上，第二掩模板层叠在第一掩模板上且包括至少一个第二掩模开口，第二掩模开口与第一掩模开口至少部分重叠。

例如，当该掩模装置为实施例一中的掩模装置100时，在将第一掩模板102固定在掩模边框101上的过程中，需要把第一掩模板102的掩模延伸条1021焊接到掩模边框101的对应的凹槽1012中。在将第一掩模板102焊接到掩模边框101上后，沿着第一掩模板102的焊点边缘将第一掩模板102的掩模延伸条1021多余的部分切割掉，从而将第一掩模板102固定在掩模边框101上。

本实施例提供的掩模装置的制造方法的技术效果，可参见上述实施例一或实施例二描述的掩模装置的技术效果，在此不再赘述。

实施例四

本实施例提供一种蒸镀方法，图6为本实施例提供的一种蒸镀方法的示意图，该蒸镀方法包括使用上述任一实施例描述的掩模装置对要蒸镀的对象进行蒸镀，例如用于形成有机发光显示装置的某一功能层，该功能层包括但不限于电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层或空穴注入层等。

该蒸镀方法包括使用蒸镀系统300对蒸镀基板304进行蒸镀，该蒸镀系统300例如包括上述任一实施描述的掩模装置和蒸镀源301，本实施例以掩模装置100为例进行介绍。例如，掩模装置100位于蒸镀源301的蒸镀方向的一侧，从而蒸镀源301中的待要蒸镀的材料可以通过掩模装置100蒸镀到蒸镀基板304上，以得到所需要图案形状(例如电极图案、有机发光材料图案等)的产品。掩模装置100例如包括掩模开口区104和遮挡区105，该掩模开口区104的形状例如可以是任意规则形状或非规则形状，具体形状可以根据产品设计需求进行相应的调整，本实施例对此不做具体限定。蒸镀源301对蒸镀基板304的蒸镀面进行蒸镀，蒸镀材料通过掩模装置100的掩模开口区104蒸镀到蒸镀基板304对应掩模开口104的区域上，而蒸镀基板304被掩模装置100遮挡区105遮挡的区域不会有蒸镀材料形成。

由于第一掩模板102的多条掩模延伸条1021焊接到掩模边框101的对应位置处的凹槽1012中，第二掩模板103直接焊接到掩模边框101的平坦的主表面1011上，该掩模装置100的整体平坦度以及第一掩模板102和第二掩模板103之间的对位精度得到很好的改善，通过使用包括该掩模装置100的蒸镀系统300对蒸镀基板304进行蒸镀，可以在蒸镀基板304的蒸镀面上更精准地形成所需形状的产品，有效降低了显示产品的显示画面混色的发生率，提升了产品的生产良率，降低了生产成本。

本实施例提供的蒸镀方法的其它技术效果可参见上述任一实施例描述的掩模板装置的技术效果，在此不再赘述。

在不冲突的情况下，本公开的各个实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (15)

1.一种掩模装置，包括：掩模边框、第一掩模板、第二掩模板，其中，

所述第一掩模板固定在所述掩模边框上且包括至少一个第一掩模开口；

所述第二掩模板层叠在所述第一掩模板上且直接固定在所述掩模边框上，所述第二掩模板包括至少一个第二掩模开口，所述第二掩模开口与所述第一掩模开口至少部分重叠。

2.如权利要求1所述的掩模装置，其中，所述第一掩模板包括沿第一方向的多条掩模延伸条和沿第二方向的多条掩模延伸条，沿所述第一方向和第二方向的多条掩模延伸条彼此交叉限定所述第一掩模开口，其中，

所述掩模边框的表面包括多个凹槽；

沿所述第一方向和第二方向的多条掩模延伸条固定在所述掩模边框的所述多个凹槽内。

3.如权利要求2所述的掩模装置，其中，每条掩模延伸条的两端均固定在对应的所述掩模边框的所述凹槽内。

4.如权利要求2所述的掩模装置，其中，与所述掩模边框相邻的至少一个所述掩模延伸条与所述掩模边框之间具有间距以形成镂空区域。

5.如权利要求2所述的掩模装置，其中，所述掩模边框具有平坦的主表面，所述第一掩模板与所述掩模边框非接触的板面与所述掩模边框的主表面基本上处于同一平面。

6.如权利要求5所述的掩模装置，其中，所述第二掩模板固定在所述掩模边框的主表面上。

7.如权利要求1所述的掩模装置，其中，所述掩模边框包括沿侧边缘的台阶部分，所述第一掩模板固定在所述掩模边框的所述台阶部分上。

8.如权利要求7所述的掩模装置，其中，所述掩模边框具有平坦的主表面，所述第一掩模板背离所述掩模边框的板面与所述掩模边框的主表面基本上处于同一平面，所述第二掩模板固定在所述掩模边框的主表面上。

9.如权利要求2或7所述的掩模装置，其中，在垂直于所述掩模边框的方向上，所述第一掩模板与所述第二掩模板之间具有间距。

10.如权利要求1-8任一所述的掩模装置，其中，所述第一掩模板、所述第二掩模板分别焊接到所述掩模边框上。

11.如权利要求1-8任一所述的掩模装置，其中，所述第一掩模板包括多个所述第一掩模开口，所述第二掩模板包括多个第二掩模开口区，所述第二掩模开口区与所述第一掩模开口重叠。

12.如权利要求11所述的掩模装置，其中，所述第二掩模开口区包括阵列排布的多个第二掩模开口。

13.如权利要求1-12任一所述的掩模装置，其中，所述第一掩模开口的平面形状包括不规则矩形，所述不规则矩形的形状包括四个倒圆角和/或位于一侧边缘中部的凹槽。

14.一种掩模装置的制造方法，包括：

将第一掩模板固定在掩模边框上，所述第一掩模板包括至少一个第一掩模开口；

将第二掩模板直接固定在所述掩模边框上，所述第二掩模板层叠在所述第一掩模板上且包括至少一个第二掩模开口，所述第二掩模开口与所述第一掩模开口至少部分重叠。

15.一种蒸镀方法，包括：

使用如权利要求1-13任一所述的掩模装置对要蒸镀的对象进行蒸镀。