KR20170086160A - 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 개구부를 갖는 프레임과, 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 프레임에 설치되는 지지스틱과, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크를 포함하며, 지지스틱은, 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 상기 지지스틱의 일 측면에 형성되는 제1 홀과, 제2 방향을 기준으로 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에 형성되는 제2 홀을 포함하는 마스크 프레임 조립체를 개시한다.

Description

마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법{Mask frame assembly, apparatus and method for manufacturing a display apparatus}
본 발명의 실시예들은 장치 및 방법에 관한 것으로써, 더 상세하게는 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
이동성을 기반으로 하는 전자 기기가 폭 넓게 사용되고 있다. 이동용 전자 기기로는 모바일 폰과 같은 소형 전자 기기 이외에도 최근 들어 태블릿 PC가 널리 사용되고 있다.
이와 같은 이동형 전자 기기는 다양한 기능을 지원하기 위하여, 이미지 또는 영상과 같은 시각 정보를 사용자에게 제공하기 위하여 표시부를 포함한다. 최근, 표시부를 구동하기 위한 기타 부품들이 소형화됨에 따라, 표시부가 전자 기기에서 차지하는 비중이 점차 증가하고 있는 추세이며, 평평한 상태에서 소정의 각도를 갖도록 구부릴 수 있는 구조도 개발되고 있다.
전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 실시예들의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 실시예들의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
일반적으로 프레임과 마스크의 사이에서 마스크를 지지하는 지지스틱의 일 측면에는 제조되는 표시 장치의 픽셀 위치 정확도(pixel position accuracy, PPA)를 측정하기 위한 개구를 마련한다. 지지스틱은 양 단부가 인장된 채로 프레임에 결합되며, 이때 지지스틱의 일 측면에 마련되는 개구로 인해 일 측면에 변형이 발생하여 증착 정밀도를 저하시키는 문제점이 발생할 수 있다. 본 발명의 실시예들은 이러한 문제점을 해결할 수 있는 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 개구부를 갖는 프레임과, 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 프레임에 설치되는 지지스틱과, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크를 포함하며, 지지스틱은, 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 상기 지지스틱의 일 측면에 형성되는 제1 홀과, 제2 방향을 기준으로 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에 형성되는 제2 홀을 포함하는 마스크 프레임 조립체를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 프레임은 지지스틱의 양 단부를 수용하는 수용홈을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 지지스틱은 패턴부의 차단영역을 덮어 증착 물질이 패턴부의 차단영역을 통과하는 경로를 차단할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 홀의 제2 폭은 제1 홀의 제1 폭의 두 배일 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 홀과 제2 홀은 제2 방향을 기준으로 서로 대칭되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 홀과 제2 홀은 지지스틱의 일 측면과 타 측면의 최외곽으로부터 함몰되어 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 지지스틱의 내측에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 마스크는 복수개가 구비되며, 마스크는 제1 방향을 따라 복수개가 연속적으로 배치될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부는 증착 물질을 일정한 패턴으로 통과시키는 복수개의 패턴홀을 포함하며, 패턴홀은 제2 방향을 따라 연속적으로 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는, 마스크 프레임 조립체와, 마스크 프레임 조립체와 대향하도록 배치되는 증착원을 포함하고, 마스크 프레임 조립체는, 개구부를 갖는 프레임과, 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 프레임에 설치되는 지지스틱과, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크를 포함하며, 지지스틱은, 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 상기 지지스틱의 일 측면에 형성되는 제1 홀과, 제2 방향을 기준으로 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에 형성되는 제2 홀을 포함하는 표시 장치의 제조 장치를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 프레임은 지지스틱의 양 단부를 수용하는 수용홈을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 지지스틱은 패턴부의 차단영역을 덮어 증착 물질이 패턴부의 차단영역을 통과하는 경로를 차단할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 홀의 제2 폭은 제1 홀의 제1 폭의 두 배일 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 홀과 제2 홀은 제2 방향을 기준으로 서로 대칭되는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 홀과 제2 홀은 지지스틱의 일 측면과 타 측면의 최외곽으로부터 함몰되어 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 지지스틱의 내측에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 마스크는 복수개가 구비되며, 마스크는 제1 방향을 따라 복수개가 연속적으로 배치될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부는 증착 물질을 일정한 패턴으로 통과시키는 복수개의 패턴홀을 포함하며, 패턴홀은 제2 방향을 따라 연속적으로 배치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예는 증착원과 마스크 프레임 조립체 및 기판을 순차적으로 대향하도록 배치하는 단계와, 증착원에서 증착 물질을 기화 또는 승화시켜 상기 마스크 조립체를 통과하여 상기 기판 상에 증착시키는 단계를 포함하고, 마스크 프레임 조립체는, 개구부를 갖는 프레임과, 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 프레임에 설치되는 지지스틱과, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크를 포함하며, 지지스틱은, 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 상기 지지스틱의 일 측면에 형성되는 제1 홀과, 제2 방향을 기준으로 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에 형성되는 제2 홀을 포함하는 표시 장치의 제조 방법을 개시한다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
상기와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 지지스틱의 일 측면에 형성되는 개구에 대칭되는 지지스틱의 타 측면에 별도의 개구를 마련함으로써, 지지스틱의 인장 시 변형을 완화할 수 있는 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법을 구현할 수 있다.
물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 나타난 마스크 프레임 조립체의 평면도이다.
도 3은 도 1의 지지스틱의 일부를 확대하여 나타낸 확대 평면도이다.
도 4는 도 3의 다른 실시예를 나타낸 확대 평면도이다.
도 5는 도 1에 나타난 마스크 프레임 조립체를 이용하는 표시 장치의 제조 장치를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 6은 도 5에 나타난 표시 장치의 제조 장치로 제조되는 표시 장치를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 7은 도 6에 나타난 V-V선을 따라 취한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
또한, 도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 또한, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1에 나타난 마스크 프레임 조립체의 평면도이며, 도 3은 도 1의 지지스틱의 일부를 확대하여 나타낸 확대 평면도이고, 도 4는 도 3의 다른 실시예를 나타낸 확대 평면도이다.
먼저 도 1 및 도 2를 참조하면, 마스크 프레임 조립체(100)는 프레임(110)과, 지지스틱(120) 및 마스크(130)를 포함할 수 있다.
상기 프레임(110)은 개구부(115)를 가지며, 개구부(115)를 둘러싸는 복수개의 프레임(111 내지 114)을 포함한다. 여기서, 도 1 및 도 2에 나타난 프레임(110)은 중앙에 사각 형상의 개구부(115)를 갖는 형태이나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않으며, 예컨데 개구부(115)는 원형, 타원형 및 다각형 등의 다양한 형태로 형성될 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 개구부(115)가 사각 형상으로 구성된 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
상세히, 프레임(110)은 Y축 방향으로 서로 마주보며, X축 방향을 따라 연장되는 제1 프레임(111) 및 제2 프레임(112)과, X축 방향으로 서로 마주보며, Y축 방향을 따라 연장되는 제3 프레임(113) 및 제4 프레임(114)을 포함할 수 있다.
제1 프레임(111) 및 제2 프레임(112)은 제1 길이를 가지며, 제3 프레임(113)과 제4 프레임(114)은 제1 길이보다 짧은 제2 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 제1 프레임(111), 제2 프레임(112), 제3 프레임(113) 및 제4 프레임(114)은 서로 연결되어 사각틀 형상의 프레임을 구성할 수 있다.
프레임(110)은 마스크(130)의 용접 시 변형이 작은 소재, 이를테면, 강성이 큰 금속으로 구성될 수 있다. 도면에 나타나지는 않았으나, 프레임(110)에는 프레임(110)과 지지스틱(120) 및 마스크(130)가 용접 결합되는 용접부(미도시)가 형성되며, 이러한 용접부 주변에는 높은 열이 발생하므로 프레임(110)은 열변형이 작은 물질로 구성될 수 있다.
지지스틱(120)은 개구부(115)를 가로지르는 제1 방향(X축 방향)으로 연장되어 양 단부에 인장력이 가해진 채로 프레임(110)에 설치될 수 있다. 지지스틱(120)은 프레임(110)에 형성된 수용홈(116)에 수용되며, 지지스틱(120)은 다양한 방법으로 프레임(110)에 결합될 수 있으나, 바람직하게는 용접을 통해 프레임(110)의 수용홈(116)에 결합될 수 있다. 하지만, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되는 것이 아니며, 수용홈(116)이 아닌 제3 프레임(113) 및 제4 프레임(114)에 그대로 올려진 채로 용접 결합될 수도 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해 프레임(110)이 수용홈(116)을 구비하고, 지지스틱(120)이 수용홈(116)에 결합되는 경우를 중심으로 상세하게 설명하기로 한다.
도 3을 참조하면, 지지스틱(120)은 제1 방향과 교차하는 제2 방향(Y축 방향)을 기준으로 제1 폭(L1)을 갖도록 지지스틱(120)의 일 측면에 형성되는 제1 홀(121)과, 제2 방향을 기준으로 제1 폭(L1)보다 긴 제2 폭(L2)을 갖도록 지지스틱(120)의 일 측면의 반대측인 타 측면에 형성되는 제2 홀(122)을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 제2 홀(122)의 제2 폭(L2)은 제1 홀(121)의 제1 폭(L1)의 두 배의 길이를 가질 수 있다.
이러한 제1 홀(121)과 제2 홀(122)은 제2 방향을 기준으로 서로 대칭되도록 배치될 수 있으며, 도 3에 나타난 바와 같이 제1 홀(121)과 제2 홀(122)은 지지스틱(120)의 양 측면의 최외곽으로부터 함몰되어 형성될 수 있다. 뿐만 아니라, 도 4에 나타난 바와 같이, 제1 홀(221)과 제2 홀(222)은 지지스틱(220)의 내측에 형성될 수도 있다.
또한, 지지스틱(120)은 후술할 마스크(130)의 패턴부(131)의 차단영역(CA)을 덮어 증착 물질이 패턴부(131)의 차단영역(CA)을 통과하는 경로를 차단할 수 있다.
일반적으로, 지지스틱(120)은 무게에 의한 처짐을 방지하기 위해 양 단부가 인장된 채로 프레임(110)에 결합될 수 있다. 이때, 지지스틱(120)의 제1 홀(121)은 마스크 프레임 조립체(100)를 통해 기판(미도시)에 증착되는 증착 물질의 픽셀 위치 정확도(pixel position accuracy, PPA)를 측정하기 위해 개구되는 구성요소이다.
만약, 지지스틱(120)에 제1 홀(121)만이 형성될 경우에는, 지지스틱(120)의 인장 시 제1 홀(121)이 형성되지 않은 타 측면 보다 제1 홀(121)이 형성된 지지스틱(120)의 일 측면에 상대적으로 큰 변형이 일어날 수 있다. 이렇게 지지스틱(120)에 변형이 발생할 경우, 마스크 프레임 조립체(100)를 이용하는 증착 공정 시 의도치 않게 증착 물질이 마스크(130)의 차단영역(CA)을 통과하거나, 증착 영역 외측에 증착 물질이 증착되는 쉐도우 현상(shadow effect)이 발생할 수 있으며, 또한 제조되는 표시 장치의 신뢰성 불량을 야기할 수 있다.
반면, 본 발명의 일 실시예를 따른 마스크 프레임 조립체(100)를 이용하여 증착 공정을 실시할 경우, 즉 제1 홀(121)과 대칭되는 제2 홀(122)을 구비하는 지지스틱(120)을 포함하는 마스크 프레임 조립체(100)를 이용하여 증착 공정을 실시할 경우, 지지스틱(120)의 인장 시 제1 홀(121) 측과 제2 홀(122) 측에 가해지는 인장력을 분산시킴으로써 지지스틱(120)의 변형을 방지할 수 있으며, 이를 통해 상기 전술한 문제점들을 해결할 수가 있다.
상세히, 제2 홀(122)의 제2 폭(L2)이 제1 홀(121)의 제1 폭(L1)의 두 배의 길이를 갖도록 구성하는 것은 실험적인 결과물로써, 이러한 구성을 통해 지지스틱(120)의 변형을 최소화할 수 있다.
마스크(130)는 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 프레임(110)에 설치되며, 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부(131)를 포함할 수 있다.
마스크(130)는 복수개로 분할된 스틱형 마스크로써, 패턴부(131)는 증착 물질을 일정한 패턴으로 통과시키는 복수개의 패턴홀(132)을 포함할 수 있다. 복수개의 패턴홀(132)은 마스크(130)의 길이방향인 제2 방향을 따라 연속적으로 배치될 수 있다. 이러한 복수개의 패턴홀(132)을 통과한 증착 물질은 기판(미도시)에 증착되어, 기판에 증착 영역이 정의될 수 있다.
상세히, 패턴부(131)는 지지스틱(120)에 의해 덮여짐으로써 증착 공정 시 증착원(미도시)에서 기판으로 향하는 증착 물질을 차단하는 차단영역(CA)과, 증착 물질을 통과히키는 투과영역(PA)으로 구성될 수 있다.
한편, 마스크(130)는 에칭법에 의하여 제조될 수 있는데, 포토레지스트(photoresist)를 이용하여 각 패턴홀(132)과 동일한 패턴을 갖는 포토레지스트층을 박판에 형성하거나, 패턴홀(132)의 패턴을 갖는 필름을 박판에 부착한 이후에 박판을 에칭함으로써 제조할 수 있다. 뿐만 아니라, 마스크(130)는 전기 주조법(eletro-forming) 또는 무전해 도금법(Electroless plating)으로 제조될 수도 있다.
한편, 도면에 나타난 패턴홀(132)의 개수나 배치 위치, 형상은 일 예시로써, 예를들어 패턴홀(132)에는 전면 개방된 상태를 유지하는 마스킹 패턴이 구비되거나, 스프라이프(stripe) 형상의 마스크 패턴이 형성될 수도 있다.
마스크(130)는 자성을 띤 박판(Thin film)으로서, 스테인리스 스틸, 인바(invat), 니켈(Ni), 코발트(Co), 니켈 합금, 니켈-코발트 합금 등으로 형성될 수 있다. 바람직하게는 미세 패턴의 형성이 용이하고, 표면 거칠기가 우수한 니켈-코발트 합금으로 형성될 수 있다.
도 5는 도 1에 나타난 마스크 프레임 조립체를 이용하는 표시 장치의 제조 장치를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 5를 참조하면, 표시 장치의 제조 장치(10)는 프레임(110), 지지스틱(120) 및 마스크(130)를 포함하는 마스크 프레임 조립체(100)와, 챔버(140)와, 기판지지부(150)와, 프레임지지부(160)와, 비젼부(170)와, 증착원(180) 및 흡입부(190)를 포함할 수 있다.
마스크 프레임 조립체(100)는 상기 도 1 내지 4에서 설명한 것과 동일 또는 유사하게 형성될 수 있으므로, 여기서는 자세한 설명은 생략하기로 한다.
챔버(140)는 내부에 공간이 형성될 수 있으며, 일부가 개방되도록 형성될 수 있다. 이때, 챔버(140)의 개구된 부분에는 게이트 밸브(141) 등이 설치되어 개구된 부분을 개폐할 수 있다.
기판지지부(150)는 기판(21)을 지지할 수 있다. 이때, 기판지지부(150)는 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를 들면, 기판지지부(150)는 챔버(140) 내부에 배치되는 셔틀, 정전척 등을 포함할 수 있다. 다른 실시예로써 챔버(140) 내부에 배치되는 별도의 지지프레임을 포함하는 것도 가능하다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 기판지지부(150)가 별도의 지지프레임을 포함하는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
상기와 같은 기판(21)에는 증착 물질이 서로 이격되도록 배치되는 복수개의 영역에 증착될 수 있다. 즉, 전술한 바와 같이 패턴부(131)의 차단영역(CA)을 제외한 투과영역(PA)을 통과한 증착 물질이 기판(21)에 증착되므로, 기판(21)에는 차단영역(CA)에 대응하는 영역을 기준으로 증착 물질이 증착되는 영역이 구분될 수 있다. 기판(21)은 증착이 완료된 후 복수개로 분리되어 복수개의 표시 장치(미도시)를 형성할 수 있다..
프레임지지부(160)는 기판지지부(150)와 증착원(180) 사이에 배치될 수 있다. 이때, 프레임지지부(160)에는 마스크 프레임 조립체(100)가 안착되어 지지될 수 있다. 프레임지지부(160)는 마스크 프레임 조립체(100)의 변위를 작은 범위 내에서 가변시킴으로써 마스크 프레임 조립체(100)와 기판(21)을 정렬시킬 수 있다.
비젼부(170)는 카메라를 포함할 수 있다. 이때, 비젼부(170)는 기판(21)과 마스크 프레임 조립체(100)의 위치를 촬영하여 기판(21)과 마스크 프레임 조립체(100)의 정렬 시 필요한 데이터를 제공할 수 있다.
증착원(180)은 내부에 증착물질이 수납될 수 있다. 이때, 증착물질은 승화 또는 기화하는 물질로 무기물, 금속 및 유기물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 증착물질이 유기물인 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
흡입부(190)는 챔버(140)와 연결되어 챔버(140) 내부의 압력을 일정하게 유지시킬 수 있다. 이때, 흡입부(190)는 챔버(140)와 연결되는 연결배관(191) 및 연결배관(191)에 설치되는 펌프(192)를 포함할 수 있다.
상기와 같은 표시 장치의 제조 장치(10)의 작동을 살펴보면, 우선 게이트 밸브(141)가 개방되어 챔버(140)를 개방시킬 수 있다. 이때, 흡입부(190)는 챔버(140) 내부의 압력을 대기압과 유사하도록 조절할 수 있다.
게이트 밸브(141)가 개방되면, 챔버(140) 외부에서 챔버(140) 내부로 기판(21) 및 마스크 프레임 조립체(100)를 삽입할 수 있다. 이때, 기판(21) 및 마스크 프레임 조립체(100)는 로봇암 또는 셔틀 등을 통하여 이동할 수 있다.
기판(21) 및 마스크 프레임 조립체(100)가 챔버(140) 내부로 진입하면, 게이트 밸브(141)를 작동시켜 챔버(140)를 폐쇄한 후 흡입부(190)가 작동하여 챔버(140) 내부의 압력을 거의 진공 상태로 유지시킬 수 있다. 또한, 증착원(180)에서는 증착 물질을 기화 또는 승화시켜 마스크 프레임 조립체(100)를 통하여 기판(21) 상에 증착될 수 있다. 이때, 증착 물질은 마스크(130) 상의 패턴홀(132)을 통과하여 기판(21) 상에 일정한 패턴으로 증착될 수 있다.
도 6은 도 5에 나타난 표시 장치의 제조 장치로 제조되는 표시 장치를 개략적으로 나타내는 평면도이고, 도 7은 도 6에 나타난 VII-VII선을 따라 취한 단면도이다.
도 6 및 도 7을 참고하면, 표시 장치(20)는 기판(21) 상에서 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 외곽에 비표시 영역이 정의할 수 있다. 표시 영역(DA)에는 발광부(D)가 배치되고, 비표시 영역에는 전원 배선(미도시) 등이 배치될 수 있다. 또한, 비표시 영역에는 패드부(C)가 배치될 수 있다.
표시 장치(20)는 기판(21) 및 발광부(D)를 포함할 수 있다. 또한, 표시 장치(20)는 발광부(D)의 상부에 형성되는 박막 봉지층(E) 을 포함할 수 있다. 이때, 기판(21)은 플라스틱재를 사용할 수 있으며, SUS, Ti과 같은 금속재를 사용할 수도 있다. 또한, 기판(21)은 폴리이미드(PI, Polyimide)를 사용할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 기판(21)이 폴리이미드로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
기판(21) 상에는 발광부(D)가 형성될 수 있다. 이때, 발광부(D)는 박막 트랜지스터(TFT)를 구비하고, 이들을 덮도록 패시베이션막(27)이 형성되며, 이 패시베이션막(27) 상에 유기 발광 소자(28)가 형성될 수 있다.
이때, 기판(21)은 유리 재질을 사용할 수 있는 데, 반드시 이에 한정되지 않으며, 플라스틱재를 사용할 수도 있으며, SUS, Ti과 같은 금속재를 사용할 수도 있다. 또한, 기판(21)은 폴리이미드(PI, Polyimide)를 사용할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 기판(21)이 유리 재질로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
기판(21)의 상면에는 유기화합물 및/또는 무기화합물로 이루어진 버퍼층(22)이 더 형성되는 데, SiOx(x≥1), SiNx(x≥1)로 형성될 수 있다.
이 버퍼층(22) 상에 소정의 패턴으로 배열된 활성층(23)이 형성된 후, 활성층(23)이 게이트 절연층(24)에 의해 매립된다. 활성층(23)은 소스 영역(23-1)과 드레인 영역(23-2)을 갖고, 그 사이에 채널 영역(23-2)을 더 포함한다.
이러한 활성층(23)은 다양한 물질을 함유하도록 형성될 수 있다. 예를 들면, 활성층(23)은 비정질 실리콘 또는 결정질 실리콘과 같은 무기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다른 예로서 활성층(23)은 산화물 반도체를 함유할 수 있다. 또 다른 예로서, 활성층(23)은 유기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 활성층(23)이 비정질 실리콘으로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
이러한 활성층(23)은 버퍼층(22) 상에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 이를 결정화하여 다결정질 실리콘막으로 형성하고, 이 다결정질 실리콘막을 패터닝하여 형성할 수 있다. 상기 활성층(23)은 구동 TFT(미도시), 스위칭 TFT(미도시) 등 TFT 종류에 따라, 그 소스 영역(23-1) 및 드레인 영역(23-2)이 불순물에 의해 도핑된다.
게이트 절연층(24)의 상면에는 활성층(23)과 대응되는 게이트 전극(25)과 이를 매립하는 층간 절연층(26)이 형성된다.
그리고, 층간 절연층(26)과 게이트 절연층(24)에 콘택홀(H1)을 형성한 후, 층간 절연층(26) 상에 소스 전극(27-1) 및 드레인 전극(27-2)을 각각 소스 영역(23-1) 및 드레인 영역(23-2)에 콘택되도록 형성한다.
이렇게 형성된 상기 박막 트랜지스터의 상부로는 패시베이션막(27)이 형성되고, 이 패시베이션막(27) 상부에 유기 발광 소자(28, OLED)의 화소 전극(28-1)이 형성된다. 이 화소 전극(28-1)은 패시베이션막(27)에 형성된 비아 홀(H2)에 의해 TFT의 드레인 전극(27-2)에 콘택된다. 상기 패시베이션막(27)은 무기물 및/또는 유기물, 단층 또는 2개층 이상으로 형성될 수 있는 데, 하부 막의 굴곡에 관계없이 상면이 평탄하게 되도록 평탄화막으로 형성될 수도 있는 반면, 하부에 위치한 막의 굴곡을 따라 굴곡이 가도록 형성될 수 있다. 그리고, 이 패시베이션막(27)은, 공진 효과를 달성할 수 있도록 투명 절연체로 형성되는 것이 바람직하다.
패시베이션막(27) 상에 화소 전극(28-1)을 형성한 후에는 이 화소 전극(28-1) 및 패시베이션막(27)을 덮도록 화소 정의막(29)이 유기물 및/또는 무기물에 의해 형성되고, 화소 전극(28-1)이 노출되도록 개구된다.
그리고, 적어도 상기 화소 전극(28-1) 상에 중간층(28-2) 및 대향 전극(28-3)이 형성된다.
화소 전극(28-1)은 애노드 전극의 기능을 하고, 대향 전극(28-3)은 캐소오드 전극의 기능을 하는 데, 물론, 이들 화소 전극(28-1)과 대향 전극(28-3)의 극성은 반대로 되어도 무방하다.
화소 전극(28-1)과 대향 전극(28-3)은 상기 중간층(28-2)에 의해 서로 절연되어 있으며, 중간층(28-2)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 유기 발광층에서 발광이 이뤄지도록 한다.
중간층(28-2)은 유기 발광층을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 중간층(28-2)은 유기 발광층(organic emission layer)을 구비하고, 그 외에 정공 주입층(HIL:hole injection layer), 정공 수송층(hole transport layer), 전자 수송층(electron transport layer) 및 전자 주입층(electron injection layer) 중 적어도 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예는 이에 한정되지 아니하고, 중간층(28-2)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층(미도시)을 더 구비할 수 있다.
이때, 상기와 같은 중간층(28-2)은 상기에서 설명한 표시 장치의 제조 장치(미도시)를 통하여 형성될 수 있다.
한편, 하나의 단위 화소는 복수의 부화소로 이루어지는데, 복수의 부화소는 다양한 색의 빛을 방출할 수 있다. 예를 들면 복수의 부화소는 각각 적색, 녹색 및 청색의 빛을 방출하는 부화소를 구비할 수 있고, 적색, 녹색, 청색 및 백색의 빛을 방출하는 부화소(미표기)를 구비할 수 있다.
한편, 상기와 같은 박막 봉지층(E)은 복수의 무기층들을 포함하거나, 무기층 및 유기층을 포함할 수 있다.
박막 봉지층(E)의 상기 유기층은 고분자로 형성되며, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴라카보네이트, 에폭시, 폴리에틸렌 및 폴리아크릴레이트 중 어느 하나로 형성되는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 유기층은 폴리아크릴레이트로 형성될 수 있으며, 구체적으로는 디아크릴레이트계 모노머와 트리아크릴레이트계 모노머를 포함하는 모노머 조성물이 고분자화된 것을 포함할 수 있다. 상기 모노머 조성물에 모노아크릴레이트계 모노머가 더 포함될 수 있다. 또한, 상기 모노머 조성물에 TPO와 같은 공지의 광개시제가 더욱 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
박막 봉지층(E)의 상기 무기층은 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 구체적으로, 상기 무기층은 SiNx, Al2O3, SiO2, TiO2 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
박막 봉지층(E) 중 외부로 노출된 최상층은 유기 발광 소자에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기층으로 형성될 수 있다.
박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조 및 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 포함할 수도 있다.
박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층을 포함할 수 있다.
다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 제2 유기층, 제3 무기층을 포함할 수 있다.
또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 상기 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 상기 제2 유기층, 제3 무기층, 제3 유기층, 제4 무기층을 포함할 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)와 제1 무기층 사이에 LiF를 포함하는 할로겐화 금속층이 추가로 포함될 수 있다. 상기 할로겐화 금속층은 제1 무기층을 스퍼터링 방식으로 형성할 때 상기 유기 발광 소자(OLED)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
제1 유기층은 제2 무기층 보다 면적이 좁게 할 수 있으며, 상기 제2 유기층도 제3 무기층 보다 면적이 좁을 수 있다.
따라서 표시 장치(20)는 정밀한 패턴을 형성하는 중간층(28-2)을 구비하고, 중간층(28-2)이 정확한 위치에 증착되어 형성됨으로써 정밀한 이미지 구현이 가능하다. 또한, 표시 장치(20)는 반복적으로 중간층(28-2)을 증착하더라도 일정한 패턴을 형성함으로써 지속적인 생산에 따라 균일한 품질을 나타낸다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100: 마스크 프레임 조립체 132: 패턴홀
110: 프레임 140: 챔버
116: 수용홈 150: 기판지지부
120: 지지스틱 160: 프레임지지부
121, 221: 제1 홀 170: 비젼부
122, 222: 제2 홀 180: 증착원
130: 마스크 190: 흡입부
131: 패턴부

Claims (19)

  1. 개구부를 갖는 프레임;
    상기 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되는 지지스틱; 및
    상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 상기 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크;를 포함하며,
    상기 지지스틱은,
    상기 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 상기 지지스틱의 일 측면에 형성되는 제1 홀과,
    상기 제2 방향을 기준으로 상기 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 상기 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에 형성되는 제2 홀을 포함하는, 마스크 프레임 조립체.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 프레임은 상기 지지스틱의 상기 양 단부를 수용하는 수용홈을 포함하는, 마스크 프레임 조립체.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 지지스틱은 상기 패턴부의 차단영역을 덮어 상기 증착 물질이 상기 패턴부의 상기 차단영역을 통과하는 경로를 차단하는, 마스크 프레임 조립체.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 홀의 상기 제2 폭은 상기 제1 홀의 상기 제1 폭의 두 배인, 마스크 프레임 조립체.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 제2 방향을 기준으로 서로 대칭되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 지지스틱의 상기 일 측면과 상기 타 측면의 최외곽으로부터 함몰되어 형성되는, 마스크 프레임 조립체.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 지지스틱의 내측에 형성되는, 마스크 프레임 조립체.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 마스크는 복수개가 구비되며,
    상기 마스크는 상기 제1 방향을 따라 복수개가 연속적으로 배치되는, 마스크 프레임 조립체.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 패턴부는 상기 증착 물질을 일정한 패턴으로 통과시키는 복수개의 패턴홀을 포함하며, 상기 패턴홀은 상기 제2 방향을 따라 연속적으로 배치되는, 마스크 프레임 조립체.
  10. 마스크 프레임 조립체; 및
    상기 마스크 프레임 조립체와 대향하도록 배치되는 증착원;을 포함하고,
    상기 마스크 프레임 조립체는,
    개구부를 갖는 프레임;
    상기 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되는 지지스틱; 및
    상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 상기 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크;를 포함하고,
    상기 지지스틱은 상기 지지스틱의 일 측면에서 상기 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 형성되는 제1 홀와, 상기 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에서 상기 제2 방향을 기준으로 상기 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 형성되는 제2 홀을 포함하는, 표시 장치의 제조 장치.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 프레임은 상기 지지스틱의 상기 양 단부를 수용하는 수용홈을 포함하는, 표시 장치의 제조 장치.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 지지스틱은 상기 패턴부의 일부를 덮어 상기 증착 물질이 상기 패턴부를 통과하는 경로를 차단하는, 표시 장치의 제조 장치.
  13. 제10 항에 있어서,
    상기 제2 홀의 상기 제2 폭은 상기 제1 홀의 상기 제1 폭의 두 배인, 표시 장치의 제조 장치.
  14. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 제2 방향을 기준으로 서로 대칭되는 것을 특징으로 하는, 표시 장치의 제조 장치.
  15. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 지지스틱의 상기 일 측면과 상기 타 측면의 최외곽으로부터 함몰되어 형성되는, 표시 장치의 제조 장치.
  16. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 홀과 상기 제2 홀은 상기 지지스틱의 내측에 형성되는, 표시 장치의 제조 장치.
  17. 제10 항에 있어서,
    상기 마스크는 상기 제1 방향을 따라 복수개가 구비되는, 표시 장치의 제조 장치.
  18. 제10 항에 있어서,
    상기 패턴부는 상기 증착 물질을 일정한 패턴으로 통과시키는 복수개의 패턴홀을 포함하며, 상기 패턴홀은 상기 제2 방향을 따라 연속적으로 배치되는, 표시 장치의 제조 장치.
  19. 증착원과 마스크 프레임 조립체 및 기판을 순차적으로 대향하도록 배치하는 단계;
    상기 증착원에서 증착 물질을 기화 또는 승화시켜 상기 마스크 프레임 조립체를 통과하여 상기 기판 상에 증착시키는 단계;를 포함하고,
    상기 마스크 프레임 조립체는,
    개구부를 갖는 프레임;
    상기 개구부를 가로지르는 제1 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되는 지지스틱; 및
    상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 양 단부가 상기 프레임에 설치되며, 상기 제2 방향을 따라 연장되어 증착 물질을 통과시키는 패턴부를 갖는 마스크;를 포함하며,
    상기 지지스틱은 상기 지지스틱의 일 측면에서 상기 제2 방향을 기준으로 제1 폭을 갖도록 형성되는 제1 홀와, 상기 지지스틱의 일 측면의 반대측인 타 측면에서 상기 제2 방향을 기준으로 상기 제1 폭보다 긴 제2 폭을 갖도록 형성되는 제2 홀을 포함하는, 표시 장치의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107523786A (zh) * 2016-06-15 2017-12-29 三星显示有限公司 掩模框架组件及其制造方法
KR20190037386A (ko) * 2017-09-28 2019-04-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 마스크 조립체의 제조 방법
CN110343999A (zh) * 2018-04-02 2019-10-18 京东方科技集团股份有限公司 掩模装置及其制造方法、蒸镀方法
CN111004995A (zh) * 2018-10-05 2020-04-14 三星显示有限公司 用于沉积薄膜的掩模框组件
KR20200051107A (ko) * 2018-11-02 2020-05-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 마스크 조립체
US11421314B2 (en) 2018-09-28 2022-08-23 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly, and apparatus and method for manufacturing display apparatus using mask assembly
US11723256B2 (en) 2020-01-06 2023-08-08 Samsung Display Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing display device

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102608420B1 (ko) * 2016-03-09 2023-12-01 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102632617B1 (ko) * 2016-08-08 2024-02-02 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치, 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 및 표시 장치
CN106480404B (zh) * 2016-12-28 2019-05-03 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜集成框架及蒸镀装置
CN107740040B (zh) * 2017-09-08 2019-09-24 上海天马有机发光显示技术有限公司 掩膜版组件及蒸镀装置
CN107723659B (zh) * 2017-11-28 2019-11-08 信利（惠州）智能显示有限公司 用于蒸镀的掩膜板及制备方法
CN107978676B (zh) * 2017-11-30 2019-11-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀用掩膜组件
CN108441814B (zh) 2018-03-22 2020-03-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置及其制作方法、蒸镀系统
KR102559894B1 (ko) 2018-06-15 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법
CN108977763B (zh) * 2018-06-20 2020-02-14 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 有源矩阵有机发光二极管精细荫罩组件及其制造方法
CN108998756B (zh) * 2018-07-27 2023-08-29 京东方科技集团股份有限公司 支撑条
KR102630638B1 (ko) * 2018-08-29 2024-01-30 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR20200036998A (ko) * 2018-09-28 2020-04-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
CN109285972B (zh) * 2018-09-28 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 一种发光材料的位置调整方法及装置
KR20200092524A (ko) * 2019-01-24 2020-08-04 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
KR20200096361A (ko) * 2019-02-01 2020-08-12 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이를 포함하는 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
JP2020128591A (ja) 2019-02-06 2020-08-27 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置、マスク支持機構及び蒸着マスク装置の製造方法
CN110284107A (zh) * 2019-06-28 2019-09-27 武汉天马微电子有限公司 用于显示面板的支撑条、支撑装置及显示面板的蒸镀方法
CN112825348A (zh) * 2019-11-20 2021-05-21 旭晖应用材料股份有限公司 用于蒸镀制程形成微小图案镀膜的金属遮罩及其制法
CN111647846B (zh) * 2020-05-29 2022-02-22 昆山国显光电有限公司 支撑条及掩膜版
CN113403576B (zh) * 2021-06-23 2022-11-29 昆山国显光电有限公司 掩模板结构及掩模板结构的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130060722A (ko) * 2011-11-30 2013-06-10 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 유기 발광 표시장치

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040042179A (ko) 2002-11-13 2004-05-20 주식회사 엘리아테크 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크
KR100611075B1 (ko) 2004-03-12 2006-08-09 풍원정밀(주) 오엘이디 풀 컬러용 메탈 마스크 제작방법 및 이 방법에의해 제작된 메탈 마스크
KR100903624B1 (ko) 2007-11-23 2009-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
KR101117645B1 (ko) * 2009-02-05 2012-03-05 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR101107159B1 (ko) 2009-12-17 2012-01-25 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
KR101837624B1 (ko) 2011-05-06 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
KR102240761B1 (ko) * 2015-01-29 2021-04-15 삼성디스플레이 주식회사 가변 마스크
KR102586049B1 (ko) * 2015-11-13 2023-10-10 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130060722A (ko) * 2011-11-30 2013-06-10 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 유기 발광 표시장치

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107523786A (zh) * 2016-06-15 2017-12-29 三星显示有限公司 掩模框架组件及其制造方法
KR20190037386A (ko) * 2017-09-28 2019-04-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 마스크 조립체의 제조 방법
CN110343999A (zh) * 2018-04-02 2019-10-18 京东方科技集团股份有限公司 掩模装置及其制造方法、蒸镀方法
CN110343999B (zh) * 2018-04-02 2021-10-12 京东方科技集团股份有限公司 掩模装置及其制造方法、蒸镀方法
US11421314B2 (en) 2018-09-28 2022-08-23 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly, and apparatus and method for manufacturing display apparatus using mask assembly
CN111004995A (zh) * 2018-10-05 2020-04-14 三星显示有限公司 用于沉积薄膜的掩模框组件
KR20200051107A (ko) * 2018-11-02 2020-05-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 마스크 조립체
US11723256B2 (en) 2020-01-06 2023-08-08 Samsung Display Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing display device

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Publication number Publication date
US20170207390A1 (en) 2017-07-20
KR102420460B1 (ko) 2022-07-14
US9997708B2 (en) 2018-06-12

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