CN111004995A - 用于沉积薄膜的掩模框组件 - Google Patents

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CN111004995A CN201910856547.4A CN201910856547A CN111004995A CN 111004995 A CN111004995 A CN 111004995A CN 201910856547 A CN201910856547 A CN 201910856547A CN 111004995 A CN111004995 A CN 111004995A
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Abstract

本申请涉及掩模框组件。该用于沉积薄膜的掩模框组件包括：掩模框；至少一个掩模片，位于掩模框上，至少一个掩模片包括图案孔和无孔图案部分，图案孔包括位于掩模片的沉积区域中的第一图案孔以及位于掩模片的、在沉积区域之间的虚设区域中的第二图案孔，第一图案孔和第二图案孔在第一方向上交替，无孔图案部分位于第一图案孔与第二图案孔之间的边界区域中；以及第一支承杆，在第一方向上间隔开并且遮挡第二图案孔。无孔图案部分不包括图案孔，并且呈位于沉积区域中的一个沉积区域的至少一个边缘上的带形状的形式。

Description

用于沉积薄膜的掩模框组件
相关申请的交叉引用
于2018年10月5日提交至韩国知识产权局且名称为“Mask Frame Assembly forDeposition of Thin Film(用于沉积薄膜的掩模框组件)”的第10-2018-0119301号韩国专利申请通过引用以其整体并入本文。
技术领域
一个或多个实施方式涉及用于沉积薄膜的掩模框组件。
背景技术
通常，显示设备可用于诸如智能电话、膝上型计算机、数字相机、摄像机、个人数字助理、笔记本计算机和平板个人计算机的移动设备中，或者可用于诸如台式计算机、电视、室外广告牌、展览用显示设备、车载仪表盘和抬头显示器(HUD)的电子装置中。
发明内容
实施方式涉及用于沉积薄膜的掩模框组件，掩模框组件包括：掩模框；至少一个掩模片，位于掩模框上，至少一个掩模片包括图案孔和无孔图案部分，图案孔包括位于掩模片的沉积区域中的第一图案孔以及位于掩模片的在沉积区域之间的虚设区域中的第二图案孔，第一图案孔和第二图案孔在第一方向上交替，无孔图案部分位于第一图案孔与第二图案孔之间的边界区域中；以及第一支承杆，在第一方向上间隔开，第一支承杆遮挡第二图案孔，其中，无孔图案部分不包括图案孔，并且呈位于沉积区域中的一个沉积区域的至少一个边缘上的带形状的形式。
第一支承杆中的每一个可在与第一方向交叉的第二方向上延伸。第一支承杆的至少一部分可与无孔图案部分中的布置在第二方向上的至少一个重叠。
无孔图案部分中的每一个的宽度可限定位于第一边缘与第二边缘之间的间隔，其中，第一边缘面对沉积区域中的一个沉积区域，第二边缘面对虚设区域中的、邻近沉积区域中的所述一个沉积区域的一个虚设区域。
第一支承杆中的每一个可包括在第二方向上延伸的第一杆主体以及在第一方向上从第一杆主体突出的第一突出部。连接相邻的第一突出部的部分可与无孔图案部分中的至少一个重叠。
在第一方向上延伸的第二支承杆可位于至少一个掩模片上。第二支承杆的至少一部分可与无孔图案部分中的布置在第一方向上的至少一个重叠。
第二支承杆可包括在第一方向上延伸的第二杆主体以及在第二方向上从第二杆主体突出并且与无孔图案部分中的至少一个重叠的第二突出部。
第一支承杆可与无孔图案部分中的、位于沉积区域在第一方向上的边缘中的至少一个无孔图案部分重叠。第二支承杆可与无孔图案部分中的、位于沉积区域在第二方向上的边缘中的至少一个无孔图案部分重叠。
沉积区域中的一个与形成单元显示面板的材料所沉积的区域对应，并且包括发射区域和延伸至发射区域之外的非发射区域。
无孔图案部分中的至少一个可从沉积区域的一个边缘的一侧连续地延伸至一个边缘的另一侧。
无孔图案部分中的至少一个可在沉积区域的一个边缘的一侧与一个边缘的另一侧之间间隔开。图案孔可位于间隔开的间隔中。
附图说明
通过参考附图详细描述示例性实施方式，特征对于本领域技术人员将变得明显，在附图中：
图1示出根据实施方式的用于沉积薄膜的掩模框组件的一部分的分解立体图；
图2示出图1的掩模片和第一支承杆的平面图；
图3示出图2的一个掩模片和第一支承杆的放大平面图；
图4示出图3的区域A的放大平面图；
图5示出根据实施方式的一个掩模片和第一支承杆的平面图；
图6示出根据实施方式的一个掩模片和第一支承杆的平面图；
图7示出根据实施方式的掩模片、第一支承杆和第二支承杆的平面图；
图8示出根据实施方式的使用用于沉积薄膜的掩模框组件执行沉积的配置的视图；
图9示出根据实施方式的通过使用用于沉积薄膜的掩模框组件沉积的、有机发光显示设备的一个子像素的剖视图；以及
图10示出根据实施方式的通过使用用于沉积薄膜的掩模框组件沉积在衬底上的沉积图案的放大图。
具体实施方式
现在将参考附图在下文中更充分地描述示例性实施方式；然而，它们可实现为不同的形式而不应解释为局限于本文阐述的实施方式。更确切地说，提供这些实施方式以使得本公开将是透彻和完整的，并且将向本领域技术人员充分传达示例性实现方式。
在附图中，为了图示的清楚，可能放大层和区域的尺寸。还应理解，当层或元件被称为在另一层或衬底上时，它可直接地在所述另一层或衬底上，或者还可存在中间层。此外，将理解，当层被称为在另一层下方时，它可直接地在所述另一层下方，或者还可存在一个或多个中间层。此外，还应理解，当层被称为在两个层之间时，它可以是所述两个层之间的仅有层，或者还可存在一个或多个中间层。相同的附图标记通篇表示相同的元件。
在以下描述中，X轴、Y轴和Z轴不局限于直角坐标系的三个轴，并且能以更宽泛的意义进行解释。例如，X轴、Y轴和Z轴可垂直于彼此，或者可表示不垂直于彼此的不同方向。
图1示出根据实施方式的用于沉积薄膜的掩模框组件100的一部分的分解立体图，图2示出图1的掩模片130和第一支承杆210的平面图，图3示出图2的一个掩模片130和第一支承杆210的放大平面图，图4示出图3的区域A的放大平面图，图5示出根据实施方式的一个掩模片530和第一支承杆510的平面图，以及图6示出根据实施方式的一个掩模片630和第一支承杆610的平面图。
参考图1至图4，掩模框组件100包括掩模框110和安装在掩模框110上的掩模片120。
掩模框110可包括开口115。开口115可由多个框构件111、112、113和114围绕。多个框构件111、112、113和114可彼此连接。
多个框构件111、112、113和114可包括在第一方向(X方向)上延伸并且在第二方向(Y方向)上彼此面对的第一框构件111和第二框构件112以及在第二方向(Y方向)上延伸并且在第一方向(X方向)上彼此面对的第三框构件113和第四框构件114。第一框构件111、第二框构件112、第三框构件113和第四框构件114可形成其中第一框构件111、第二框构件112、第三框构件113和第四框构件114彼此连接的四边形框。掩模框110可包括当焊接掩模片120时较不易变形的材料，例如具有高强度的金属。
掩模片120可联接到掩模框110上。掩模片120可包括薄板。掩模片120可包括不锈钢、因瓦合金、Ni、Co、镍合金或镍-钴合金。
掩模片120可包括多个分离的掩模片130。例如，如图2中所示，多个掩模片130可包括在第二方向(Y方向)上分离的第一掩模片130a、第二掩模片130b和第三掩模片130c，其中第二方向(Y方向)是多个掩模片130的宽度方向。如图1中所示，可设置较多数量的掩模片130。在下文中，术语“掩模片”可表示分离的掩模片130。
为了方便制造过程，可在掩模片130上图案化与多个单元显示面板的沉积图案对应的沉积图案部分EP。掩模片130可同时沉积多个单元显示面板的沉积图案。
沉积图案部分EP可布置在掩模片130上。沉积图案部分EP可布置在第一方向(X方向)上，其中第一方向(X方向)是掩模片130的纵长方向。沉积图案部分EP可包括在第一方向(X方向)上连续的单个沉积图案。沉积图案部分EP可在掩模片130的纵长方向(X方向)上连续地延伸。
在沉积图案部分EP上可布置有多个沉积区域E和多个虚设区域D。多个沉积区域E和多个虚设区域D可在第一方向(X方向)上交替地布置。沉积区域E中的每一个可与待形成的每个单元显示面板的沉积区域对应。沉积区域E中的每一个可包括发射区域EA和延伸到发射区域EA之外的非发射区域NEA。虚设区域D可与将多个相邻的沉积区域E划分开的非沉积区域对应。
沉积图案部分EP中可布置有多个图案孔131。多个图案孔131包括布置在沉积区域E中的每一个中的多个第一图案孔132以及布置在虚设区域D中的每一个中的多个第二图案孔136。
第一图案孔132可包括多个发射图案孔134和多个非发射图案孔135。多个发射图案孔134可布置在发射区域EA中。发射图案孔134可包括用于沉积发射层的孔，其中所述发射层参与由待形成的单元显示面板的发光。多个非发射图案孔135可布置在非发射区域NEA中。非发射图案孔135可具有与发射图案孔134的图案对应的形状。非发射图案孔135可包括当发射图案孔134被图案化时形成的虚设图案孔。穿过发射图案孔134的沉积材料可在单元显示面板的衬底上在显示区域中图案化。所形成的单元显示面板可在显示区域中发射光。穿过非发射图案孔135的沉积材料可在显示区域的外部被图案化并且可不直接参与发射光。
可在虚设区域D中图案化第二图案孔136。掩模片130中所包括的第二图案孔136可帮助防止掩模片130在沉积过程期间变形或改变。
布置在沉积区域E中的多个第一图案孔132和布置在虚设区域D中的多个第二图案孔136可在第一方向(X方向)上交替地图案化，其中第一方向(X方向)是掩模片130的纵长方向。可从掩模片130的一端向掩模片130的另一端依次图案化多个第一图案孔132和多个
第二图案孔136。
包括第一图案孔132和第二图案孔136的图案孔131可包括点型缝隙图案或条纹形状缝隙图案。在一些实现方式中，第一图案孔132和第二图案孔136可具有相同的形状和相同的尺寸。肋状件133可布置在掩模片130的在第二方向(Y方向)上的两个相对边缘处，其中第二方向(Y方向)是掩模片130的宽度方向。在肋状件133中可省略图案孔。肋状件133可在作为掩模片130的纵长方向的第一方向(X方向)上延伸。
掩模片130的两个相对端可利用点焊固定在第三框构件113和第四框构件114上。掩模片130中的每一个可越过开口115在第一方向(X方向)上延伸。多个掩模片130可在第二方向(Y方向)上分离并且依次布置。多个掩模片130可覆盖开口115。
多个第一支承杆210可布置在掩模框110与掩模片130之间。第一支承杆210可防止掩模片130由于其重量而下垂。第一支承杆210可包括防止沉积材料沉积在衬底的不期望区域中的薄遮挡板。
第一支承杆210可设置在与掩模片130交叉的第二方向(Y方向)上。第一支承杆210中的每一个可越过开口115在第二方向(Y方向)上延伸。第一支承杆210的两个相对端可分别点焊在第一框构件111和第二框构件112上。第一支承杆210可在施加张力的状态下焊接在第一框构件111和第二框构件112上。多个第一支承杆210可在第一方向(X方向)上彼此间隔开。
第一支承杆210中的每一个可遮挡布置在虚设区域D中的每一个中的多个第二图案孔136。第一支承杆210可包括在第二方向(Y方向)上延伸的第一杆主体211。第一突出部212可从第一杆主体211突出。第一突出部212可在第一方向(X方向)上从第一杆主体211的两个相对边缘突出。第一突出部212可增强第一杆主体211的强度。第一突出部212可从第一杆主体211的至少一个边缘突出。在实施方式中，第一支承杆210可仅包括第一杆主体211而不具有第一突出部212。
第一支承杆210中的每一个可遮挡多个第二图案孔136。然而，在制造过程期间，如果第一支承杆210变得扭曲，则第一支承杆210可能不期望地遮挡在沉积区域E中图案化的多个第一图案孔132的一部分，并且可能出现沉积缺陷。
为了最小化第一支承杆210的影响，可在其中布置有图案孔131的区域的一部分中布置无孔图案部分137，其中，在无孔图案部分137中，图案孔131没有被图案化。多个图案孔131可穿过掩模片130。相反，无孔图案部分137可不穿过掩模片130。无孔图案部分137可与第一支承杆210的至少一部分重叠。
例如，无孔图案部分137可布置在布置于沉积区域E中的多个第一图案孔132与布置于虚设区域D中的多个第二图案孔136之间的边界区域BA中。无孔图案部分137可在边界区域BA中在掩模片130的一个方向上延伸。在实施方式中，无孔图案部分137可在掩模片130的宽度方向(Y方向)上延伸预定长度。
无孔图案部分137可在一个沉积区域E的至少一个边缘上布置为多个无孔图案部分137。无孔图案部分137可分别在掩模片130的纵长方向(X方向)上布置在一个沉积区域E的上边缘UE和下边缘LE处。
在实施方式中，无孔图案部分137可仅布置在一个沉积区域E的上边缘UE处。在实施方式中，无孔图案部分137可仅布置在一个沉积区域E的下边缘LE处。
在实施方式中，无孔图案部分137可仅布置在一个沉积区域E的左边缘处。在实施方式中，无孔图案部分137可仅布置在一个沉积区域E的右边缘处。在实施方式中，无孔图案部分137可布置在一个沉积区域E的左边缘和右边缘处。
在实施方式中，无孔图案部分137可布置在一个沉积区域E的全部的上边缘、下边缘、左边缘和右边缘处。在实施方式中，无孔图案部分137可布置在邻近一个沉积区域E的边缘上方。
基本上，无孔图案部分137可选择性地布置在预先指定的、用于管理第一支承杆210的公差的区域处。
无孔图案部分137可在一个沉积区域E的至少一个边缘(例如，上边缘UE或下边缘LE)上布置成带形状。无孔图案部分137可沿着一个沉积区域E的至少一个边缘(例如，上边缘UE或下边缘LE)连续地延伸。
例如，如图2中所示，无孔图案部分137可不断开地在作为掩模片130的宽度方向的第二方向(Y方向)上从沉积区域E的左侧(其与沉积区域E的上边缘UE的一侧UE1对应)延伸到沉积区域E的右侧(其与沉积区域E的上边缘UE的、与一侧UE1相对的另一侧UE2对应)。无孔图案部分137的两个相对端可在掩模片130的宽度方向(Y方向)上分别连接至布置在掩模片130的两个相对边缘处的肋状件133。
无孔图案部分137的至少一部分可根据一个沉积区域E的形状具有流线型或圆化形状。显示设备可以是具有各种形状的全视觉显示器。因此，显示面板可具有除了四边形形状或圆形状之外的不规则图案的沉积区域E。因此，无孔图案部分137可具有除了直线型图案之外的流线型或圆化图案。
无孔图案部分137的宽度W可处处相同。在一些实现方式中，无孔图案部分137的宽度W可大于多个第一图案孔132之间的间隔d。
如图4中所示，无孔图案部分137的宽度W可以是面对一个沉积区域E的第一边缘138与面对邻近所述一个沉积区域E的虚设区域D的第二边缘139之间的间隔。第一边缘138可面对一个沉积区域E的上边缘UE或下边缘LE。
在实施方式中，无孔图案部分137的宽度W可为500μm或更小。当无孔图案部分137的宽度W小于500μm时，如图8中所示，可以避免当施加张力时由于掩模片830的波纹而可能产生的沉积衬底840与掩模片830之间的接触缺陷，或者可以避免来自用于将掩模片830和用于沉积的沉积衬底840卡合的磁体850的排斥力。
为了限制第一支承杆210偏离正常位置的范围，第一支承杆210可与无孔图案部分137重叠。例如，连接多个相邻的第一突出部212的连接部分213可与无孔图案部分137重叠。连接部分213可包括第一杆主体211的一个边缘。在实施方式中，在第一支承杆210的一部分与无孔图案部分137重叠的结构的情况下，可适用不包括第一突出部212的支承杆。
即使当第一支承杆210扭转时，当第一支承杆210的连接部分213与无孔图案部分137重叠时，可防止沉积材料沉积在衬底的不期望的区域中。无孔图案部分137的第一边缘138和第二边缘139之间的间隔可确定为无孔图案部分137的宽度W。
例如，其中布置有多个发射图案孔134的发射区域EA与无孔图案部分137的第一边缘138之间的间隔可与可能由于第一支承杆210而出现的遮蔽宽度相同。当第一支承杆210与无孔图案部分137重叠时，可能由于第一支承杆210而出现的遮蔽可不进入发射区域EA。
即使当第一支承杆210偏离正常位置时，无孔图案部分137的第二边缘139和第一支承杆210的连接部分213也可彼此重叠，且可最小化或防止沉积缺陷。
在实施方式中，显示面板的沉积区域E可具有各种形状，且无孔图案部分137可具有各种图案。
参考图5，其中布置有多个第一图案孔532的沉积区域E和其中布置有多个第二图案孔536的虚设区域D可布置在作为掩模片530的纵长方向的第一方向(X方向)上。多个沉积区域E之中的一个沉积区域E可与单元显示面板的沉积区域对应。
无孔图案部分537可布置在多个第一图案孔532与多个第二图案孔536之间的边界区域BA中。无孔图案部分537可以是掩模片530的、其中不形成图案孔531的区域。无孔图案部分537可包括在掩模片530的纵长方向(X方向)上布置在一个沉积区域E的上边缘UE处的至少一个第一无孔图案部分537a和至少一个第二无孔图案部分537b以及在掩模片530的纵长方向(X方向)上布置在一个沉积区域E的下边缘LE处的至少一个第三无孔图案部分537c。
第一无孔图案部分537a和第二无孔图案部分537b可分离地在作为掩模片530的宽度方向的第二方向(Y方向)上从沉积区域E的左侧(其与沉积区域E的上边缘UE的一侧UE1对应)布置到沉积区域E的右侧(其与沉积区域E的上边缘UE的、与一侧UE1相对的另一侧UE2对应)。
例如，第一无孔图案部分537a可分别布置在沉积区域E的上边缘UE的一侧UE1和另一侧UE2处。第二无孔图案部分537b可布置在沉积区域E的上边缘UE的中央处。多个图案孔531可布置在第一无孔图案部分537a与第二无孔图案部分537b之间的间隔中。第三无孔图案部分537c可分别布置在沉积区域E的下边缘LE的一侧LE1和另一侧LE2处。
第一支承杆510可遮挡布置在虚设区域D中的多个第二图案孔536。第一支承杆510可包括在第二方向(Y方向)上延伸的第一杆主体511以及在第一方向(X方向)上从第一杆主体511突出的第一突出部512。连接多个相邻的第一突出部512的连接部分513可与无孔图案部分537重叠。在实施方式中，在第一支承杆510的一部分与无孔图案部分537重叠的结构的情况下，可适用具有不同形状的支承杆。
参考图6，其中布置有多个第一图案孔632的沉积区域E和其中布置有多个第二图案孔636的虚设区域D可布置在作为掩模片630的纵长方向的第一方向(X方向)上。
无孔图案部分637可在多个第一图案孔632与多个第二图案孔636之间的边界区域BA中沿着沉积区域E的边缘延伸。无孔图案部分637可以是掩模片630的不包括多个图案孔的区域。无孔图案部分637可在掩模片630的纵长方向(X方向)上包括布置在一个沉积区域E的上边缘UE处的至少一个第一无孔图案部分637a以及布置在一个沉积区域E的下边缘LE处的至少一个第二无孔图案部分637b。
第一无孔图案部分637a和第二无孔图案部分637b可在作为掩模片630的宽度方向的第二方向(Y方向)上以连续的带形状从沉积区域E的左侧(其分别与沉积区域E的侧UE1和LE1中的一个对应)延伸至沉积区域E的右侧(其分别与沉积区域E的与侧UE1和LE1中的一个相对的另一侧UE2和LE2中的一个对应)。
第一支承杆610可遮挡布置在虚设区域D中的多个第二图案孔636。第一支承杆610可包括在第二方向(Y方向)上延伸的第一杆主体611以及在第一方向(X方向)上从第一杆主体611突出的第一突出部612。连接多个相邻的第一突出部612的连接部分613可与无孔图案部分637重叠。在实施方式中，在其中第一支承杆610的一部分与无孔图案部分637重叠的结构的情况下，第一支承杆610可具有多于一种形状。
还可在多个掩模片上布置第二支承杆。
图7示出根据实施方式的掩模片730、第一支承杆710和第二支承杆740的平面图。
在图2中所示的掩模片130中，三个掩模片130a、130b和130c示出为分别布置在掩模片130的第二方向(Y方向)上。在根据本实施方式的掩模片730中，两个掩模片730a和730b示出为分别布置在掩模片730的第二方向(Y方向)上。
参考图7，在第一掩模片730a和第二掩模片730b中，多个沉积区域E和多个虚设区域D(参见图2)可在作为掩模片730的纵长方向的第一方向(X方向)上交替地布置。
不同于先前实施方式的沉积区域E，本实施方式的沉积区域E在第二方向(Y方向)上的长度可大于沉积区域E在第一方向(X方向)上的长度。例如，本实施方式的沉积区域E可与旋转90°的图2的沉积区域E对应。
第一支承杆710可布置在掩模片730上。第一支承杆710可包括在第二方向(Y方向)上延伸的第一杆主体711以及在第一方向(X方向)上从第一杆主体711突出的第一突出部712。在一些实现方式中，第一支承杆710可仅包括第一杆主体711而不具有第一突出部712。第一支承杆710可在彼此相邻的第一掩模片730a和第二掩模片730b上方延伸。第一支承杆710可遮挡在分别布置于第一掩模片730a和第二掩模片730b中的虚设区域D中图案化的多个第二图案孔732。
掩模片730上还可布置有第二支承杆740。第二支承杆740可包括在第一方向(X方向)上延伸的第二杆主体741。在实施方式中，第二突出部742可在第二方向(Y方向)上从第二杆主体741突出。第二支承杆740可布置在彼此相邻的第一掩模片730a与第二掩模片730b之间的边界区域中。第二支承杆740可遮挡第一掩模片730a与第二掩模片730b之间的间隔。
第一支承杆710和第二支承杆740可彼此交叉。多个第一图案孔731可布置在一个沉积区域E中。多个无孔图案部分737可布置在一个沉积区域E的至少一个边缘中。
无孔图案部分737可包括布置在一个沉积区域E的上边缘UE处的至少一个第一无孔图案部分737a和至少一个第二无孔图案部分737b以及布置在一个沉积区域E的下边缘LE处的至少一个第三无孔图案部分737c。
第一无孔图案部分737a可布置在沉积区域E的上边缘UE的两个相对端处，第二无孔图案部分737b可布置在沉积区域E的上边缘UE的中央处，且第三无孔图案部分737c可布置在沉积区域E的下边缘LE的两个相对端处。
多个第一无孔图案部分737a和多个第三无孔图案部分737c可与第一支承杆710的将多个相邻的第一突出部712连接的连接部分713重叠。在实施方式中，在其中第一支承杆710的一部分与第一无孔图案部分737a和第三无孔图案部分737c重叠的结构的情况下，可使用具有不同形状的第一支承杆710。
第二无孔图案部分737b可布置在沉积区域E的上边缘UE的中央处，并且可在掩模片730的纵长方向(X方向)上延伸。第二无孔图案部分737b可与第二支承杆740的一部分重叠。在第二方向(Y方向)上从第二杆主体741突出的第二突出部742可布置在第二支承杆740处。第二突出部742可与第二无孔图案部分737b重叠。在其中第二支承杆740的一部分与在掩模片730的纵长方向(X方向)上延伸的第二无孔图案部分737b重叠的结构的情况下，第二支承杆740可具有合适的形状。
多个第一无孔图案部分737a和多个第三无孔图案部分737c可不与第一支承杆710的一部分重叠。代替地，多个第一无孔图案部分737a和多个第三无孔图案部分737c中的至少一个可与第二支承杆740的一部分重叠。例如，布置在一个沉积区域E的边缘中的多个无孔图案部分737可选择性地与第一支承杆710或第二支承杆740重叠。
图8示出根据实施方式的通过使用用于沉积薄膜的掩模框组件800执行沉积的配置的视图。
参考图8，用于沉积薄膜的掩模框组件800包括用于沉积薄膜的真空室801，所述薄膜诸如是有机发光显示设备的有机发射层。
沉积源870可位于真空室801内的下部分中。掩模框组件810可安装在沉积源870上方。掩模片830可安装在掩模框880上方。沉积衬底840可位于掩模片830上方。可在沉积衬底840上方安装生成磁力使得掩模片830保持在用于沉积的沉积衬底840上的磁体850。
第一支承杆820和第二支承杆860可安装在掩模片830下方以便防止掩模片830下垂。第一支承杆820和第二支承杆860可布置在彼此交叉的方向上。
当从沉积源870朝向掩模片830喷射沉积材料时，通过掩模框880的开口881的沉积材料可穿过形成在掩模片830中的多个图案孔831并且可在沉积衬底840的一侧上沉积为具有期望图案。即使第一支承杆820和第二支承杆860在沉积过程期间变得变形或改变，由于布置在掩模片830上的无孔图案部分737(参见图7)的存在，也可在沉积衬底840的期望区域中执行沉积。
图9示出根据实施方式的通过使用用于沉积薄膜的掩模框组件沉积的、有机发光显示设备900的一个子像素的剖视图。
子像素中的每一个可包括至少一个薄膜晶体管TFT和有机发光二极管OLED。薄膜晶体管TFT的数量和结构可被不同地修改。
参考图9，有机发光显示设备900可包括衬底911。衬底911可以是玻璃衬底、塑料衬底或柔性膜衬底。衬底911可为透明的、半透明的或不透明的。
阻挡层912可布置在衬底911上。阻挡层912可覆盖衬底911的顶表面。阻挡层912可包括无机层或有机层。阻挡层912可呈单层或多层的形式。
薄膜晶体管TFT可形成在阻挡层912上。根据本实施方式的薄膜晶体管TFT可以是例如顶栅型薄膜晶体管。在一些实现方式中，薄膜晶体管TFT可以是具有不同结构的薄膜晶体管，诸如底栅型薄膜晶体管。
半导体层913可布置在阻挡层912上。源区914和漏区915可通过掺杂N型或P型杂质离子而形成在半导体层913中。源区914与漏区915之间的区可包括未掺杂有杂质的沟道区916。
半导体层913可包括有机半导体、无机半导体或非晶硅。在实施方式中，半导体层913可包括氧化物半导体。
栅绝缘层917可沉积在半导体层913上。栅绝缘层917可包括无机层。栅绝缘层917可呈单层或多层的形式。
栅电极918可布置在栅绝缘层917上。栅电极918可呈单层或多层的形式。栅绝缘层917可包括Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd、Al、Mo或Cr，或者可包括诸如Al:Nd和Mo:W的合金。
层间绝缘层919可布置在栅电极918上。层间绝缘层919可包括包含硅氧化物或硅氮化物的无机层。
源电极920和漏电极921可布置在层间绝缘层919上。可通过移除栅绝缘层917的一部分和层间绝缘层919的一部分形成接触孔。源电极920可通过接触孔电连接至源区914。漏电极921可通过接触孔电连接至漏区915。
钝化层922可形成在源电极920和漏电极921上。钝化层922可包括无机层或有机层。
平坦化层923可形成在钝化层922上。平坦化层923包括包含丙烯醛基、聚酰亚胺和苯并环丁烯(BCB)中的一种的有机层。
有机发光二极管OLED可布置在薄膜晶体管TFT上方。有机发光二极管OLED可包括第一电极925、第二电极927以及位于第一电极925与第二电极927之间的中间层926。
第一电极925可通过接触孔电连接至源电极920和漏电极921中的一个。第一电极925可与像素电极对应。
第一电极925充当阳极并且可包括各种导电材料。第一电极925可以是透明电极或反射电极。
覆盖有机发光二极管OLED的第一电极925的边缘的像素限定层(PDL)924可布置在平坦化层923上。PDL 924可通过围绕第一电极925的边缘来限定每个子像素的发射区域。
PDL 924可包括有机层。
中间层926可布置在第一电极925上的区域中，该区域通过蚀刻PDL 924的一部分而暴露。中间层926可通过沉积过程形成。中间层926可包括低分子有机材料或聚合物有机材料。
中间层926可包括有机发射层(EML)。在一些实现方式中，中间层926可包括有机EML并且还可包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少一者。在一些实现方式中，中间层926可包括有机EML并且还可包括各种功能层。有机EML可通过使用根据实施方式的用于沉积薄膜的掩模框组件来形成。
第二电极927可布置在中间层926上。第二电极927可与公共电极对应。类似于第一电极925，第二电极927可为透明电极或反射电极。
第一电极925可通过中间层926与第二电极927绝缘。当电压施加至第一电极925和第二电极927时，中间层926可发射可见光，且可实现能够由用户识别的图像。
封装部分940可布置在有机发光二极管OLED上。
多个有机层941和942以及多个无机层943、944和945可在封装部分940中交替堆叠。在根据实施方式的封装部分940中，有机层941和942可具有包括至少一个层的结构，且无机层943、944和945可具有包括至少两个层的结构。向外暴露的封装部分940的、向外暴露的最上面的最上层945可包括无机层以便防止水分传递到有机发光二极管OLED中。
图10示出根据实施方式的通过使用用于沉积薄膜的掩模框组件沉积在衬底上的沉积图案的放大图。
参考附图，已经从沉积源870(参见图8)蒸发的沉积材料穿过掩模片830的图案孔831并且沉积在衬底911(参见图9)上的发射区域EA中。因此，可在发射区域EA中形成有机发射层的图案1034。沉积在发射区域EA中的图案1034可在驱动时发射光。
虚设图案1035沉积在延伸至发射区域EA的外部的非发射区域NEA中。虚设图案1035中的一些包括由于阴影现象等而分裂成碎片的图案1036。虚设图案1035基本不参与发射光。
通过总结和回顾，可使用多种方法来形成薄膜，诸如显示设备中的发射层。在这些方法之中，沉积方法包括通过使用具有与薄膜的图案相同的图案的沉积掩模来将沉积材料沉积在衬底上。
当支承沉积掩模的支承构件偏离沉积掩模上的正常位置时，存在这样的可能性：沉积材料可能沉积在衬底上的不期望的区域中或者可能没有在期望的区域中执行沉积。在该情况中，可能没有在衬底上形成精确的沉积图案。
一个或多个实施方式包括用于沉积薄膜的掩模框组件，其中所述掩模框组件可在衬底上形成精确的沉积图案。
根据实施方式的用于沉积薄膜的掩模框组件可精确地控制具有各种形状的面板的沉积图案。因为使用高精度的掩模片，所以可容易地减小死区。
本文已经公开了示例性实施方式，且虽然使用了特定的术语，但是它们仅是在一般的和描述性的意义上被使用和解释，而不是出于限制的目的。在一些情况中，如在提交本申请时对于本领域普通技术人员将显而易见的，除非另行特别指出，否则结合特定实施方式描述的特征、特性和/或元件可单独地或者与结合其他实施方式描述的特征、特性和/或元件组合地使用。因此，本领域技术人员应理解，在没有脱离如所附权利要求中阐述的其精神和范围的情况下，可在形式和细节方面进行各种改变。

Claims (10)

1.用于沉积薄膜的掩模框组件，所述掩模框组件包括：
掩模框；
至少一个掩模片，位于所述掩模框上，所述至少一个掩模片包括图案孔和无孔图案部分，所述图案孔包括位于所述掩模片的沉积区域中的第一图案孔以及位于所述掩模片的在所述沉积区域之间的虚设区域中的第二图案孔，所述第一图案孔和所述第二图案孔在第一方向上交替，所述无孔图案部分位于所述第一图案孔与所述第二图案孔之间的边界区域中，以及
第一支承杆，在所述第一方向上间隔开，所述第一支承杆遮挡所述第二图案孔，
其中：
所述无孔图案部分不包括所述图案孔，并且呈位于所述沉积区域中的一个沉积区域的至少一个边缘上的带形状的形式。
2.如权利要求1所述的掩模框组件，其中：
所述第一支承杆中的每一个在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸，以及
所述第一支承杆的至少一部分与所述无孔图案部分中的布置在所述第二方向上的至少一个重叠。
3.如权利要求2所述的掩模框组件，其中，所述无孔图案部分中的每一个的宽度限定位于第一边缘与第二边缘之间的间隔，其中，所述第一边缘面对所述沉积区域中的所述一个沉积区域，所述第二边缘面对所述虚设区域中的、邻近所述沉积区域中的所述一个沉积区域的一个虚设区域。
4.如权利要求2所述的掩模框组件，其中，所述第一支承杆中的每一个包括：
第一杆主体，在所述第二方向上延伸；以及
第一突出部，在所述第一方向上从所述第一杆主体突出，
其中，连接相邻的第一突出部的部分与所述无孔图案部分中的至少一个重叠。
5.如权利要求2所述的掩模框组件，其中：
在所述第一方向上延伸的第二支承杆位于所述至少一个掩模片上；以及
所述第二支承杆的至少一部分与所述无孔图案部分中的布置在所述第一方向上的至少一个重叠。
6.如权利要求5所述的掩模框组件，其中，所述第二支承杆包括：
第二杆主体，在所述第一方向上延伸；以及
第二突出部，在所述第二方向上从所述第二杆主体突出并且与所述无孔图案部分中的至少一个重叠。
7.如权利要求5所述的掩模框组件，其中：
所述第一支承杆与所述无孔图案部分中的、位于所述沉积区域在所述第一方向上的边缘中的至少一个无孔图案部分重叠，以及
所述第二支承杆与所述无孔图案部分中的、位于所述沉积区域在所述第二方向上的边缘中的至少一个无孔图案部分重叠。
8.如权利要求1所述的掩模框组件，其中，所述沉积区域中的一个与形成单元显示面板的材料所沉积的区域对应，并且包括发射区域和延伸至所述发射区域之外的非发射区域。
9.如权利要求8所述的掩模框组件，其中，所述无孔图案部分中的至少一个从所述沉积区域的一个边缘的一侧连续地延伸到所述一个边缘的另一侧。
10.如权利要求8所述的掩模框组件，其中，所述无孔图案部分中的至少一个在所述沉积区域的一个边缘的一侧与所述一个边缘的另一侧之间间隔开，且所述图案孔处于间隔开的间隔中。
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