KR20040042179A

KR20040042179A - 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크

Info

Publication number: KR20040042179A
Application number: KR1020020070347A
Authority: KR
Inventors: 손민수; 임성실
Original assignee: 주식회사 엘리아테크
Priority date: 2002-11-13
Filing date: 2002-11-13
Publication date: 2004-05-20

Abstract

본 발명은 풀 칼라 유기 전계 발광 표시소자를 제작 시 사용되는 스트라이프 타입의 섀도우 마스크에 Rib을 적용함으로써 스트라이프 타입의 섀도우 마스크의 단점인 형상 유지력을 향상 시키면서 동시에 스트라이프 타입의 장점인 소자 개구율 개선의 효과를 얻을 수 있다는 장점이 있다.

Description

립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크{Improved stripe type shadow mask with rib}

본 발명은 full-color 유기 전계 발광 표시소자의 제작 시 필수적인 섀도우 마스크(Shadow Mask)에 관련된 기술이다.

정보통신기술의 발달로, 다양화된 정보화 사회의 요구에 따라, 전자 디스플레이의 수요가 증가되고 있고, 요구되는 디스플레이 또한 다양해지고 있다. 이와 같이 다양화된 정보화 사회의 요구를 만족시키기 위하여, 전자 디스플레이 소자는 고정세화, 대형화, 저가격화, 고성능화, 박형화, 소형화 등의 특성을 가질 것이 요구되고 있으며, 이를 위해, 기존의 음극선관(Cathode Ray Tube: CRT) 이외에 새로운 평판 디스플레이(Flat Panel Display: FPD) 소자가 개발되고 있다.

이러한 평판 디스플레이 중의 하나가 전계 발광 디스플레이(Electro luminescent Display)이다. ELD는 발광층으로 사용하는 물질의 종류에 따라, 유기 전계 발광 표시소자(Organic Electro luminescent Display)와 무기 전계 발광 표시소자(Inorganic Electro luminescent Display)로 분류된다.

무기 전계 발광 표시소자는 높은 전기장에 의하여 가속된 전자의 충돌을 이용하여 발광하는 소자로서, 박막의 두께와 구동방식에 따라, 교류박막 전계 발광 표시소자, 교류후막 전계 발광 표시소자 및 직류후막 전계 발광 표시소자 등으로 분류된다.

그리고, 유기 전계 발광 표시소자는 전류의 흐름에 의해 발광하는 소자로서, 발광층인 유기물질의 구분에 따라, 저분자 유기 전계 발광 표시소자와 고분자 유기 전계 발광 표시소자로 분류된다.

도 1은 종래의 유기 전계 발광 표시소자를 설명하기 위한 개략도이다. 도 1을 참조하면, 유기 전계 발광 표시소자는 투명기판(11) 상에 투명 양극층(anode layer, 12)을 배선으로 형성하고, 음극선 patterning을 위해 negative type의 유기 감광막을 이용하여 역 profile의 음극선간의 격벽을 형성한다.(13) 그 후에 정공 주입층(hole injection layer)(14), 정공 수송층(hole transport layer)(15), 유기 전계 발광층(organic emitting layer)(16), 전자 수송층(electron transport layer)(17) 및 음극층(cathode layer)(18)이 순차 적층을 실시하게 되는데 이 때 미리 형성된 격벽에 의해 음극선과 음극선 사이는 단락된 구조를 갖으며, 양극선과 음극선을 통해 선택적으로 인가된 전류의 흐름이 유기 전계 발광층(16)을 발광시키는 원리이다. 이 때 정공 주입층(14), 정공 수송층(15) 및 전자 수송층(17)은 유기 전계 발광 표시 소자의 발광 효율을 증가시키는 보조적 기능을 한다.

이러한 유기 ELD 소자를 제작함에 있어서 각각의 유기물 층을 적절한 위치에 적층하기 위해서는 Shadow Mask가 필수적이다.

이러한 Shadow Mask의 일반적인 형태가 Lattice(Dot) type(도 2), Stripe type(도 3)이다. Lattice type은 Mask의 Tension유지가 유리한 반면 소자의 개구율 감소와 Mask 제작 공정이 어렵다는 단점이 있고, Stripe type은 소자 개구율 확보에 우수하고 Mask제작 공정이 비교적 간소하다는 장점이 있는 반면 Tension인가 시 Mask의 형상 유지가 어렵다는 단점이 있다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크를 제안하여 마스크 제작의 용이성, 마스크 형상 유지력, 소자의 개구율 개선의 효과를 얻을 수 있는 새로운 마스크 디자인을 제시한다.

도 1은 종래의 유기 전계 발광 표시소자를 설명하기 위한 개략도이다.

도 2는 종래의 Lattice type의 섀도우 마스크이다.

도 3은 종래의 Stripe type의 섀도우 마스크이다.

도 4는 본 발명에 따른 Rip을 적용한 Stripe type의 섀도우 마스크이다.

< 도면의 주요 부분에 대한 참조번호의 설명 >

11: 투명기판 12: 투명 전도 전극층

13: 격벽 14: 정공 주입층

15: 정공 수입층 16: 유기 전계 발광층

17: 전자 수송층 18: 음극층

21: Cathode separator

본 발명의 상기 목적은 스트라이프 타입의 섀도우 마스크와 스트라이프내에 립(Rib)으로 구성된 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크에 의하여 달성된다.

본 발명은 풀 칼라 유기 전계 발광 소자의 제작에 사용되는 섀도우 마스크의 디자인에 있어서 소자 개구율 개선을 위해 스트라이프 타입의 섀도우 마스크 형태를 기본 구조로 한다. 스트라이프 타입의 단점인 형상 유지력의 확보를 위해 스트라이프내에 립을 적용하여 장력인가시 스트라이프의 형태를 지탱해 줄 수 있는 다리를 형성하여 준다.

레티스 타입(Lattice type)은 레티스 형상 유지 등의 목적으로 약 30~40μm의 간격이 요구(도 2)되어 개구율의 감소가 발생하나 본 발명에 적용된 립은 스트라이프의 형상 유지를 목적으로 하므로 스트라이프내의 립들 중 일부가 파손되어도 큰 영향이 없기 때문에 그 두께를 5μm정도로 얇게 적용할 수 있다는 차이점이 있다.

도 4는 본 발명에 따른 립을 적용한 스트라이프 타입의 섀도우 마스크이다.

스트라이프 타입의 섀도우 마스크 하단에 5μm정도의 립이 일정한 간격으로 위치해 있으며, 립 형성 위치는 섀도우 마스크의 스트라이프 소자의 Cathode separator(21)와 교차되는 위치에 형성하여 유기막 증착 시 소자 pixel 영역을 가로막는 영향을 제거 한다.

섀도우 마스크의 디자인에 있어서 소자 개구율 개선을 위하여 스트라이프 타입의 섀도우 마스크 형태를 기본 구조로 하고, 스트라이프 타입의 단점인 형상 유지력의 확보를 위해 스트라이프내에 립을 적용하여 장력인가시 스트라이프의 형태를 지탱해 줄 수 있는 다리를 형성하여 준다.

따라서 본 발명의 립을 적용한 개선된 스트라입 타입의 섀도우 마스크는 풀 칼라 유기 발광 소자의 제작에 사용되는 대표적인 섀도우 마스크인 레티스 타입과 스트라이프 타입의 장점을 복합한 것으로 스트라이프 타입 적용에 의한 마스크 제작의 용이성, 소자 개구율 개선 효과와 마스크 형상 유지력을 높이는 립의 적용을 통한 내구성 향상, 증착된 유기막의 align정도 향상의 효과를 얻을 수 있다.

Claims

유기 전계 발광 디스플레이용 섀도우 마스크 제작에 있어서,

스트라이프 타입의 형상 유지력을 위해 스프라이프내에 립을 적용하여 장력 인가 시 스트라이프의 형태를 지탱해 줄 수 있는 다리를 형성하는 것을 특징으로 하는 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크.
제 1항에 있어서, 상기 립의 두께는 5μm를 특징으로 하는 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크.
제 1항에 있어서, 상기 립의 형성 위치는 유기막 증착 시 소자 픽셀 영역을 가로막는 영향을 제거하기 위하여 섀도우 마스크의 스트라이프가 소자의 캐소드 서퍼레이터와 교차되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 립을 적용하여 개선시킨 스트라입 타입의 섀도우 마스크.