CN107978676B - 一种蒸镀用掩膜组件 - Google Patents
一种蒸镀用掩膜组件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107978676B CN107978676B CN201711257634.5A CN201711257634A CN107978676B CN 107978676 B CN107978676 B CN 107978676B CN 201711257634 A CN201711257634 A CN 201711257634A CN 107978676 B CN107978676 B CN 107978676B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- exposure mask
- supporting element
- vapor deposition
- pad
- mask pad
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 8
- 238000007665 sagging Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000712 assembly Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种蒸镀用掩膜组件。其中，蒸镀用掩膜组件包括：框架，用于设置掩膜垫；支撑件，与框架相连接以用于承托掩膜垫；掩膜垫，设于支撑件上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。通过上述组件，可以有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种蒸镀用掩膜组件。
背景技术
有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Display，OLED)，与液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)相比具有自发光、广视角、低功耗、反应速度高等优点，被广泛使用。OLED在制作过程中大都采用以ITO玻璃为基板，利用蒸镀设备，将多层薄膜相继沉积在基板上而形成。OLED蒸镀技术利用蒸发源，内部充填OLED材料，在真空环境下蒸发源加热使材料升华或气化，透过金属掩膜，蒸镀于基板上。蒸镀过程中，金属掩膜板与玻璃之间的间距越小越好，如果间距过大，就会出现阴影效应，蒸镀材会在一定的程度上扩散至别的颜色上，造成混色。
本申请的发明人在长期的研发中发现，随着基板尺寸越来越大，金属掩膜板的尺寸也必须相应的增大，如此会造成金属掩膜板的掩膜因重力关系下垂，导致掩膜周边与中间区域相对玻璃的间距不同，严重影响蒸镀效果。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种蒸镀用掩膜组件，可以有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种蒸镀用掩膜组件，包括：框架，用于设置掩膜垫；支撑件，与框架相连接以用于承托掩膜垫；掩膜垫，设于支撑件上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。
本发明的有益效果是：通过在支撑件上设置用以平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差的掩膜垫，进而有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。
附图说明
图1是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的侧面结构示意图；
图2是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的俯视结构示意图；
图3是本发明支撑件一实施例的侧面结构示意图；
图4是本发明支撑件另一实施例的侧面结构示意图；
图5是本发明蒸镀用掩膜组件制作方法一实施例的流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
参考图1，图1是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的侧面结构示意图。如图所示，掩膜组件包括：框架10、支撑件11以及掩膜垫12。
框架10用于设置掩膜垫12，支撑件11与框架10相连接以用于承托掩膜垫12，掩膜垫12设于支撑件11上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。框架10一般可以由金属或合金等形成，且用于固定支撑件11的部分可以与框架10的材质相同。
可选的，掩膜垫12为多个，间隔分布设置在支撑件11上，多个掩膜垫12的厚度与形变高度差相匹配。掩膜垫12的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低，以使得在使用时，掩膜在重力作用下仍然保持在平坦状态。
在具体实施过程中，可以通过测量掩膜板不同位置的下垂量来决定掩膜垫的厚度及大小。也可以根据具体情况间隔设置多个掩膜垫，各掩膜垫之间间隔一定的阈值。还可以以支撑件中间的掩膜垫为参照，向两边依次设置大小递减且相互对称的多个掩膜垫，以达到更好的支撑掩膜板的作用。
参考图2，图2是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的俯视结构示意图。如图所示，支撑件21呈长条状，支撑件21的两端与框架20相连接。支撑件21位于框架20内空间，且至少两对端分别固定于框架20上，掩膜设置于支撑件21之上。进一步的，框架20包括相对设置且平行的第一侧边201及第二侧边202，第一侧边201和第二侧边202用于支撑支撑件21。在本实施例中，掩膜组件包括多个平行设置的支撑件21，且所有支撑件21与第一侧边201和第二侧边202垂直设置。
如图3所示，图3是本发明支撑件一实施例的侧面结构示意图。掩膜垫32与支撑件31一体成型。掩膜垫32朝上凸出于支撑件31，用于支撑掩膜，且掩膜垫32的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低，以使得在使用时掩膜在重力作用下仍然保持在平坦状态。在另一实施例中，掩膜垫、支撑件与框架也可以一体成型。
可选的，掩膜垫与支撑件的材质相同，可以为镍铁合金。在其他实施例中，掩膜垫也可以是塑胶件或者磁性件，用于吸附金属掩膜板以及支撑件。
参考图4，图4是本发明支撑件另一实施例的侧面结构示意图。在本实施例中，掩膜垫41的一部分为柱体状，支撑件40设有插孔(图未示)，用于容置掩膜垫41的柱体状部分42。掩膜垫41的柱体状部分42通过插孔与支撑件40连接。在其他实施例中，掩膜垫可以是正方形、菱形或其他任意图形，掩膜垫的两边分别与掩膜以及支撑件完全贴合，有助于在重力作用下仍然保持掩膜平行。
通过上述方式，在支撑件上设置用以平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差的掩膜垫，进而有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。
参考图5，图5是本发明蒸镀用掩膜组件制作方法一实施例的流程示意图。蒸镀用掩膜组件制作方法包括以下步骤：
S50：准备支撑支架。
S51：利用电镀在支撑支架朝上一侧形成多个垫片。
S52：将支撑支架置于框架内空间，且至少两对端分别固定于框架。
S53：将掩膜设置于支撑支架之上。
S54：多个垫片分散设置于支撑支架与掩膜之间，且置于框架内空间中部的垫片的厚度大于框架内空间周边的垫片的厚度。
在具体实施过程中，上述步骤还包括：利用第一次电镀在支撑支架朝上一侧形成多个第一垫片；利用第二次电镀使多个第一垫片中的位于内侧的部分第一垫片增厚；利用上述方法继续电镀，使得垫片的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低，以使得在使用时掩膜在重力作用下仍然保持在平坦状态。
进一步的，在电镀过程中，对水平放置的支撑支架中央施加向下的力，模拟掩膜已经放置在支撑支架时的受力变形以及重力变形，同时检测多个垫片顶面是否平齐，在不平齐时继续电镀，以使得多个垫片顶面平齐。进一步的，垫片的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低，以使得在使用时掩膜在重力作用下仍然保持在平坦状态。垫片在支撑支架的投影位于支撑支架内、或不超出支撑支架。垫片与支撑支架或掩膜一体成型，或垫片、支撑支架、掩膜一体成型。垫片朝上凸出于支撑支架，或朝下凸出于掩膜。垫片与支撑支架的材质相同，可以为镍铁合金。
通过上述方法，可以制作出蒸镀用的掩膜组件，可以有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种蒸镀用掩膜组件，其特征在于，包括：
框架，用于设置掩膜垫；
支撑件，与所述框架相连接以用于承托所述掩膜垫；
掩膜垫，设于所述支撑件上以用于平衡所述支撑件因重力下垂产生的形变高度差；
其中，所述支撑件呈长条状，所述支撑件的两端与所述框架相连接，所述掩膜垫与所述支撑件一体成型，所述掩膜垫为多个，间隔分布设置在所述支撑件上，多个所述掩膜垫的厚度与所述形变高度差相匹配，所述掩膜垫的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低。
2.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜组件，其特征在于，所述掩膜垫、所述支撑件与所述框架一体成型。
3.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜组件，其特征在于，
所述掩膜垫朝上凸出于所述支撑件。
4.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜组件，其特征在于，
所述掩膜垫与所述支撑件的材质相同。
5.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜组件，其特征在于，
所述掩膜垫是塑胶件。
6.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜组件，其特征在于，
所述掩膜垫是磁性件。
7.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜组件，其特征在于，
所述掩膜垫的一部分为柱体状，所述支撑件设有插孔，用于容置所述掩膜垫的柱体状部分。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711257634.5A CN107978676B (zh) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | 一种蒸镀用掩膜组件 |
| PCT/CN2018/072979 WO2019104845A1 (zh) | 2017-11-30 | 2018-01-17 | 一种蒸镀用掩膜组件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711257634.5A CN107978676B (zh) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | 一种蒸镀用掩膜组件 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN107978676A CN107978676A (zh) | 2018-05-01 |
| CN107978676B true CN107978676B (zh) | 2019-11-26 |
Family
ID=62009028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201711257634.5A Active CN107978676B (zh) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | 一种蒸镀用掩膜组件 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN107978676B (zh) |
| WO (1) | WO2019104845A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109943805B (zh) * | 2019-03-29 | 2021-04-30 | 云谷（固安）科技有限公司 | 掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件 |
| CN110158027A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-23 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩膜板装置及其设置方法与应用方法 |
| CN110066976B (zh) * | 2019-06-03 | 2021-04-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板及其制作方法、蒸镀设备、气相沉积设备 |
| CN110923626B (zh) * | 2019-12-17 | 2022-02-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜组件及其制作方法 |
| CN113005400A (zh) * | 2021-02-23 | 2021-06-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 吸附装置和蒸镀设备 |
| CN113355635B (zh) * | 2021-06-15 | 2023-01-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版框架、掩膜模组和蒸镀设备 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103207518A (zh) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件 |
| CN103572206B (zh) * | 2013-11-08 | 2019-01-15 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种复合掩模板组件的制作方法 |
| KR102420460B1 (ko) * | 2016-01-15 | 2022-07-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
| CN105589306B (zh) * | 2016-02-26 | 2017-12-01 | 合肥欣奕华智能机器有限公司 | 一种掩膜板对位系统 |
| CN106987799B (zh) * | 2017-04-28 | 2020-04-21 | 昆山国显光电有限公司 | 一种下压装置及对掩膜板的下垂量进行调节的方法 |
-
2017
- 2017-11-30 CN CN201711257634.5A patent/CN107978676B/zh active Active
-
2018
- 2018-01-17 WO PCT/CN2018/072979 patent/WO2019104845A1/zh active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN107978676A (zh) | 2018-05-01 |
| WO2019104845A1 (zh) | 2019-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107978676B (zh) | 一种蒸镀用掩膜组件 | |
| CN205420527U (zh) | 一种蒸镀掩模板及显示基板 | |
| CN104315415A (zh) | 液晶显示装置及其背光模组 | |
| CN102881652B (zh) | 用于amoled面板制造的分割掩模框架组件制造装置 | |
| CN104570419A (zh) | 吸附式载台及其吸附方法 | |
| TW200700839A (en) | Planar light source device and fabricating method thereof and liquid crystal display with the same | |
| CN105068320B (zh) | 一种背光模组 | |
| CN103336388A (zh) | 背光模组 | |
| CN102636899B (zh) | 液晶显示装置 | |
| WO2013139145A1 (zh) | 背光源模组和显示装置 | |
| CN105116610A (zh) | 一种背光模组 | |
| CN201314496Y (zh) | 背光模块 | |
| CN203712702U (zh) | 用于搬运玻璃基板的机械手臂 | |
| CN204300865U (zh) | 一种液晶显示装置及其背光模组 | |
| CN109097729A (zh) | 掩膜框架、支撑板、掩膜框架组件及掩膜版组件 | |
| CN102749760B (zh) | 液晶显示装置 | |
| CN201819150U (zh) | 光源反射罩及背光模组 | |
| CN106054455A (zh) | 一种直下式背光模组 | |
| CN205803576U (zh) | 掩膜板 | |
| CN107604307A (zh) | 待蒸镀基板与掩模板的贴合方法、蒸镀方法、显示基板的制备方法 | |
| CN205845955U (zh) | 一种掩模板、oled显示基板和显示装置 | |
| CN207331039U (zh) | 一种掩膜片、掩膜板、薄膜沉积设备 | |
| CN205899204U (zh) | 一种背光源 | |
| CN205506356U (zh) | 一种导光板画面检测治具 | |
| CN201054060Y (zh) | 一种背光模块 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |