CN105589306B - 一种掩膜板对位系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种掩膜板对位系统,用以减少玻璃板下垂现象的发生,提高掩膜板和玻璃板的对位精度,减少玻璃板混色现象的发生。其中掩膜板对位系统包括:框架;主挡板;位于主挡板上方的掩膜板;位于掩膜板上方的玻璃板;用于对玻璃板的边缘进行支撑的支撑台,还包括:设置于主挡板上的至少一个支撑柱,每个支撑柱的支撑端与玻璃板除边缘区域以外的区域相抵、用于支撑玻璃板;掩膜板与玻璃板的非蒸镀区域对应的部分上设有与支撑柱一一对应、且允许对应的支撑柱向玻璃基板的所在侧伸出的通孔;用于驱动主挡板沿玻璃基板和掩膜板的排列方向移动的第一驱动装置;用于将主挡板以及其上的支撑柱移出蒸镀区域的第二驱动装置或第三驱动装置。
Description
技术领域
本发明涉及显示装置制备技术领域,特别是涉及一种掩膜板对位系统。
背景技术
有机发光二极管又称为有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode,OLED),OLED显示技术具有自发光的特性,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃板,当有电流通过时,这些有机材料就会发光,而且OLED显示屏幕可视角度大,并且能够节省电能。因此,OLED作为新一代显示而备受瞩目。
为了提高大型OLED TV以及基于OLED高分辨率的移动显示设备(Mobile Display)等产品的生产效率,大面积玻璃板的量产工艺正在被应用在OLED显示装置生产中,为了使像素单元形成在大面积玻璃板的正确位置处,需要使用大面积的掩膜板,且需要玻璃板和掩膜板之间具有较高的对位精度。目前,为了避免颗粒粘附在玻璃板上,常用的蒸镀方式为倒置式,即玻璃板位于掩膜板的上方。
但是,由于大面积玻璃板自身存在重力,由于其只是在两边对大玻璃板进行夹持或支撑,这样就会导致大面积玻璃板的中部会下垂,所以,这样就会导致玻璃板与掩膜板不是相对平行状态进行对位,而是在向玻璃板的中央部分倾斜状态下与掩膜板进行对位的,这样就会导致玻璃板与掩膜板的对位精度较低。这样容易导致像素单元在玻璃板上的形成位置偏移正确位置,导致蒸镀后的玻璃板出现混色现象,降低显示装置的显示效果。
发明内容
本发明提供了一种掩膜板对位系统,用以减少玻璃板下垂现象的发生,提高掩膜板和玻璃板的对位精度,减少玻璃板混色现象的发生,提高显示装置的显示效果。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
本发明提供了一种掩膜板对位系统,包括:框架;安装于所述框架内的主挡板;位于所述主挡板上方的掩膜板,所述掩膜板相对所述框架固定;位于所述掩膜板上方的玻璃板;位于所述玻璃板两侧、用于对所述玻璃板的边缘进行支撑的支撑台,还包括:
设置于所述主挡板上的至少一个支撑柱,每个支撑柱的支撑端与所述玻璃板除边缘区域以外的区域相抵、用于支撑所述玻璃板;其中:所述掩膜板与所述玻璃板的非蒸镀区域对应的部分上设有与支撑柱一一对应、且允许对应的支撑柱向所述玻璃基板的所在侧伸出的通孔。
本发明提供的掩膜板对位系统,在玻璃板未蒸镀前,将主挡板上的支撑柱穿过掩膜板,每个支撑柱的支撑端与玻璃板除边缘区域以外的区域相抵,这样可以对玻璃板起到支撑的作用,当按压机构对玻璃板的边缘施加支撑力时,由于玻璃板较大,玻璃的中部由于无支撑会下垂,本发明通过设置至少一个支撑柱,可以起到对玻璃板的支撑作用,减少玻璃板的下垂量,进而可以提高掩膜板和玻璃板的对位精度,当玻璃板和掩膜板对位好后,再将支撑柱移出掩膜板。
所以,本发明提供的掩膜板对位系统,可以减少玻璃板下垂现象的发生,提高掩膜板和玻璃板的对位精度,减少玻璃板混色现象的发生,提高显示装置的显示效果。
在一些可选的实施方式中,上述掩膜板对位系统还包括:用于驱动所述主挡板沿所述玻璃基板和所述掩膜板的排列方向移动的第一驱动装置。便于调节支撑柱伸出掩膜板的长度。
在一些可选的实施方式中,所述第一驱动装置包括:伸缩缸,所述伸缩缸的缸体相对所述框架固定,所述伸缩缸的活塞杆的伸出端与所述主挡板固定连接。
在一些可选的实施方式中,所述伸缩缸为电动伸缩缸或气动伸缩缸。
在一些可选的实施方式中,所述主挡板枢装于所述框架,所述掩膜板对位系统还包括:驱动所述主挡板绕其枢装轴旋转的第二驱动装置,所述枢装轴位于所述玻璃板的外侧,所述第二驱动装置用于驱动所述主挡板以及其上的支撑柱旋转出蒸镀区域。当进行蒸镀工艺时,可以将主挡板以及其上的支撑柱移出蒸镀区域,避免主挡板影响蒸镀效果。
在一些可选的实施方式中,所述主挡板滑动安装于所述框架,所述掩膜板对位系统还包括:驱动所述主挡板滑动的第三驱动装置,所述第三驱动装置用于驱动所述主挡板以及其上的支撑柱滑出蒸镀区域。当进行蒸镀工艺时,可以将主挡板以及其上的支撑柱移出蒸镀区域,避免主挡板影响蒸镀效果。
在一些可选的实施方式中,所述至少一个支撑柱的个数为一个,所述支撑柱的支撑端的面积大于所述支撑柱与所述主挡板固定的一端的面积,且所述支撑柱与所述玻璃板的中部相抵。
在一些可选的实施方式中,所述至少一个支撑柱的个数为多个。
在一些可选的实施方式中,每个所述支撑柱的支撑端为半圆形、平面形、放射形中的任意一种。
在一些可选的实施方式中,所述支撑柱的材料包括:金属、陶瓷、塑料中的任意一种。
附图说明
图1为本发明提供的掩膜板对位系统的结构示意图;
图2为本发明提供的主挡板上分布的支撑柱的一种结构示意图;
图3为本发明提供的掩膜板的一种结构示意图;
图4本发明提供的主挡板上分布的支撑柱的另一种结构示意图;
图5为本发明提供的掩膜板的另一种结构示意图;
图6a~图6d为本发明提供的支撑柱的结构示意图。
附图标记:
1-框架 2-主挡板
3-掩膜板 31-通孔
32-第一区域 33-第二区域
4-支撑柱 41-支撑端
5-玻璃板 6-第一驱动装置
7-枢装轴 8-冷却板
9-冷却板移动机构 10-支撑台移动机构
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明专利保护的范围。
如图1所示,图1为本发明提供的掩膜板对位系统的结构示意图;本发明提供了一种掩膜板对位系统,包括:框架1;安装于框架1内的主挡板2;位于主挡板2上方的掩膜板3,掩膜板3相对框架1固定;位于掩膜板3上方的玻璃板5;位于玻璃板5两侧、用于对玻璃板5的边缘进行支撑的支撑台,还包括:
设置于主挡板2上的至少一个支撑柱4,每个支撑柱4的支撑端41与玻璃板5除边缘区域以外的区域相抵、用于支撑玻璃板5;其中:掩膜板3与玻璃板5的非蒸镀区域对应的部分上设有与支撑柱4一一对应、且允许对应的支撑柱4向玻璃基板的所在侧伸出的通孔31。
本发明提供的掩膜板对位系统,在玻璃板5未蒸镀前,将主挡板2上的支撑柱4穿过掩膜板3,每个支撑柱4的支撑端41与玻璃板5除边缘区域以外的区域相抵,这样可以对玻璃板5起到支撑的作用,当按压机构对玻璃板5的边缘施加支撑力时,由于玻璃板5较大,玻璃的中部由于无支撑会下垂,本发明通过设置至少一个支撑柱4,可以起到对玻璃板5的支撑作用,减少玻璃板5的下垂量,提高玻璃板5的朝向掩膜板3一面的平坦度,进而可以提高掩膜板3和玻璃板5的对位精度,当玻璃板5和掩膜板3对位好后,再将支撑柱4移出掩膜板3。
所以,本发明提供了的掩膜板对位系统,可以减少玻璃板5下垂现象的发生,提高掩膜板3和玻璃板5的对位精度,减少玻璃板5混色现象的发生,提高显示装置的显示效果。
掩膜板对位系统一般还包括:位于玻璃板5上方的冷却板8,驱动冷却板8移动的冷却板移动机构9,驱动玻璃板5移动的支撑台移动机构10,为了在蒸镀时保持玻璃板5的温度,可以通过冷却板8对玻璃板5进行降温,工艺结束后,需要将冷却板8和玻璃板5分离,这时也可以用支撑柱4支撑玻璃板5,可以减少玻璃板5与冷却板8分离时,玻璃板5破裂的现象的发生。
为了便于调节支撑柱4伸出掩膜板3的长度,上述掩膜板对位系统还包括:用于驱动主挡板2沿玻璃基板和掩膜板3的排列方向移动的第一驱动装置6。可以根据实际需要,调节主挡板2被升高的高度。
上述第一驱动装置6的具体结构可以有多种:
本发明实施例中提供的第一驱动装置6一具体结构包括:伸缩缸,伸缩缸的缸体相对框架1固定,伸缩缸的活塞杆的伸出端与主挡板2固定连接。通过活塞杆的伸缩可以实现对主挡板2升降高度的调整。
具体的,上述伸缩缸可以为电动伸缩缸;或气动伸缩缸,也或者液压伸缩缸。
电动伸缩缸是将伺服电机与丝杠一体化设计的模块化产品,将伺服电机的旋转运动转换成直线运动,同时将伺服电机最佳优点-精确转速控制,精确转数控制,精确扭矩控制转变成-精确速度控制,精确位置控制,精确推力控制;实现高精度直线运动系列的全新革命性产品。
为了避免蒸镀时,主挡板2对蒸镀效果造成影响,可选的,主挡板2枢装于框架1,上述掩膜板对位系统还包括:驱动主挡板2绕其枢装轴7旋转的第二驱动装置,枢装轴7位于玻璃板5的外侧,第二驱动装置用于驱动主挡板2以及其上的支撑柱4旋转出蒸镀区域。当进行蒸镀工艺时,可以将主挡板2以及其上的支撑柱4移出蒸镀区域,避免主挡板2影响蒸镀效果。
可选的,主挡板2滑动安装于框架1,掩膜板对位系统还包括:驱动主挡板2滑动的第三驱动装置,第三驱动装置用于驱动主挡板2以及其上的支撑柱4滑出蒸镀区域。当进行蒸镀工艺时,第三驱动装置可以驱动主挡板滑动移出蒸镀区域,避免主挡板2影响蒸镀效果。
当然,上述主挡板2除了可以通过旋转或移动移出蒸镀区域外,还可以通过其它方式移出,这里就不再一一赘述。
如图2所示,图2为本发明提供的主挡板上分布的支撑柱的一种结构示意图;上述至少一个支撑柱4的个数为一个,支撑柱4的支撑端41的面积大于支撑柱4与主挡板2固定的一端的面积,且支撑柱4与玻璃板5的中部相抵。当采用一个支撑柱4时,可以将支撑柱4的支撑端41做的大一些,增大支撑端41与玻璃板5的接触面积,提高支撑强度。
当支撑柱4为一个时,如图3所示,图3为本发明提供的掩膜板的一种结构示意图;掩膜板3包括与玻璃板5的蒸镀区域对应的第一区域32和与玻璃板5的非蒸镀区域对应的第二区域33,掩膜板3的第二区域33内设有与支撑柱4对应的通孔31。通孔31的设置位置位于掩膜板3的中间部分。
如图4所示,图4本发明提供的主挡板上分布的支撑柱的另一种结构示意图;至少一个支撑柱4的个数为多个。多个支撑柱4分散设置。
当支撑柱4为多个时,如图5所示,图5为本发明提供的掩膜板的另一种结构示意图;掩膜板3包括与玻璃板5的蒸镀区域对应的第一区域32和与玻璃板5的非蒸镀区域对应的第二区域33,掩膜板3的第二区域33内设有与支撑柱4对应的通孔31。通孔31的设置位置较分散。
如图6a~图6d所示,图6a~图6d为本发明提供的支撑柱4的结构示意图,支撑柱4的支撑端41的具体形状可以有多种,每个支撑柱4的支撑端41为半圆形、平面形、放射形中的任意一种。即支撑柱4的支撑端41可以为半圆形;或者平面形、或者放射形;或者帽形,当支撑柱4为多个时,多个支撑柱4的支撑端41的形状可以相同也可以不同。当然,支撑柱4的支撑端41的形状不限于上述列举的形状。
上述支撑柱4的材料包括:金属、陶瓷、塑料中的任意一种。
如图3和图5所示,本发明还提供了一种应用于上述任一项所述掩膜板对位系统中的掩膜板3,掩膜板3包括与玻璃板5的蒸镀区域对应的第一区域32和与玻璃板5的非蒸镀区域对应的第二区域33,掩膜板3的第二区域33内设有与支撑柱4对应的通孔31。本发明提供的掩膜板3可以适用于上述掩膜板对位系统中,当掩膜板3位于玻璃板5下方时,支撑柱4也可以穿过掩膜板3对玻璃板5进行支撑。
上述掩膜板3的材料包括:因瓦合金、不锈钢中的任意一种。
因瓦合金(invar,也称为殷钢),是一种镍铁合金,其成分为镍36%,铁63.8%,碳0.2%,它的热膨胀系数极低,能在很宽的温度范围内保持固定长度。
不锈钢(Stainless Steel)是不锈耐酸钢的简称,耐空气、蒸汽、水等弱腐蚀介质或具有不锈性的钢种称为不锈钢;而将耐化学腐蚀介质(酸、碱、盐等化学浸蚀)腐蚀的钢种称为耐酸钢。由于两者在化学成分上的差异而使他们的耐蚀性不同,普通不锈钢一般不耐化学介质腐蚀,而耐酸钢则一般均具有不锈性。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (9)
1.一种掩膜板对位系统,包括:框架;安装于所述框架内的主挡板;位于所述主挡板上方的掩膜板,所述掩膜板相对所述框架固定;位于所述掩膜板上方的玻璃板;位于所述玻璃板两侧、用于对所述玻璃板的边缘进行支撑的支撑台,其特征在于,还包括:
设置于所述主挡板上的至少一个支撑柱,每个支撑柱的支撑端与所述玻璃板除边缘区域以外的区域相抵、用于支撑所述玻璃板;其中:所述掩膜板与所述玻璃板的非蒸镀区域对应的部分上设有与支撑柱一一对应、且允许对应的支撑柱向所述玻璃基板的所在侧伸出的通孔;
所述主挡板枢装于所述框架,所述掩膜板对位系统还包括:驱动所述主挡板绕其枢装轴旋转的第二驱动装置,所述枢装轴位于所述玻璃板的外侧,所述第二驱动装置用于驱动所述主挡板以及其上的支撑柱旋转出蒸镀区域。
2.如权利要求1所述的掩膜板对位系统,其特征在于,还包括:用于驱动所述主挡板沿所述玻璃基板和所述掩膜板的排列方向移动的第一驱动装置。
3.如权利要求2所述的掩膜板对位系统,其特征在于,所述第一驱动装置包括:伸缩缸,所述伸缩缸的缸体相对所述框架固定,所述伸缩缸的活塞杆的伸出端与所述主挡板固定连接。
4.如权利要求3所述的掩膜板对位系统,其特征在于,所述伸缩缸为电动伸缩缸或气动伸缩缸。
5.如权利要求2所述的掩膜板对位系统,其特征在于,所述主挡板滑动安装于所述框架,所述掩膜板对位系统还包括:驱动所述主挡板滑动的第三驱动装置,所述第三驱动装置用于驱动所述主挡板以及其上的支撑柱滑出蒸镀区域。
6.如权利要求1~5任一项所述的掩膜板对位系统,其特征在于,所述至少一个支撑柱的个数为一个,所述支撑柱的支撑端的面积大于所述支撑柱与所述主挡板固定的一端的面积,且所述支撑柱与所述玻璃板的中部相抵。
7.如权利要求1~5任一项所述的掩膜板对位系统,其特征在于,所述至少一个支撑柱的个数为多个。
8.如权利要求7所述的掩膜板对位系统,其特征在于,每个所述支撑柱的支撑端为半圆形、平面形、放射形中的任意一种。
9.如权利要求1所述的掩膜板对位系统,其特征在于,所述支撑柱的材料包括:金属、陶瓷、塑料中的任意一种。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610108292.XA CN105589306B (zh) | 2016-02-26 | 2016-02-26 | 一种掩膜板对位系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610108292.XA CN105589306B (zh) | 2016-02-26 | 2016-02-26 | 一种掩膜板对位系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105589306A CN105589306A (zh) | 2016-05-18 |
CN105589306B true CN105589306B (zh) | 2017-12-01 |
Family
ID=55928987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610108292.XA Active CN105589306B (zh) | 2016-02-26 | 2016-02-26 | 一种掩膜板对位系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105589306B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107978676B (zh) * | 2017-11-30 | 2019-11-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸镀用掩膜组件 |
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2016
- 2016-02-26 CN CN201610108292.XA patent/CN105589306B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN105589306A (zh) | 2016-05-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
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CP01 | Change in the name or title of a patent holder |