CN205803576U - 掩膜板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种掩膜板，涉及显示设备制造领域，能够解决由于玻璃基板与掩膜板的结合状态不统一导致的显示不良问题。本实用新型的掩膜板包括：框架和包含有效开口的掩膜条，所述掩膜条设置于所述框架上；所述框架包括：与所述掩膜条平行的第一边框，与所述掩膜条垂直的第二边框，所述第一边框上用于设置基板的表面为下凹的曲面，或者，所述第一边框上用于设置基板的表面直接挖空，使基板置于所述框架上时所述第一边框不与所述基板接触，只有所述第二边框支撑所述基板。

Description

掩膜板

技术领域

本实用新型涉及显示设备制造领域，尤其涉及一种掩膜板。

背景技术

目前OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的玻璃基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在玻璃基板下方需使用高精度金属掩膜板(以下简称掩膜板)，掩膜板上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。

发明人发现，在玻璃基板与掩膜板贴合蒸镀有机材料的过程中，由于掩膜板框架内边缘的支撑作用，玻璃基板会产生“碟状”的下垂量，这样会导致玻璃基板与掩膜板的结合状态不统一(即各处间距不一致)，有机材料蒸镀不均匀，产生四边区域和中间区域的区分，进而影响最终产品的显示效果。

实用新型内容

本实用新型提供一种掩膜板，可解决由于玻璃基板与掩膜板的结合状态不统一导致的显示不良问题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

本实用新型的实施例提供一种掩膜板，包括：框架和包含有效开口的掩膜条，所述掩膜条设置于所述框架上；所述框架包括：与所述掩膜条平行的第一边框，与所述掩膜条垂直的第二边框，所述第一边框上用于设置基板的表面为下凹的曲面，或者，所述第一边框上用于设置基板的表面直接挖空，使基板置于所述框架上时所述第一边框不与所述基板接触，只有所述第二边框支撑所述基板。

优选地，所述曲面下凹的最低点深度与下述数值一致：所述基板以四边支撑的方式置于掩膜板的框架上时，所述基板中心点的下垂量。

优选地，所述曲面沿与所述掩膜条平行方向上的下凹弧度与下述曲线一致：所述基板以四边支撑的方式置于掩膜板的框架上时，所述基板的中线下垂形成的曲线；其中，所述基板的中线过所述第二边框的中点且与所述第一边框平行。

可选地，所述第一边框的表面挖空的深度为1.4～2.0毫米。

优选地，所述第一边框的表面挖空的深度为1.5毫米。

可选地，所述掩膜板为OLED制程中的蒸镀有机材料工序中使用的精细金属掩膜板。

可选地，所述掩膜板的材质为镍铁合金，镍钴合金或者不锈钢。

优选地，所述框架一体成型。

掩膜板包括框架和包含有效开口的掩膜条，定义框架上与掩膜条平行的边框为第一边框，与掩膜条垂直的边框为第二边框，本实用新型提供的掩膜板，对掩膜板框架的第一边框进行了改进，将第一边框上用于设置基板的那一侧表面通过打磨等方式设计为下凹的曲面，为基板(例如玻璃基板Glass)下垂预留空间，或者将第一边框表面直接挖空，使基板置于框架上时第一边框不与基板接触，基板在只有第二边框(与掩膜条垂直的边框)提供的两端支撑下自然下垂，在与掩膜条平行方向上，基板自然下垂呈现自然的抛物线形态，这与掩膜条两端支撑产生的下垂趋势一致，这样当基板置于掩膜板上并与掩膜板贴合后，二者可以达到贴合良好和间距统一的状态，弥补基板下垂量较大的缺陷，解决由于基板与掩膜板的结合状态不统一导致的显示不良问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有掩膜板边框的截面结构示意图；

图2为现有掩膜板下垂量的变化趋势图；

图3为本实用新型实施例提供的掩膜板的示意图；

图4为图3沿A-A’的剖面结构示意图；

图5为本实用新型实施例中掩膜板上掩膜条的设置示意图；

图6为图5所示掩膜条的下垂量变化趋势图；

图7为本实用新型实施例中基板置于掩膜板后第一边框的截面结构图；

图8为本实用新型实施例中掩膜条和基板的下垂量变化趋势图；

图9为本实用新型实施例中掩膜板的中线示意图；

图10为本实用新型实施例提供的另一掩膜板第一边框的截面示意图。

附图标记

1-掩膜板，2-基板，10-框架，11-第一边框，12-第二边框，

111-第一边框上用于设置基板的表面，20-掩膜条。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例

发明人在实现本发明的过程中发现：现有技术中，掩膜板上包含有效开口的掩膜条20采用如图5所示的两端固定方式，掩膜条20由于重力而产生的下垂量变化趋势如图6所示，与掩膜条20垂直方向上各点的下垂量相等，沿掩膜条20长度方向上自两侧边缘到中心各点的下垂量自小而大变化。基板(例如玻璃基板)比掩膜板框架内边缘大，基板置于掩膜板并与掩膜板贴合蒸镀有机材料时，由于掩膜板框架内边缘的四边支撑作用，基板会产生如图2所示的“碟状”的下垂量，各点的下垂量自边缘到中心从小到大变化，下垂量最大的点位于基板的中心，这与掩膜条20两端固定方式下产生的下垂量变化趋势存在不同，导致基板与掩膜板的结合状态不统一，有机材料蒸镀不均匀，产生四边区域和中间区域的区分，进而影响最终产品的显示效果。

基于上述认识，本实用新型的实施例提供一种改进后的掩膜板，如图3和图4所示，该掩膜板包括：框架10和包含有效开口的掩膜条(图中未示出)，掩膜条设置于框架10上；框架10包括：与掩膜条平行的第一边框11(图中的上、下边框)，与掩膜条垂直的第二边框12(图中的左、右边框)，第一边框11上用于设置基板的表面111为下凹的曲面。

如图1所示，现有掩膜板的边框用于其用于设置基板的表面是平的，基板置于掩膜板上时是四边支撑。本实施例提供一种改进后的掩膜板，将掩膜板框架的第一边框11(与掩膜条平行的边框)的上表面111设计成下凹的曲面，第二边框12不做改动，这样基板2置于掩膜板1上后变为只有第二边框12提供两边支撑，第一边框11的下凹曲面为基板的下垂量提供容纳空间，基板2与掩膜板1上的掩膜条20的一样，均是两端支撑，下垂量变化趋势一致，均是沿第二边框12平行的方向下垂量相等，沿第一边框11平行的方向下垂量自两侧边缘到中心是自小而大变化。基板2与包含有效开口的掩膜条20下垂量变化趋势一致，这样基板2置于掩膜板1上后，基板2与掩膜板1能很好的贴合，基板2上形成的图形可以与掩膜板1上的有效开口最大程度保证一致。本实施例的掩膜板1用于OLED蒸镀有机材料时，玻璃基板与掩膜板的结合状态统一性高，可以尽量保证四边区域和中间区域图形一致，解决由玻璃基板与掩膜板的结合状态不统一导致的显示不良问题。

其中，图5为掩膜板上掩膜条的设置示意图；图6中利用虚线A示出掩膜条下垂量的变化趋势模拟图；图8为基板置于掩膜板上时，第一边框沿A-A’方向的截面示意图，图8中利用虚线A示出掩膜条下垂量的变化趋势，利用虚线B示出基板置于掩膜板上后，基板的下垂量的变化趋势，可以看出掩膜板和基板的下垂量变化趋势一致，贴合度比较好。

具体实施时，第一边框11上用于设置基板的表面111为下凹曲面，下凹曲面的具体弧度可以通过以下实验方式确定：将基板以四边支撑的方式置于掩膜板上时，测出基板中心点的下垂量，具体实施时，一般通过将基板置于现有掩膜板上，掩膜板四边支撑测基板，测出基板中心点的下垂量，当然本步骤也可以通过计算机模拟试验得出；通过抛物线函数模拟下凹曲面的弧度变化，即下凹曲面沿第一边框11方向的截面为一曲线(该曲线反映沿第一边框11方向上基板的下垂量变化情况)，通过抛物线函数模拟该曲线；下凹曲面的最低点(对应抛物线上的一个坐标点)设定为基板中心点的下垂量，得出抛物线函数的具体表达式，由此获得下凹曲面的具体弧度设计。

或者如图9所示，通过下述方式获得：将基板以四边支撑的方式置于掩膜板上时，测出基板的中线BB’下垂形成的曲线，当然本步骤也可以通过计算机模拟试验得出；其中，基板的中线BB’过第二边框12的中点且与第一边框11平行。

具体制备时，第一边框11上的下凹曲面可以通过打磨方式获得，也可以直接一体成型方式制成，即通过注塑等方式直接形成第一边框11上表面(用于设置基板的表面)为下凹曲面的框架。

本实施例所述掩膜板以OLED制程的蒸镀有机材料工序中使用的精细金属掩膜板为例，所述掩膜板的材质为镍铁合金，镍钴合金或者不锈钢等，但本领域技术人员可以理解的是，本实用新型的应用并不限于此。

本实施例提供的掩膜板，将第一边框用于设置基板的表面设计成下凹曲面，基板与掩膜板贴合后，中间整体区域呈现自然的抛物线形态，进而达到基板与掩膜板贴合良好和统一的状态，避免了基板形成“碟状”形态的下垂量与掩膜板贴合不统一的状态，进而产生边缘与中间不统一的不良。

如图10所示，本实用新型实施例还提供另一掩膜板，与图3和图4中所提供的掩膜板的不同之处在于，第一边框11上用于设置基板2的表面111直接挖空，使基板2置于框架上时第一边框11的表面111不与基板接触，只有第二边框支撑基板2。

本实施例提供的掩膜板，将第一边框11上用于设置基板2的表面111直接挖空，即可以不进行基板下垂量的获取，只要把下凹曲面的深度加深，使基板2置于框架上时第一边框11的表面111不与基板接触，只有第二边框支撑基板2即可。本实施例掩膜板的第一边框11表面111挖空的深度为1.4～2.0毫米，优选1.5mm左右，就可以很好地实现两边支撑的效果，达到基板与掩膜板贴合良好的状态。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种掩膜板，包括：框架和包含有效开口的掩膜条，所述掩膜条设置于所述框架上；所述框架包括：与所述掩膜条平行的第一边框，与所述掩膜条垂直的第二边框，其特征在于，

所述第一边框上用于设置基板的表面为下凹的曲面，或者，所述第一边框上用于设置基板的表面直接挖空，使基板置于所述框架上时所述第一边框不与所述基板接触，只有所述第二边框支撑所述基板。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述曲面下凹的最低点深度与下述数值一致：所述基板以四边支撑的方式置于掩膜板上时，所述基板中心点的下垂量。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述曲面沿与所述掩膜条平行方向上的下凹弧度与下述曲线一致：所述基板以四边支撑的方式置于掩膜板上时，所述基板的中线下垂形成的曲线；其中，所述基板的中线过所述第二边框的中点且与所述第一边框平行。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一边框的表面挖空的深度为1.4～2.0毫米。

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一边框的表面挖空的深度为1.5毫米。

6.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为OLED制程的蒸镀有机材料工序中使用的精细金属掩膜板。

7.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板的材质为镍铁合金，镍钴合金或者不锈钢。

8.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述框架一体成型。